專利名稱：化合物、含有該化合物的聚合物及包含該聚合物的化學(xué)放大型抗蝕劑組合物的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種新型化合物、含有該化合物的聚合物及包含該聚合物的化學(xué)放大型抗蝕劑組合物，在該組合物中使用該化合物和通過聚合作為單體的該化合物而生成的聚合物，從而允許該組合物均勻分散并使得該組合物適于形成精細(xì)圖案，該組合物具有諸如高附著力、高靈敏度和高熱穩(wěn)定性以及氣體生成的量減少等特性，并且可以改善分辨率和線邊緣粗糙度。更具體而言，本發(fā)明涉及一種新型化合物，其可用于制備能夠通過采用各種輻射形成圖案的抗蝕劑，如KrF準(zhǔn)分子激光器或ArF準(zhǔn)分子激光器等的遠(yuǎn)紅外輻射、X-射線如同步輻射以及帶電粒子輻射如電子束，并因而適用于微加工；還涉及通過聚合作為單體的該化合物而生成的聚合物；和包含該聚合物的化學(xué)放大型抗蝕劑組合物。
背景技術(shù)：
近年來，隨著半導(dǎo)體工業(yè)中使用的光刻技術(shù)已經(jīng)被亞50納米 (sub-50-nanometer)的技術(shù)所取代，預(yù)期會(huì)出現(xiàn)更新和更先進(jìn)的技術(shù)。雖然使用極端紫外(EUV)輻射的光刻技術(shù)是能夠圖案化的重要技術(shù)中的一種，但是實(shí)現(xiàn)亞32納米 (sub-32-nanometer)圖案的技術(shù)要求非常困難的過程。使用193nm波長(zhǎng)的光刻技術(shù)被認(rèn)為是一種可以在未來實(shí)現(xiàn)亞32納米圖案的技術(shù)的重要手段，并且通過增大數(shù)值孔徑(NA)，使得這種技術(shù)成為可能。根據(jù)Rayleigh方程，為了增大浸漬液體或浸漬抗蝕劑的折射率，數(shù)值孔徑可以增大，同時(shí)分辨率也可以增大。此外，折射率的增大也可以導(dǎo)致景深(DOF)的增大。R= (Kl · λ )/(NA)，NA = nsin θR=分辨率，λ =波長(zhǎng)，NA=數(shù)值孔徑，η=折射率，θ =入射角。對(duì)用于改進(jìn)諸如分辨率、靈敏度、折射率和線邊緣粗糙度(LER)等性能的新型抗蝕劑組合物存在不斷增加的需求，并且為了提高當(dāng)前可用抗蝕劑的折射率并獲得較高的靈敏度，已經(jīng)對(duì)抗蝕劑技術(shù)進(jìn)行了研究。但是，在實(shí)現(xiàn)更精細(xì)半導(dǎo)體集成電路方面，這些研究結(jié)果不令人滿意，并且存在感光速度(photospeed)下降的問題。此外，對(duì)于其中允許引入光酸生成劑、具有較高的靈敏度和較高的穩(wěn)定性同時(shí)氣體排放量減少、并且具有高分辨率和低線邊緣粗糙度的化學(xué)放大型抗蝕劑組合物的需求不斷增長(zhǎng)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種新型化合物，它可以在化學(xué)放大型抗蝕劑中用作光酸生成劑或單體。本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供含有上述化合物作為單體的聚合物，它可以用在化學(xué)放大型抗蝕劑組合物中，這種組合物具有優(yōu)異的靈敏度和較高的穩(wěn)定性同時(shí)氣體排放量減少、還具有高分辨率和低線邊緣粗糙度。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，根據(jù)本發(fā)明一個(gè)方面的化合物由下式(1)代表
[式1]
權(quán)利要求
1. 一種由下式⑴代表的化合物 [式1]
2. 一種含有由下式( 代表的重復(fù)單元的聚合物 [式2]10個(gè)碳原子的全氟烷基
3.如權(quán)利要求2所述的聚合物，其中所述聚合物是由下式C3)代表的聚合物 [式3]
4.如權(quán)利要求3所述的聚合物，其中所述聚合物的重均分子量為2，000 100，000，并且分子量分布為1.5 5。
5.一種化學(xué)放大型抗蝕劑組合物，其包含含有由下式( 代表的重復(fù)單元的聚合物
全文摘要
本發(fā)明提供了一種化合物、含有該化合物的聚合物及包含該聚合物的化學(xué)放大型抗蝕劑組合物，還提供了由下式(1)代表的化合物和含有該化合物作為單體的聚合物。[式1]其中在式(1)中，R11、Q1、Q2和A+的定義如說明書中所述。當(dāng)該化合物和含有該化合物作為單體的聚合物用在化學(xué)放大型抗蝕劑組合物中時(shí)，這種抗蝕劑組合物具有優(yōu)異的靈敏度和較高的穩(wěn)定性同時(shí)氣體排放量減少，并且還具有較高的分辨率和較低的線邊緣粗糙度。
文檔編號(hào)G03F7/004GK102311371SQ20111016511
公開日2012年1月11日 申請(qǐng)日期2011年6月10日 優(yōu)先權(quán)日2010年6月10日
發(fā)明者朱炫相, 李承宰, 金惠淵, 韓俊熙 申請(qǐng)人:錦湖石油化學(xué)株式會(huì)社