專利名稱：顯示裝置、顯示裝置的制造方法、基板及彩色濾光片基板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明，涉及顯示裝置、顯示裝置的制造方法、基板及其彩色濾光片基板。
背景技術(shù)：
形成了電極的兩枚基板間密封了液晶構(gòu)成的液晶顯示板，使用了為密封這兩枚基板的密封材料。作為這樣的密封材料，迄今為止熱固化型環(huán)氧樹脂已為所知。但是，以這個固化型環(huán)氧樹脂為成份的密封材料，在粘合了基板后進行的密封材料的熱固化工序中，在加熱的初期階段其粘度就降低了。為此，基板位置合對精度的降低、 密封劑的斷線、以及由于密封劑的浮起引起的間隙不良的發(fā)生。還有，存在熱固化需要一個小時的生產(chǎn)率降低這一點以及伴隨著母基板的大型化熱固化設(shè)備的大型化的問題。作為解決這樣問題的方法，在基板間的密封材料中使用由基本聚合物的合成樹脂、丙烯樹脂等構(gòu)成的紫外線固化型的密封材料已為所知。在此，說明使用紫外線固化型的密封材料液晶顯示板的制造工序。首先，在形成了一對電極的基板上，形成了由聚酰亞胺樹脂形成的定向?qū)樱ㄟ^摩擦決定液晶的定向方向。 在實施了這樣的定向膜處理的基板上，將紫外線固化型密封材料通過投影印刷(screen印刷)及分配器(dispenser)的描畫涂布形成所規(guī)定圖案。并且在相對基板上，設(shè)置為形成基板間的間隙的間隔粒子(spacer)。接下來，在用密封材料包圍的區(qū)域內(nèi)滴入必要量供給，再將兩枚基板對位粘貼。其后，遮光用密封材料密封的區(qū)域，只在粘貼的區(qū)域上照射紫外線， 進行密封材料的固化。只要制作了這樣的粘合基板，與使用熱固化型的環(huán)氧樹脂為成份的密封材料的情況相比基板位置對合精度降低，可以抑制密封材料的斷線或密封材料浮上等的縫隙不良等的發(fā)生。還有，因為可以縮短固化所需要的時間所以生產(chǎn)效率也好。再有，即便是母基板大型化也不需要增大伴隨它的紫外線固化設(shè)備的有利點。但是，使用上述那樣的紫外線固化型的密封材料的情況下，密封的區(qū)域上必須照射紫外線。為此，在它的遮光層的外周部就必須形成密封部。然而，近年，伴隨著逐漸要求的顯示板的窄邊緣，在遮光層上設(shè)置密封材料粘合基板的做法被開發(fā)研究。但是，這樣的遮光層上設(shè)置密封材料粘合基板的做法，照射的紫外線被遮光層遮住不能到達整個密封材料，存在著殘留未固化了的密封材料的問題。還有，為了圖謀窄邊緣使用了在遮光部具備驅(qū)動器的薄膜晶體管(TFT)基板的顯示板中，由于驅(qū)動器的存在，也是使紫外線到達密封材料整體困難，存在著殘留未固化密封材料的問題。為了解決這樣的問題，專利文件1中，揭示了具有密封相對的兩枚基板，形成為密封液晶的紫外線固化型密封材料的工序；進行合對形成了密封材料的基板和相對基板的位置后粘合兩枚基板的工序；為達到所規(guī)定的縫隙加壓粘合的基板的工序；遮光密封材料以外的部分，在40°C以上80°C以下的溫度范圍內(nèi)調(diào)整基板的溫度在密封材料部分照射紫外線的工序；保留必要的端子部分進行裁斷制成液晶單元的工序為特征的液晶顯示面板的制造方法。并且，還記載著只要根據(jù)這些做法，在彩色反射型液晶顯示板中密封材料的紫外線固化能夠容易的進行。(專利文獻1)日本專利公開2002-202514號公報(發(fā)明所要解決的課題)然而，上述專利文獻1所涉及的技術(shù)中，在遮光部設(shè)置的布線形成的影子部分，紫外線不能充分的穿過，密封的重合程度就會降低。殘留了這樣的未固化部的液晶顯示面板的信賴性就產(chǎn)生了問題。還有，在將液晶材料滴到一個基板上后粘合制作基板的滴下注入法中，在基板粘合后，有必要移動液晶材料。這時，密封區(qū)域殘留未固化的部分的話，移動液晶材料時，也就是在基板溫度升溫時密封材料就會溶入液晶材料中，就會引起液晶顯示面板的顯示品位降低及信賴性的降低。

發(fā)明內(nèi)容
(解決課題的方法)本發(fā)明的目的之一在于提供使密封材料的紫外線固化變得容易了的顯示裝置、 顯示裝置的制造方法、基板以及彩色濾光片基板。本發(fā)明所涉及的顯示裝置，包括以相互相對的形式設(shè)置的第一及第二基板、以夾在上述第一及第二基板之間的形式設(shè)置的顯示媒體層，其特征在于顯示媒體層，由其外周部被設(shè)置在第一及第二基板之間的紫外線固化型樹脂形成的密封材料密封；第一基板，對應(yīng)于密封材料的部分形成在設(shè)置了遮光層的遮光部上，同時，第二基板，對應(yīng)于密封材料的部分形成為透明地；遮光部，其密封材料一側(cè)的面構(gòu)成為紫外線反射面。只要根據(jù)這樣的構(gòu)成，在設(shè)置了遮光層的遮光部上設(shè)置由紫外線固化型樹脂形成的密封材料的液晶顯示裝置中，通過紫外線照射密封這個第一基板和第二基板。在此之際，是從形成為透明地第二基板的密封材料對應(yīng)部照射紫外線固化密封材料的，但是，從第二基板一側(cè)照射的紫外線由在第一基板的遮光部上構(gòu)成的紫外線反射面向密封材料反射， 再次照射密封材料。為此，即便是在基板上存在形成的布線用鋁等妨礙紫外線射向密封材料的物件，通過從紫外線反射面再次紫外線照射密封材料就能使密封材料的未固化部分固化。因此，通過通常的紫外線照射，能夠更有效且更容易的進行密封材料的固化。還有，本發(fā)明所涉及的顯示裝置，紫外線反射面，還可以由鋁或銀形成。只要根據(jù)這樣的構(gòu)成，因為紫外線反射面是由鋁或銀形成的，紫外線反射面的反射率增高，能夠更有效且更容易的進行密封材料的固化。再有，本發(fā)明所涉及的顯示裝置，紫外線反射面，還可以構(gòu)成為將接受的紫外線向顯示媒體層的外側(cè)反射。只要根據(jù)這樣的構(gòu)成，能夠抑制由紫外線反射面反射的紫外線射入顯示媒體層。 為此，就能夠控制顯示媒體受到紫外線的影響而給與顯示品位的壞影響。還有，本發(fā)明所涉及的顯示裝置，還可以具有將由紫外線反射面反射的紫外線擴散的紫外線擴散機構(gòu)。只要根據(jù)這樣的構(gòu)成，通過由紫外線擴散機構(gòu)擴散由紫外線反射面反射的紫外線，可以向被遮光而未固化殘留的密封材料更有效的照射紫外線。因此，就能夠有效且容易的固化密封材料的全部區(qū)域。再有，本發(fā)明所涉及的顯示裝置，紫外線擴散機構(gòu)，是形成在遮光部的凹凸部，紫外線反射面形成在該凹凸部上。只要根據(jù)這樣的構(gòu)成，因為紫外線擴散機構(gòu)是在遮光部形成的凹凸部，紫外線反射面又形成在凹凸部上，所以，到達紫外線反射面的紫外線被反射的同時對應(yīng)凹凸部被散射。為此，就能夠更有效且容易的固化密封材料的全部區(qū)域。還有，本發(fā)明所涉及的顯示裝置，凹凸部還可以是由遮光部的遮光層形成的。只要根據(jù)這樣的構(gòu)成，因為凹凸部是由遮光部的遮光層形成的，所以，作為凹凸部也可以不使用新的部件，只要將遮光層形成為凹凸部既可。為此，就可以有效的形成紫外線擴散機構(gòu)。再有，本發(fā)明所涉及的顯示裝置，紫外線擴散機構(gòu)，還可以是由在密封材料中含有的紫外線擴散粒子構(gòu)成的。只要根據(jù)這樣的構(gòu)成，通過將紫外線擴散粒子預(yù)先摻入密封材料中，在通過將密封材料提供基板就能夠同時進行紫外線擴散機構(gòu)的設(shè)置。為此，就有制造工序中效率變好的有利點。再有，將紫外線擴散粒子摻入密封材料的話，因為可以使紫外線擴散機構(gòu)均勻的混入密封材料中，能夠更有效的進行紫外線的擴散。還有，本發(fā)明所涉及的顯示裝置，紫外線擴散粒子還可以是與密封材料的折射率不同的粒子。只要根據(jù)這樣的構(gòu)成，因為紫外線擴散粒子是與密封材料的折射率不同的粒子， 所以，密封材料和紫外線擴散粒子的界面紫外線折射就能更有效的擴散到密封材料整體。再有，本發(fā)明所涉及的顯示裝置，紫外線擴散粒子還可以是反射紫外線的粒子。只要根據(jù)這樣的構(gòu)造，因為紫外線擴散粒子是反射紫外線的粒子，所以，由紫外線擴散粒子紫外線就能更有效的擴散到密封材料整體。還有，本發(fā)明所涉及的顯示裝置，紫外線反射面及紫外線擴散機構(gòu)，還可以按照這個順序設(shè)置在遮光層上。只要根據(jù)這樣的構(gòu)造，因為紫外線反射面及紫外線擴散機構(gòu)是按照這個順序設(shè)置在遮光層上的，所以，紫外線由紫外線反射面反射后，再由紫外線擴散機構(gòu)擴散。因此，密封材料整體上充分的照滿紫外線，就能夠更有效的固化密封材料。再有，本發(fā)明所涉及的顯示裝置，紫外線擴散機構(gòu)還可以是紫外線擴散樹脂層。只要根據(jù)這樣的構(gòu)造，因為紫外線擴散機構(gòu)是紫外線擴散樹脂層，所以，紫外線擴散機構(gòu)的形狀，就能夠容易的制作所希望的形狀。因此，就可以容易的向密封材料整體或有選擇地向所希望的位置擴散紫外線。還有，本發(fā)明所涉及的顯示裝置，紫外線擴散機構(gòu)還可以是與密封材料折射率不同的凹凸層。只要根據(jù)這樣的構(gòu)造，因為紫外線擴散機構(gòu)是與密封材料折射率不同的凹凸層， 所以，反射的紫外線由于密封材料和凹凸層的界面的折射擴散而在密封材料整體上照射充分的紫外線，就可以有效的固化密封材料。再有，本發(fā)明所涉及的顯示裝置，紫外線擴散機構(gòu)還可以是微透鏡層。
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只要根據(jù)這樣的構(gòu)成，因為紫外線擴散機構(gòu)是微透鏡層，所以，由簡單的構(gòu)造就能夠形成紫外線擴散機構(gòu)。還有，本發(fā)明所涉及的顯示裝置，在第一基板及第二基板之間設(shè)置間隔粒子的同時，間隔粒子還可以用與紫外線擴散機構(gòu)相同的材料形成。只要根據(jù)這樣的構(gòu)造，因為在第一基板及第二基板之間設(shè)置間隔粒子的同時，間隔粒子還用與紫外線擴散機構(gòu)相同的材料形成，所以，在同一工序用相同的材料能夠分別形成間隔粒子和紫外線擴散機構(gòu)。為此，裝置的制造效率良好。再有，本發(fā)明所涉及的顯示裝置，顯示部的顯示元件被覆蓋層覆蓋的同時，覆蓋層還可以與紫外線擴散機構(gòu)用相同材料形成。只要根據(jù)這樣的構(gòu)造，顯示部的顯示元件被覆蓋層覆蓋的同時，覆蓋層還與紫外線擴散機構(gòu)用相同材料形成，所以，在同一工序用相同的材料可以分別形成覆蓋層和紫外線擴散機構(gòu)。為此，裝置的制造效率良好。還有，本發(fā)明所涉及的顯示裝置，在顯示部是由為限制第一基板和第二基板的基板間隙而設(shè)置了臺階層的光反射區(qū)域和光透過區(qū)域構(gòu)成的同時，設(shè)置在光反射區(qū)域的臺階層還可以是和紫外線擴散機構(gòu)用相同的材料形成。只要根據(jù)這樣的構(gòu)造，因為在顯示部是由為限制第一基板和第二基板的基板間隙而設(shè)置了臺階層的光反射區(qū)域和光透過區(qū)域構(gòu)成的同時，設(shè)置在光反射區(qū)域的臺階層還是和紫外線擴散機構(gòu)用相同的材料形成的，所以，在同一工序用相同的材料可以分別形成設(shè)置在光反射區(qū)域的臺階層和紫外線擴散機構(gòu)。為此，裝置的制造效率良好。本發(fā)明所涉及的顯示裝置的制造方法，其特征在于各自都包括準備具有顯示單元形成預(yù)定部的第一基板及第二基板的步驟；為將第一基板的顯示單元形成部圍成封閉狀態(tài)在第一基板上形成遮光層的步驟；在第一基板上形成的遮光層上設(shè)置紫外線反射面的步驟；在第一基板或第二基板上的遮光部預(yù)留部上不間斷的設(shè)置密封材料的步驟；在設(shè)置了密封材料的第一基板或第二基板的顯示單元形成預(yù)定部中供給液晶材料的步驟；粘合第一基板及第二基板中供給了液晶材料的一方和另一方的步驟；從粘合的第二基板12的表面向密封材料照射紫外線固化密封材料制作粘合基板的步驟。只要根據(jù)這樣的構(gòu)成，在設(shè)置了遮光層的遮光部上設(shè)置了由紫外線固化型樹脂形成的密封材料的液晶顯示裝置中，通過用紫外線照射這個第一基板和第二基板固化密封材料密封它們。在此之際，從第二基板一側(cè)照射的紫外線由第一基板的遮光部上構(gòu)成的紫外線反射面反射向密封材料，再次照射密封材料。為此，即便是在基板上形成布線用鋁等妨礙紫外線向密封材料進入的物件存在，通過從紫外線反射面的紫外線再次照射密封材料就能夠固化密封材料的未固化部分。因此，通過通常的紫外線照射，就能夠更有效且更容易的進行密封材料的固化。本發(fā)明所涉及的彩色濾光片基板，其特征在于包括包含顯示部的玻璃基板 ’沿著玻璃基板上的顯示部外周設(shè)置的構(gòu)成遮光部的遮光層；設(shè)置在玻璃基板上的遮光層上的紫外線反射面。只要根據(jù)這樣的構(gòu)造，在設(shè)置了遮光層的遮光部上設(shè)置了由紫外線固化型樹脂形成的密封材料的液晶顯示裝置中，存在著以下的有利點。也就是，通過紫外線照射密封這個彩色濾光片基板和薄膜晶體管(TFT)基板時，從薄膜晶體管(TFT)基板的密封材料對應(yīng)部照射紫外線固化密封材料。在此之際，從薄膜晶體管(TFT)基板一側(cè)照射的紫外線通過構(gòu)成彩色濾光片基板的遮光部的紫外線反射面向密封材料反射，再次照射密封材料。為此，即便是在薄膜晶體管(TFT)基板上形成有布線用鋁等妨礙紫外線向密封材料進入的物件存在，通過從紫外線反射面紫外線再次照射密封材料就能夠固化密封材料的未固化部分。因此，通過通常的紫外線照射，就能夠更有效且更容易的進行密封材料的固化。-發(fā)明的效果-通過以上的說明，只要根據(jù)本發(fā)明，就可以提供容易密封材料的紫外線固化的顯示裝置、顯示裝置的制造方法、基板及彩色濾光片基板。


圖1，是本發(fā)明的實施方式1所涉及的液晶顯示裝置10及彩色濾光片基板的剖面圖。圖2，是本發(fā)明的實施方式2所涉及的液晶顯示裝置20及彩色濾光片基板的剖面圖。圖3，是本發(fā)明的實施方式3所涉及的液晶顯示裝置30及彩色濾光片基板的剖面圖。圖4，是本發(fā)明的實施方式4所涉及的液晶顯示裝置40及彩色濾光片基板的剖面圖。圖5，是本發(fā)明的實施方式5所涉及的液晶顯示裝置50及彩色濾光片基板的剖面圖。圖6，是本發(fā)明的實施方式6所涉及的液晶顯示裝置60及彩色濾光片基板的剖面圖。圖7，是本發(fā)明的實施方式7所涉及的液晶顯示裝置70及彩色濾光片基板的剖面圖。圖8，是本發(fā)明的實施方式8所涉及的液晶顯示裝置80及彩色濾光片基板的剖面圖。圖9，是本發(fā)明的實施方式9所涉及的液晶顯示裝置90及彩色濾光片基板的剖面圖。圖10，是本發(fā)明的實施方式10所涉及的液晶顯示裝置100及彩色濾光片基板的剖面圖。圖11，是表示本發(fā)明的實施方式1至10所涉及的液晶顯示裝置10至100的制造方法中薄膜晶體管(TFT)基板12的準備工序的圖。圖12，是表示本發(fā)明的實施方式1至10所涉及的液晶顯示裝置10至100的制造方法中密封材料113的涂布工序的圖。圖13，是表示本發(fā)明的實施方式1至10所涉及的液晶顯示裝置10至100的制造方法中液晶材料114的滴下工序的圖。圖14，是表示本發(fā)明的實施方式1至10所涉及的液晶顯示裝置10至100的制造方法中基板粘合的工序的圖。圖15，是表示本發(fā)明的實施方式1至10所涉及的液晶顯示裝置10至100的制造
7方法中紫外線照射工序的圖。圖16，是表示本發(fā)明的實施方式1至10所涉及的液晶顯示裝置10至100的制造方法中加熱 除冷工序的圖。(符號說明)10、20、30、40、50、60、70、80、90、100 液晶顯示裝置11、21、31、41、51、61、71、81、91、101CF 基板12薄膜晶體管(TFT)基板13液晶層14、24、34、44、54、64、74、84、94、104 液晶顯示面板15、111玻璃基板16 色層17 黑底18,28紫外線擴散基礎(chǔ)層19紫外線反射層48折射率不同的粒子58反射紫外線的粒子68、88、98、108紫外線擴散樹脂層78微型透鏡層110紫外線反射面112 布線113密封材料114液晶材料120柱狀間隔粒子130 覆蓋層(overcoat 層)150紫外線
具體實施例方式以下，基于附圖詳細說明本發(fā)明的實施方式所涉及的彩色濾光片基板、使用它的顯示裝置以及顯示裝置的制造方法。尚，本發(fā)明，不為以下的實施方式所限定。還有，在此， 用液晶顯示裝置作為顯示裝置加以說明。(實施方式1)(彩色濾光片基板11及其使用它的液晶顯示裝置10的構(gòu)成)圖1，表示液晶顯示裝置10的剖面圖。液晶顯示裝置10，是由包括相對的彩色濾光片基板11及薄膜晶體管基板12、設(shè)置在它們之間的液晶層13(顯示媒體層)、設(shè)置在相對兩基板之間未圖示的柱狀間隔粒子的液晶顯示面板14以及未圖示的后照燈等構(gòu)成的。彩色濾光片基板(CF基板11)，在玻璃基板15上形成了由赤㈨、綠(G)以及青 (B)三原色形成的色層16，它們構(gòu)成顯示部。作為色層16，除RGB的組合外，還可以使用青綠色(cyan)、濃紫紅色(magenta)、黃色(yellow)的補色。在色層16上分別形成了未圖示的相對電極及定向膜。色層16，在它的外周，設(shè)置為得到對比度的鑲邊的黑底17 (遮光層)形成遮光部。在黑底17上，形成了紫外線擴散基礎(chǔ)層18 (紫外線擴散機構(gòu))。紫外線擴散基礎(chǔ)層18，是由樹脂材料或陶瓷材料等形成的，其表面形成為凹凸?fàn)睿?構(gòu)成凹凸部。表面的凹凸形狀，可以是任何形狀的，也可以是半球狀、圓錐狀、角錐狀或者是柱狀等的突起的多個形成的，還可以是連續(xù)起伏整個面上形成的。紫外線擴散基礎(chǔ)層18，其表面由紫外線反射膜19覆蓋構(gòu)成紫外線反射面110。紫外線反射膜19，是由Al或Ag等的反射率高的金屬、或是它們的合金形成的。還有，為了降低觀測者一側(cè)的反射率，在紫外線反射膜19和紫外線擴散基礎(chǔ)層18之間設(shè)置Cr 等反射率低的金屬亦可。還有，同樣地，紫外線反射膜19和紫外線擴散基礎(chǔ)層18之間設(shè)置 SiO2貼緊層亦可。再有，在紫外線反射膜19上，還可以設(shè)置S^2等的保護層或增反射膜。薄膜晶體管基板(TFT基板12)，是由玻璃基板111、玻璃基板111上分別形成的未圖示的柵電極、源電極以及漏電極等的薄膜晶體管(TFT)元件、透明絕緣層、像素電極以及定向膜等構(gòu)成。電連接薄膜晶體管(TFT)元件的布線中，由Al等形成的布線112，為了顯示裝置的窄邊緣，設(shè)置在遮光部中。密封材料113，設(shè)置在形成于CF基板11上的黑底17上的紫外線反射膜19和相對的薄膜晶體管(TFT)基板12之間，粘合著兩基板。密封材料113，沒有形成在液晶封入口， 圍繞著顯示部不間斷的連續(xù)設(shè)置，由此形成了液晶顯示單元。密封材料113，是由基本聚合體的合成樹脂(有機玻璃)、丙烯樹脂等的紫外線固化型密封劑構(gòu)成。(液晶顯示裝置10的制造方法)接下來，詳細說明本實施方式1所涉及的液晶顯示裝置10的制造方法。(CF基板11的制造方法)首先，準備玻璃基板15。并且，玻璃基板15上成為遮光部分區(qū)域的上額邊緣部 IOmm以下，在像素間用噴鍍法等形成寬度為5至50 μ m的黑底17。接下來，在玻璃基板15 上的成為顯示部的區(qū)域的整個面上疊置分散了赤色顏料的樹脂膜(干膜)，進行曝光、顯像以及烘烤(熱處理)，形成第一色層(赤)。接下來，重疊在第一色層上，整個面上疊置分散了綠色顏料的樹脂薄片，進行曝光、顯像以及烘烤(熱處理)，形成第二色層(綠)。同樣， 形成第三色層(青)。尚，色層16的形成方法，取代疊置干膜，通過旋轉(zhuǎn)(spin)、縫隙涂層(slit coat) 整面涂布分散了顏料的感光性樹脂材料亦可。再有，著色層的各色形成的順序，沒有特別的限定，是其他的順序亦可。接下來，色層16上鍍氣ITO形成相對電極，接下來形成定向膜。接下來，在黑底17上形成薄膜層，對這個薄膜層擠壓表面是多條細微的凹凸形狀的的加工模型在薄膜層的表面設(shè)置凹凸形狀，形成紫外線擴散基礎(chǔ)層18。形成紫外線擴散基礎(chǔ)層18后，以覆蓋其表面的形式形成Al等的金屬薄膜得到紫外線反射膜19。通過以上的工序，完成CF基板11。尚，作為紫外線擴散基礎(chǔ)層18的形成方法，在表面具有多條細微凹凸形狀的臨時支撐體上疊層薄膜層，在黑底17上臨摹薄膜層亦可。臨摹薄膜的表面上擴散光得到的形成了凹凸形狀面的臨時支撐體，可以使用通過擠壓表面是多條細微的凹凸形狀的加工模型制造的。還有，設(shè)置基礎(chǔ)薄膜能夠變形的涂底層，在這個層上擠壓表面是多條細微凹凸形狀的加工模型，將通過固化涂底層工序形成的取代基礎(chǔ)薄膜使用亦可。還有，基礎(chǔ)薄膜的表面也可以使用噴砂處理的薄膜。作為表面是多條細微的凹凸形狀的加工模型或臨時支撐體的制作方法之一，有以下的做法。也就是，在絕緣板上涂布光敏抗蝕劑后，或者是用具有所規(guī)定的掩模圖案的光掩模曝光顯像、或者是用激光切割后，在圖案形成面上通過真空鍍氣法或噴鍍法等形成(導(dǎo)電化處理)銀或鎳膜，通過電鑄鎳疊層，由從絕緣板剝離工序制作father原型。在這個 father原型上進行剝離處理再次進行鎳電鑄，從father原型剝離制作母原型，通過使用這個母原型形成多數(shù)細微的凹凸，制作加工型或者支撐體。(薄膜晶體管(TFT)基板12的制造工序)接下來，準備玻璃基板111，通過噴鍍法形成由Ta或Al/Ti形成的柵電極，圖案化。 接下來作為柵極絕緣膜形成SiNx，作為薄膜形成半導(dǎo)體a-Si、p-Si或單結(jié)晶Si。接下來， 作為蝕刻保護膜形成SiNx，進行圖案形成。接下來形成接線柱孔、漏電極以及源電極。再有，通過同一工序或者另外的工序，在基板端部設(shè)置驅(qū)動器，形成薄膜晶體管。再有，在所規(guī)定的區(qū)域形成透明絕緣層。接下來，真空鍍氣ITO再圖案形成，形成像素電極。接下來，經(jīng)過照相平面印刷工序形成多個為規(guī)定單元厚度的柱狀間隔粒子。尚，即可以是柱狀間隔粒子形成在CF基板11 一側(cè)，也可以使用散布球狀間隔粒子的方式。通過以上的工序，制作薄膜晶體管(TFT)基板12。(液晶顯示面板14的形成工序)接下來，用圖11至圖16說明液晶顯示面板14的形成工序。首先，如圖11所示的形成了薄膜晶體管(TFT)基板12的Al等的布線112的遮光部上，涂布如圖12所示的連續(xù)不間斷的密封材料113。接下來，如圖13所示那樣，利用分配器等向薄膜晶體管(TFT)基板12滴下一滴為 2mg的液晶材料114。在此之際，液晶材料114滴到薄膜晶體管(TFT)基板12的遮光部外周圍涂布成框狀的密封材料113內(nèi)。接下來，如圖14所示那樣，液晶材料114滴下的薄膜晶體管(TFT)基板12上合對位置粘合CF基板11。這時，粘合的CF基板11劑薄膜晶體管(TFT)基板12中由密封材料 113圍起來的區(qū)域上，形成了液晶顯示單元。這個工序是在真空中進行的。接下來，返回到大氣中粘合的薄膜晶體管(TFT)基板12和CF基板11之間的液晶材料114由于大氣壓的作用擴散。W0721接下來，如圖15所示那樣，在薄膜晶體管(TFT)基板12 —側(cè)的顯示部設(shè)置了遮光掩模115的狀態(tài)下，從薄膜晶體管(TFT)基板12 —側(cè)照射紫外線150。照射的紫外線150，從薄膜晶體管(TFT)基板12的密封材料對應(yīng)部進入，固化密封材料113。這時， 薄膜晶體管(TFT)基板12的遮光部上因為設(shè)置了由Al等形成的布線112，就殘留下了由這個布線112遮住紫外線150的密封材料113上未固化區(qū)域116。但是，到達密封材料113 的紫外線150繼續(xù)向前到達CF基板11的遮光部構(gòu)成的紫外線反射面110。因為紫外線反射面110形成在形成為凹凸?fàn)畹淖贤饩€擴散基礎(chǔ)層18的表面，所以，到達紫外線反射面110 的紫外線150，在被反射的同時對應(yīng)凹凸形狀被擴散。擴散反射的紫外線150，折回再次照射密封材料113的同時，在薄膜晶體管(TFT) 基板12的Al等形成的布線112上也被反射，再進一步擴大的范圍內(nèi)照射密封材料113。為此，密封材料113的未固化區(qū)域116由反射紫外線而固化。接下來，如圖16所示那樣，去除遮光掩模115，經(jīng)過加熱·除冷工序分斷成所希望的顯示面板框。這樣，液晶材料114由固化了的密封材料113密封在兩枚基板之間形成液晶顯示面板14，在它們上設(shè)置未圖示的后照燈單元完成液晶顯示裝置10。(實施方式2)(彩色濾光片基板21及其使用它的液晶顯示裝置20的構(gòu)成)圖2，表示本實施方式2所涉及的液晶顯示裝置10的剖面圖。還有，與上述實施方式所示的相同部分標(biāo)注相同的符號，省略其說明。液晶顯示裝置20，是由薄膜晶體管基板12及CF基板21、具有設(shè)置在它們之間的液晶層13的液晶顯示面板M、以及未圖示的后照燈等構(gòu)成。CF基板21，在玻璃基板15上形成了構(gòu)成顯示部的色層16，未圖示的相對電極及定向膜。色層16，在它的外周，形成了設(shè)置為得到對比度的鑲邊的黑底17的遮光部。在黑底 17上，形成了紫外線擴散基礎(chǔ)層觀。紫外線擴散基礎(chǔ)層觀，是由樹脂材料或陶瓷材料等形成的，其表面形成為凹凸?fàn)睿?構(gòu)成凹凸部。表面的凹凸形狀，向著垂直于CF基板21的顯示預(yù)定區(qū)域(設(shè)置液晶層13的區(qū)域)的面，以向著它的相反一側(cè)的區(qū)域形成了傾斜面。尚，CF基板21的凹凸形狀，只要是將接受的紫外線從液晶層13向外側(cè)反射無論任何形狀均可。紫外線擴散基礎(chǔ)層觀，其表面由紫外線反射膜19覆蓋著。密封材料113，設(shè)置在形成于CF基板21上的黑底17上的紫外線反射膜19和相對的薄膜晶體管(TFT)基板12之間，粘合著兩基板。密封材料113，沒有形成在液晶封入口， 圍繞著顯示部不間斷的連續(xù)設(shè)置，由此形成了液晶顯示單元。(液晶顯示裝置20的制造方法)接下來，詳細說明本實施方式2所涉及的液晶顯示裝置20的制造方法。還有，與上述實施方式表示的相同的部分，省略其說明。
接下來，液晶材料114滴下的薄膜晶體管(TFT)基板12上合對位置粘合CF基板 21。這個工序是在真空中進行的。接下來，返回到大氣中擴散液晶材料114。接下來，在薄膜晶體管(TFT)基板12 —側(cè)的顯示部設(shè)置了遮光掩模115的狀態(tài)下，從薄膜晶體管(TFT)基板12 —側(cè)照射紫外線150。照射的紫外線150，從薄膜晶體管 (TFT)基板12的密封材料對應(yīng)部進入，固化密封材料113。這時，薄膜晶體管(TFT)基板 12的遮光部上因為設(shè)置了由Al等形成的布線112，就殘留下了由這個布線112遮住紫外線 150的密封材料113上未固化區(qū)域116。但是，到達密封材料113的紫外線150繼續(xù)向前到達CF基板21的遮光部構(gòu)成的紫外線反射面110。因為紫外線反射面110形成在形成為凹凸?fàn)畹淖贤饩€擴散基礎(chǔ)層觀的表面，所以，到達紫外線反射面110的紫外線150，在被反射的同時對應(yīng)凹凸形狀被擴散。擴散反射的紫外線150，折回再次照射密封材料113的同時，在薄膜晶體管(TFT) 基板12的Al等形成的布線112上也被反射，再進一步擴大的范圍內(nèi)照射密封材料113。為此，密封材料113的未固化區(qū)域116由反射紫外線而固化。還有，因為紫外線擴散基礎(chǔ)層觀的凹凸形狀是由垂直面和傾斜面構(gòu)成的，所以，從液晶層13向外反射在其表面形成的紫外線反射膜19的表面(紫外線反射面110)接受的紫外線。因此，反射紫外線不朝液晶層13， 液晶層13上不照射紫外線150。接下來，去除遮光掩模115，經(jīng)過加熱·除冷工序分斷成所希望的顯示面板框。這樣，液晶材料114由固化了的密封材料113密封在兩枚基板之間形成液晶顯示面板14，在它們上設(shè)置未圖示的后照燈單元完成液晶顯示裝置20。(實施方式3)(彩色濾光片基板及其使用它的液晶顯示裝置20的構(gòu)成)圖3，表示本實施方式3所涉及的液晶顯示裝置30的剖面圖。還有，與上述實施方式所示相同的部分標(biāo)注相同的符號，省略其說明。液晶顯示裝置30，是由薄膜晶體管(TFT)基板12及CF基板31、具有設(shè)置在它們之間的液晶層13的液晶顯示面板34、以及未圖示的后照燈等構(gòu)成的。CF基板31，在玻璃基板15上分別形成了色層16、未圖示的相對電極以及定向膜。 色層16，在它的外周，設(shè)置黑底17形成了遮光部。在黑底17上，形成了紫外線擴散基礎(chǔ)層 18 (紫外線擴散機構(gòu))。黑底17，其表面形成為凹凸?fàn)?，由它們?gòu)成紫外線擴散機構(gòu)。黑底17表面的凹凸形狀，可以是任何形狀的，也可以是半球狀、圓錐狀、角錐狀或者是柱狀等的多個突起狀形成的，還可以是小坡度連續(xù)起伏整個面上形成的。黑底17，其表面由紫外線反射膜19覆蓋。薄膜晶體管(TFT)基板12，是由玻璃基板111、玻璃基板111上分別形成的未圖示的柵電極、源電極以及漏電極等的薄膜晶體管(TFT)元件、分別未圖示的透明絕緣層、像素電極以及定向膜等構(gòu)成。密封材料113，設(shè)置在形成于CF基板11上的黑底17上的紫外線反射膜19和相對的薄膜晶體管(TFT)基板12之間，粘合著兩基板。密封材料113，沒有形成在液晶封入口， 圍繞著顯示部不間斷的連續(xù)設(shè)置，由此形成了液晶顯示單元。(液晶顯示裝置30的制造方法)接下來，詳細說明本實施方式3所涉及的液晶顯示裝置30的制造方法。還有，與上述實施方式所示相同的部分，省略其說明。(CF基板31的制造方法)首先，與實施方式1 一樣，在玻璃基板15上形成色層16、黑底17、相對電極以及定向膜。接下來，通過蝕刻黑底17的表面等的處理，形成凹凸形狀。其后，以覆蓋黑底17 表面的形式形成Al等的金屬薄膜得到紫外線反射膜19。通過以上的工序，完成CF基板31。(薄膜晶體管(TFT)基板12的制造工序)接下來，與實施方式1 一樣，形成薄膜晶體管(TFT)基板12。(液晶顯示面板34的形成工序)接下來，在形成了薄膜晶體管(TFT)基板12的Al等的布線112的遮光部上，涂布連續(xù)不間斷的密封材料113。接下來，利用分配器等向薄膜晶體管(TFT)基板12的遮光部外周圍涂布成框狀的密封材料113內(nèi)滴下液晶材料114。接下來，液晶材料114滴下的薄膜晶體管(TFT)基板12上合對位置粘合CF基板 31。這個工序是在真空中進行的。接下來，返回到大氣中擴散液晶材料114。接下來，在薄膜晶體管(TFT)基板12 —側(cè)的顯示部設(shè)置了遮光掩模115的狀態(tài)下，從薄膜晶體管(TFT)基板12 —側(cè)照射紫外線150。照射的紫外線150，從薄膜晶體管 (TFT)基板12的密封材料對應(yīng)部進入，固化密封材料113。這時，薄膜晶體管(TFT)基板 12的遮光部上因為設(shè)置了由Al等形成的布線112，就殘留下了由這個布線112遮住紫外線 150的密封材料113上未固化區(qū)域116。但是，到達密封材料113的紫外線150繼續(xù)向前到達CF基板11的遮光部構(gòu)成的紫外線反射面110。因為紫外線反射面110形成在形成為凹凸?fàn)畹暮诘?7的表面，所以，到達紫外線反射面110的紫外線150，在被反射的同時對應(yīng)凹凸形狀被擴散。擴散反射的紫外線150，折回再次照射密封材料113的同時，在薄膜晶體管(TFT) 基板12的Al等形成的布線112上也被反射，再進一步擴大的范圍內(nèi)照射密封材料113。為此，密封材料113的未固化區(qū)域116由反射紫外線而固化。接下來，去除遮光掩模115，經(jīng)過加熱·除冷工序分斷成所希望的顯示面板框。這樣，液晶材料114由固化了的密封材料113密封在兩枚基板之間形成液晶顯示面板34，在它們上設(shè)置未圖示的后照燈單元完成液晶顯示裝置30。(實施方式4)(彩色濾光片基板41及其使用它的液晶顯示裝置40的構(gòu)成)圖4，表示本實施方式4所涉及的液晶顯示裝置40的剖面圖。還有，與上述實施方式所示的相同的部分標(biāo)注相同的符號，省略其說明。液晶顯示裝置40，是由相對的薄膜晶體管基板12及CF基板41、具有設(shè)置在它們之間的液晶層13的液晶顯示面板44、以及未圖示的后照燈等構(gòu)成的。CF基板41，在玻璃基板15上分別形成了構(gòu)成顯示部色層16，未圖示的相對電極及定向膜。色層16，在它的外周，設(shè)置黑底17形成了遮光部。在黑底17上形成了紫外線反射膜19。
密封材料113，設(shè)置在形成于CF基板41上的黑底17上的紫外線反射膜19和相對的薄膜晶體管(TFT)基板12之間，粘合著兩基板。密封材料113，沒有形成在液晶封入口， 圍繞著顯示部不間斷的連續(xù)設(shè)置，由此形成了液晶顯示單元。密封材料113，每100重量單位含有0. 01至1. 00重量單位的折射率不同的粒子48 (紫外線擴散粒子)。折射率不同的粒子48，折射率，例如和密封材料113有0. 03以上不同，再有，平均粒徑為不影響單元厚度的值，例如1值5μπι的粒子。(液晶顯示裝置40的制造方法)接下來，詳細說明本實施方式4所涉及的液晶顯示裝置40的制造方法。還有，與上述實施方式所示的相同的部分，省略其說明。(CF基板41的制造方法)首先，與實施方式1 一樣，在玻璃基板15上形成色層16、黑底17、相對電極以及定向膜。接下來，在黑底17上形成紫外線反射膜19。通過以上的工序，完成CF基板41。(薄膜晶體管(TFT)基板12的制造工序)接下來，與實施方式1 一樣，形成薄膜晶體管(TFT)基板12。(液晶顯示面板44的形成工序)接下來，在形成了薄膜晶體管(TFT)基板12的Al等的布線的遮光部上，涂布連續(xù)不間斷的含有折射率不同的粒子48的密封材料113。接下來，利用分配器等向薄膜晶體管(TFT)基板12的遮光部外周圍涂布成框狀的密封材料113內(nèi)滴下液晶材料114。接下來，在液晶材料114滴下的薄膜晶體管(TFT)基板12上合對位置粘合CF基板41。這個工序是在真空中進行的。接下來，返回到大氣中擴散液晶材料114。接下來，在薄膜晶體管(TFT)基板12 —側(cè)的顯示部設(shè)置了遮光掩模115的狀態(tài)下，從薄膜晶體管(TFT)基板12 —側(cè)照射紫外線150。照射的紫外線150，從薄膜晶體管 (TFT)基板12的密封材料對應(yīng)部進入，固化密封材料113。這時，薄膜晶體管(TFT)基板 12的遮光部上因為設(shè)置了由Al等形成的布線112，就殘留下了由這個布線112遮住紫外線 150的密封材料113上未固化區(qū)域116。但是，到達密封材料113的紫外線150繼續(xù)向前到達CF基板41的遮光部構(gòu)成的紫外線反射面110，再度照射密封材料113。這時，因為密封材料113含有折射率不同的粒子48，所以，紫外線150，由密封材料 113和折射率不同的粒子48的界面反射擴散到廣范圍。擴散反射的紫外線150，再次照射密封材料113的同時，在薄膜晶體管(TFT)基板12的Al等形成的布線112上也被反射，再進一步擴大的范圍內(nèi)照射密封材料113。為此，密封材料113的未固化區(qū)域116由反射紫外線而固化。接下來，去除遮光掩模115，經(jīng)過加熱·除冷工序分斷成所希望的顯示面板框。這樣，液晶材料114由固化了的密封材料113密封在兩枚基板之間形成液晶顯示面板44，在它們上設(shè)置未圖示的后照燈單元完成液晶顯示裝置40。(實施方式5)(彩色濾光片基板51及其使用它的液晶顯示裝置50的構(gòu)成)
圖5，表示本實施方式5所涉及的液晶顯示裝置50的剖面圖。還有，與上述實施方式所示的相同的部分標(biāo)注相同的符號，省略其說明。液晶顯示裝置50，是由相對的薄膜晶體管基板12及CF基板51、具有設(shè)置在它們之間的液晶層13的液晶顯示面板M、以及未圖示的后照燈等構(gòu)成的。CF基板51，在玻璃基板15上分別形成了構(gòu)成顯示部的色層16，未圖示的相對電極及定向膜。色層16，在它的外周，設(shè)置黑底17形成了遮光部。在黑底17上形成了紫外線反射膜19。密封材料113，設(shè)置在形成于CF基板51上的黑底17上的紫外線反射膜19和相對的薄膜晶體管(TFT)基板12之間，粘合著兩基板。密封材料113，沒有形成在液晶封入口， 圍繞著顯示部不間斷的連續(xù)設(shè)置，由此形成了液晶顯示單元。密封材料113，每100重量單位含有0. 01至1. 00重量單位的反射紫外線粒子58 (紫外線擴散粒子)。反射紫外線粒子 58，例如，表面處理為鏡面，平均粒徑為不影響單元厚度的值，例如1值5μπι的粒子。(液晶顯示裝置50的制造方法)接下來，詳細說明本實施方式5所涉及的液晶顯示裝置50的制造方法。還有，與上述實施方式所示的相同的部分，省略其說明。(CF基板51的制造方法)首先，與實施方式1 一樣，在玻璃基板15上形成色層16、黑底17、相對電極以及定向膜。接下來，在黑底17上形成紫外線反射膜19。通過以上的工序，完成CF基板51。(薄膜晶體管(TFT)基板12的制造工序)接下來，與實施方式1 一樣，形成薄膜晶體管(TFT)基板12。(液晶顯示面板M的形成工序)接下來，在形成了薄膜晶體管(TFT)基板12的Al等的布線的遮光部上，涂布連續(xù)不間斷的含有反射紫外線粒子58的密封材料113。接下來，利用分配器等向薄膜晶體管(TFT)基板12的遮光部外周圍涂布成框狀的密封材料113內(nèi)滴下液晶材料114。接下來，在液晶材料114滴下的薄膜晶體管(TFT)基板12上合對位置粘合CF基板51。這個工序是在真空中進行的。接下來，返回到大氣中擴散液晶材料114。接下來，在薄膜晶體管(TFT)基板12 —側(cè)的顯示部設(shè)置了遮光掩模115的狀態(tài)下，從薄膜晶體管(TFT)基板12 —側(cè)照射紫外線150。照射的紫外線150，從薄膜晶體管 (TFT)基板12的密封材料對應(yīng)部進入，固化密封材料113。這時，薄膜晶體管(TFT)基板 12的遮光部上因為設(shè)置了由Al等形成的布線112，就殘留下了由這個布線112遮住紫外線 150的密封材料113上未固化區(qū)域116。但是，到達密封材料113的紫外線150繼續(xù)向前到達CF基板41的遮光部構(gòu)成的紫外線反射面110，再度照射密封材料113。這時，因為密封材料113含有反射紫外線150的粒子58，所以，紫外線150，由密封材料113和反射紫外線的粒子58的界面反射擴散到廣范圍。擴散反射的紫外線150，再次照射密封材料113的同時，在薄膜晶體管(TFT)基板12的Al等形成的布線112上也被反射，再進一步擴大的范圍內(nèi)照射密封材料113。為此，密封材料113的未固化區(qū)域116由反
15射紫外線而固化。接下來，去除遮光掩模115，經(jīng)過加熱·除冷工序分斷成所希望的顯示面板框。這樣，液晶材料114由固化了的密封材料113密封在兩枚基板之間形成液晶顯示面板M，在它們上設(shè)置未圖示的后照燈單元完成液晶顯示裝置50。(實施方式6)(彩色濾光片基板61及其使用它的液晶顯示裝置60的構(gòu)成)圖6，表示本實施方式6所涉及的液晶顯示裝置60的剖面圖。還有，與上述實施方式所示的相同的部分標(biāo)注相同的符號，省略其說明。液晶顯示裝置60，是由相對的薄膜晶體管基板12及CF基板61、具有設(shè)置在它們之間的液晶層13的液晶顯示面板64、以及未圖示的后照燈等構(gòu)成的。CF基板61，在玻璃基板15上分別形成了構(gòu)成顯示部色層16，未圖示的相對電極及定向膜。色層16，在它的外周，設(shè)置黑底17形成了遮光部。在黑底17上形成了紫外線反射膜19，在紫外線反射膜19上形成了紫外線擴散層68。紫外線擴散層68，是由能夠使紫外線透過的透明材料形成的。還有，紫外線擴散層68，還可以是由樹脂材料形成的紫外線擴散樹脂層。紫外線擴散層68，這層的表面與密封材料113的折射率不同，且，形成為凹凸?fàn)畹鹊臄U散紫外線的形狀。密封材料113，設(shè)置在形成于CF基板61上形成的紫外線擴散層68和相對的薄膜晶體管(TFT)基板12之間，粘合著兩基板。密封材料113，沒有形成在液晶封入口，圍繞著顯示部不間斷的連續(xù)設(shè)置，由此形成了液晶顯示單元。(液晶顯示裝置60的制造方法)接下來，詳細說明本實施方式6所涉及的液晶顯示裝置60的制造方法。還有，與上述實施方式所示的相同的部分，省略其說明。(CF基板61的制造方法)首先，與實施方式1 一樣，在玻璃基板15上形成色層16、黑底17、相對電極以及定向膜。接下來，在黑底17上形成紫外線反射膜19及紫外線擴散層68。通過以上的工序，完成CF基板61。(薄膜晶體管(TFT)基板12的制造工序)接下來，與實施方式1 一樣，形成薄膜晶體管(TFT)基板12。(液晶顯示面板64的形成工序)接下來，在形成了薄膜晶體管(TFT)基板12的Al等的布線的遮光部上，涂布連續(xù)不間斷的密封材料113。接下來，利用分配器等向薄膜晶體管(TFT)基板12的遮光部外周圍涂布成框狀的密封材料113內(nèi)滴下液晶材料114。接下來，在液晶材料114滴下的薄膜晶體管(TFT)基板12上合對位置粘合CF基板61。這個工序是在真空中進行的。接下來，返回到大氣中擴散液晶材料114。接下來，在薄膜晶體管(TFT)基板12 —側(cè)的顯示部設(shè)置了遮光掩模115的狀態(tài)下，從薄膜晶體管(TFT)基板12 —側(cè)照射紫外線150。照射的紫外線150，從薄膜晶體管 (TFT)基板12的密封材料對應(yīng)部進入，固化密封材料113。這時，薄膜晶體管(TFT)基板12的遮光部上因為設(shè)置了由Al等形成的布線112，就殘留下了由這個布線112遮住紫外線 150的密封材料113上未固化區(qū)域116。但是，到達密封材料113的紫外線150繼續(xù)向前到達CF基板61的遮光部構(gòu)成的紫外線反射面110的話，到達其表面上形成的紫外線擴散層 68被擴散。擴散反射的紫外線150，再次照射密封材料113的同時，在薄膜晶體管(TFT)基板 12的Al等形成的布線112上也被反射，再進一步擴大的范圍內(nèi)照射密封材料113。為此， 密封材料113的未固化區(qū)域116由反射紫外線150而固化。接下來，去除遮光掩模115，經(jīng)過加熱·除冷工序分斷成所希望的顯示面板框。這樣，液晶材料114由固化了的密封材料113密封在兩枚基板之間形成液晶顯示面板44，在它們上設(shè)置未圖示的后照燈單元完成液晶顯示裝置60。(實施方式7)(彩色濾光片基板71及其使用它的液晶顯示裝置70的構(gòu)成)圖7，表示本實施方式7所涉及的液晶顯示裝置70的剖面圖。還有，與上述實施方式所示的相同的部分標(biāo)注相同的符號，省略其說明。液晶顯示裝置70，是由相對的薄膜晶體管基板12及CF基板71、具有設(shè)置在它們之間的液晶層13的液晶顯示面板74、以及未圖示的后照燈等構(gòu)成的。CF基板71，在玻璃基板15上分別形成了構(gòu)成顯示部色層16，未圖示的相對電極及定向膜。色層16，在它的外周，設(shè)置黑底17形成了遮光部。在黑底17上形成了紫外線反射膜19。在紫外線反射膜19上，形成了多個透鏡構(gòu)成的層(微透鏡層78)。微透鏡層78， 是由能夠透過紫外線的透明材料形成的。密封材料113，設(shè)置在形成于CF基板71上形成的微透鏡層78和相對的薄膜晶體管(TFT)基板12之間，粘合著兩基板。密封材料113，沒有形成在液晶封入口，圍繞著顯示部不間斷的連續(xù)設(shè)置，由此形成了液晶顯示單元。(液晶顯示裝置70的制造方法)接下來，詳細說明本實施方式7所涉及的液晶顯示裝置70的制造方法。還有，與上述實施方式所示的相同的部分，省略其說明。(CF基板71的制造方法)首先，與實施方式1 一樣，在玻璃基板15上形成色層16、黑底17、相對電極以及定向膜。接下來，在黑底17上形成紫外線反射膜19及微透鏡層78。通過以上的工序，完成CF基板71。(薄膜晶體管(TFT)基板12的制造工序)接下來，與實施方式1 一樣，形成薄膜晶體管(TFT)基板12。(液晶顯示面板74的形成工序)接下來，在形成了薄膜晶體管(TFT)基板12的Al等的布線的遮光部上，涂布連續(xù)不間斷的密封材料113。接下來，利用分配器等向薄膜晶體管(TFT)基板12的遮光部外周圍涂布成框狀的密封材料113內(nèi)滴下液晶材料114。
接下來，在液晶材料114滴下的薄膜晶體管(TFT)基板12上合對位置粘合CF基板71。這個工序是在真空中進行的。接下來，返回到大氣中擴散液晶材料114。接下來，在薄膜晶體管(TFT)基板12 —側(cè)的顯示部設(shè)置了遮光掩模115的狀態(tài)下，從薄膜晶體管(TFT)基板12 —側(cè)照射紫外線150。照射的紫外線150，從薄膜晶體管 (TFT)基板12的密封材料對應(yīng)部進入，固化密封材料113。這時，薄膜晶體管(TFT)基板 12的遮光部上因為設(shè)置了由Al等形成的布線112，就殘留下了由這個布線112遮住紫外線 150的密封材料113上未固化區(qū)域116。但是，到達密封材料113的紫外線150繼續(xù)向前到達CF基板71的遮光部構(gòu)成的紫外線反射面110的話，到達其表面上形成的微透鏡層78被擴散。擴散反射的紫外線150，再次照射密封材料113的同時，在薄膜晶體管(TFT)基板 12的Al等形成的布線112上也被反射，再進一步擴大的范圍內(nèi)照射密封材料113。為此， 密封材料113的未固化區(qū)域116由反射紫外線150而固化。接下來，去除遮光掩模115，經(jīng)過加熱·除冷工序分斷成所希望的顯示面板框。這樣，液晶材料114由固化了的密封材料113密封在兩枚基板之間形成液晶顯示面板44，在它們上設(shè)置未圖示的后照燈單元完成液晶顯示裝置70。(實施方式8)(彩色濾光片基板及其使用它的液晶顯示裝置80的構(gòu)成)圖8，表示本實施方式8所涉及的液晶顯示裝置80的剖面圖。還有，與上述實施方式所示的相同的部分標(biāo)注相同的符號，省略其說明。液晶顯示裝置80，是由相對的薄膜晶體管基板12及CF基板81、具有設(shè)置在它們之間的液晶層13的液晶顯示面板84、以及未圖示的后照燈等構(gòu)成的。CF基板81，在玻璃基板15上分別形成了構(gòu)成顯示部色層16，未圖示的相對電極、 定向膜以及柱狀間隔粒子120。色層16，在它的外周，設(shè)置黑底17形成了遮光部。在黑底 17上形成了紫外線反射膜19，在紫外線反射膜19上形成了紫外線擴散層88。紫外線擴散層88，是由能夠使紫外線透過的透明材料形成的。還有，上述柱狀間隔粒子120也由這個透明材料形成。紫外線擴散層88，其表面形成為凹凸?fàn)畹鹊臄U散紫外線的形狀。密封材料113，設(shè)置在形成于CF基板81上形成的紫外線擴散層88和相對的薄膜晶體管(TFT)基板12之間，粘合著兩基板。密封材料113，沒有形成在液晶封入口，圍繞著顯示部不間斷的連續(xù)設(shè)置，由此形成了液晶顯示單元。(液晶顯示裝置80的制造方法)接下來，詳細說明本實施方式8所涉及的液晶顯示裝置80的制造方法。還有，與上述實施方式所示的相同的部分，省略其說明。(CF基板81的制造方法)首先，與實施方式1 一樣，在玻璃基板15上形成色層16、黑底17、相對電極以及定向膜。這時，在黑底17上形成紫外線反射膜19。接下來，用相同材料在同一工序中形成柱狀間隔粒子120及紫外線擴散層88。通過以上的工序，完成CF基板81。(薄膜晶體管(TFT)基板12的制造工序)
接下來，與實施方式1 一樣，形成薄膜晶體管(TFT)基板12。這時，還可以在薄膜晶體管(TFT)基板12上再形成柱狀間隔粒子120。(液晶顯示面板84的形成工序)接下來，在形成了薄膜晶體管(TFT)基板12的Al等的布線的遮光部上，涂布連續(xù)不間斷的密封材料113。接下來，利用分配器等向薄膜晶體管(TFT)基板12的遮光部外周圍涂布成框狀的密封材料113內(nèi)滴下液晶材料114。接下來，在液晶材料114滴下的薄膜晶體管(TFT)基板12上合對位置粘合CF基板81。這個工序是在真空中進行的。接下來，返回到大氣中擴散液晶材料114。接下來，與實施方式6 —樣通過紫外線150固化密封材料113后，完成液晶顯示裝置80。尚，本實施方式8中，作為紫外線擴散機構(gòu)使用了與實施方式6 (紫外線擴散層68) 相同的構(gòu)造，但是，并不限于此，還可以是實施方式1或2所使用的方法。即便是在這種情況下，紫外線擴散機構(gòu)及柱狀間隔粒子120可以用相同的材料在同一工序中形成。(實施方式9)(彩色濾光片基板91及其使用它的液晶顯示裝置90的構(gòu)成)圖9，表示本實施方式9所涉及的液晶顯示裝置90的剖面圖。還有，與上述實施方式所示的相同的部分標(biāo)注相同的符號，省略其說明。液晶顯示裝置90，是由相對的薄膜晶體管基板12及CF基板91、具有設(shè)置在它們之間的液晶層13的液晶顯示面板94、以及未圖示的后照燈等構(gòu)成的。CF基板91，在玻璃基板15上分別形成了構(gòu)成顯示部色層16，覆蓋層130、未圖示的相對電極及定向膜。色層16，在它的外周，設(shè)置黑底17形成了遮光部。在黑底17上形成了紫外線反射膜19，在紫外線反射膜19上形成了紫外線擴散層98。紫外線擴散層98，是由能夠使紫外線透過的透明材料形成的。還有，上述覆蓋層 130也由這個透明材料形成。密封材料113，設(shè)置在形成于CF基板91上形成的紫外線擴散層98和相對的薄膜晶體管(TFT)基板12之間，粘合著兩基板。密封材料113，沒有形成在液晶封入口，圍繞著顯示部不間斷的連續(xù)設(shè)置，由此形成了液晶顯示單元。(液晶顯示裝置90的制造方法)接下來，詳細說明本實施方式9所涉及的液晶顯示裝置90的制造方法。還有，與上述實施方式所示的相同的部分，省略其說明。(CF基板91的制造方法)首先，在玻璃基板15上分別形成色層16及黑底17。接下來，用相同材料在同一工序，在色層16上形成覆蓋層130，在黑底17上形成紫外線擴散層98。接下來，在覆蓋層130上形成相對電極以及定向膜。通過以上的工序，完成CF基板91。(薄膜晶體管(TFT)基板12的制造工序)接下來，與實施方式1 一樣，形成薄膜晶體管(TFT)基板12。
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(液晶顯示面板94的形成工序)接下來，在形成了薄膜晶體管(TFT)基板12的Al等的布線的遮光部上，涂布連續(xù)不間斷的密封材料113。接下來，利用分配器等向薄膜晶體管(TFT)基板12的遮光部外周圍涂布成框狀的密封材料113內(nèi)滴下液晶材料114。接下來，在液晶材料114滴下的薄膜晶體管(TFT)基板12上合對位置粘合CF基板91。這個工序是在真空中進行的。接下來，返回到大氣中擴散液晶材料114。接下來，與實施方式6 —樣通過紫外線150固化密封材料113后，完成液晶顯示裝置90。尚，本實施方式9中，作為紫外線擴散機構(gòu)使用了與實施方式6 (紫外線擴散層68) 相同的構(gòu)造，但是，并不限于此，還可以是實施方式1或2所使用的方法。即便是在這種情況下，紫外線擴散機構(gòu)及覆蓋層130可以用相同的材料在同一工序中形成。(實施方式10)(彩色濾光片基板101及其使用它的液晶顯示裝置100的構(gòu)成)圖10，表示本實施方式10所涉及的液晶顯示裝置100的剖面圖。這個液晶顯示裝置100，是能夠進行透過模式的顯示和反射模式的顯示雙方的半透過性液晶顯示裝置。液晶顯示裝置100，是由相對的薄膜晶體管基板12及CF基板101、具有設(shè)置在它們之間的液晶層13的液晶顯示面板104、以及未圖示的后照燈等構(gòu)成的。CF基板101，是由玻璃基板15、在玻璃基板15上形成的色層16、未圖示的相對電極、臺階層以及定向膜構(gòu)成的。色層16，在它的外周，設(shè)置黑底17形成了遮光部。臺階層 140，具有所規(guī)定的厚度并形成在應(yīng)當(dāng)成為CF基板101的反射區(qū)域的區(qū)域。臺階層140的厚度，最好的是近似液晶層13的厚度的一半。相對于反射模式中用于顯示的光兩次通過液晶層13，而反射模式中用于顯示的光只是一次通過液晶層13。因此，如果將光透過顯示部分的液晶層13的厚度設(shè)定成光反射顯示部分的液晶層13的厚度的兩倍，兩者的光路長度就會相等，就可以由雙方的顯示模式實現(xiàn)良好的顯示。在黑底17上形成了紫外線反射膜19及紫外線擴散層108。薄膜晶體管(TFT)基板12，是在玻璃基板111上形成未圖示的薄膜晶體管(TFT) 元件及像素電極141構(gòu)成顯示部。在顯示部的成為其反射區(qū)域的區(qū)域上，形成了樹脂層的凹凸形狀及Al及還有Al的金屬膜構(gòu)成的反射層142，以覆蓋反射層142的方式形成未圖示的透明絕緣層在表面上平整反射層142的凹凸形狀。在透明絕緣層的平整的表面上，形成了定向膜。密封材料113，設(shè)置在形成于CF基板101上形成的紫外線擴散層108和相對的薄膜晶體管(TFT)基板12之間，粘合著兩基板。密封材料113，沒有形成在液晶封入口，圍繞著顯示部不間斷的連續(xù)設(shè)置，由此形成了液晶顯示單元。(液晶顯示裝置100的制造方法)接下來，詳細說明本實施方式10所涉及的液晶顯示裝置100的制造方法。還有， 與上述實施方式所示的相同的部分，省略其說明。(CF基板101的制造方法)首先，在玻璃基板15上形成色層16、黑底17、以及相對電極。這時，在黑底17上形成紫外線反射膜19。接下來，用相同材料在同一工序中形成臺階層140及紫外線擴散層108，在相對電極及臺階層140上形成定向膜。通過以上的工序，完成CF基板101。(薄膜晶體管(TFT)基板12的制造工序)接下來，與實施方式1 一樣，形成薄膜晶體管(TFT)基板12。(液晶顯示面板104的形成工序)接下來，在形成了薄膜晶體管(TFT)基板12的Al等的布線的遮光部上，涂布連續(xù)不間斷的密封材料113。接下來，利用分配器等向薄膜晶體管(TFT)基板12的遮光部外周圍涂布成框狀的密封材料113內(nèi)滴下液晶材料114。接下來，在液晶材料114滴下的薄膜晶體管(TFT)基板12上合對位置粘合CF基板101。這個工序是在真空中進行的。接下來，返回到大氣中擴散液晶材料114。接下來，與實施方式6 —樣通過紫外線150固化密封材料113后，完成液晶顯示裝置 100。尚，本實施方式8中，作為紫外線擴散機構(gòu)使用了與實施方式6 (紫外線擴散層68) 相同的構(gòu)造(紫外線擴散層108)，但是，并不限于此，還可以是實施方式1或2所使用的方法。即便是在這種情況下，紫外線擴散機構(gòu)及臺階層140可以用相同的材料在同一工序中形成。還有，液晶顯示面板14至104，也可以不形成為本實施方式那樣，而是在紫外線固化型樹脂密封的液晶顯示面板側(cè)面設(shè)置液晶注入口，從那里注入液晶，再用紫外線固化型樹脂密封。再有，本實施方式，作為彩色濾光片基板及使用它的顯示裝置，表示了 IXD (liquid crystal display 液晶顯示面板)系列，但是，PD(plas ma display 等離子顯示面板)、 PALC(plasma addressed liquid crystal display :^ ^ ! ] /^ ) > Wl/l EL (organic electro luminesc ence)> 無 l/l EL (inorganic electro luminescence)> FED (field emission display 電場釋方文顯示面板)、或者 SED (surface-conduction electron-emitter display :表面電場顯示面板)等系列均可。(作用效果)接下來，說明作用效果。本實施方式1至10所涉及的顯示裝置10至100，是包括相互相對設(shè)置的CF基板 11至101及薄膜晶體管(TFT)基板12、和以夾在它們之間的方式設(shè)置的液晶層13的液晶顯示裝置，是以液晶層13，外部由CF基板11至101及薄膜晶體管(TFT)基板12間設(shè)置的紫外線固化型樹脂形成的密封材料113密封，CF基板11至101，密封材料113的對應(yīng)部分設(shè)置了黑底17形成了遮光部，另一方面，薄膜晶體管(TFT)基板12，密封材料113的對應(yīng)部分形成為透明地，遮光部，密封材料113 —側(cè)的面構(gòu)成紫外線反射面110，為特征的。只要根據(jù)這樣的構(gòu)成，在設(shè)置了黑底17的遮光部上設(shè)置了由紫外線固化型樹脂形成的密封材料113的液晶顯示裝置中，通過紫外線照射密封這個CF基板11至101和薄膜晶體管(TFT)基板12。在此之際，是從形成為透明地薄膜晶體管(TFT)基板12的密封材料對應(yīng)部照射紫外線固化密封材料113的，但是，從薄膜晶體管(TFT)基板12 —側(cè)照射的紫外線由在CF基板11至101的遮光部上構(gòu)成的紫外線反射面110向密封材料113反射， 再次照射密封材料113。為此，即便是在基板上存在形成的布線用Al等妨礙紫外線射向密封材料113的物件，通過從紫外線反射面110再次紫外線照射密封材料113就能使密封材料113未固化的部分固化。因此，通過通常的紫外線照射，能夠更有效且更容易的進行密封材料113的固化。還有，本實施方式所涉及的液晶顯示裝置10至100，紫外線反射面110還可以是由鋁或銀形成的。只要根據(jù)這樣的構(gòu)成，因為紫外線反射面110是由鋁或銀形成的，紫外線反射面 110的反射率增高，能夠更有效且更容易的進行密封材料113的固化。再有，本實施方式所涉及的液晶顯示裝置20，紫外線反射面110，還可以構(gòu)成為將接收的紫外線從液晶層13向外反射。只要根據(jù)這樣的構(gòu)成，能夠抑制由紫外線反射面110反射的紫外線射入液晶層 13。為此，就能夠控制液晶受到紫外線的影響給與顯示品位的壞影響。還有，本實施方式所涉及的液晶顯示裝置10至100，還可以有擴散由紫外線反射面110反射的紫外線的紫外線擴散機構(gòu)18至108。只要根據(jù)這樣的構(gòu)成，通過由紫外線擴散機構(gòu)18至108擴散由紫外線反射面110 反射的紫外線，可以向被遮光而未固化殘留的密封材料113更有效的照射紫外線。因此，就能夠有效且容易的固化密封材料113的全部區(qū)域。再有，本實施方式所涉及的液晶顯示裝置10至30，紫外線擴散機構(gòu)是在遮光部形成的凹凸部，紫外線反射面110還可以形成在凹凸部上。只要根據(jù)這樣的構(gòu)成，因為紫外線擴散機構(gòu)是在遮光部形成的凹凸部，紫外線反射面110又形成在凹凸部上，所以，到達紫外線反射面110的紫外線被反射的同時對應(yīng)凹凸部被散射。為此，就能夠更有效且容易的固化密封材料113的全部區(qū)域。還有，本實施方式所涉及的液晶顯示裝置30，凹凸部還可以是由遮光部的黑底17 形成的。只要根據(jù)這樣的構(gòu)成，因為凹凸部是由遮光部的黑底17形成的，所以，作為凹凸部也可以不使用新的部件，只要將黑底17形成為凹凸部既可。為此，就可以有效的形成紫外線擴散機構(gòu)。再有，本實施方式所涉及的液晶顯示裝置40、50，紫外線擴散機構(gòu)，還可以是由在密封材料113中含有的紫外線擴散粒子48、58構(gòu)成的。只要根據(jù)這樣的構(gòu)成，通過將紫外線擴散粒子48、58預(yù)先摻入密封材料113中，在通過將密封材料113提供基板就能夠同時進行紫外線擴散機構(gòu)的設(shè)置。為此，制造工序中效率變好的有利點。再有，將紫外線擴散粒子48、58摻入密封材料113的話，因為可以使紫外線擴散機構(gòu)均勻的混入密封材料113中，能夠更有效的進行紫外線的擴散。還有，本實施方式所涉及的液晶顯示裝置40，還可以是紫外線擴散粒子與密封材料113折射率不同的粒子48。只要根據(jù)這樣的構(gòu)成，因為紫外線擴散粒子是與密封材料113折射率不同的粒子 48，所以，密封材料113和紫外線擴散粒子的界面紫外線折射就能更有效的擴散到密封材料113整體。再有，本實施方式所涉及的液晶顯示裝置50，紫外線擴散粒子還可以是反射紫外線的粒子58。只要根據(jù)這樣的構(gòu)造，因為紫外線擴散粒子是反射紫外線的粒子58，所以，由紫外線擴散粒子紫外線就能更有效的擴散到密封材料113整體。還有，本實施方式所涉及的液晶顯示裝置60至100，紫外線反射面110及紫外線擴散機構(gòu)68至108，還可以按照這個順序設(shè)置在黑底17上。只要根據(jù)這樣的構(gòu)造，因為紫外線反射面110及紫外線擴散機構(gòu)68至108按照這個順序設(shè)置在黑底17上，所以，紫外線由紫外線反射面110反射后，再由紫外線擴散機構(gòu)68 至108擴散。因此，密封材料113整體上充分的照滿紫外線，就能夠更有效的固化密封材料 113。再有，本實施方式所涉及的液晶顯示裝置60、80至100，紫外線擴散機構(gòu)還可以是紫外線擴散樹脂層68、88至108。只要根據(jù)這樣的構(gòu)造，因為紫外線擴散機構(gòu)是紫外線擴散樹脂層68、88至108，所以，紫外線擴散機構(gòu)的形狀，就能夠容易的制作所希望的形狀。因此，就可以容易的向密封材料113整體或有選擇地向所希望的位置擴散紫外線。還有，本實施方式所涉及的液晶顯示裝置70，紫外線擴散機構(gòu)還可以是與密封材料113折射率不同的凹凸層78。只要根據(jù)這樣的構(gòu)造，因為紫外線擴散機構(gòu)是與密封材料113折射率不同的凹凸層78，所以，反射的紫外線由于密封材料113和凹凸層78的界面的折射擴散而在密封材料 113整體上照射充分的紫外線，就可以有效的固化密封材料113。再有，本實施方式所涉及的液晶顯示裝置70，紫外線擴散機構(gòu)還可以是微透鏡層 78。只要根據(jù)這樣的構(gòu)成，因為紫外線擴散機構(gòu)是微透鏡層78，所以，由簡單的構(gòu)造就能夠形成紫外線擴散機構(gòu)。還有，本實施方式所涉及的液晶顯示裝置80，在CF基板101及薄膜晶體管(TFT) 基板12之間設(shè)置柱狀間隔粒子120的同時，柱狀間隔粒子120還可以用與紫外線擴散機構(gòu) 88相同的材料形成。只要根據(jù)這樣的構(gòu)造，因為在CF基板101及薄膜晶體管(TFT)基板12之間設(shè)置柱狀間隔粒子120的同時，柱狀間隔粒子120還用與紫外線擴散機構(gòu)88相同的材料形成， 所以，在同一工序用相同的材料能夠分別形成柱狀間隔粒子120和紫外線擴散機構(gòu)88。為此，裝置的制造效率良好。再有，本實施方式所涉及的液晶顯示裝置90，顯示部的顯示元件被覆蓋層130覆蓋的同時，覆蓋層130還可以與紫外線擴散機構(gòu)98用相同材料形成。只要根據(jù)這樣的構(gòu)造，顯示部的顯示元件被覆蓋層130覆蓋的同時，覆蓋層130還與紫外線擴散機構(gòu)98用相同材料形成，所以，在同一工序用相同的材料可以分別形成覆蓋層130和紫外線擴散機構(gòu)98。為此，裝置的制造效率良好。還有，本實施方式所涉及的液晶顯示裝置100，在顯示部是由為限制CF基板101和薄膜晶體管(TFT)基板12的基板間隙而設(shè)置了臺階層140的光反射區(qū)域和光透過區(qū)域構(gòu)成的同時，設(shè)置在光反射區(qū)域的臺階層140還可以是和紫外線擴散機構(gòu)108用相同的材料形成。只要根據(jù)這樣的構(gòu)造，因為在顯示部是由為限制CF基板101和薄膜晶體管(TFT) 基板12的基板間隙而設(shè)置了臺階層140的光反射區(qū)域和光透過區(qū)域構(gòu)成的同時，設(shè)置在光反射區(qū)域的臺階層140還是和紫外線擴散機構(gòu)108用相同的材料形成的，所以，在同一工序用相同的材料可以分別形成設(shè)置在光反射區(qū)域的臺階層140和紫外線擴散機構(gòu)108。為此， 裝置的制造效率良好。本實施方式所涉及的液晶顯示裝置10至100的制造方法，各自都以包括準備具有顯示單元形成預(yù)定部的CF基板11至101及薄膜晶體管(TFT)基板12的步驟；為將CF 基板11至101的顯示單元形成部圍成封閉狀態(tài)在CF基板11至101上形成黑底17的步驟；在CF基板11至101上形成的黑底17上設(shè)置紫外線反射面110的步驟；在CF基板11 至101或薄膜晶體管(TFT)基板12上的遮光部預(yù)留部上不間斷的設(shè)置密封材料113的步驟；在設(shè)置了密封材料113的CF基板11至101或薄膜晶體管(TFT)基板12的顯示單元形成預(yù)定部中供給液晶材料114的步驟；粘合CF基板11至101及薄膜晶體管(TFT)基板12 中供給了液晶材料114的一方和另一方的步驟；從粘合的薄膜晶體管(TFT)基板12的表面向密封材料113照射紫外線固化密封材料113制作粘合基板的步驟；為特征的。根據(jù)這樣的構(gòu)成，在設(shè)置了黑底17的遮光部上設(shè)置了由紫外線固化型樹脂形成的密封材料113的液晶顯示裝置中，通過用紫外線照射這個CF基板11至101合薄膜晶體管(TFT)基板12固化密封材料113密封它們。在此之際，從薄膜晶體管(TFT)基板12 — 側(cè)照射的紫外線由CF基板11至101的遮光部上構(gòu)成的紫外線反射面110反射向密封材料 113，再次照射密封材料113。為此，即便是在基板上形成布線用Al等妨礙紫外線向密封材料113進入的物件存在，通過從紫外線反射面110紫外線再次照射密封材料113就能夠固化密封材料113的未固化部分。因此，通過通常的紫外線照射，就能夠更有效且更容易的進行密封材料113的固化。本實施方式所涉及的彩色濾光片基板11至101，是以包括包含顯示部的玻璃基板15 ；沿著玻璃基板15上的顯示部外周設(shè)置的構(gòu)成遮光部的黑底17 ；設(shè)置在玻璃基板15 上的黑底17上的紫外線反射面110 ；為特征的。只要根據(jù)這樣的構(gòu)造，在設(shè)置了黑底17的遮光部上設(shè)置了由紫外線固化型樹脂形成的密封材料113的液晶顯示裝置中，存在著以下的有利點。也就是，通過紫外線照射密封這個彩色濾光片基板11至101合薄膜晶體管(TFT)基板12時，從薄膜晶體管(TFT)基板12的密封材料對應(yīng)部照射紫外線固化密封材料113。在此之際，從薄膜晶體管(TFT)基板12 —側(cè)照射的紫外線通過構(gòu)成彩色濾光片基板11至101的遮光部的紫外線反射面110 向密封材料113反射，再次照射密封材料113。為此，即便是在薄膜晶體管(TFT)基板12上形成有布線用Al等妨礙紫外線向密封材料113進入的物件存在，通過從紫外線反射面110 紫外線再次照射密封材料113就能夠固化密封材料113的未固化部分。因此，通過通常的紫外線照射，就能夠更有效且更容易的進行密封材料113的固化。-產(chǎn)業(yè)上利用的可能性-通過以上的說明，本發(fā)明，對顯示裝置、顯示裝置的制造方法、基板及彩色濾光片基板是有用的。
權(quán)利要求
1.一種顯示裝置，包括以相互相對的形式設(shè)置的第一及第二基板、以夾在上述第一及第二基板之間的形式設(shè)置的顯示媒體層，其特征在于上述顯示媒體層，由其外周部被設(shè)置在上述第一及第二基板之間的紫外線固化型樹脂形成的密封材料密封，上述第一基板，對應(yīng)于上述密封材料的部分形成在設(shè)置了遮光層的遮光部上，同時，上述第二基板，對應(yīng)于上述密封材料的部分形成為透明地，上述遮光部，上述密封材料一側(cè)的面構(gòu)成為紫外線反射面， 上述紫外線反射面包括紫外線反射膜和紫外線擴散基礎(chǔ)層，進一步在上述紫外線反射膜與上述紫外線擴散基礎(chǔ)層之間設(shè)置有用于使向觀測者一側(cè)的反射率降低的金屬。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其特征在于 上述紫外線反射面的上述紫外線反射膜，由鋁或銀形成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其特征在于上述紫外線反射面，構(gòu)成為將接受的紫外線向上述顯示媒體層的外側(cè)反射。
4.一種顯示裝置的制造方法，其特征在于 包括分別準備各自具有顯示單元形成預(yù)定部的第一及第二基板的步驟， 以圍繞并封閉上述第一基板的顯示單元形成預(yù)定部的形式在該第一基板上形成遮光層的步驟，在上述第一基板上形成的遮光層上設(shè)置紫外線反射面的步驟， 在上述第一或第二基板的遮光預(yù)定部上不間斷的設(shè)置密封材料的步驟， 向上述設(shè)置了密封材料的第一基板或上述第二基板的顯示單元形成預(yù)定部供給顯示媒體的步驟，將向上述第一及第二基板中供給顯示媒體的一個和另一個粘合的步驟，和從上述粘貼了的第二基板的表面向上述密封材料照射紫外線固化該密封材料制作粘合基板的步驟，上述紫外線反射面包括紫外線反射膜和紫外線擴散基礎(chǔ)層，進一步在上述紫外線反射膜與上述紫外線擴散基礎(chǔ)層之間設(shè)置有用于使向觀測者一側(cè)的反射率降低的金屬。
5.一種基板，其特征在于 包括包含顯示部的透明基板，沿著上述透明基板上的上述顯示部的外周設(shè)置的構(gòu)成遮光部的遮光層，和設(shè)置在上述透明基板上的遮光層上的紫外線反射面， 上述紫外線反射面包括紫外線反射膜和紫外線擴散基礎(chǔ)層，進一步在上述紫外線反射膜與上述紫外線擴散基礎(chǔ)層之間設(shè)置有用于使向觀測者一側(cè)的反射率降低的金屬。
6.一種彩色濾光片基板，其特征在于包括權(quán)利要求5所述的基板、和彩色濾光片。
全文摘要
提供使密封材料的紫外線固化變得容易了的顯示裝置、顯示裝置的制造方法、基板以及彩色濾光片基板。顯示媒體層，其外周部是由設(shè)置在第一及第二基板之間的紫外線固化型樹脂形成的密封材料密封，第一基板，其對應(yīng)密封材料的部分形成在設(shè)置了遮光層的遮光部上，另一方面，第二基板，其對應(yīng)密封材料的部分形成為透明地，遮光部，其密封材料一側(cè)的面構(gòu)成紫外線反射面。
文檔編號G02F1/1335GK102162954SQ20111009317
公開日2011年8月24日 申請日期2006年8月11日 優(yōu)先權(quán)日2006年1月24日
發(fā)明者田中充浩 申請人:夏普株式會社