專利名稱：光學(xué)膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉于一種光學(xué)膜，尤指一種應(yīng)用于液晶顯示器之聚光膜。
背景技術(shù)：
液晶面板本身并不發(fā)光，因此作為亮度來源之背光模塊為IXD顯示功能的重要組件，且對提高液晶顯示器亮度而言非常重要。目前，在背光模塊中利用各式各樣之光學(xué)膜， 提供一種能提高LCD面板亮度以使光源做最有效率之應(yīng)用，而不需更動任何組件設(shè)計或消耗額外能源的做法，已成為最經(jīng)濟(jì)與簡便的解決方案。圖1為背光模塊所含各種光學(xué)膜之簡單示意圖。如圖1所示，一般背光模塊所含光學(xué)膜系包含配置于導(dǎo)光板(light guide) (2)下方之反射膜(1)；及配置于導(dǎo)光板( 上方之其它光學(xué)膜，其由下至上依序?yàn)閿U(kuò)散膜(3)、聚光膜(4)及(5)及保護(hù)性擴(kuò)散膜(6)。擴(kuò)散膜主要功能為提供液晶顯示器均勻之面光源。聚光膜業(yè)界習(xí)稱為聚光膜 (Brightness Enhancement Film)或棱鏡片(prism film)，聚光膜主要功能為藉由折射與內(nèi)部全反射將散亂的光線收集，并集中至約士35度的正視角(On-axis)方向，以提高IXD 的輝度。一般常用之聚光膜系利用規(guī)則排列之線性棱鏡柱狀結(jié)構(gòu)來達(dá)到聚光效果。習(xí)知聚光膜如圖2所示(如PCT公開案W096/23649及美國專利第5，626，800號)， 其包含一基材及位于基材上方之復(fù)數(shù)個棱鏡結(jié)構(gòu)(22)，該等棱鏡結(jié)構(gòu)彼此互相平行，其中各棱鏡結(jié)構(gòu)系由二個傾斜表面所構(gòu)成，此二傾斜表面于棱鏡頂部相交形成峰 (23)，且各自與相鄰棱鏡之另一傾斜表面于棱鏡底部相交形成谷04)。由于習(xí)知聚光膜為固定寬度之規(guī)則條狀結(jié)構(gòu)，所以容易與來自顯示器中其它膜片之反射或折射光線或該聚光膜本身之其它反射或折射光線產(chǎn)生光學(xué)干涉現(xiàn)象，導(dǎo)致在外觀上出現(xiàn)彩紋(moir6)或明暗條紋(mura)。圖3為美國專利第6，354，709號之聚光膜之示意圖，其中基材(7)上方具有復(fù)數(shù)個微細(xì)棱鏡結(jié)構(gòu)(8)，這些線性棱鏡結(jié)構(gòu)彼此互相平行，且單一棱鏡結(jié)構(gòu)于不同之長度位置具有不同之峰高。然而，習(xí)知之聚光膜縱使在峰距或峰高上做了改變，仍具有規(guī)則之聚光結(jié)構(gòu)，即，各棱鏡間系互相平行(峰與峰之間或谷與谷之間互相平行)，且為規(guī)則性直線棱柱結(jié)構(gòu)，因此無法有效改善明暗條紋現(xiàn)象。美國專利第5，919，551號使用具有二個或二個以上頂峰的柱狀結(jié)構(gòu)，該頂峰呈高低不一狀態(tài)，這種線性棱鏡結(jié)構(gòu)為單一棱鏡結(jié)構(gòu)上至少有兩頂峰，此方法之缺點(diǎn)為雕刻不易同時控制雙峰，所以良率不高，成本增加。已知可于聚光膜上配置保護(hù)性擴(kuò)散膜(或稱為上擴(kuò)散膜)，以改善上述光學(xué)干涉現(xiàn)象，且防止聚光膜與面板或其它膜片在輸送時產(chǎn)生振動而引起互相損傷。惟此方法之缺點(diǎn)為成本增加，且將使背光模塊之結(jié)構(gòu)變得復(fù)雜。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，本發(fā)明提供一種光學(xué)膜以改良上述缺點(diǎn)，其可減少光學(xué)干涉現(xiàn)象。本發(fā)明之目的乃提供一種光學(xué)膜，包含一基材及位于該基材之一表面上之微結(jié)構(gòu)層，其中該微結(jié)構(gòu)層包含復(fù)數(shù)個柱狀結(jié)構(gòu)且該柱狀結(jié)構(gòu)包含至少二種選自由峰高度沿延伸方向變化之線性柱狀結(jié)構(gòu)、峰高度不沿延伸方向變化之線性柱狀結(jié)構(gòu)、峰高度沿延伸方向變化之曲線柱狀結(jié)構(gòu)及峰高度不沿延伸方向變化之曲線柱狀結(jié)構(gòu)所組成之群組之柱狀結(jié)構(gòu)。


圖1為背光模塊所含各種光學(xué)膜之簡單示意圖。圖2為習(xí)知聚光膜之示意圖。圖3為先前技術(shù)中聚光膜之示意圖。圖4至圖15系本發(fā)明之光學(xué)膜實(shí)施態(tài)樣之示意圖。
具體實(shí)施例方式在本文中，「多峰柱狀結(jié)構(gòu)」系指由至少兩個柱狀結(jié)構(gòu)彼此重疊所形成之聯(lián)集結(jié)構(gòu)，且任何兩相鄰柱狀結(jié)構(gòu)間之谷線之高度系為此二相鄰柱狀結(jié)構(gòu)中高度較低者之高度之 30%至 95%。在本文中，「單峰棱鏡柱狀結(jié)構(gòu)」系指由單一個棱鏡柱狀結(jié)構(gòu)所構(gòu)成且僅具有單一之峰之結(jié)構(gòu)，在本文中，「谷線」系指由相鄰兩柱狀結(jié)構(gòu)之相鄰側(cè)面相接所形成之線。在本文中，「柱狀結(jié)構(gòu)之高度」系指為該柱狀結(jié)構(gòu)之峰相對該柱狀結(jié)構(gòu)底部之垂直距離。在本文中，「谷線之高度」系指該谷線相對其所相鄰之兩柱狀結(jié)構(gòu)底部之垂直距
1 O在本文中，「柱狀結(jié)構(gòu)之寬度」系指與該柱狀結(jié)構(gòu)兩側(cè)面相鄰之兩谷間之距離。本發(fā)明所使用之棱鏡柱狀結(jié)構(gòu)系為本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識者所熟知者，其系由兩個傾斜表面所構(gòu)成，該傾斜表面可為曲面或平面，且該二傾斜表面于棱鏡頂部相交形成峰，且可各自與相鄰柱狀結(jié)構(gòu)之另一傾斜表面于底部相交形成谷。本發(fā)明所使用之弧形柱狀結(jié)構(gòu)系為本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識者所熟知者，其系由兩個傾斜平面所構(gòu)成，此二傾斜平面頂部相交處系鈍化形成一曲面，且此二傾斜平面可各自與相鄰柱狀結(jié)構(gòu)之另一傾斜表面于底部相交形成谷。在本文中，「弧形柱狀結(jié)構(gòu)頂部曲面之最高處」系定義為該弧形柱狀結(jié)構(gòu)之峰，弧形柱狀結(jié)構(gòu)之高度系指弧形柱狀結(jié)構(gòu)之峰相對其底部之垂直距離。在本文中，「弧形柱狀結(jié)構(gòu)二傾斜平面延伸相交之角度」系定義為該弧形柱狀結(jié)構(gòu)之頂角角度。在本文中，「線性柱狀結(jié)構(gòu)」系定義為柱狀結(jié)構(gòu)的棱線(ridge)呈直線延伸之柱狀結(jié)構(gòu)。在本文中，「曲線柱狀結(jié)構(gòu)」系定義為柱狀結(jié)構(gòu)的棱線呈彎曲變化延伸之柱狀結(jié)構(gòu)，該彎曲延伸棱線系形成適當(dāng)?shù)谋砻媲首兓?，該彎曲延伸棱線之表面曲率變化系以該曲線柱狀結(jié)構(gòu)高度為基準(zhǔn)之0.2%至100%，較佳系以該曲線柱狀結(jié)構(gòu)高度為基準(zhǔn)之至 20%。本發(fā)明光學(xué)膜所使用之基材，可為任何本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域具有通常知識者所已知者，例如玻璃或塑料。上述塑料基材可由一或多個高分子樹脂層所構(gòu)成。用以構(gòu)成上述高分子樹脂層之樹脂之種類并無特殊限制，其例如但不限于聚酯樹脂(polyester resin)，如聚對苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate, PET)或聚萘二甲酸乙 二酉旨(polyethylene naphthalate, PEN)；聚丙燥酸酉旨積 月旨(polyacrylate resin), 如聚甲基丙烯酸甲酯(polymethyl methacrylate, PMMA)；聚烯烴樹脂(polyolefin resin)，如聚乙烯(PE)或聚丙烯(PP)；聚苯乙烯樹脂(polystyrene resin)；聚環(huán)烯烴樹脂(polycycloolefin resin)；聚醯亞胺樹脂(polyimide resin)；聚碳酸酯樹脂(polycarbonate resin)；聚胺基甲酸酯樹脂(polyurethane resin)；三醋酸纖維素 (triacetate cellulose,TAC)；聚乳酸(polylactic acid)；或彼等之混合物。較佳為聚對苯二甲酸乙二酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚環(huán)烯烴樹脂、三醋酸纖維素、聚乳酸或其混合物，更佳為聚對苯二甲酸乙二酯?；闹穸韧ǔＨQ于所欲得光學(xué)產(chǎn)品的需求，其較佳介于約 50微米至約300微米之間。本發(fā)明光學(xué)膜之微結(jié)構(gòu)層系用以提供光學(xué)膜所欲之光學(xué)性質(zhì)。本發(fā)明之微結(jié)構(gòu)層可與基材一起以一體成形方式制備，例如以壓印(emboss)方式直接制得；或以任何習(xí)知方式于基材上進(jìn)行加工后制得，例如以涂布方式于基材上直接形成一微結(jié)構(gòu)層，或于基材上先涂布一樹脂涂層再于該涂層上雕刻所需之微結(jié)構(gòu)層。上述微結(jié)構(gòu)層之厚度并無特殊限制，通常系介于約1微米至約50微米之厚度，較佳為5微米至30微米，最佳為15微米至25 微米。本發(fā)明光學(xué)膜之微結(jié)構(gòu)層可由任何折射率大于空氣折射率之樹脂所構(gòu)成。一般而言，微結(jié)構(gòu)層的折射率越高，聚光效果越好。本發(fā)明光學(xué)膜具有至少1. 50之折射率，較佳具有1. 50至1. 70之折射率。用以形成該微結(jié)構(gòu)層之樹脂為本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識者所熟知者，其例如但不限于丙烯酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、環(huán)氧樹脂、氟素樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚胺基甲酸酯樹脂、醇酸樹脂(alkyd resin)、聚酯樹脂及其混合物所構(gòu)成的群組，較佳為丙烯酸酯樹脂?？捎靡詷?gòu)成上述丙烯酸酯樹脂之單體例如但不限于丙烯酸酯類單體。上述丙烯酸酯類單體之種類例如但不限于丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、胺基甲酸酯丙烯酸酉旨(urethane acrylate)、聚酉旨丙烯酸酉旨(polyester acrylate)、環(huán)氧丙烯酸酉旨(epoxy acrylate)或其混合，較佳為丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。此外，上述丙烯酸酯類單體可具有一或多個官能基，較佳具有多官能基。適用于本發(fā)明之丙烯酸酯類單體之實(shí)例例如選自包括(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯(tripropylene glycol di (meth) acrylate)、1，4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯(1,4-butanediol di (meth) acrylate)、1，6_ 己二醇二 (甲基)丙烯酸酯(1， 6-hexanedioldi (meth) acrylate)、聚乙二醇二 (甲基)丙煉酸酉旨(polyethyleneglycol di (meth) acrylate)、烯丙基化二 (甲基)丙烯酸環(huán)己酯(allylated cyclohexyl di (meth) acrylate)、二 (甲基)丙烯酸異氰酸酯(isocyanurate di (meth) acrylate)、2_ 苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯(2-phenoxyl ethyl (meth) acrylate)、乙氧基化三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酉旨(ethoxylated trimethylol propanetri (meth) acrylate)、丙氧基化甘油三
5(甲基)丙烯酸酯(propoxylated glyceroltri (meth) acrylate)、三羥甲基丙烷三(甲基) 丙煉酸酉旨(trimethylol propane tri (meth) acrylate)、2_ (對一異丙苯基一苯氧基)一乙基丙烯酸酯(cumyl phenoxyl ethyl acrylate, CPEA)及彼等之混合物所組成之群組。市售丙烯酸酯類單體之實(shí)例包括由Sartomer公司生產(chǎn)，商品名為SR454 、 SR494 、SR9020 、SR9021 或SR9041 者；由 Eternal 公司生產(chǎn)，商品名為6^4-100 、 EM210 或EM2108 者；及由 UCB 公司生產(chǎn)，商品名為Ebecryl 600 、Ebecryl 830 、 Ebecryl 3605 或Ebecryl 6700 者等。上述形成微結(jié)構(gòu)層之樹脂可視需要添加任何習(xí)知添加劑，例如光起始劑、交聯(lián)劑、 無機(jī)微粒、流平劑、消泡劑或抗靜電劑等，其種類系為本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識者所熟知者?？梢曅枰谟靡孕纬晌⒔Y(jié)構(gòu)層之樹脂中添加抗靜電劑，以使所制得之光學(xué)膜具有抗靜電之效果，進(jìn)而提高作業(yè)良率?？墒褂糜诒景l(fā)明之抗靜電劑系為本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識者所熟知者，其例如但不限于乙氧基甘油脂肪酸酯類、四級胺化合物、脂肪胺類衍生物、環(huán)氧樹脂(如聚環(huán)氧乙烷)、硅氧烷(Siloxane)或其它醇類衍生物(如聚乙醇酯或聚乙二醇醚)等。可使用于本發(fā)明之光起始劑，系經(jīng)光照射后會產(chǎn)生自由基，而透過自由基之傳遞引發(fā)聚合反應(yīng)者。適用于本發(fā)明之光起始劑系為本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識者所熟知者，其例如但不限于二苯甲酮(benzophenone)、二苯乙醇酮(benzoin)、2_羥基-2-甲基-1-苯基丙-1-酮(2-hydroxy-2-methyl-l-phenyl-propan-l-one)、2, 2_ 二甲氧基-1, 2- 二苯基乙-1-酮 Q，2-dimethoxy-l，2-diphenylethan-l-one)、1_ 羥基環(huán)己基苯基酮 (1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone)、2，4，6-三甲基苯甲醯基二苯基膦氧化物(2,4, 6-trimethylbenzoyldiphenyl phosphine oxide)，或彼等之混合物。較佳之光起始劑系二苯甲酮或1-羥基環(huán)己基苯基酮。為增進(jìn)微結(jié)構(gòu)層之硬度，可視需要于樹脂中添加奈米級無機(jī)微粒。可使用于本發(fā)明之無機(jī)微粒系為本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識者所熟知者，其例如但不限于氧化鋅、二氧化硅、鈦酸鍶、氧化鋯、氧化鋁、二氧化鈦、硫酸鈣、硫酸鋇、碳酸鈣或其混合物，較佳為二氧化鈦、氧化鋯、二氧化硅、氧化鋅或其混合物。上述無機(jī)微粒具有約50奈米至約350 奈米之粒徑大小。本發(fā)明之微結(jié)構(gòu)層包含復(fù)數(shù)個柱狀結(jié)構(gòu)，該等柱狀結(jié)構(gòu)可為線性(linear)、曲線 (serpentine)或折線(zigzag)，且該等柱狀結(jié)構(gòu)之峰高度可不沿延伸方向變化或沿延伸方向變化。上述柱狀結(jié)構(gòu)之峰高度沿延伸方向變化系指該柱狀結(jié)構(gòu)中至少有部分位置之高度系隨機(jī)或規(guī)則性沿結(jié)構(gòu)主軸位置變化，其變化幅度至少為標(biāo)稱高度(或平均高度)之百分之三，較佳其變化幅度為該標(biāo)稱高度之百分之五至百分之五十之間。本發(fā)明之微結(jié)構(gòu)層之柱狀結(jié)構(gòu)包含至少一單峰柱狀結(jié)構(gòu)，本發(fā)明微結(jié)構(gòu)層之柱狀結(jié)構(gòu)可為弧形柱狀結(jié)構(gòu)、棱鏡柱狀結(jié)構(gòu)或其混合，較佳為棱鏡柱狀結(jié)構(gòu)。上述柱狀結(jié)構(gòu)較佳系為對稱柱狀結(jié)構(gòu)，使用對稱柱狀結(jié)構(gòu)不但可簡化加工方法且較易控制集光效果。本發(fā)明微結(jié)構(gòu)層之柱狀結(jié)構(gòu)可等高或不等高、等寬或不等寬。較佳系包含至少二種選自由峰高度沿延伸方向變化之線性柱狀結(jié)構(gòu)、峰高度不沿延伸方向變化之線性柱狀結(jié)構(gòu)、峰高度沿延伸方向變化之曲線柱狀結(jié)構(gòu)及峰高度不沿延伸方向變化之曲線柱狀結(jié)構(gòu)所組成之群組且具有相同寬度及頂角角度之柱狀結(jié)構(gòu)。本發(fā)明所使用之柱狀結(jié)構(gòu)之高度取決于所欲得光學(xué)產(chǎn)品之需求，一般系介于5微米至100微米之范圍，較佳介于10微米至50微米之范圍，更佳介于20微米至40微米之范圍。本發(fā)明所使用之柱狀結(jié)構(gòu)可為棱鏡或弧形柱狀結(jié)構(gòu)。當(dāng)柱狀結(jié)構(gòu)為弧形時，弧形柱狀頂部曲面最高處之曲率半徑系介于2微米至50微米之間，較佳介于3微米至35微米之間，更佳介于5微米至20微米之間。本發(fā)明所使用之棱鏡柱狀結(jié)構(gòu)或弧形柱狀結(jié)構(gòu)之頂角角度可彼此相同或不相同，其系介于40°至120°，較佳介于60°至95°。為能兼顧抗刮和高輝度特性，棱鏡柱狀結(jié)構(gòu)之頂角角度較佳為80°至95°，弧形柱狀結(jié)構(gòu)之頂角角度介于60°至95°。當(dāng)本發(fā)明之微結(jié)構(gòu)層包含兩種(例如以Xl及x2表示)或兩種以上(例如以xl， x2, x3，...表示)之不同的柱狀結(jié)構(gòu)時，該等柱狀結(jié)構(gòu)可以任何適當(dāng)之順序排列，亦即，可為一隨機(jī)結(jié)構(gòu)，其排列方式例如但不限于xlxlxhlxhl、xlx2xlxlx2等；亦可為一重復(fù)結(jié)構(gòu)，其排列方式例如但不限于xlxhlxhlx2、xlxlx2xlxlx2等，較佳為兩種不同柱狀結(jié)構(gòu)所構(gòu)成之重復(fù)排列結(jié)構(gòu)。根據(jù)本發(fā)明另一較佳實(shí)施態(tài)樣，本發(fā)明之光學(xué)膜可視需要以卷對卷式(roll to roll)連續(xù)生產(chǎn)技術(shù)于基材上先涂布具擴(kuò)散效果之?dāng)U散層，再于擴(kuò)散層上涂布上述具聚光效果之微結(jié)構(gòu)層作為聚光層。該擴(kuò)散層包含透明微粒，且該擴(kuò)散層中透明微粒之折射率大于該聚光層之折射率，且該擴(kuò)散層中透明微粒之折射率與該聚光層之折射率的差為0. 05 至1.1?？捎糜诒景l(fā)明中的透明微粒種類并無特殊限制，可為玻璃珠粒(beads)、金屬氧化物顆粒、塑料珠粒或其混合。上述塑料珠粒并無特殊限制，其例如但不限于丙烯酸酯樹脂、 苯乙烯樹脂、胺基甲酸酯樹脂、硅酮樹脂或彼等之混合物；而金屬氧化物顆粒并無特殊限制，其例如但不限于二氧化鈦(Ti02)、二氧化硅(Si02)、氧化鋅(ZnO)、硫酸鋇(BaS04)、氧化鋁(A1203)、氧化鋯(ZrC^)或彼等之混合物。該透明微粒之形狀并無特殊限制，例如可為球形、菱形、橢圓形、雙凸透鏡形等。該透明微粒之平均粒徑大小介于1至50微米之間，較佳為3至30微米，最佳為5至20微米，且該透明微粒之折射率為1. 5至2. 5，最佳為1. 9。為避免基材表面刮傷而影響膜片的光學(xué)性質(zhì)，可視需要在基材相對于微結(jié)構(gòu)層之另一表面上形成一抗刮層。上述抗刮層可為平滑狀或非平滑狀，可使用任何習(xí)知方法形成本發(fā)明之抗刮層，其例如但不限于網(wǎng)版印刷、噴涂、壓花加工或于基材表面涂覆含擴(kuò)散顆粒之抗刮層等，其中涂覆含擴(kuò)散顆粒之抗刮層可使抗刮層具有某些程度的光擴(kuò)散作用。上述抗刮層之厚度較佳系介于0. 5 30微米之間，更佳介于1 10微米之間。上述擴(kuò)散顆?？蔀榍蛐?、菱形、橢圓球形或雙凸透鏡形(biconvex lenses)等，其粒徑大小較佳介于1 30微米，其種類亦無特殊限制，可為有機(jī)粒子或無機(jī)粒子，較佳為有機(jī)粒子，例如聚丙烯酸酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚胺基甲酸酯樹脂、硅酮樹脂或其混合物，較佳為聚丙烯酸酯樹脂。光學(xué)產(chǎn)品的光學(xué)特性可由霧度值(Hz)、全光線透過率(Tt)來表示，其中霧度值與光學(xué)產(chǎn)品的光散射性相關(guān)，全光線透過率與光學(xué)產(chǎn)品的光線穿透率相關(guān)。在基材之一表面上不存在微結(jié)構(gòu)層之情況下，根據(jù)JIS K7136標(biāo)準(zhǔn)方法測量另一表面上之樹脂涂層之霧度， 所得霧度為 90%，較佳為5% 40%，因此，本發(fā)明之抗刮層具有散射光之能力。且根據(jù)JIS K7136標(biāo)準(zhǔn)方法，測量本發(fā)明光學(xué)膜之全光線透過率，具有不低于60%之全光線透過率，較佳為高于80%，更佳90%或90%以上。此外，本發(fā)明之抗刮層根據(jù)JISKM00標(biāo)準(zhǔn)方法量測，其具有可達(dá)3H或以上之鉛筆硬度?？墒褂萌魏瘟?xí)知之方法制備本發(fā)明光學(xué)膜之微結(jié)構(gòu)層及抗刮層，且制備微結(jié)構(gòu)層及抗刮層之先后順序并無特殊限制。本發(fā)明光學(xué)膜之微結(jié)構(gòu)層之制造方式，并無特殊限制，例如，可經(jīng)由包含以下步驟之方法制造(a)將樹脂及適當(dāng)之添加劑混合以形成一膠態(tài)涂料組合物；(b)在一圓柱形毛胚(或稱滾筒)上，以鉆石刀具在轉(zhuǎn)動之滾筒上以與滾筒軸向之方向移動定格徑向進(jìn)給，藉由控制鉆石刀具之移動速度及/或滾筒之轉(zhuǎn)速使鉆石刀具在滾筒上雕刻出特定線性柱狀溝槽，再以改變C-軸轉(zhuǎn)速或改變鉆石刀具諧振模式達(dá)成高低起伏或左右連續(xù)變化之結(jié)構(gòu)；(c)將該膠態(tài)涂料組合物涂布于基材或滾輪上，然后利用步驟(b)所雕刻完成之滾筒進(jìn)行滾輪壓花、熱轉(zhuǎn)印或熱擠壓方式使該涂層形成一結(jié)構(gòu)化表面；及(d)對該涂層照射能量射線或加熱或兩者并用以使該涂層固化。上述方法的特征為利用至少二次加工方式制造本發(fā)明光學(xué)膜之微結(jié)構(gòu)層，所謂至少二次加工方式系指在滾筒上雕刻至少二種花紋(pattern)之特定溝槽，此方法最大優(yōu)點(diǎn)為可利用最簡單的加工方式，得到最大的良率。以下茲配合圖式舉例說明本發(fā)明光學(xué)膜之微結(jié)構(gòu)層之構(gòu)造，唯非用以限制本發(fā)明之范圍。任何熟悉此項(xiàng)技藝之人士可輕易達(dá)成之修飾及改變均包括于本案說明書揭示內(nèi)容。如圖4至圖13所示，本發(fā)明之光學(xué)膜系于基材(300)之上表面形成微結(jié)構(gòu)層 (310、410、510、610及710)，微結(jié)構(gòu)層之形成方式可為與基材一起以一體成形方式制備； 或以任何習(xí)知之加工方式制備，例如以涂布方式及壓花方式于基材上形成微結(jié)構(gòu)層，或先涂布再雕刻所需之結(jié)構(gòu)。在本發(fā)明之一實(shí)施例中，微結(jié)構(gòu)層包含復(fù)數(shù)個柱狀結(jié)構(gòu)，該柱狀結(jié)構(gòu)包含復(fù)數(shù)個線性柱狀結(jié)構(gòu)及復(fù)數(shù)個曲線柱狀結(jié)構(gòu)。在一較佳實(shí)施例中，該等柱狀結(jié)構(gòu)包含由峰高度沿延伸方向變化之單峰曲線柱狀結(jié)構(gòu)(320) (xl)及峰高度不沿延伸方向變化之單峰線性柱狀結(jié)構(gòu)(330) (x2)所構(gòu)成，該等柱狀結(jié)構(gòu)以相互交替之重復(fù)結(jié)構(gòu)排列(X1X2X1X2X1X2)，如圖4所示。圖4之實(shí)施態(tài)樣中微結(jié)構(gòu)層之柱狀結(jié)構(gòu)為等高、等寬且具有相同之頂角角度之單峰棱鏡柱狀結(jié)構(gòu)。在本發(fā)明之另一實(shí)施例中，微結(jié)構(gòu)層包含復(fù)數(shù)個柱狀結(jié)構(gòu)，該等柱狀結(jié)構(gòu)為線性柱狀結(jié)構(gòu)，且部分柱狀結(jié)構(gòu)之峰高度沿延伸方向變化，如圖5至圖8所示。該微結(jié)構(gòu)層之柱狀結(jié)構(gòu)為等高、等寬且具有相同之頂角角度之單峰棱鏡柱狀結(jié)構(gòu)。在圖5至8本發(fā)明光學(xué)薄膜之實(shí)施態(tài)樣中，該等柱狀結(jié)構(gòu)包含由峰高度沿延伸方向變化之單峰線性柱狀結(jié)構(gòu)(340) (x3)及峰高度不沿延伸方向變化之單峰線性柱狀結(jié)構(gòu) (330) (x2)所構(gòu)成，該等柱狀結(jié)構(gòu)以相互交替之重復(fù)結(jié)構(gòu)排列(x3xh3xh3x2)。圖5之實(shí)施態(tài)樣中，該基材相對于微結(jié)構(gòu)層之另一表面為平滑狀。圖6之實(shí)施態(tài)樣中，該基材相對于微結(jié)構(gòu)層之另一表面上包含一含有擴(kuò)散顆粒之抗刮層(100)。圖7之實(shí)施態(tài)樣中，基材上先涂布擴(kuò)散層(110)，再于擴(kuò)散層(110)上涂布該微結(jié)構(gòu)層作為聚光層，該擴(kuò)散層(110)包含透明微粒且該基材相對于微結(jié)構(gòu)層之另一表面上包含一含擴(kuò)散顆粒之抗刮層(100)。圖8之實(shí)施態(tài)樣中，該微結(jié)構(gòu)層系與基材一起以一體成型方式制備。圖9及圖10例示本發(fā)明之微結(jié)構(gòu)層所包含之柱狀結(jié)構(gòu)可為等高(如圖9b及圖 10b)、不等高(如圖9a及9c)、等寬(如圖9b及圖IOb)或不等寬(如圖IOa及圖10c)。在本發(fā)明之另一實(shí)施例中，微結(jié)構(gòu)層包含復(fù)數(shù)個柱狀結(jié)構(gòu)，該等柱狀結(jié)構(gòu)為線性弧形柱狀結(jié)構(gòu)，且部分弧形柱狀結(jié)構(gòu)之峰高度沿延伸方向變化，如圖11所示。該微結(jié)構(gòu)層之柱狀結(jié)構(gòu)為等高、等寬且具有相同之頂角角度之單峰弧形柱狀結(jié)構(gòu)。圖11之實(shí)施態(tài)樣中，該等柱狀結(jié)構(gòu)包含由峰高度沿延伸方向變化之單峰線性柱狀結(jié)構(gòu)(350) (x4)及峰高度不沿延伸方向變化之單峰線性柱狀結(jié)構(gòu)(360) (x5)所構(gòu)成，該等柱狀結(jié)構(gòu)以相互交替之重復(fù)結(jié)構(gòu)排列&乜切乜切乜5)。在本發(fā)明之另一實(shí)施例中，本發(fā)明之微結(jié)構(gòu)層包含復(fù)數(shù)個柱狀結(jié)構(gòu)，圖12之實(shí)施態(tài)樣中，該等柱狀結(jié)構(gòu)包含峰高度沿延伸方向變化之單峰線性柱狀結(jié)構(gòu)(；340) (x3)、峰高度不沿延伸方向變化之單峰線性柱狀結(jié)構(gòu)(330) (x2)、峰高度不沿延伸方向變化之多峰線性柱狀結(jié)構(gòu)(370) (x6)所構(gòu)成之重復(fù)結(jié)構(gòu)(x6xh3x6xh3x6xh3)。多峰柱狀結(jié)構(gòu)(370)， 其系由兩個等高之弧形柱狀結(jié)構(gòu)(370a及370b)彼此重疊所形成之聯(lián)集結(jié)構(gòu)，其中弧形柱狀結(jié)構(gòu)(370a及370b)間之谷線之高度hi為弧形柱狀結(jié)構(gòu)(370a及370b)之高度Hl之 60%;單峰棱鏡柱狀結(jié)構(gòu)(330)為等高、等寬且峰高度不沿延伸方向變化之單峰棱鏡柱狀結(jié)構(gòu)(330)，單峰棱鏡柱狀結(jié)構(gòu)(340)為等高、等寬且峰高度沿延伸方向變化之單峰棱鏡柱狀結(jié)構(gòu)(340)。在本發(fā)明之另一實(shí)施例中，微結(jié)構(gòu)層包含復(fù)數(shù)個柱狀結(jié)構(gòu)，如圖13所示。在圖13 之實(shí)施態(tài)樣中，該等柱狀結(jié)構(gòu)包含峰高度沿延伸方向變化之單峰線性棱鏡柱狀結(jié)構(gòu)(340) (x3)、峰高度不沿延伸方向變化之單峰線性棱鏡柱狀結(jié)構(gòu)(330) (x2)、峰高度不沿延伸方向變化之單峰線性弧形柱狀結(jié)構(gòu)(380) (x7)所構(gòu)成之重復(fù)結(jié)構(gòu)(x7xh3x7xh3x7xh3)。在本發(fā)明之另一實(shí)施例中，微結(jié)構(gòu)層包含復(fù)數(shù)個柱狀結(jié)構(gòu)，該等柱狀結(jié)構(gòu)包含由峰高度沿延伸方向變化之單峰線性棱鏡柱狀結(jié)構(gòu)(340) (x3)及峰高度不沿延伸方向變化之單峰線性棱鏡柱狀結(jié)構(gòu)(390) (x8)所構(gòu)成，該等柱狀結(jié)構(gòu)以相互交替之重復(fù)結(jié)構(gòu)排列 0^8x3x8x3x8x3)，如圖14所示。該微結(jié)構(gòu)層之柱狀結(jié)構(gòu)具有相同之頂角角度高度和寬度， 單峰線性棱鏡柱狀結(jié)構(gòu)(390) (x8)系由兩個傾斜面所構(gòu)成，上述兩個傾斜面，一面為平面， 另一面為曲面，其曲面之曲率變化系以該曲線柱狀結(jié)構(gòu)高度為基準(zhǔn)之0.2%至100%，較佳系以該曲線柱狀結(jié)構(gòu)高度為基準(zhǔn)之1 %至20 %。在本發(fā)明之另一實(shí)施例中，微結(jié)構(gòu)層包含復(fù)數(shù)個柱狀結(jié)構(gòu)，該等柱狀結(jié)構(gòu)包含由峰高度沿延伸方向變化之單峰線性棱鏡柱狀結(jié)構(gòu)(340) (x3)及峰高度不沿延伸方向變化之單峰線性棱鏡柱狀結(jié)構(gòu)(330) (x2)所構(gòu)成，該等柱狀結(jié)構(gòu)以相互交替之重復(fù)結(jié)構(gòu)排列 0^3x2x3x2x3x2)，如圖15所示。該微結(jié)構(gòu)層之柱狀結(jié)構(gòu)具有相同之頂角角度，約為90°，但不等高(x2 > x3)，高度約為16微米至沈微米，高度差介于1微米至7微米。在基材(300) 相對于微結(jié)構(gòu)層之另一表面上包含一含有擴(kuò)散顆粒之抗刮層(100)，該抗刮層之厚度系介于約1微米至約5微米之間，該擴(kuò)散顆粒為聚丙烯酸酯樹脂，其粒徑大小介于約2微米至約 7微米之間，根據(jù)JIS K7136標(biāo)準(zhǔn)方法測量，所得霧度為10%-30%。上述柱狀結(jié)構(gòu)之峰高度沿延伸方向變化系指該柱狀結(jié)構(gòu)中之高度系規(guī)則性沿長度位置變化，呈一波動曲線，其波長約介于0. 5微米至2微米，其變化幅度為平均高度之百分之五至百分之三十之間。
9
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)膜，包含一基材及位于該基材表面上之微結(jié)構(gòu)層，其中該微結(jié)構(gòu)層包含復(fù)數(shù)個柱狀結(jié)構(gòu)且該柱狀結(jié)構(gòu)包含至少二種選自由峰高度沿延伸方向變化之線性柱狀結(jié)構(gòu)、 峰高度不沿延伸方向變化之線性柱狀結(jié)構(gòu)、峰高度沿延伸方向變化之曲線柱狀結(jié)構(gòu)及峰高度不沿延伸方向變化之曲線柱狀結(jié)構(gòu)所組成之群組且該柱狀結(jié)構(gòu)為單峰柱狀結(jié)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，其中該柱狀結(jié)構(gòu)系選自弧形柱狀結(jié)構(gòu)、棱鏡柱狀結(jié)構(gòu)及其混合所組成之群組。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，其中該等峰高度沿延伸方向變化之線性柱狀結(jié)構(gòu)或曲線柱狀結(jié)構(gòu)具有一標(biāo)稱高度，該等柱狀結(jié)構(gòu)中至少有部分位置之高度系隨機(jī)變化，其變化幅度至少為該標(biāo)稱高度之百分之三。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學(xué)膜，其中該變化幅度為該標(biāo)稱高度之百分之五至百分之五十之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)膜，其中該等棱鏡柱狀結(jié)構(gòu)及/或弧形柱狀結(jié)構(gòu)之頂角系介于40°至120°之間。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光學(xué)膜，其中該等棱鏡柱狀結(jié)構(gòu)及/或弧形柱狀結(jié)構(gòu)之頂角角度系介于60°至95°。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)膜，其中該等弧形柱狀頂部之曲率半徑介于2微米至50 微米之間。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，其中該等柱狀結(jié)構(gòu)之高度系介于5微米至100微米之范圍。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，其中該曲線柱狀結(jié)構(gòu)之彎曲延伸棱線表面曲率變化系以該曲線柱狀結(jié)構(gòu)高度為基準(zhǔn)之0.2%至100%。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光學(xué)膜，其中該曲線柱狀結(jié)構(gòu)之彎曲延伸棱線表面曲率變化系以該曲線柱狀結(jié)構(gòu)高度為基準(zhǔn)之至20%。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，其中該柱狀結(jié)構(gòu)為對稱柱狀結(jié)構(gòu)。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，其中該基材相對于微結(jié)構(gòu)層之另一表面上進(jìn)一步包含抗刮層。
13.一種光學(xué)膜，包含一基材及位于該基材之一表面上之微結(jié)構(gòu)層，其中該微結(jié)構(gòu)層包含復(fù)數(shù)個柱狀結(jié)構(gòu)且該等柱狀結(jié)構(gòu)包含由線性柱狀結(jié)構(gòu)和曲線柱狀結(jié)構(gòu)所構(gòu)成之重復(fù)結(jié)構(gòu)且該柱狀結(jié)構(gòu)為單峰柱狀結(jié)構(gòu)。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的光學(xué)膜，其中該等柱狀結(jié)構(gòu)系選自弧形柱狀結(jié)構(gòu)、棱鏡柱狀結(jié)構(gòu)及其混合所組成之群組。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的光學(xué)膜，其中該等柱狀結(jié)構(gòu)之高度系介于5微米至100微米之范圍。
16.根據(jù)權(quán)利要求13所述的光學(xué)膜，其中該等線性柱狀結(jié)構(gòu)之峰高度不沿延伸方向變化。
全文摘要
本發(fā)明公開一種光學(xué)膜，包含一基材及位于該基材表面上之微結(jié)構(gòu)層，其中該微結(jié)構(gòu)層包含復(fù)數(shù)個柱狀結(jié)構(gòu)且該柱狀結(jié)構(gòu)包含至少二種選自由峰高度沿延伸方向變化之線性柱狀結(jié)構(gòu)、峰高度不沿延伸方向變化之線性柱狀結(jié)構(gòu)、峰高度沿延伸方向變化之曲線柱狀結(jié)構(gòu)及峰高度不沿延伸方向變化之曲線柱狀結(jié)構(gòu)所組成之群組之柱狀結(jié)構(gòu)。本發(fā)明之光學(xué)膜具有聚光效果，并可有效減少光學(xué)干涉現(xiàn)象。
文檔編號G02B5/02GK102162867SQ20111008749
公開日2011年8月24日 申請日期2008年6月27日 優(yōu)先權(quán)日2008年6月27日
發(fā)明者吳定原, 石一中 申請人:長興化學(xué)工業(yè)股份有限公司