專利名稱:調(diào)整臺(tái)移動(dòng)方案中的速度和/或路線的方法和光刻設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及一種調(diào)整臺(tái)移動(dòng)方案中的速度和/或路線的方法以及一種光刻設(shè)備。
背景技術(shù):
光刻設(shè)備是一種將所需圖案應(yīng)用到襯底上,通常是襯底的目標(biāo)部分上的機(jī)器。例如,可以將光刻設(shè)備用在集成電路(ICs)的制造中。在這種情況下,可以將可選地稱為掩?;蜓谀0娴膱D案形成裝置用于生成在所述IC的單層上待形成的電路圖案??梢詫⒃搱D案轉(zhuǎn)移到襯底(例如,硅晶片)上的目標(biāo)部分(例如,包括一部分管芯、一個(gè)或多個(gè)管芯)上。 通常,圖案的轉(zhuǎn)移是通過(guò)把圖案成像到提供到襯底上的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上進(jìn)行的。通常,單個(gè)的襯底將包含被連續(xù)形成圖案的相鄰目標(biāo)部分的網(wǎng)絡(luò)。公知的光刻設(shè)備包括所謂的步進(jìn)機(jī),在步進(jìn)機(jī)中,通過(guò)將全部圖案一次曝光到所述目標(biāo)部分上來(lái)輻射每一個(gè)目標(biāo)部分;和所謂的掃描器,在所述掃描器中,通過(guò)輻射束沿給定方向(“掃描”方向)掃描所述圖案、同時(shí)沿與該方向平行或反向平行的方向同步地掃描所述襯底來(lái)輻射每一個(gè)目標(biāo)部分。也可能通過(guò)將圖案壓印(imprinting)到襯底上的方式從圖案形成裝置將圖案轉(zhuǎn)移到襯底上。已經(jīng)提出將光刻投影設(shè)備中的襯底浸入到具有相對(duì)高折射率的液體(例如水) 中,以便充滿投影系統(tǒng)的最終元件和襯底之間的空間。在一實(shí)施例中,液體是蒸餾水,但是可以使用其他液體。本發(fā)明的實(shí)施例將參考液體進(jìn)行描述。然而,其它流體也可能是適合的,尤其是潤(rùn)濕性流體、不能壓縮的流體和/或具有比空氣折射率高的折射率的流體,期望是具有比水的折射率高的折射率。除氣體以外的流體是尤其希望的。這樣能夠?qū)崿F(xiàn)更小特征的成像,因?yàn)樵谝后w中曝光輻射將會(huì)具有更短的波長(zhǎng)。(液體的影響也可以被看成提高系統(tǒng)的有效數(shù)值孔徑(NA),并且也增加焦深)。還提出了其他浸沒(méi)液體,包括其中懸浮有固體顆粒(例如石英)的水,或具有納米懸浮顆粒(例如具有最大尺寸達(dá)IOnm的顆粒)的液體。這種懸浮的顆粒可以具有或不具有與它們懸浮所在的液體相似或相同的折射率。其他可能合適的液體包括烴,例如芳香烴、氟化烴和/或水溶液。將襯底或襯底與襯底臺(tái)浸入液體浴器(參見(jiàn),例如美國(guó)專利No. US4, 509,852)意味著在掃描曝光過(guò)程中需要加速很大體積的液體。這需要額外的或更大功率的電動(dòng)機(jī),而液體中的湍流可能會(huì)導(dǎo)致不希望的或不能預(yù)期的效果。提出來(lái)的一種布置是液體供給系統(tǒng),用以通過(guò)使用液體限制系統(tǒng)將液體僅提供到襯底的局部區(qū)域并且在投影系統(tǒng)的最終元件和襯底之間(通常襯底具有比投影系統(tǒng)的最終元件更大的表面積)。提出來(lái)的一種用于設(shè)置上述解決方案的方法在公開(kāi)號(hào)為 W099/49504的PCT專利申請(qǐng)出版物中公開(kāi)了。如圖2和3所示,液體通過(guò)至少一個(gè)入口,優(yōu)選沿著襯底相對(duì)于最終元件的移動(dòng)方向,供給到襯底上,并且在已經(jīng)通過(guò)投影系統(tǒng)下面之后通過(guò)至少一個(gè)出口去除。也就是說(shuō),當(dāng)襯底在所述元件下沿著-χ方向掃描時(shí),液體在元件的+X —側(cè)供給并且在-X—側(cè)去除。圖2示意地示出所述布置,其中液體通過(guò)入口供給, 并在元件的另一側(cè)通過(guò)與低壓源相連的出口去除。在圖2中,雖然液體沿著襯底相對(duì)于最終元件的移動(dòng)方向供給,但這并不是必須的。可以在最終元件周圍設(shè)置各種方向和數(shù)目的入口和出口,圖3示出一個(gè)示例,其中在最終元件的周圍在每側(cè)上以規(guī)則的方式設(shè)置了四組入口和出口。液體供給和液體回收裝置中的箭頭表示液體的流動(dòng)方向。在圖4中示意地示出了另一個(gè)具有局部液體供給系統(tǒng)的浸沒(méi)光刻方案。液體由位于投影系統(tǒng)PS每一側(cè)上的兩個(gè)槽狀入口供給,并由布置在入口的徑向向外位置處的多個(gè)離散的出口去除。所述入口可以布置在板上,所述板在其中心有孔,圖案化輻射束通過(guò)該孔投影。液體由位于投影系統(tǒng)PS的一側(cè)上的一個(gè)槽狀入口提供,而由位于投影系統(tǒng)PS的另一側(cè)上的多個(gè)離散的出口去除,由此造成投影系統(tǒng)PS和襯底W之間的液體薄膜流。選擇使用哪組入口和出口組合可以依賴于襯底W的移動(dòng)方向(另外的入口和出口組合是不起作用的)。在圖4中的橫截面中,箭頭表示液體流入入口和流出出口的方向。在歐洲專利申請(qǐng)公開(kāi)出版物EP1420300和美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)出版物 US2004-0136494中,公開(kāi)了一種成對(duì)的或雙臺(tái)浸沒(méi)式光刻設(shè)備的方案。這種設(shè)備設(shè)置有兩個(gè)臺(tái)用以支撐襯底。調(diào)平(levelling)測(cè)量在沒(méi)有浸沒(méi)液體的臺(tái)的第一位置處進(jìn)行,曝光在存在浸沒(méi)液體的臺(tái)的第二位置處進(jìn)行??蛇x的是,設(shè)備僅具有一個(gè)臺(tái)。PCT專利申請(qǐng)公開(kāi)出版物WO 2005/064405公開(kāi)了一種全浸濕布置,其中浸沒(méi)液體是不受限制的。在這種系統(tǒng)中,襯底的整個(gè)頂部表面覆蓋在液體中。這可以是有利的,因?yàn)橐r底的整個(gè)頂部表面在基本上相同的條件下進(jìn)行曝光。這對(duì)于襯底的溫度控制和處理是有利的。在W02005/064405中,液體供給系統(tǒng)提供液體到投影系統(tǒng)的最終元件和襯底之間的間隙。液體被允許泄漏到襯底的其他部分。襯底臺(tái)的邊緣處的阻擋件防止液體溢出,使得液體可以從襯底臺(tái)的頂部表面上以受控制的方式去除。雖然這樣的系統(tǒng)改善了襯底的溫度控制和處理,但仍然可能發(fā)生浸沒(méi)液體的蒸發(fā)。幫助緩解這個(gè)問(wèn)題的一種方法在美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)出版物No. US 2006/0119809中有記載。設(shè)置一種構(gòu)件覆蓋襯底W的所有位置,并且布置成使浸沒(méi)液體在所述構(gòu)件和襯底和/或保持襯底的襯底臺(tái)的頂部表面之間延伸。
發(fā)明內(nèi)容
在浸沒(méi)光刻技術(shù)中,部分液體可能會(huì)從空間中被丟失到被曝光的襯底上。丟失的液體會(huì)帶來(lái)缺陷的風(fēng)險(xiǎn)。存在于襯底上的液體液滴隨后與空間內(nèi)的液體(例如液體的彎液面)碰撞,會(huì)引起氣體體積的形成,例如在空間內(nèi)形成氣泡。氣泡還可能干擾引導(dǎo)朝向襯底的目標(biāo)部分的成像輻射而影響在襯底上成像的圖案。期望地,例如降低或消除這種成像缺陷的風(fēng)險(xiǎn)。根據(jù)本發(fā)明的一方面,提供一種調(diào)整臺(tái)在光刻設(shè)備的浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)下面的移動(dòng)方案的一部分中的路線和/或速度的方法,所述方法包括步驟分解步驟,用于將臺(tái)的移動(dòng)方案分解為多個(gè)分立移動(dòng);風(fēng)險(xiǎn)確定步驟,用于通過(guò)確定浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)是否通過(guò)存在從浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)泄漏的浸沒(méi)流體的位置,而對(duì)于多個(gè)分立移動(dòng)中的特定分立移動(dòng)確定在特定分立移動(dòng)期間尺寸大于特定尺寸的氣泡存在于光刻設(shè)備的圖案化束將通過(guò)的浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的浸沒(méi)流體中的風(fēng)險(xiǎn);和調(diào)整步驟,用于(i)調(diào)整移動(dòng)方案的、與比風(fēng)險(xiǎn)確定步驟確定氣泡風(fēng)險(xiǎn)的分立移動(dòng)早的至少一個(gè)分立移動(dòng)相對(duì)應(yīng)的一部分移動(dòng)方案中的路線和/或速度,和/或(ii)調(diào)整移動(dòng)方案的、與風(fēng)險(xiǎn)確定步驟確定氣泡風(fēng)險(xiǎn)的分立移動(dòng)相對(duì)應(yīng)的一部分移動(dòng)方案中的路線和/或速度。
根據(jù)本發(fā)明的一方面,提供一種浸沒(méi)光刻設(shè)備,包括襯底臺(tái),配置成支撐襯底; 投影系統(tǒng),配置成引導(dǎo)圖案化的輻射束至襯底上;浸沒(méi)流體供給系統(tǒng),配置成供給和限制浸沒(méi)流體至限定在投影系統(tǒng)和襯底或襯底臺(tái)或兩者之間的空間;定位系統(tǒng),配置成確定襯底或襯底臺(tái)或兩者相對(duì)于浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)或投影系統(tǒng)或兩者的相對(duì)位置;和控制器,構(gòu)造并布置成根據(jù)移動(dòng)方案控制臺(tái),其中控制器配置成通過(guò)將移動(dòng)方案分解成多個(gè)分立移動(dòng)、 通過(guò)確定從浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)泄漏的浸沒(méi)流體所在的位置是否通過(guò)浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的下面而對(duì)于多個(gè)分立移動(dòng)中的特定分立移動(dòng)確定在特定分立移動(dòng)期間尺寸大于特定尺寸的氣泡存在于光刻設(shè)備的圖案化束將通過(guò)的浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的浸沒(méi)流體中的風(fēng)險(xiǎn)、以及調(diào)整(i)移動(dòng)方案的、與比確定步驟確定氣泡風(fēng)險(xiǎn)的分立移動(dòng)早的分立移動(dòng)相對(duì)應(yīng)的一部分移動(dòng)方案中的路線和/或速度和/或調(diào)整(ii)移動(dòng)方案的、與確定步驟確定氣泡風(fēng)險(xiǎn)的分立移動(dòng)相對(duì)應(yīng)的一部分移動(dòng)方案中的路線和/或速度,而調(diào)整移動(dòng)方案中的路線和/或速度。根據(jù)本發(fā)明的一方面,提供一種調(diào)整臺(tái)在光刻設(shè)備的浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)下面的移動(dòng)方案的一部分中的路線和/或速度的方法,所述方法包括步驟將臺(tái)的移動(dòng)方案分解為多個(gè)分立移動(dòng);對(duì)于多個(gè)分立移動(dòng)的特定分立移動(dòng),通過(guò)確定從浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)泄漏的浸沒(méi)流體所在的位置是否通過(guò)浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的下面、而確定在特定分立移動(dòng)期間尺寸大于特定尺寸的氣泡存在于光刻設(shè)備的圖案化束將通過(guò)的浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的浸沒(méi)流體內(nèi)的風(fēng)險(xiǎn);和調(diào)整(i)移動(dòng)方案的、與比確定氣泡風(fēng)險(xiǎn)的分立移動(dòng)早的分立移動(dòng)相對(duì)應(yīng)的一部分移動(dòng)方案中的路線和/或速度,和/或(ii)移動(dòng)方案的、與確定氣泡風(fēng)險(xiǎn)的分立移動(dòng)相對(duì)應(yīng)的一部分移動(dòng)方案中的路線和/或速度。
現(xiàn)在參照隨附的示意性附圖,僅以舉例的方式,描述本發(fā)明的實(shí)施例,其中,在附圖中相應(yīng)的附圖標(biāo)記表示相應(yīng)的部件,且其中圖1示出了根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的光刻設(shè)備;圖2和3示出用于光刻投影設(shè)備中的液體供給系統(tǒng);圖4示出用于光刻投影設(shè)備中的另一液體供給系統(tǒng);圖5示出用于本發(fā)明的實(shí)施例中作為浸沒(méi)液體供給系統(tǒng)的阻擋構(gòu)件的橫截面圖;圖6示出襯底的平面示意圖,其中示出由所述的本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例預(yù)測(cè)的缺陷的位置;圖7表示本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的邏輯模塊;圖8示出根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的用于將在圖1中的光刻設(shè)備的投影系統(tǒng)下面的臺(tái)的移動(dòng)方案分解為多個(gè)分立移動(dòng)的輸入和輸出;圖9示出根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的用于對(duì)于特定分立移動(dòng)確定從浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)泄漏的流體的位置的輸入和輸出;圖10示出根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的氣泡風(fēng)險(xiǎn)和液體風(fēng)險(xiǎn)計(jì)算的輸入和輸出。圖11示出根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的掃描和步進(jìn)速度轉(zhuǎn)換器的輸入和輸出;圖12示出根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的用以預(yù)測(cè)TIS液體損失的方法的輸入和輸出;
圖13示出簡(jiǎn)化的蜿蜒曲徑、曼哈頓以及對(duì)角線移動(dòng)的詳細(xì)示例;圖14示出用于用以預(yù)測(cè)液體損失的方法的一般定義;圖15示出用以計(jì)算不被控制的液體損失區(qū)域(即,泄漏浸沒(méi)流體)的限定;圖16示出怎樣可以發(fā)生二次液體損失;圖17示出描述不被控制的液體損失區(qū)域(UWA)的測(cè)角模型;圖18是根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的液體損失模型的一般方法;圖19是根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的用于圖18所示液體損失模型的一部分的一般方法;圖20示出根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的氣泡預(yù)測(cè)的詳細(xì)示例;圖21是根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的計(jì)算氣泡風(fēng)險(xiǎn)和液體風(fēng)險(xiǎn)的決策樹;和圖22是根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的TIS液體損失模型的決策樹。
具體實(shí)施例方式圖1示意地示出了根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的光刻設(shè)備。所述光刻設(shè)備包括照射系統(tǒng)(照射器)IL,其配置用于調(diào)節(jié)輻射束B(例如,紫外(UV)輻射或深紫外(DUV)輻射);支撐結(jié)構(gòu)(例如掩模臺(tái))MT,其構(gòu)造用于支撐圖案形成裝置(例如掩模)MA,并與配置成根據(jù)確定的參數(shù)精確地定位圖案形成裝置MA的第一定位裝置PM相連;襯底臺(tái)(例如晶片臺(tái))WT,其構(gòu)造用于保持襯底(例如涂覆有抗蝕劑的晶片)W,并與配置用于根據(jù)確定的參數(shù)精確地定位襯底W的第二定位裝置PW相連;和投影系統(tǒng)(例如折射式投影透鏡系統(tǒng)) PS (由框架支撐),其配置用于將由圖案形成裝置MA賦予輻射束B的圖案投影到襯底W的目標(biāo)部分C(例如包括一根或多根管芯)上。照射系統(tǒng)IL可以包括各種類型的光學(xué)部件,例如折射型、反射型、磁性型、電磁型、靜電型或其它類型的光學(xué)部件、或其任意組合,以引導(dǎo)、成形、或控制輻射。所述支撐結(jié)構(gòu)MT保持圖案形成裝置MA。支撐結(jié)構(gòu)MT以依賴于圖案形成裝置MA 的方向、光刻設(shè)備的設(shè)計(jì)以及諸如圖案形成裝置MA是否保持在真空環(huán)境中等其他條件的方式保持圖案形成裝置MA。所述支撐結(jié)構(gòu)MT可以采用機(jī)械的、真空的、靜電的或其它夾持技術(shù)保持圖案形成裝置MA。所述支撐結(jié)構(gòu)MT可以是框架或臺(tái),例如,其可以根據(jù)需要成為固定的或可移動(dòng)的。所述支撐結(jié)構(gòu)MT可以確保圖案形成裝置MA位于所需的位置上(例如相對(duì)于投影系統(tǒng))。在這里任何使用的術(shù)語(yǔ)“掩模版”或“掩模”都可以認(rèn)為與更上位的術(shù)語(yǔ)“圖案形成裝置”同義。這里所使用的術(shù)語(yǔ)“圖案形成裝置”應(yīng)該被廣義地理解為表示能夠用于將圖案在輻射束的橫截面上賦予輻射束、以便在襯底的目標(biāo)部分上形成圖案的任何裝置。應(yīng)當(dāng)注意, 被賦予輻射束的圖案可能不與在襯底的目標(biāo)部分上的所需圖案完全相符(例如如果該圖案包括相移特征或所謂的輔助特征)。通常,被賦予輻射束的圖案將與在目標(biāo)部分上形成的器件中的特定的功能層相對(duì)應(yīng),例如集成電路。圖案形成裝置MA可以是透射式的或反射式的。圖案形成裝置的示例包括掩模、可編程反射鏡陣列以及可編程液晶顯示(LCD)面板。掩模在光刻術(shù)中是公知的,并且包括諸如二元掩模類型、交替型相移掩模類型、衰減型相移掩模類型和各種混合掩模類型之類的掩模類型??删幊谭瓷溏R陣列的示例采用小反射鏡的矩陣布置,每一個(gè)小反射鏡可以獨(dú)立地傾斜,以便沿不同方向反射入射的輻射束。所述已傾斜的反射鏡將圖案賦予由所述反射鏡矩陣反射的輻射束。這里使用的術(shù)語(yǔ)“投影系統(tǒng)”應(yīng)該廣義地解釋為包括任意類型的投影系統(tǒng),投影系統(tǒng)的類型可以包括折射型、反射型、反射折射型、磁性型、電磁型和靜電型光學(xué)系統(tǒng)、或其任意組合,如對(duì)于所使用的曝光輻射所適合的、或?qū)τ谥T如使用浸沒(méi)液體或使用真空之類的其他因素所適合的。這里使用的術(shù)語(yǔ)“投影透鏡”可以認(rèn)為是與更上位的術(shù)語(yǔ)“投影系統(tǒng)” 同義。如這里所示的,所述設(shè)備是透射型的(例如,采用透射式掩模)。替代地,所述設(shè)備可以是反射型的(例如,采用如上所述類型的可編程反射鏡陣列,或采用反射式掩模)。光刻設(shè)備可以是具有兩個(gè)(雙臺(tái))或更多襯底臺(tái)(和/或兩個(gè)或更多的圖案形成裝置臺(tái))的類型。在這種“多臺(tái)”機(jī)器中,可以并行地使用附加的臺(tái),或可以在一個(gè)或更多個(gè)臺(tái)上執(zhí)行預(yù)備步驟的同時(shí),將一個(gè)或更多個(gè)其它臺(tái)用于曝光。參照?qǐng)D1,所述照射器IL接收從輻射源SO發(fā)出的輻射束。該源SO和所述光刻設(shè)備可以是分立的實(shí)體(例如當(dāng)該源為準(zhǔn)分子激光器時(shí))。在這種情況下,不會(huì)將該源SO看成形成光刻設(shè)備的一部分,并且通過(guò)包括例如合適的定向反射鏡和/或擴(kuò)束器的束傳遞系統(tǒng)BD的幫助,將所述輻射束從所述源SO傳到所述照射器IL。在其它情況下,所述源SO可以是所述光刻設(shè)備的組成部分(例如當(dāng)所述源SO是汞燈時(shí))??梢詫⑺鲈碨O和所述照射器IL、以及如果需要時(shí)設(shè)置的所述束傳遞系統(tǒng)BD —起稱作輻射系統(tǒng)。所述照射器IL可以包括配置用于調(diào)整所述輻射束的角強(qiáng)度分布的調(diào)整器AD。通常,可以對(duì)所述照射器IL的光瞳平面中的強(qiáng)度分布的至少所述外部和/或內(nèi)部徑向范圍 (一般分別稱為σ-外部和ο-內(nèi)部)進(jìn)行調(diào)整。此外,所述照射器IL可以包括各種其它部件,例如積分器IN和聚光器CO。可以將所述照射器用于調(diào)節(jié)所述輻射束,以在其橫截面中具有所需的均勻性和強(qiáng)度分布。與源SO類似,照射器IL可以被看作或不被看作形成光刻設(shè)備的一部分。例如,照射器IL可以是光刻設(shè)備的組成部分或可以是與光刻設(shè)備分開(kāi)的實(shí)體。在后一種情形中,光刻設(shè)備可以配置成允許照射器IL安裝其上??蛇x地,照射器IL 是可分離的并且可以單獨(dú)地設(shè)置(例如,由光刻設(shè)備制造商或其他供應(yīng)商提供)。所述輻射束B入射到保持在支撐結(jié)構(gòu)(例如,掩模臺(tái))MT上的所述圖案形成裝置 (例如,掩模)MA上,并且通過(guò)所述圖案形成裝置MA來(lái)形成圖案。已經(jīng)穿過(guò)圖案形成裝置MA 之后,所述輻射束B通過(guò)投影系統(tǒng)PS,所述投影系統(tǒng)將輻射束聚焦到所述襯底W的目標(biāo)部分 C上。通過(guò)第二定位裝置PW和位置傳感器IF (例如,干涉儀器件、線性編碼器或電容傳感器)的幫助,可以精確地移動(dòng)所述襯底臺(tái)WT,例如以便將不同的目標(biāo)部分C定位于所述輻射束B的路徑中。類似地,例如在從掩模庫(kù)的機(jī)械獲取之后,或在掃描期間,可以將所述第一定位裝置PM和另一個(gè)位置傳感器(圖1中未明確示出)用于相對(duì)于所述輻射束B的路徑精確地定位圖案形成裝置MA。通常,可以通過(guò)形成所述第一定位裝置PM的一部分的長(zhǎng)行程模塊(粗定位)和短行程模塊(精定位)的幫助來(lái)實(shí)現(xiàn)支撐結(jié)構(gòu)MT的移動(dòng)。類似地,可以采用形成所述第二定位裝置PW的一部分的長(zhǎng)行程模塊和短行程模塊來(lái)實(shí)現(xiàn)所述襯底臺(tái)WT 的移動(dòng)。在步進(jìn)機(jī)的情況下(與掃描器相反),支撐結(jié)構(gòu)MT可以僅與短行程致動(dòng)器相連,或可以是固定的??梢允褂脠D案形成裝置對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記M1、M2和襯底對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記P1、P2來(lái)對(duì)準(zhǔn)圖案形成裝置MA和襯底W。盡管所示的襯底對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記占據(jù)了專用目標(biāo)部分,但是它們可以位于目標(biāo)部分C之間的空間(這些公知為劃線對(duì)齊標(biāo)記)中。類似地,在將多于一個(gè)的管芯設(shè)置在圖案形成裝置MA上的情況下,所述圖案形成裝置對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記可以位于所述管芯之間。可以將所示的設(shè)備用于以下模式中的至少一種中1.在步進(jìn)模式中,在將支撐結(jié)構(gòu)MT和襯底臺(tái)WT保持為基本靜止的同時(shí),將賦予所述輻射束的整個(gè)圖案一次投影到目標(biāo)部分C上(即,單一的靜態(tài)曝光)。然后將所述襯底臺(tái)WT沿X和/或Y方向移動(dòng),使得可以對(duì)不同目標(biāo)部分C曝光。在步進(jìn)模式中,曝光場(chǎng)的最大尺寸限制了在單一的靜態(tài)曝光中成像的所述目標(biāo)部分C的尺寸。2.在掃描模式中,在對(duì)支撐結(jié)構(gòu)MT和襯底臺(tái)WT同步地進(jìn)行掃描的同時(shí),將賦予所述輻射束B的圖案投影到目標(biāo)部分C上(即,單一的動(dòng)態(tài)曝光)。襯底臺(tái)WT相對(duì)于支撐結(jié)構(gòu)MT的速度和方向可以通過(guò)所述投影系統(tǒng)PS的(縮小)放大率和圖像反轉(zhuǎn)特征來(lái)確定。 在掃描模式中,曝光場(chǎng)的最大尺寸限制了單一動(dòng)態(tài)曝光中所述目標(biāo)部分C的寬度(沿非掃描方向),而所述掃描運(yùn)動(dòng)的長(zhǎng)度確定了所述目標(biāo)部分C的高度(沿所述掃描方向)。3.在另一個(gè)模式中,將用于保持可編程圖案形成裝置的支撐結(jié)構(gòu)MT保持為基本靜止,并且在對(duì)所述襯底臺(tái)WT進(jìn)行移動(dòng)或掃描的同時(shí),將賦予所述輻射束的圖案投影到目標(biāo)部分C上。在這種模式中,通常采用脈沖輻射源,并且在所述襯底臺(tái)WT的每一次移動(dòng)之后、或在掃描期間的連續(xù)輻射脈沖之間,根據(jù)需要更新所述可編程圖案形成裝置。這種操作模式可易于應(yīng)用于利用可編程圖案形成裝置(例如,如上所述類型的可編程反射鏡陣列) 的無(wú)掩模光刻術(shù)中。也可以采用上述使用模式的組合和/或變體或完全不同的使用模式。用于在投影系統(tǒng)PS的最終元件和襯底之間提供液體的布置可以分成兩種一般類型。它們是浴器類型布置和所謂的局部浸沒(méi)系統(tǒng),在浴器類型布置中,整個(gè)襯底W和可選地襯底臺(tái)WT的一部分浸入到液體浴器中,在所謂的局部浸沒(méi)系統(tǒng)中使用液體供給系統(tǒng),以將液體僅提供到襯底的局部區(qū)域。在后一種類型中,由液體填滿的空間在平面圖中小于襯底的頂部表面,并且由液體充滿的區(qū)域相對(duì)于投影系統(tǒng)PS基本上保持靜止的同時(shí),襯底W在該區(qū)域下面移動(dòng)。本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例涉及的另一種布置是全浸濕方案,其中液體是非限制的。在這種布置中,基本上襯底的整個(gè)頂表面和襯底臺(tái)的全部或一部分被浸沒(méi)液體覆蓋。 至少覆蓋襯底的液體的深度是小的。液體可以是薄膜,例如在襯底上的液體薄膜。圖2-5中的液體供給裝置的任一種可以用于這種系統(tǒng)中;然而,密封特征可以不存在、沒(méi)有起作用、 不如正常狀態(tài)有效,或者以其它方式不能有效地僅將液體密封在局部區(qū)域。圖2-5中示出了四種不同類型的液體局部供給系統(tǒng)。上面描述了圖2-4中公開(kāi)的液體供給系統(tǒng)。已經(jīng)提出的其他布置是提供具有液體限制構(gòu)件的液體供給系統(tǒng),所述液體限制構(gòu)件沿投影系統(tǒng)的最終元件和襯底臺(tái)之間的空間的邊界的至少一部分延伸。這種布置在圖5 中示出。盡管可以在Z方向上存在一些相對(duì)移動(dòng)(在光軸的方向上),液體限制構(gòu)件相對(duì)于投影系統(tǒng)在XY平面內(nèi)基本上是靜止的。在液體限制構(gòu)件和襯底的表面之間形成密封。在一個(gè)實(shí)施例中,在液體限制結(jié)構(gòu)和襯底表面之間形成密封,并且密封可以是非接觸密封,例如氣體密封。在美國(guó)專利申請(qǐng)出版物第US 2004-02078M號(hào)中公開(kāi)了這種系統(tǒng)。圖5示意地示出了具有阻擋構(gòu)件12、IH的液體局部供給系統(tǒng)。所述阻擋構(gòu)件12沿投影系統(tǒng)PS的最終元件和襯底臺(tái)WT或襯底W之間的空間的邊界的至少一部分延伸。(要說(shuō)明的是,在下文中提到的襯底W的表面如果沒(méi)有特別地規(guī)定,也附加地或可選地表示襯底臺(tái)WT的表面。)盡管可以在Z方向上存在一些相對(duì)移動(dòng)(在光軸的方向上),阻擋構(gòu)件 12相對(duì)于投影系統(tǒng)在XY平面內(nèi)基本上是靜止的。在一實(shí)施例中,密封被形成在阻擋構(gòu)件 12和襯底W的表面之間,并且可以是非接觸密封,例如流體密封,期望是氣體密封。阻擋構(gòu)件12至少部分地將液體限制在投影系統(tǒng)PS的最終元件和襯底W之間的空間11中。到襯底W的非接觸密封16可以形成在投影系統(tǒng)PS的像場(chǎng)周圍,使得液體被限制在襯底W表面和投影系統(tǒng)PS的最終元件之間的空間11內(nèi)部。該空間11至少部分地由位于投影系統(tǒng)PS的最終元件的下面和周圍的阻擋構(gòu)件12形成。液體通過(guò)液體入口 13被引入到投影系統(tǒng)PS下面和阻擋構(gòu)件12內(nèi)的所述空間11中。液體可以通過(guò)液體出口 13被去除。所述阻擋構(gòu)件12在投影系統(tǒng)PS的最終元件上面一點(diǎn)延伸。液面高于最終元件,使得能提供液體的緩沖器。在一個(gè)實(shí)施例中,所述阻擋構(gòu)件12的內(nèi)周的上端處的形狀與投影系統(tǒng)PS的形狀或投影系統(tǒng)的最終元件的形狀一致,例如可以是圓形。在底部,內(nèi)周與像場(chǎng)的形狀大致一致,例如矩形,雖然并不是必須的。在一個(gè)實(shí)施例中,液體被在使用時(shí)形成在阻擋構(gòu)件12的底部和襯底W的表面之間的氣體密封16限制在空間11中。氣體密封由氣體,例如空氣或合成氣體形成,但是在一個(gè)實(shí)施例中,由N2或其他惰性氣體形成。該氣體密封中的氣體在壓力下通過(guò)入口 15提供到阻擋構(gòu)件12和襯底W之間的間隙。該氣體通過(guò)出口 14抽取。氣體入口 15處的過(guò)壓、出口 14處的真空水平和間隙的幾何形狀布置成使得形成向內(nèi)的限制液體的高速氣流16。氣體作用在阻擋構(gòu)件12和襯底W之間的液體上的力將液體限制在空間11內(nèi)。入口 /出口可以是圍繞空間11的環(huán)形槽。環(huán)形槽可以是連續(xù)的或非連續(xù)的。氣流16有效地將液體限制在空間11中。這種系統(tǒng)在美國(guó)專利申請(qǐng)出版物第US2004-02078M中公開(kāi)。圖5中的示例是所謂的局部區(qū)域布置,其中在任何一次液體僅被提供至襯底W的頂部表面的局部區(qū)域。其他布置是可以的,包括使用單相抽取器或兩相抽取器的流體處理系統(tǒng),諸如在美國(guó)專利申請(qǐng)出版物第2006-0038968號(hào)中公開(kāi)的。在一個(gè)實(shí)施例中,單相或兩相抽取器可以包括入口,其被多孔材料覆蓋。在單相抽取器的實(shí)施例中,多孔材料被用于將液體與氣體分開(kāi)以實(shí)現(xiàn)單液相液體抽取。多孔材料的下游的室被保持在輕微的負(fù)壓,并充滿液體。室內(nèi)的負(fù)壓使得形成在多孔材料的孔中的彎液面阻止環(huán)境氣體被抽取到室中。 然而,當(dāng)多孔表面與液體接觸,不存在彎液面阻止流動(dòng)并且液體可以自由地流入室。多孔材料具有大量的小孔,例如直徑在5到300 μ m的范圍內(nèi),期望在5到50 μ m范圍內(nèi)。在一個(gè)實(shí)施例中,多孔材料是至少輕微親液的(例如,親水的),即具有到諸如水的浸沒(méi)液體的小于90°的接觸角。另一種布置可以是基于氣體拖曳原理工作的布置。所謂的氣體拖曳原理在例如 2008年5月8日遞交的美國(guó)專利申請(qǐng)第US 61/071,621號(hào)和美國(guó)專利申請(qǐng)出版物第US 2008-0212046號(hào)中描述。在這種系統(tǒng)中,抽取孔以期望地具有角部的形狀布置。該角部可以與步進(jìn)或掃描方向?qū)?zhǔn)。對(duì)于沿步進(jìn)或掃描方向的給定速度,相對(duì)于兩個(gè)出口垂直掃描方向?qū)?zhǔn)的情況,這減小作用在流體處理結(jié)構(gòu)的表面中的兩個(gè)開(kāi)口之間的彎液面上的力。在US2008-0212046中還公開(kāi)一種定位在主液體回收特征的徑向外側(cè)處的氣刀。 該氣刀捕獲通過(guò)主液體回收特征的液體。這種氣刀可以出現(xiàn)在所謂的氣體拖曳原理布置中 (如在US 2008-0212046中公開(kāi)的),單相或兩相抽取器布置中(例如在美國(guó)專利申請(qǐng)出版物第US 2009-(^62318號(hào)中公開(kāi)的)或任何其他布置。
許多其他類型的液體供給系統(tǒng)是可以的。本發(fā)明不限于任何特定類型的液體供給系統(tǒng)。正如下面的說(shuō)明書中可以清楚地看到的,本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例可以使用任何類型的液體局部供給系統(tǒng)。本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例尤其涉及與任何液體局部供給系統(tǒng)一起使用作為液體供給系統(tǒng)。在諸如被限制的浸沒(méi)系統(tǒng)等浸沒(méi)系統(tǒng)中,浸沒(méi)液體可能從液體限制結(jié)構(gòu)12中逃逸。逃逸的液體可能停留在襯底臺(tái)或正被圖像化的襯底的表面上。逃逸的液體可以是液滴的形式或膜的形式(下文中液滴指的是一個(gè)或多個(gè)液滴和/或膜)。液滴可以引起一個(gè)或多個(gè)缺陷問(wèn)題。液滴在襯底W和襯底臺(tái)WT上的位置可以通過(guò)液體限制結(jié)構(gòu)12的下面。通過(guò)液滴與被限制的液體的碰撞可能引起缺陷問(wèn)題。例如,在被限制的浸沒(méi)系統(tǒng)中,液滴可能與在液體限制結(jié)構(gòu)12和襯底W之間延伸的液體彎液面碰撞。這種碰撞會(huì)引起液體包圍氣體(例如空氣)形成氣泡,氣泡直徑可以例如為5-10μπι,或可以是1-500μπι。氣泡尺寸可能通常在 5到10微米之間。氣泡可以移動(dòng)通過(guò)浸沒(méi)液體進(jìn)入投影系統(tǒng)PS和襯底W之間的空間11, 或者氣泡可以是靜止在襯底W上并通過(guò)襯底W 相對(duì)于空間11的相對(duì)移動(dòng)而進(jìn)入空間11 中。位于該位置的氣泡會(huì)影響成像,即氣泡會(huì)曝光到抗蝕劑中,由此引起成像缺陷。例如在成像跨經(jīng)襯底的一列管芯之后或在開(kāi)始成像一列管芯時(shí),當(dāng)襯底W的邊緣在液體限制結(jié)構(gòu)12下面移動(dòng)的時(shí)候,液體逃逸的風(fēng)險(xiǎn)增大了。在跨經(jīng)襯底邊緣時(shí),襯底邊緣和襯底臺(tái)WT在液體限制結(jié)構(gòu)12下面移動(dòng),使得浸沒(méi)空間11被襯底臺(tái)WT的表面而不是襯底W的表面限制。在從投影系統(tǒng)PS的下面移動(dòng)襯底W以被襯底臺(tái)WT替換時(shí),間隙通過(guò)投影系統(tǒng)PS的下面。這引起彎液面損失穩(wěn)定性。結(jié)果液體會(huì)逃逸。2010年2月1日遞交的美國(guó)專利申請(qǐng)第US 12/697,583號(hào)公開(kāi)了一種方法,其中當(dāng)在襯底的邊緣周圍成像時(shí)所有的襯底移動(dòng)被放慢以嘗試抑制或防止由于空間11內(nèi)的大的氣泡而發(fā)生的成像誤差。本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例涉及預(yù)測(cè)預(yù)期在曝光之前襯底上存在氣泡的區(qū)域的邊界。如果預(yù)測(cè)這種區(qū)域,可以實(shí)施對(duì)臺(tái)在光刻設(shè)備中的浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)下面的移動(dòng)方案的改變。這種改變可以包括調(diào)整臺(tái)在浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)下面的移動(dòng)方案的一部分中的速度和/ 或路線。使用場(chǎng)的布局和曝光的掃描方向、襯底臺(tái)WT移動(dòng)特性以及浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)尺寸,可以模擬襯底WT在浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)下面的移動(dòng)。也就是說(shuō),可以模擬襯底臺(tái)在浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)下面的位置隨時(shí)間的改變。對(duì)涉及膜牽引效應(yīng)和缺陷形成效應(yīng)的每一次步進(jìn)和掃描移動(dòng)使用液體損失預(yù)測(cè)算法,可以確定每一次曝光的優(yōu)化的速度和路線(考慮抗蝕劑特性),例如避免缺陷問(wèn)題以及不必要的生產(chǎn)量負(fù)面影響。圖6是預(yù)測(cè)的缺陷的圖。方法的一個(gè)實(shí)施例包括三個(gè)主要步驟,也就是分解步驟、風(fēng)險(xiǎn)確定步驟以及調(diào)整步驟。在分解步驟期間,襯底臺(tái)WT的移動(dòng)方案被分解成多個(gè)分立移動(dòng)。圖6示出在襯底 W的頂部施加每個(gè)曝光場(chǎng)100的情況下的襯底W的平面圖。襯底臺(tái)WT在浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)下面的路徑120被示出。該路徑包括分別向上和向下的掃描移動(dòng)122、126以及步進(jìn)移動(dòng) 124。在向上和向下掃描移動(dòng)122、1沈期間在場(chǎng)100附近成像。在分解步驟期間,移動(dòng)方案 120被分解成單次掃描122、126以及步進(jìn)移動(dòng)124,即多個(gè)分立移動(dòng)。
對(duì)于這些分立的步進(jìn)移動(dòng)IM和掃描移動(dòng)122、1 的每個(gè),執(zhí)行風(fēng)險(xiǎn)確定步驟。風(fēng)險(xiǎn)確定步驟的一部分是確定氣泡存在于浸沒(méi)流體中的風(fēng)險(xiǎn),即確定的氣泡風(fēng)險(xiǎn)的區(qū)域。具體地,評(píng)價(jià)或評(píng)估尺寸大于特定尺寸的氣泡存在于在移動(dòng)期間光刻設(shè)備的圖案化束B將通過(guò)的浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的浸沒(méi)流體中的風(fēng)險(xiǎn)。在一個(gè)實(shí)施例中,為了計(jì)算這種風(fēng)險(xiǎn),假定在浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)在位于存在從浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)中泄漏的浸沒(méi)流體的位置之上(例如, 通過(guò)液體供給系統(tǒng)自身的移動(dòng),或者通過(guò)襯底的移動(dòng),或通過(guò)兩者)的情況下,尺寸大于特定尺寸的氣泡的風(fēng)險(xiǎn)將存在。在一個(gè)實(shí)施例中,“浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)位于該位置之上”意味著浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)包含的總體液體,例如在液體供給系統(tǒng)和諸如襯底或襯底臺(tái)等正對(duì)表面之間延伸的彎液面。因此,在風(fēng)險(xiǎn)確定步驟期間,遵循使用液體損失預(yù)測(cè)算法預(yù)測(cè)液體損失的子路線。 由液體損失預(yù)測(cè)算法預(yù)測(cè)的任何液體損失的位置被存儲(chǔ)。如果計(jì)算出浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)將位于存在泄漏的浸沒(méi)流體的位置之上,可以確定尺寸大于特定尺寸的氣泡存在于浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)中的浸沒(méi)流體內(nèi)的風(fēng)險(xiǎn)高??梢允褂糜?jì)算氣泡存在的風(fēng)險(xiǎn)的其他方法,例如物理模型。下面描述的模型是經(jīng)驗(yàn)?zāi)P?;?shí)際情形的簡(jiǎn)化。下面描述使用基于實(shí)際觀察的規(guī)則精確地預(yù)測(cè)氣泡的風(fēng)險(xiǎn)的經(jīng)驗(yàn)?zāi)P???梢允褂酶嗟奈锢砟P?,例如基于由液體和表面的性質(zhì)得出的關(guān)系式的液體物理行為的模型。這種模型將需要輸入類似的襯底性質(zhì)(例如接觸角,反浸濕速度)。如果風(fēng)險(xiǎn)確定步驟確定尺寸大于特定尺寸的氣泡存在于在移動(dòng)期間光刻設(shè)備的圖案化束將通過(guò)的浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的浸沒(méi)流體內(nèi)的風(fēng)險(xiǎn)高,則將進(jìn)行調(diào)整步驟。在調(diào)整步驟期間,可以采取任何能夠減小或消除在風(fēng)險(xiǎn)確定步驟中確定的氣泡的風(fēng)險(xiǎn)的動(dòng)作。在一實(shí)施例中,在風(fēng)險(xiǎn)確定步驟確定存在氣泡風(fēng)險(xiǎn)所對(duì)應(yīng)的分立移動(dòng)的速度被調(diào)整。在一個(gè)實(shí)施例中,僅調(diào)整在曝光場(chǎng)上面的掃描移動(dòng)122、126。通過(guò)放慢速度對(duì)速度進(jìn)行調(diào)整可以減小氣泡被包括到浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的浸沒(méi)流體中的風(fēng)險(xiǎn)。這是行之有效的,因?yàn)樵诮](méi)流體供給系統(tǒng)和襯底之間延伸的彎液面與襯底上的(在之前的移動(dòng)期間被預(yù)測(cè)已經(jīng)從浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)泄漏的)液體液滴的碰撞速度被減小。在減小的速度的條件下,包括浸沒(méi)液體內(nèi)的氣泡的碰撞機(jī)會(huì)被降低。替換地或附加地,風(fēng)險(xiǎn)確定步驟已經(jīng)預(yù)測(cè)氣泡風(fēng)險(xiǎn)所對(duì)應(yīng)的移動(dòng)路線可以被改變以避免與襯底上的液體碰撞。替換地或附加地,移動(dòng)方案的、與比風(fēng)險(xiǎn)確定步驟確定氣泡風(fēng)險(xiǎn)所對(duì)應(yīng)的移動(dòng)早的移動(dòng)相對(duì)應(yīng)的一部分的速度可以被調(diào)整。在一個(gè)實(shí)施例中,可以基于襯底W的邊緣與在浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)和襯底之間延伸的彎液面之間的角度而確定速度的調(diào)整(減小)量。角度越小,速度減小越多。以此方式,可以防止從浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)泄漏流體,使得在風(fēng)險(xiǎn)確定步驟已經(jīng)確定氣泡風(fēng)險(xiǎn)所對(duì)應(yīng)的移動(dòng)期間,在襯底上基本上沒(méi)有液體。替換地或附加地,移動(dòng)方案的比已經(jīng)確定氣泡風(fēng)險(xiǎn)所對(duì)應(yīng)的移動(dòng)早的路線可以變化,使得留下的液體不留在可能導(dǎo)致與浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的彎液面碰撞并由此導(dǎo)致氣泡的位置。調(diào)整移動(dòng)方案的、與比風(fēng)險(xiǎn)確定步驟確定氣泡風(fēng)險(xiǎn)所對(duì)應(yīng)的分立移動(dòng)早的至少一個(gè)分立移動(dòng)相對(duì)應(yīng)的部分的路線可能包括改變移動(dòng)方案中的場(chǎng)100的曝光方向和/或曝光序列。
模擬的范圍覆蓋整個(gè)襯底W而不是單個(gè)曝光場(chǎng)100,以便能夠?qū)Σ煌毓馇樾沃杏梢苿?dòng)引起的缺陷進(jìn)行充分地預(yù)測(cè)。在確定優(yōu)化的速度和路線設(shè)置之后,由此通過(guò)該方法實(shí)施實(shí)際的曝光。本發(fā)明的實(shí)施例可以覆蓋所有的客戶情況。使用預(yù)測(cè)模型的另一個(gè)潛在的優(yōu)點(diǎn)在于,可以增加生產(chǎn)量(見(jiàn)下表,示出使用根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的方法和設(shè)備與在美國(guó)專利申請(qǐng)第US12/697,583號(hào)中描述的用于曝光布局的方法和設(shè)備,可能減速的場(chǎng)100的數(shù)量)。真實(shí)的數(shù)量可能因?yàn)槟P偷母淖兌S時(shí)間改變??傊?,在美國(guó)專利申請(qǐng)第US12/697,583號(hào)中描述的方法和設(shè)備可能具有太多的被減速的場(chǎng)100。
氣泡對(duì)浸沒(méi)系統(tǒng)是問(wèn)題。液體損失和隨后在浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)和襯底W和/或襯底臺(tái)WT之間延伸的彎液面(下文稱為浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)彎液面)與液滴的碰撞往往是根本的原因。根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的方法使用液體損失預(yù)測(cè)模型,其使用曝光布局(例如曝光場(chǎng)100的圖案)和提出的簡(jiǎn)化的移動(dòng)方案作為輸入而形成風(fēng)險(xiǎn)確定步驟的一部分。模型分步通過(guò)移動(dòng)方案(有時(shí)稱為蜿蜒曲徑)。來(lái)自浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的浸沒(méi)流體損失被模擬成當(dāng)襯底W的邊緣通過(guò)時(shí)發(fā)生,作為風(fēng)險(xiǎn)確定步驟的一部分。通過(guò)找到在移動(dòng)方案中曝光之前已經(jīng)有浸沒(méi)流體泄漏在其上的場(chǎng)100,在風(fēng)險(xiǎn)確定步驟中確定氣泡的風(fēng)險(xiǎn)。所涉及的確定為浸沒(méi)流體損失的原因的步進(jìn)/掃描移動(dòng)可以被減速以減少或避免浸沒(méi)流體損失,并因此減少或避免氣泡的形成。替換地,所涉及的確定為具有氣泡風(fēng)險(xiǎn)的步進(jìn)/ 掃描移動(dòng)可以被減速以減少或避免在浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)彎液面與液滴碰撞時(shí)形成氣泡。模型可以用來(lái)減速所有的被預(yù)測(cè)為導(dǎo)致在襯底曝光結(jié)束時(shí)浸沒(méi)流體被留在襯底W上的移動(dòng)。 這可以用于減少或避免液體干燥斑點(diǎn)或液體痕跡留在襯底上。在透射圖像傳感器(TIS)標(biāo)記的成像期間,類似的方法可以用于避免液滴留在標(biāo)記上,由此避免由所述標(biāo)記引起令人誤解的讀數(shù)。圖6在陰影區(qū)域示出預(yù)測(cè)在那些位置上在沒(méi)有采取校正措施的情況下存在氣泡風(fēng)險(xiǎn)。對(duì)于區(qū)域130,在掃描存在氣泡風(fēng)險(xiǎn)的場(chǎng)期間產(chǎn)生氣泡風(fēng)險(xiǎn)。這種情形的解決方案可以是降低該特定掃描移動(dòng)的速度。替換地或附加地,導(dǎo)致液體留在場(chǎng)上的移動(dòng)可以被減
13速。附加的或替換的方法可以是改變移動(dòng)方案中的路線以在該場(chǎng)上具有液體的時(shí)候避免該場(chǎng)的掃描。此外,對(duì)于區(qū)域131,在步進(jìn)移動(dòng)期間產(chǎn)生氣泡風(fēng)險(xiǎn),解決方案可以是降低步進(jìn)移動(dòng)的速度。圖7表示根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的邏輯模塊190。在200,給予邏輯模塊190輸入。該輸入可以包括機(jī)器常數(shù),諸如掃描類型(例如,所謂的曼哈頓/對(duì)角線)、掃描坐標(biāo) (XY坐標(biāo))和次序(坐標(biāo)的曝光順序)、掃描參數(shù)(V(速度)、a(加速度)、j (加加速度)以及Tsettle,如下所述)、浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的尺寸以及任何必要的更多的機(jī)器常數(shù)。這些輸入傳送至模型210和手動(dòng)超弛模塊220。來(lái)自模型210和手動(dòng)超弛模塊220的輸出被提供給速度選擇器230,其在240輸出包括修改過(guò)的移動(dòng)方案的必要參數(shù)的移動(dòng)方案之前對(duì)移動(dòng)方案作出所有的必要調(diào)整。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的模型210或方法通常以下面概述的部分進(jìn)行解釋1.延伸長(zhǎng)度&簡(jiǎn)化的軌跡形成,其形成用于將臺(tái)的移動(dòng)方案分解成多個(gè)分立移動(dòng)的分解步驟的一部分。2.模型液體損失,其形成風(fēng)險(xiǎn)確定步驟的一部分并確定在移動(dòng)結(jié)束時(shí)給定的移動(dòng)是否將導(dǎo)致液體被留在襯底上。3.氣泡風(fēng)險(xiǎn)(BR)&液體風(fēng)險(xiǎn)(LR)確定,其是風(fēng)險(xiǎn)確定步驟的一部分且基于延伸長(zhǎng)度和簡(jiǎn)化的軌跡和模型液體損失步驟的結(jié)果確定是否存在氣泡風(fēng)險(xiǎn)。來(lái)自模型210的輸出和用戶使用手動(dòng)超弛模塊220手動(dòng)指示的任何超弛被傳送至執(zhí)行調(diào)整步驟的速度選擇器230。然后速度選擇器230的輸出是有效的修改過(guò)的移動(dòng)方案,其中在襯底照射期間在光刻設(shè)備的圖案化束將通過(guò)的浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的浸沒(méi)流體中產(chǎn)生氣泡的風(fēng)險(xiǎn)被降低?;趻呙枳鴺?biāo)、掃描次序以及掃描參數(shù),可以產(chǎn)生簡(jiǎn)化的移動(dòng)方案。延伸長(zhǎng)度是從曝光掃描場(chǎng)的末端到下一步移動(dòng)開(kāi)始的距離,如下所討論的。在一個(gè)實(shí)施例中,方法計(jì)算場(chǎng) N= 1到的延伸長(zhǎng)度,產(chǎn)生真實(shí)曝光路線的簡(jiǎn)化的移動(dòng)方案。因?yàn)槭沟谜鎸?shí)的(連續(xù)的)移動(dòng)分立并且僅設(shè)定矩形移動(dòng),因此是簡(jiǎn)化操作。在圖8中,示出了分解步驟的輸入和輸出。輸入300是掃描坐標(biāo)(Χ、Υ坐標(biāo))和次序(坐標(biāo)的曝光順序)、掃描和步進(jìn)速度(ν)、 加速度(a)、加加速度(j)(加速度的變化速率)以及Tsettle。掃描參數(shù)中的Tsettle是機(jī)器以穩(wěn)定速度移動(dòng)的距離。其他輸入包括掃描是曼哈頓還是對(duì)角線以及圖像漂移。曼哈頓是首先沿垂直方向、然后沿水平方向或反之亦然的矩形移動(dòng),例如在圖13中示出的。對(duì)角線是沿對(duì)角線方向從一個(gè)曝光場(chǎng)至另一曝光場(chǎng)的移動(dòng),如圖13的右手邊的圖所示。在圖案形成裝置水平面上的圖像選擇是非對(duì)稱的情況下,沿χ的圖像漂移需要作為輸入。在310, 進(jìn)行分解步驟,在320輸出多個(gè)分立的移動(dòng)?;谟蓤D8的方法得到的簡(jiǎn)化的蜿蜒曲徑、掃描坐標(biāo)、掃描次序以及浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的尺寸,在液體損失模型中計(jì)算移動(dòng)方案中的每一次步進(jìn)和掃描的BR(氣泡風(fēng)險(xiǎn)) 和LR (液體風(fēng)險(xiǎn))。在圖9中,示出液體損失模型的輸入和輸出。在400對(duì)模型的輸入是多個(gè)分立移動(dòng)的簡(jiǎn)化的蜿蜒曲徑的輸出320,包括坐標(biāo)、速度以及次序。其他輸入是浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的尺寸、襯底臺(tái)中襯底所處凹陷的邊緣的位置和phi_UWA (下文限定)。在410中,液體損失被模型化??梢砸匀魏畏绞綄?duì)液體損失建立模型。下面參照?qǐng)D18和19描述對(duì)液體損失建
1立模型的一種方式。輸出420是被認(rèn)為已經(jīng)從浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)泄漏的任何液體的位置。 下面進(jìn)一步介紹模型內(nèi)的任務(wù)。氣泡風(fēng)險(xiǎn)(BR)和液體風(fēng)險(xiǎn)(LR)確定是基于相對(duì)于總的氣泡襯底區(qū)域尺寸的特定移動(dòng)的氣泡襯底區(qū)域的相對(duì)尺寸。在圖10中,示出氣泡風(fēng)險(xiǎn)和液體風(fēng)險(xiǎn)計(jì)算模型的輸入和輸出。在圖10中示出的掃描和步進(jìn)速度轉(zhuǎn)換器中,在500處的輸入是圖9中的輸出420。 在510處計(jì)算氣泡風(fēng)險(xiǎn)和液體風(fēng)險(xiǎn),在520處的輸出是對(duì)應(yīng)每次分立移動(dòng)的計(jì)算出的氣泡風(fēng)險(xiǎn)和液體風(fēng)險(xiǎn)。基于氣泡風(fēng)險(xiǎn)和液體風(fēng)險(xiǎn)確定被識(shí)別的分立移動(dòng)的替換速度、以便減小氣泡被包含的風(fēng)險(xiǎn)。這通過(guò)將氣泡風(fēng)險(xiǎn)(BR)/液體風(fēng)險(xiǎn)(LR)轉(zhuǎn)換成替換的速度來(lái)完成,如圖11所示。輸入600是圖10中的輸出520。在610處,計(jì)算替換的速度(在替換的實(shí)施例中和/或替換的路線中)。在620處輸出移動(dòng)方案的每次分立移動(dòng)(掃描/步進(jìn))的替換速度(在一個(gè)實(shí)施例和/或路線中)。這可以被存儲(chǔ)用于后面使用。下面進(jìn)一步介紹模型內(nèi)的任務(wù)。由于移動(dòng)方案導(dǎo)致的在標(biāo)記/傳感器(例如TIS標(biāo)記/傳感器)上的液體損失可以預(yù)測(cè),并且根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例移動(dòng)可以減速/路線可以調(diào)整,用于改善掃描器的可靠性。圖12中示出了模型的輸入和輸出。輸入700與圖9中示出的在400中的一樣,除了不需要液體半徑外側(cè)的邊緣和phi_UWA。相反,提供襯底臺(tái)上的標(biāo)記/傳感器坐標(biāo)。在710處對(duì)液體損失模型化,并且在720處提供輸出,其與在620處的輸出類似。因此,液體損失模型700包括與襯底上的液體損失模型對(duì)應(yīng)的在圖9-11中示出的多個(gè)步驟。下面進(jìn)一步介紹模型內(nèi)部的動(dòng)作。下面介紹模型內(nèi)部的任務(wù)。圖13中示出延伸長(zhǎng)度(EL)。圖8中的簡(jiǎn)化的移動(dòng)方案生成基于掃描參數(shù)自動(dòng)地計(jì)算延伸長(zhǎng)度(EL)或手動(dòng)地設(shè)置延伸長(zhǎng)度。1.通過(guò)(最壞的情形)公式[缺省(DEFAULT)]自動(dòng)地計(jì)算EL = ν* ((a/2*j) + (v/2*a)+Tsettle)+0. 5* (狹縫尺寸),其中 ν 是速度,j 是加加速度,a是加速度,Tsettle是用于設(shè)置和調(diào)整(settling)的時(shí)間,狹縫尺寸是曝光狹縫的尺寸。2.手動(dòng)指定EL的一個(gè)值。通過(guò)機(jī)器常數(shù)(MC)指定延伸長(zhǎng)度邊緣(圖13中示出ELM)和;指定一個(gè)值,加到通過(guò)EL計(jì)算的延伸的值/從通過(guò)EL計(jì)算的延伸的值減去該值。延伸長(zhǎng)度EL的參數(shù)應(yīng)該在MC中執(zhí)行?;谘由扉L(zhǎng)度(EL)和曝光布局,產(chǎn)生簡(jiǎn)化的移動(dòng)方案,與圖13中示出的類似,并且具有下列限定N=總的步進(jìn)+掃描的數(shù)量=(曝光布局的場(chǎng)的數(shù)量拉)_1掃描=(“開(kāi)始-掃描” -EL-邊緣)至(“結(jié)束-掃描” +EL+邊緣)步進(jìn)=“結(jié)束以前的掃描”至“開(kāi)始當(dāng)前的掃描”。在這個(gè)階段,通過(guò)決策樹描述液體損失模型。下面介紹液體損失模型中使用的變量的定義。在圖14中,介紹一般的模型定義, 同時(shí)圖15介紹如何限定未被控制的浸濕區(qū)域。圖14中的示例來(lái)自掃描移動(dòng)(垂直的)。在步進(jìn)移動(dòng)中,每一項(xiàng)將旋轉(zhuǎn)90度。圖14中的未曝光的場(chǎng)810是來(lái)自還沒(méi)有通過(guò)模型預(yù)測(cè)的襯底布局(見(jiàn)圖6)的場(chǎng) 100。圖14中的曝光過(guò)的場(chǎng)812是來(lái)自已經(jīng)通過(guò)模型預(yù)測(cè)的襯底布局的場(chǎng)(即,當(dāng)前被計(jì)算的分立移動(dòng)的下游)。圖14中的側(cè)邊點(diǎn)起始點(diǎn)820是在分立移動(dòng)的起始位置處垂直于浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)移動(dòng)方向的浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的側(cè)邊點(diǎn)(例如在平面上是四角形的浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的側(cè)邊角部)。在浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的每個(gè)側(cè)邊上存在這些位置中的兩個(gè)位置。該位置用 820a、820b 表示。圖14中的側(cè)邊點(diǎn)終點(diǎn)825是在分立移動(dòng)的末端位置處垂直于浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)移動(dòng)方向的浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的側(cè)邊點(diǎn)。在浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的每個(gè)側(cè)邊上存在這些位置中的兩個(gè)位置。該位置用825a、82 表示。圖14中的后起始點(diǎn)830是在分立移動(dòng)的起始位置處浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的尾部角部處的浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)角部的位置。圖14中的后終點(diǎn)835是在分立移動(dòng)的末端位置處浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的尾部角部的位置。圖14中的部分840是從后點(diǎn)至側(cè)邊點(diǎn)的浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)側(cè)邊。有兩個(gè)部分,用 840a和840b表示。圖14中的浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的覆蓋區(qū)或印痕是在分立移動(dòng)的終止時(shí)被浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)覆蓋且如用對(duì)角線陰影區(qū)域示出的位置。在一個(gè)實(shí)施例中,覆蓋區(qū)12可以是液體限制結(jié)構(gòu)的外側(cè)邊界或可以是外側(cè)邊界內(nèi)的其他位置(例如曝光場(chǎng)周圍的液體彎液面的位置)。圖14中的浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)浸濕移動(dòng)850是對(duì)角線交叉的陰影區(qū)域示出的、在分立移動(dòng)期間浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)和襯底之間延伸的彎液面通過(guò)的區(qū)域。圖14中預(yù)測(cè)的液體損失區(qū)域860是通過(guò)模型預(yù)測(cè)的在襯底上包含在分立移動(dòng)末端處的浸沒(méi)流體的區(qū)域。圖14中預(yù)測(cè)的氣泡(BB)區(qū)域870是通過(guò)模型預(yù)測(cè)的襯底上包含氣泡(BB)的區(qū)域。參照?qǐng)D15,圖15中的Pl是襯底邊緣由矢量“側(cè)邊點(diǎn)起始點(diǎn)(820b) ”- “側(cè)邊點(diǎn)終點(diǎn)(825b)”相交的位置。Phi_UWA是確定浸沒(méi)流體損失區(qū)域的角度,其可以是模型中固定的值;替換地,模型可以基于由模型本身計(jì)算的phi_UWA。圖15中的Ul是從pi以角度phi_UWA投影的線與浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)側(cè)邊(部分 840b)在浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的末端位置處的交叉點(diǎn)。圖15中的UWA880是不被控制的浸濕區(qū)域,其通過(guò)由角部限定的多邊形確定后點(diǎn)起始點(diǎn)830-后點(diǎn)終點(diǎn)835-ul-pl。如果不存在一個(gè)或多個(gè)例外或異常,則遵循上面的法則。例外的情況包括如果 Pl在襯底的外側(cè)pl =側(cè)邊點(diǎn)終點(diǎn)82fe、825b。如果矢量側(cè)邊點(diǎn)起始點(diǎn)820b-側(cè)邊點(diǎn)終點(diǎn) 825b在襯底W的外側(cè)pl =側(cè)邊點(diǎn)終點(diǎn)82恥。如果矢量側(cè)邊點(diǎn)起始點(diǎn)820b-側(cè)邊點(diǎn)終點(diǎn)825b在襯底W內(nèi)側(cè)pl =矢量后點(diǎn)起始點(diǎn)830-側(cè)邊點(diǎn)起始點(diǎn)820b的襯底邊緣交叉點(diǎn)。如果從Pl以角度phi_UWA投影的線不與浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)線段840交叉,則與后點(diǎn)起始點(diǎn) 830和后點(diǎn)終點(diǎn)835之間的(延伸)線的交點(diǎn)將確定ul。另一例外是考慮二次液體損失;當(dāng)來(lái)自前面的分立移動(dòng)的液體多邊形(即,預(yù)測(cè)的液體損失860)在移動(dòng)開(kāi)始處接觸浸沒(méi)液體供給系統(tǒng)部分840a、840b,則產(chǎn)生二次液體損失多邊形890(見(jiàn)圖16)。根據(jù)不被控制的浸濕區(qū)域880在前面的液體損失多邊形的移動(dòng)的開(kāi)始處通過(guò)由角部的與浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)接觸的位置確定的另一角部和新的Pi形成二次液體損失多邊形890。如圖16所示,與UWA 880對(duì)應(yīng)的液體損失區(qū)域位于浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)朝向左的移動(dòng)的開(kāi)始處。新的浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)浸濕移動(dòng)850產(chǎn)生。因?yàn)閬?lái)自前面的移動(dòng)的液體損失多邊形880在移動(dòng)開(kāi)始處接觸浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)部分840b,因而產(chǎn)生二次液體損失多邊形 890。下面參照?qǐng)D17描述與另外兩個(gè)角部的位置相關(guān)的規(guī)則和由此的二次液體損失多邊形 890的形狀。在工藝的末端,增加二次液體損失多邊形890至預(yù)測(cè)的液體損失860,使得以與設(shè)定已經(jīng)發(fā)生的相同的方式處理預(yù)測(cè)留下來(lái)的液體。Phi_UWA是確定液體損失區(qū)域的角度。在一個(gè)實(shí)施例中,phi_UWA是固定的值。在另一實(shí)施例中,可以通過(guò)下面介紹的模型計(jì)算phi_UWA。圖17示出如何計(jì)算UWA880或二次液體損失多邊形890的形狀。在直的氣泡邊緣密封BES (襯底W的邊緣和襯底臺(tái)WT之間的間隙)或UWA880的邊緣的情況下,使用下面的關(guān)系式計(jì)算角度β
β = arcsin 漏廠-a for Vscan < Vd /sin φ
\ yd J其中識(shí)是掃描方向和浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)覆蓋區(qū)的邊緣之間的角度。在模型的一個(gè)實(shí)施例中,當(dāng)沿優(yōu)化方向掃描時(shí)該角度可以近似為識(shí)二45°。α是親液邊緣(BES)和部分 840之間的角度,并且依賴于與襯底W邊緣相交的位置。因此,當(dāng)識(shí)=α = 45°,這是標(biāo)準(zhǔn)的垂直BES相交,掃描速度應(yīng)該等于Vd以獲得β =0°,因而沒(méi)有液體損失。對(duì)于TCX041, 其是具有用于保護(hù)用作外涂層的光活性材料的特定表面性質(zhì)的商業(yè)涂層材料,自由運(yùn)行接觸線速度可以近似為Vd = 0. 42m/s。當(dāng)以掃描速度Vsean = 0. 6m/s垂直地與BES間隙相交時(shí),UWA880跨過(guò)β =45°。在較高掃描速度的情況下,上面的關(guān)系不再保持,這意味著在沒(méi)有任何釘扎特征交叉的情況下在浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)后面的整個(gè)區(qū)域?qū)⑹荱WA880,因?yàn)閽呙杷俣雀哂趽p失液體在襯底上的臨界值。液體損失模型通常包括兩個(gè)函數(shù)部分(i)液體損失確定,和(ii)保持殘余液體的痕跡和浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)通過(guò)移動(dòng)方案的拖擦性質(zhì)(mopping properties)。在圖18中通過(guò)決策樹顯示液體損失模型。在圖19中通過(guò)分開(kāi)的決策樹解釋液體損失確定本身。在1010處給模型的輸入是多個(gè)分立移動(dòng)(簡(jiǎn)化的蜿蜒曲徑)、掃描和步進(jìn)坐標(biāo)和次序以及浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的尺寸。模型以第一移動(dòng)(N(+l))開(kāi)始(圖18中的步驟1020),并檢查液體是否存在于當(dāng)前的將要曝光的場(chǎng)(圖18中的步驟1030)。當(dāng)在將要曝光的場(chǎng)內(nèi)存在液體并且移動(dòng)是掃描 (沒(méi)有步進(jìn)移動(dòng))時(shí),液體將轉(zhuǎn)換為氣體并假定(存儲(chǔ))為氣泡(BB)(即具有氣泡風(fēng)險(xiǎn)的區(qū)域)(圖18中的步驟1040)。否則模型進(jìn)行至步驟1050。接下來(lái)模型檢查浸沒(méi)液體是否已經(jīng)存在于浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)浸濕移動(dòng)內(nèi)(圖18中的步驟1050),其將會(huì)由于浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的拖擦功能(mopping function)而從襯底W移除(圖18中的步驟1060)。也就是說(shuō), 當(dāng)浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)遭遇襯底上的液體時(shí),假定襯底上的液體將被浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)從襯底上移除。下面在步驟1070計(jì)算在浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)通過(guò)之后襯底上是否存留液體。如果分立移動(dòng)是掃描移動(dòng),則液體已經(jīng)被轉(zhuǎn)換為氣泡(上面所述的步驟1040)。然而,如果移動(dòng)是步進(jìn)移動(dòng),則沒(méi)有發(fā)生曝光,液滴僅在步驟1060中移除。如果沒(méi)有浸沒(méi)液體存在,則模型直接進(jìn)行至步驟1070。在圖18中的步驟1070中檢查移動(dòng)是否實(shí)現(xiàn)下面描述的液體損失標(biāo)準(zhǔn)。步驟1070是液體損失模型的另一個(gè)函數(shù)部分,其通過(guò)在圖19中示出的另一決策樹描述。如果沒(méi)有浸沒(méi)流體,模型直接進(jìn)行回到步驟1020以進(jìn)行下一個(gè)分立移動(dòng)。在液體損失模型預(yù)測(cè)液體損失之后,使用多邊形函數(shù)產(chǎn)生不被控制的浸濕區(qū)域 (UWA)880,如上面介紹的(在圖18中的步驟1080)?;诖?,預(yù)測(cè)蜿蜒曲徑的第一掃描移動(dòng),并且將進(jìn)入到步驟1020、仍然考慮前面的移動(dòng)的所有預(yù)測(cè)的液體和氣泡(BB)區(qū)域而開(kāi)始下一移動(dòng),所述下一移動(dòng)是步進(jìn)移動(dòng)。當(dāng)已經(jīng)預(yù)測(cè)整個(gè)移動(dòng)方案的所有的分立移動(dòng)時(shí)模型結(jié)束(圖18中的步驟1090)。然后在步驟1100輸出液體損失和氣泡預(yù)測(cè)多邊形。在分開(kāi)的決策樹(圖19)中示出并在下文中討論圖18中的方法的步驟1070(“移動(dòng)完成液體損失標(biāo)準(zhǔn)?”)。液體損失確定模型從一些檢查開(kāi)始。第一次檢查是是否將發(fā)生二次液體損失,正如這里參照?qǐng)D16描述的(圖19中的步驟1210)。如果是這種情形,所有其他檢查將被跳過(guò)并立即在步驟1300形成液體損失多邊形。當(dāng)沒(méi)有二次液體損失發(fā)生,則下一次檢查是移動(dòng)的開(kāi)始處一個(gè)或多個(gè)浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)角部點(diǎn)(即,包括側(cè)邊點(diǎn)和后點(diǎn)的浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的角部)是否位于(平面圖)襯底W的外側(cè)(圖19中的步驟1220)。如果角部點(diǎn)位于襯底外側(cè),則模型進(jìn)行至步驟1230,并且認(rèn)為沒(méi)有液體損失發(fā)生。下一檢查是特定浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)移動(dòng)是否被施加到襯底W上(圖19中的步驟 1240)。如果移動(dòng)沒(méi)有施加到襯底W上,則在步驟1230預(yù)測(cè)沒(méi)有液體損失。根據(jù)步驟1250、 1260、1270以及1290對(duì)每個(gè)部分實(shí)施計(jì)算。當(dāng)兩個(gè)檢查(步驟1220、1M0)的結(jié)果是肯定的,則每個(gè)浸沒(méi)液體供給系統(tǒng)部分840a、840b將被計(jì)算液體損失預(yù)測(cè)(圖19中的步驟 1250a、b,1260a、b,1270a、b,1290a、b)。首先識(shí)別所述部分(步驟1250)。再次將執(zhí)行一些檢查。當(dāng)后點(diǎn)起始點(diǎn)830和側(cè)邊點(diǎn)起始點(diǎn)820在襯底W內(nèi)側(cè),則將不發(fā)生浸沒(méi)流體損失 (圖19中的步驟1260a、1260b),并且執(zhí)行步驟1觀0,確定沒(méi)有浸沒(méi)流體損失。接下來(lái)的兩個(gè)動(dòng)作檢查在BES-交叉移動(dòng)開(kāi)始處在襯底W外側(cè)的后面的浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)邊緣的長(zhǎng)度 (即,部分840)是否小于(部分840的)總長(zhǎng)度的50%,因?yàn)樵谶@種情況下沒(méi)有液體損失 (步驟1280)。通過(guò)首先計(jì)算點(diǎn)Pl (如上所述),和隨后通過(guò)檢查從后點(diǎn)起始點(diǎn)830至pi的矢量的少于50%是否位于襯底外側(cè)以及側(cè)邊點(diǎn)起始點(diǎn)820是否位于襯底內(nèi)側(cè)(圖19中的步驟1270)來(lái)完成該檢查。如果都是“是”,則沒(méi)有浸沒(méi)流體損失,模型進(jìn)行至步驟1280,如果否,則下面的步驟將檢查從后點(diǎn)起始點(diǎn)830至pi的矢量的超過(guò)50%是否位于襯底W的外側(cè)以及后點(diǎn)起始點(diǎn)830是否位于襯底W的內(nèi)側(cè)(圖19中的步驟1290)。當(dāng)結(jié)果再次是否定的,則部分840在襯底外側(cè)的長(zhǎng)度大于部分840長(zhǎng)度的50%,將發(fā)生浸沒(méi)流體損失,因而將形成液體損失多邊形(圖19中的步驟1300),見(jiàn)上文。如果答案是肯定的,則執(zhí)行步驟1280并且認(rèn)為沒(méi)有浸沒(méi)流體損失發(fā)生。下面的列表是圖19中示出的決策和操作框中文字的概述1210將發(fā)生二次液體損失?1220是不是> 1的角部點(diǎn)在襯底外側(cè)?1240移動(dòng)方向是不是到襯底上?1250對(duì)應(yīng)每個(gè)部分預(yù)測(cè)的液體損失1260后點(diǎn)起始點(diǎn)或側(cè)邊點(diǎn)起始點(diǎn)是在襯底半徑內(nèi)側(cè)?1270距離(后點(diǎn)起始點(diǎn)-pi) <襯底內(nèi)側(cè)側(cè)邊點(diǎn)起始點(diǎn)和部分的總和的50% 1290距離(后點(diǎn)起始點(diǎn)-pi) >襯底內(nèi)側(cè)后點(diǎn)起始點(diǎn)和部分的總和的50% ?1300形成液體損失多邊形(后點(diǎn)起始點(diǎn)-pl-ul-后點(diǎn)終點(diǎn))如果pi在襯底外側(cè)pl =側(cè)邊點(diǎn)終點(diǎn)825如果矢量側(cè)邊點(diǎn)起始點(diǎn)820-側(cè)邊點(diǎn)終點(diǎn)825在襯底外側(cè)pl =側(cè)邊點(diǎn)終點(diǎn)825如果矢量側(cè)邊點(diǎn)起始點(diǎn)820-側(cè)邊點(diǎn)終點(diǎn)825在襯底內(nèi)側(cè)pl =矢量后點(diǎn)起始點(diǎn) 830-側(cè)邊點(diǎn)起始點(diǎn)820的襯底邊緣交叉位置在圖20中,示出在示例曝光布局中在特定區(qū)域內(nèi)氣泡預(yù)測(cè)的詳細(xì)示例?;陬A(yù)測(cè)的液體和氣泡(BB)多邊形在移動(dòng)方案中每個(gè)步進(jìn)和掃描移動(dòng)被計(jì)算氣泡風(fēng)險(xiǎn)(BR)和液體風(fēng)險(xiǎn)(LR)。圖20分別示出浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的四個(gè)位置⑴沿著在場(chǎng)7的掃描曝光,(ii)沿著曼哈頓步進(jìn)向上用于準(zhǔn)備場(chǎng)8的掃描(iii)沿著曼哈頓步進(jìn)向左用于準(zhǔn)備場(chǎng)8的曝光以及(iv)沿著場(chǎng)8的曝光。圖中示出未曝光的場(chǎng)810和曝光的場(chǎng)820。示出了在場(chǎng)6中的氣泡風(fēng)險(xiǎn)的區(qū)域。在第一曼哈頓步進(jìn)之后,可以看到,當(dāng)襯底W的邊緣通過(guò)浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的部分840b下面時(shí)發(fā)生不被控制的液體損失(UWA880)。在步進(jìn)至左邊期間,不被控制的液體損失(UWA880)的一部分被浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的移動(dòng)拖擦(圖18中的步驟1050和1060)。 在場(chǎng)8的掃描期間,當(dāng)襯底W向上移動(dòng),如相對(duì)于浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)移動(dòng),在場(chǎng)8的左下部示出具有高氣泡風(fēng)險(xiǎn)的潛在區(qū)域(圖18中的步驟1030和1040)。該區(qū)域是浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)處于其上具有液體的區(qū)域上面的結(jié)果(通過(guò)第一曼哈頓步進(jìn)留下的)。氣泡通過(guò)在襯底和浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)之間延伸的彎液面與留在襯底W上的浸沒(méi)流體的碰撞而形成。在場(chǎng) 8的頂部中心部分中的另一區(qū)域被識(shí)別為潛在氣泡風(fēng)險(xiǎn)的區(qū)域。這是因?yàn)橐后w被識(shí)別為存在于該區(qū)域(盡管其已經(jīng)被拖擦掉)。因此這指出由于之前的液體損失造成的氣泡的可能區(qū)域。如所看到的,如果在圖20中向上的曼哈頓步進(jìn)期間防止液體損失,則將預(yù)測(cè)在場(chǎng) 8的掃描期間沒(méi)有氣泡。因此,調(diào)整移動(dòng)方案的一種方法將是降低向上曼哈頓步進(jìn)的速度, 使得將不發(fā)生或較少發(fā)生液體損失。可以以掃描的正常速度進(jìn)行向左的曼哈頓步進(jìn)。圖21中示出用于計(jì)算氣泡風(fēng)險(xiǎn)(BR)和液體風(fēng)險(xiǎn)(LR)的不同步驟。模型在1205 處接收液體損失和氣泡多邊形的輸入,其根據(jù)上面所述的并且尤其如圖20中圖示的進(jìn)行計(jì)算。模型首先在步驟1210單獨(dú)地計(jì)算每個(gè)多邊形的面積(液體損失和BB),然后在步驟 1220計(jì)算總的多邊形面積(單獨(dú)地,液體損失和BB)。然后在步驟1230計(jì)算BR和LR。BR 和LR與各個(gè)多邊形的面積成比例。在步驟1240存儲(chǔ)具有在表內(nèi)的相應(yīng)的分立移動(dòng)的結(jié)果??梢源_定屬于BR/LR的特定值的可選的速度。這通過(guò)將模型輸出BR/LR轉(zhuǎn)換成可選的速度(如前面部分中計(jì)算的那樣)來(lái)完成。速度轉(zhuǎn)換器的風(fēng)險(xiǎn)允許實(shí)際性能與預(yù)測(cè)性能的匹配,因而允許對(duì)預(yù)測(cè)與實(shí)際之間的差異進(jìn)行校正。指定對(duì)應(yīng)的可選的速度并增加至 BR和LR表。經(jīng)由對(duì)應(yīng)可選的速度轉(zhuǎn)換表的風(fēng)險(xiǎn)(作為機(jī)器常數(shù))計(jì)算可選的速度。由于蜿蜒曲徑帶來(lái)的在標(biāo)記/傳感器上的液體損失可以被預(yù)測(cè),并且移動(dòng)可以減速用于改善機(jī)器的可靠性。這通過(guò)避免在襯底臺(tái)WT對(duì)準(zhǔn)期間浸沒(méi)流體液滴存在于所用的標(biāo)記/傳感器上來(lái)實(shí)現(xiàn)。在圖22,以決策樹的形式示出標(biāo)記/傳感器液體損失模型。標(biāo)記/傳感器液體損失模型與液體損失預(yù)測(cè)模型一起運(yùn)行。標(biāo)記/傳感器液體損失模型從第一曝光蜿蜒曲徑場(chǎng)的掃描移動(dòng)開(kāi)始,并沿移動(dòng)方案工作,直到達(dá)到蜿蜒曲徑的末端。對(duì)于每個(gè)移動(dòng),模型檢查一個(gè)或多個(gè)限定的標(biāo)記/傳感器位置(例如六個(gè))是否在浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)浸濕移動(dòng)內(nèi)側(cè)。如果是這種情況,則具體的移動(dòng)與表內(nèi)的指定的標(biāo)記/ 傳感器一起存儲(chǔ)。當(dāng)?shù)竭_(dá)蜿蜒曲徑的末端,計(jì)算每個(gè)標(biāo)記/傳感器的最后的浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)浸濕移動(dòng)(Nmax)并與表中的所有其他浸濕移動(dòng)一起存儲(chǔ)至所屬的標(biāo)記/傳感器。方法/模型可以用于預(yù)測(cè)在執(zhí)行移動(dòng)方案期間被浸濕的標(biāo)記/傳感器上的液體損失。如果以全速執(zhí)行步進(jìn)/掃描,則會(huì)導(dǎo)致浸沒(méi)流體保留在這些標(biāo)記/傳感器上,其依次影響設(shè)備的性能/可靠性?;镜南敕ㄊ菍⒎椒〝U(kuò)展至預(yù)測(cè)由于曝光移動(dòng)帶來(lái)的在標(biāo)記/傳感器上的液體損失?;谝后w損失預(yù)測(cè)結(jié)果,將放慢步進(jìn)/掃描以減少或甚至避免在標(biāo)記 /傳感器上的液體損失,這可以帶來(lái)更好的性能和可靠性。在步驟1500,提供與步驟700處相同的輸入。模型以第一曝光蜿蜒曲徑場(chǎng)的掃描移動(dòng)(N(+l))(圖22中的步驟1510)開(kāi)始,并在步驟1520檢查傳感器/標(biāo)記是否在浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)浸濕移動(dòng)內(nèi)。如果答案是否定的,則工藝回到步驟1510。如果傳感器/標(biāo)記在浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)浸濕移動(dòng)內(nèi),工藝進(jìn)入到步驟1530,在步驟1530具體的浸濕移動(dòng)與被浸濕的標(biāo)記/傳感器一起被存儲(chǔ)在表中。在步驟巧40,當(dāng)沒(méi)有到達(dá)移動(dòng)方案的最后的分立移動(dòng),工藝返回至步驟1510。當(dāng)已經(jīng)到達(dá)移動(dòng)方案的最后的分立移動(dòng),模型進(jìn)行至步驟1550, 在步驟1550確定浸濕每一個(gè)標(biāo)記/傳感器的最后的分立移動(dòng)。1560提供輸出,其列出讓每個(gè)標(biāo)記/傳感器浸濕的所有分立移動(dòng)并還列出移動(dòng)方案的讓每個(gè)標(biāo)記/傳感器浸濕的最后的分立移動(dòng)。當(dāng)其他特征通過(guò)投影系統(tǒng)下面,例如跨過(guò)表面期間和靠近表面的邊緣(諸如靠近襯底臺(tái)和橋或傳感器之間的間隙)期間,可以采用所述方法。本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例可以使用的其他表面包括可能是親液表面或至少具有減小的接觸角的部分(諸如傳感器)的表面。因?yàn)橥ㄟ^(guò)投影系統(tǒng)下面的其他特征會(huì)導(dǎo)致彎液面的不穩(wěn)定,在一個(gè)實(shí)施例中當(dāng)運(yùn)動(dòng)靠近諸如傳感器等特征時(shí),控制器可以調(diào)整設(shè)備的一個(gè)或多個(gè)操作條件。對(duì)于傳感器,例如透鏡干涉儀(例如ILIAS)或透射圖像傳感器(TIS)或點(diǎn)傳感器,液體限制結(jié)構(gòu)12的氣刀可以關(guān)閉或減小其流速,以便避免在這些傳感器中的任一個(gè)的親液部分上的液體損失。因此,如所看到的,本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例可以應(yīng)用于多種類型的浸沒(méi)光刻設(shè)備。在一個(gè)實(shí)施例中,光刻設(shè)備可以包括傳感器,用以檢測(cè)從浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)泄漏的流體或用以檢測(cè)尺寸大于特定尺寸的氣泡是否存在于浸沒(méi)流體或浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)內(nèi)。比較器可以用于將檢測(cè)的結(jié)果與位置和/或風(fēng)險(xiǎn)確定步驟的結(jié)果對(duì)比。以此方式,可以改進(jìn)模型。尤其地,可以改善損失的液體和氣泡形成的計(jì)算。
此處說(shuō)明書公開(kāi)一種方法,其中可以預(yù)測(cè)氣泡的存在或不存在以及由氣泡帶來(lái)的成像誤差的可能性。可以有預(yù)測(cè)液體損失和在與浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)和襯底之間延伸的彎液面碰撞之后導(dǎo)致氣泡的可能性的其他方法。例如,可以計(jì)算計(jì)算不同釘扎點(diǎn)(例如襯底或臺(tái)支撐的物體的邊緣)和彎液面之間的相互作用的全物理模型??蛇x地或附加地,模型可以是完全基于經(jīng)驗(yàn)的,即基于泄漏和/或氣泡形成條件下的觀察。一方面,提供一種調(diào)整在光刻設(shè)備的浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)下面的臺(tái)的移動(dòng)方案的一部分的路線和/或速度的方法,所述方法包括步驟分解步驟,用于將臺(tái)的移動(dòng)方案分解成多個(gè)分立移動(dòng);風(fēng)險(xiǎn)確定步驟,對(duì)于多個(gè)分立移動(dòng)的特定分立移動(dòng),通過(guò)確定從浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)泄漏的浸沒(méi)流體存在的位置是否在浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)下面行進(jìn)而確定在特定分立移動(dòng)期間尺寸大于特定尺寸的氣泡存在于光刻設(shè)備的圖案化束將通過(guò)的浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的浸沒(méi)流體內(nèi)的風(fēng)險(xiǎn);和調(diào)整步驟,用于調(diào)整(i)與比確定氣泡風(fēng)險(xiǎn)所針對(duì)的分立移動(dòng)更早的分立移動(dòng)相對(duì)應(yīng)的移動(dòng)方案的一部分的路線和/或速度,和/或調(diào)整(ii)與確定氣泡風(fēng)險(xiǎn)所針對(duì)的分立移動(dòng)相對(duì)應(yīng)的移動(dòng)方案的一部分的路線和/或速度。在一個(gè)實(shí)施例中,方法還包括位置確定步驟,對(duì)于所述特定分立移動(dòng),確定從浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)泄漏的浸沒(méi)流體的位置,并且其中所確定的位置被用于確定所述風(fēng)險(xiǎn)。在一個(gè)實(shí)施例中,位置確定步驟對(duì)于所述特定分立移動(dòng),確定在所述特定分立移動(dòng)期間浸沒(méi)流體是否將從浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)泄漏。在一個(gè)實(shí)施例中,位置確定步驟通過(guò)使用浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的泄漏行為的經(jīng)驗(yàn)?zāi)P投_定浸沒(méi)流體是否將從浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)泄漏。在一個(gè)實(shí)施例中,位置確定步驟通過(guò)確定浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的邊緣是否通過(guò)臺(tái)上的彎液面釘扎特征上方而確定浸沒(méi)流體是否將從浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)泄漏。在一個(gè)實(shí)施例中,彎液面釘扎特征包括臺(tái)支撐的物體的邊緣,例如襯底或傳感器的邊緣。在一個(gè)實(shí)施例中,位置確定步驟通過(guò)確定在特定分立移動(dòng)期間浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的邊緣是否移動(dòng)到臺(tái)上的物體上而確定浸沒(méi)流體是否將從浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)泄漏。在一個(gè)實(shí)施例中,位置確定步驟通過(guò)確定在特定分立移動(dòng)的末端處浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的邊緣的在物體外側(cè)的部分的長(zhǎng)度是否大于所述邊緣的整個(gè)長(zhǎng)度的特定百分比而確定浸沒(méi)流體是否將從浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)泄漏。在一個(gè)實(shí)施例中,位置確定步驟通過(guò)確定對(duì)于在特定分立移動(dòng)前面的分立移動(dòng)位置確定步驟是否得出浸沒(méi)流體從浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)泄漏的確定結(jié)論而確定浸沒(méi)流體將是否將從浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)泄漏。在一個(gè)實(shí)施例中,位置確定步驟通過(guò)使用來(lái)自浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的浸沒(méi)流體與浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)和臺(tái)以及臺(tái)上的任何物體的相伴隨的物理模型而確定浸沒(méi)流體是否將從浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)泄漏。 在一個(gè)實(shí)施例中,在位置確定步驟,任何浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)完全通過(guò)其上的位置被確定為在比特定分立移動(dòng)早的分立移動(dòng)期間不受被位置確定步驟確定為已經(jīng)從浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)泄漏的浸沒(méi)流體影響。在一個(gè)實(shí)施例中,在對(duì)多個(gè)分立移動(dòng)的直接跟隨給定的分立移動(dòng)的另一個(gè)分立移動(dòng)一個(gè)接另一個(gè)地執(zhí)行位置確定、風(fēng)險(xiǎn)確定以及調(diào)整步驟的每一個(gè)之前, 對(duì)多個(gè)分立移動(dòng)中的給定的分立移動(dòng)一個(gè)接另一個(gè)地執(zhí)行位置確定、風(fēng)險(xiǎn)確定以及調(diào)整步驟的每一個(gè)。在一個(gè)實(shí)施例中,通過(guò)確定在特定分立移動(dòng)期間從浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)泄漏的浸沒(méi)流體的位置是否是將被圖案化束照射的位置,風(fēng)險(xiǎn)確定步驟確定在特定分立移動(dòng)期間尺寸大于特定尺寸的氣泡存在于光刻設(shè)備的圖案化束將通過(guò)的浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的浸沒(méi)流體中的風(fēng)險(xiǎn)。在一個(gè)實(shí)施例中,調(diào)整步驟減小或縮短移動(dòng)方案的、與比風(fēng)險(xiǎn)確定步驟確定氣泡風(fēng)險(xiǎn)所對(duì)應(yīng)的特定分立移動(dòng)早的至少一個(gè)分立移動(dòng)相對(duì)應(yīng)的一部分移動(dòng)方案中的路線和/或速度,以避免在至少一個(gè)分立移動(dòng)期間浸沒(méi)流體損失,使得從浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)泄漏的浸沒(méi)流體的位置將在特定分立移動(dòng)期間不導(dǎo)致尺寸大于特定尺寸的氣泡存在于光刻設(shè)備的圖案化束將通過(guò)的浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的浸沒(méi)流體中的風(fēng)險(xiǎn)。在一個(gè)實(shí)施例中,調(diào)整步驟減小移動(dòng)方案的、與風(fēng)險(xiǎn)確定步驟確定氣泡風(fēng)險(xiǎn)所對(duì)應(yīng)的特定分立移動(dòng)相對(duì)應(yīng)的一部分移動(dòng)方案中的速度,以避免從浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)泄漏的浸沒(méi)流體與浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)中的浸沒(méi)流體碰撞時(shí)形成尺寸大于特定尺寸的氣泡。在一個(gè)實(shí)施例中,分解步驟將移動(dòng)方案分解成步進(jìn)移動(dòng)和掃描移動(dòng)。在一個(gè)實(shí)施例中,方法還包括在風(fēng)險(xiǎn)確定步驟期間,確定從浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)泄漏的浸沒(méi)流體是否到臺(tái)上的對(duì)應(yīng)標(biāo)記的位置上。在一個(gè)實(shí)施例中, 調(diào)整步驟用于調(diào)整(i)與比確定流體泄漏到對(duì)應(yīng)于標(biāo)記的位置上所針對(duì)的分立移動(dòng)早的分立移動(dòng)相對(duì)應(yīng)的移動(dòng)方案的一部分的路線和/或速度,和/或(ii)調(diào)整與確定流體泄漏到對(duì)應(yīng)于標(biāo)記的位置上所針對(duì)的分立移動(dòng)相對(duì)應(yīng)的移動(dòng)方案的一部分的路線和/或速度。一方面,提供一種操作光刻設(shè)備的方法,所述方法包括相對(duì)于配置成將圖案化輻射束投影通過(guò)由浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)提供到臺(tái)上的物體的目標(biāo)部分上的浸沒(méi)流體的投影系統(tǒng)、根據(jù)上述方法調(diào)整的移動(dòng)方案移動(dòng)臺(tái)。在一個(gè)實(shí)施例中,方法還包括使用傳感器在特定的分立移動(dòng)期間檢測(cè)存在于光刻設(shè)備的圖案化束將通過(guò)的浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的浸沒(méi)流體中的尺寸大于特定尺寸的氣泡或檢測(cè)從浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)泄漏的浸沒(méi)流體,并且將檢測(cè)的結(jié)果與位置和/或風(fēng)險(xiǎn)確定步驟的結(jié)果進(jìn)行對(duì)比。一方面,提供一種浸沒(méi)光刻設(shè)備,包括襯底臺(tái),配置成支撐襯底;投影系統(tǒng),配置成引導(dǎo)圖案化的輻射束至襯底上;浸沒(méi)流體供給系統(tǒng),配置成供給和限制浸沒(méi)流體至限定在投影系統(tǒng)和襯底或襯底臺(tái)或兩者之間的空間;定位系統(tǒng),配置成確定襯底或襯底臺(tái)或兩者相對(duì)于浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)或投影系統(tǒng)或兩者的相對(duì)位置;和控制器,構(gòu)造并布置成根據(jù)移動(dòng)方案來(lái)控制臺(tái),并配置成通過(guò)將移動(dòng)方案分解成多個(gè)分立移動(dòng)、通過(guò)確定浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)是否通過(guò)從浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)泄漏的浸沒(méi)流體所存在的位置上方而對(duì)于多個(gè)分立移動(dòng)的特定分立移動(dòng)確定在所述特定分立移動(dòng)期間尺寸大于特定尺寸的氣泡存在于光刻設(shè)備的圖案化束將通過(guò)的浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的浸沒(méi)流體內(nèi)的風(fēng)險(xiǎn)、以及調(diào)整(i)與比確定氣泡風(fēng)險(xiǎn)所針對(duì)的分立移動(dòng)早的分立移動(dòng)相對(duì)應(yīng)的移動(dòng)方案的一部分的路線和/或速度和/或調(diào)整(ii)與確定氣泡風(fēng)險(xiǎn)所針對(duì)的分立移動(dòng)相對(duì)應(yīng)的移動(dòng)方案的一部分的路線和/ 或速度,而調(diào)整移動(dòng)方案的路線和/或速度。在一個(gè)實(shí)施例中,設(shè)備還包括傳感器,所述傳感器配置成檢測(cè)從浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)泄漏的浸沒(méi)流體或在特定分立移動(dòng)期間檢測(cè)存在于光刻設(shè)備的圖案化束將通過(guò)的浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的浸沒(méi)流體中的尺寸大于特定尺寸的氣泡。在一個(gè)實(shí)施例中,設(shè)備還包括比較器,配置成將檢測(cè)的結(jié)果與確定的結(jié)果對(duì)比。一方面,提供一種調(diào)整臺(tái)在光刻設(shè)備的浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)下面的臺(tái)的移動(dòng)方案的一部分中的路線和/或速度的方法,所述方法包括步驟將臺(tái)的移動(dòng)方案分解為多個(gè)分立移動(dòng);對(duì)于多個(gè)分立移動(dòng)中的特定分立移動(dòng),通過(guò)確定浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)是否通過(guò)從浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)泄漏的浸沒(méi)流體存在的位置而確定在特定分立移動(dòng)期間尺寸大于特定尺寸的氣泡存在于光刻設(shè)備的圖案化束將通過(guò)的浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的浸沒(méi)流體內(nèi)的風(fēng)險(xiǎn);和調(diào)整(i)移動(dòng)方案的、與比風(fēng)險(xiǎn)確定步驟確定氣泡風(fēng)險(xiǎn)所對(duì)應(yīng)的分立移動(dòng)早的至少一個(gè)分立移動(dòng)相對(duì)應(yīng)的一部分移動(dòng)方案中的路線和/或速度,和/或(ii)移動(dòng)方案的、與風(fēng)險(xiǎn)確定步驟確定氣泡風(fēng)險(xiǎn)所對(duì)應(yīng)的分立移動(dòng)相對(duì)應(yīng)的一部分移動(dòng)方案中的路線和/或速度。在一個(gè)實(shí)施例中,方法還包括對(duì)于特定分立移動(dòng),確定從浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)泄漏的浸沒(méi)流體的位置,并且其中位置確定步驟的結(jié)果被用于風(fēng)險(xiǎn)確定。雖然在本文中詳述了光刻設(shè)備用在制造ICs (集成電路),但是應(yīng)該理解到這里所述的光刻設(shè)備可以在制造微觀尺度或甚至納米特征上有其他的應(yīng)用,例如制造集成光學(xué)系統(tǒng)、磁疇存儲(chǔ)器的引導(dǎo)和檢測(cè)圖案、平板顯示器、液晶顯示器(LCDs)、薄膜磁頭等。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該認(rèn)識(shí)到,在這種替代應(yīng)用的情況中,可以將這里使用的任何術(shù)語(yǔ)“晶片”或“管芯”分別認(rèn)為是與更上位的術(shù)語(yǔ)“襯底”或“目標(biāo)部分”同義。這里所指的襯底可以在曝光之前或之后進(jìn)行處理,例如在軌道(一種典型地將抗蝕劑層涂到襯底上,并且對(duì)已曝光的抗蝕劑進(jìn)行顯影的工具)、量測(cè)工具和/或檢驗(yàn)工具中。在可應(yīng)用的情況下,可以將所述公開(kāi)內(nèi)容應(yīng)用于這種和其他襯底處理工具中。另外,所述襯底可以處理一次以上,例如為產(chǎn)生多層IC,使得這里使用的所述術(shù)語(yǔ)“襯底”也可以表示已經(jīng)包含多個(gè)已處理層的襯底。這里使用的術(shù)語(yǔ)“輻射”和“束”包含全部類型的電磁輻射,包括紫外(UV)輻射 (例如具有約365、248、193、157或126nm的波長(zhǎng))。在允許的情況下,術(shù)語(yǔ)“透鏡”可以表示不同類型的光學(xué)構(gòu)件中的任何一種或其組合,包括折射式的、反射式的光學(xué)構(gòu)件。盡管以上已經(jīng)描述了本發(fā)明的具體實(shí)施例,但應(yīng)該認(rèn)識(shí)到,本發(fā)明可以以與上述不同的方式來(lái)實(shí)現(xiàn)。例如,本發(fā)明可以采用包含用于描述一種如上面公開(kāi)的方法的一個(gè)或更多個(gè)機(jī)器可讀指令序列的計(jì)算機(jī)程序的形式,或具有存儲(chǔ)其中的所述計(jì)算機(jī)程序的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)介質(zhì)(例如,半導(dǎo)體存儲(chǔ)器、磁盤或光盤)的形式。此外,機(jī)器可讀指令可以嵌入在兩個(gè)或多個(gè)計(jì)算機(jī)程序中。所述兩個(gè)或多個(gè)計(jì)算機(jī)程序可以存儲(chǔ)在一個(gè)或多個(gè)不同的存儲(chǔ)器和/或數(shù)據(jù)存儲(chǔ)介質(zhì)中。上述的控制器可以具有任何合適的結(jié)構(gòu)用于接收、處理以及發(fā)送信號(hào)。例如,每個(gè)控制器可以包括一個(gè)或更多個(gè)用于執(zhí)行計(jì)算機(jī)程序的處理器,計(jì)算機(jī)程序包括用于上述的方法的機(jī)器可讀指令??刂破鬟€可以包括用于存儲(chǔ)這種計(jì)算機(jī)程序的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)介質(zhì),和/ 或用以接收這種介質(zhì)的硬件。本發(fā)明的一個(gè)或更多個(gè)實(shí)施例可以應(yīng)用于任何浸沒(méi)式光刻設(shè)備,具體地但不排他地,應(yīng)用于上述的那些類型、浸沒(méi)液體是否以浴器的形式提供的類型、僅襯底的局部表面區(qū)域上提供浸沒(méi)液體的類型或浸沒(méi)液體在襯底和/或襯底臺(tái)上是非限制的類型。在非限制布置中,浸沒(méi)液體可以流過(guò)襯底和/或襯底臺(tái)的表面,使得基本上襯底和/或襯底臺(tái)的整個(gè)未覆蓋表面被浸濕。在這種非限制的浸沒(méi)系統(tǒng)中,液體供給系統(tǒng)可以不限制浸沒(méi)流體或其可以提供一定比例的浸沒(méi)液體限制,但是基本上不是完全的浸沒(méi)液體限制。這里所述的液體供給系統(tǒng)應(yīng)該廣義地解釋。在特定的實(shí)施例中,其可以是將液體供給至投影系統(tǒng)和襯底和/或襯底臺(tái)之間的空間的機(jī)構(gòu)或結(jié)構(gòu)的組合。其可以包括將液體供給至空間的一個(gè)或更多個(gè)結(jié)構(gòu)、一個(gè)或多個(gè)液體入口、一個(gè)或多個(gè)氣體出口、一個(gè)或多個(gè)氣體出口、和/或一個(gè)或多個(gè)液體出口的組合。在一個(gè)實(shí)施例中,所述空間的表面是襯底和 /或襯底臺(tái)的一部分,或者所述空間的表面完全覆蓋襯底和/或襯底臺(tái)的表面,或者所述空間可以包圍襯底和/或襯底臺(tái)。液體供給系統(tǒng)可以任意地進(jìn)一步包括一個(gè)或更多個(gè)元件, 用以控制液體的位置、數(shù)量、品質(zhì)、形狀、流量或其他任何特征。上面描述的內(nèi)容是例證性的,而不是限定的。因而,應(yīng)該認(rèn)識(shí)到,本領(lǐng)域的技術(shù)人員在不脫離以下所述權(quán)利要求的范圍的情況下,可以對(duì)上述本發(fā)明進(jìn)行更改。
權(quán)利要求
1.一種調(diào)整在光刻設(shè)備的浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)下面的臺(tái)的移動(dòng)方案的一部分的路線和 /或速度的方法,所述方法包括步驟將臺(tái)的移動(dòng)方案分解成多個(gè)分立移動(dòng);對(duì)于多個(gè)分立移動(dòng)的特定分立移動(dòng),通過(guò)確定從浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)泄漏的浸沒(méi)流體存在的位置是否在浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)下面行進(jìn)而確定在特定分立移動(dòng)期間尺寸大于特定尺寸的氣泡存在于光刻設(shè)備的圖案化束將通過(guò)的浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的浸沒(méi)流體內(nèi)的風(fēng)險(xiǎn);和調(diào)整(i)與比確定氣泡風(fēng)險(xiǎn)所針對(duì)的分立移動(dòng)更早的分立移動(dòng)相對(duì)應(yīng)的移動(dòng)方案的一部分的路線和/或速度,和/或調(diào)整(ii)與確定氣泡風(fēng)險(xiǎn)所針對(duì)的分立移動(dòng)相對(duì)應(yīng)的移動(dòng)方案的一部分的路線和/或速度。
2.如權(quán)利要求1所述的方法,還包括步驟對(duì)于所述特定分立移動(dòng),確定從浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)泄漏的浸沒(méi)流體的位置,并且其中所確定的位置被用于確定所述風(fēng)險(xiǎn)。
3.如權(quán)利要求2所述的方法,其中確定位置的步驟包括對(duì)于所述特定分立移動(dòng),確定在所述特定分立移動(dòng)期間浸沒(méi)流體是否將從浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)泄漏。
4.如權(quán)利要求2或3所述的方法,其中確定位置的步驟包括通過(guò)使用浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的泄漏行為的經(jīng)驗(yàn)?zāi)P痛_定浸沒(méi)流體是否將從浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)泄漏。
5.如權(quán)利要求3或4所述的方法,其中確定位置的步驟包括通過(guò)確定臺(tái)上的彎液面釘扎特征是否在浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的邊緣下面行進(jìn)而確定浸沒(méi)流體是否將從浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)泄漏。
6.如權(quán)利要求5所述的方法,其中確定位置的步驟包括通過(guò)確定在所述特定分立移動(dòng)期間浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的邊緣是否從位于脫離物體的位置的上方轉(zhuǎn)換至位于臺(tái)上的物體上的位置上方,而確定浸沒(méi)流體是否將從浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)泄漏。
7.一種操作光刻設(shè)備的方法,所述方法包括根據(jù)權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的方法調(diào)整的移動(dòng)方案,相對(duì)于配置成將圖案化輻射束穿過(guò)由浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)提供的浸沒(méi)流體投影到臺(tái)上的物體的目標(biāo)部分上的投影系統(tǒng)來(lái)移動(dòng)臺(tái)。
8.一種浸沒(méi)光刻設(shè)備,包括襯底臺(tái),配置成支撐襯底;投影系統(tǒng),配置成引導(dǎo)圖案化的輻射束至襯底上;浸沒(méi)流體供給系統(tǒng),配置成供給和限制浸沒(méi)流體至限定在投影系統(tǒng)與襯底或襯底臺(tái)之間或在投影系統(tǒng)與襯底和襯底臺(tái)兩者之間的空間;定位系統(tǒng),配置成確定襯底或襯底臺(tái)或襯底和襯底臺(tái)兩者相對(duì)于浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)或投影系統(tǒng)或流體供給系統(tǒng)和投影系統(tǒng)兩者的相對(duì)位置;和控制器,構(gòu)造并布置成根據(jù)移動(dòng)方案來(lái)控制臺(tái),并配置成通過(guò)將移動(dòng)方案分解成多個(gè)分立移動(dòng)、通過(guò)確定浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)是否通過(guò)從浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)泄漏的浸沒(méi)流體所存在的位置上方而對(duì)于多個(gè)分立移動(dòng)的特定分立移動(dòng)確定在所述特定分立移動(dòng)期間尺寸大于特定尺寸的氣泡存在于光刻設(shè)備的圖案化束將通過(guò)的浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的浸沒(méi)流體內(nèi)的風(fēng)險(xiǎn)、以及調(diào)整(i)與比確定氣泡風(fēng)險(xiǎn)所針對(duì)的分立移動(dòng)早的分立移動(dòng)相對(duì)應(yīng)的移動(dòng)方案的一部分的路線和/或速度和/或調(diào)整(ii)與確定氣泡風(fēng)險(xiǎn)所針對(duì)的分立移動(dòng)相對(duì)應(yīng)的移動(dòng)方案的一部分的路線和/或速度,而調(diào)整移動(dòng)方案的路線和/或速度。
9.一種調(diào)整在光刻設(shè)備的浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)下面的臺(tái)的移動(dòng)方案的一部分的路線和 /或速度的方法,所述方法包括步驟分解步驟,用于將臺(tái)的移動(dòng)方案分解成多個(gè)分立移動(dòng);風(fēng)險(xiǎn)確定步驟,用于通過(guò)確定浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)是否通過(guò)從浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)泄漏的浸沒(méi)流體存在的位置上方,而對(duì)于所述多個(gè)分立移動(dòng)中的特定分立移動(dòng)確定在特定分立移動(dòng)期間尺寸大于特定尺寸的氣泡存在于光刻設(shè)備的圖案化束將通過(guò)的浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的浸沒(méi)流體中的風(fēng)險(xiǎn);和調(diào)整步驟,用于(i)調(diào)整與比風(fēng)險(xiǎn)確定步驟確定氣泡風(fēng)險(xiǎn)所針對(duì)的分立移動(dòng)早的至少一個(gè)分立移動(dòng)相對(duì)應(yīng)的移動(dòng)方案的一部分的路線和/或速度和/或(ii)調(diào)整與風(fēng)險(xiǎn)確定步驟確定氣泡風(fēng)險(xiǎn)所針對(duì)的分立移動(dòng)相對(duì)應(yīng)的移動(dòng)方案的一部分的路線和/或速度。
10.一種操作光刻設(shè)備的方法,所述方法包括根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法調(diào)整的移動(dòng)方案,相對(duì)于配置成將圖案化輻射束穿過(guò)由浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)提供的浸沒(méi)流體投影到臺(tái)上的物體的目標(biāo)部分上的投影系統(tǒng)來(lái)移動(dòng)臺(tái)。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種調(diào)節(jié)臺(tái)移動(dòng)方案中的速度和/或路線的方法和光刻設(shè)備。還公開(kāi)了一種調(diào)整在光刻設(shè)備的浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)下面的臺(tái)的移動(dòng)方案的一部分的路線和/或速度的方法。所述方法包括步驟將臺(tái)的移動(dòng)方案分解為多個(gè)分立移動(dòng);通過(guò)確定浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)是否通過(guò)從浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)泄漏的浸沒(méi)流體存在的位置而確定在特定分立移動(dòng)期間尺寸大于特定尺寸的氣泡存在于光刻設(shè)備的圖案化束將通過(guò)的浸沒(méi)流體供給系統(tǒng)的浸沒(méi)流體內(nèi)的風(fēng)險(xiǎn);和調(diào)整(i)與比確定氣泡風(fēng)險(xiǎn)所針對(duì)的分立移動(dòng)更早的分立移動(dòng)相對(duì)應(yīng)的移動(dòng)方案的一部分的路線和/或速度,和/或調(diào)整(ii)與確定氣泡風(fēng)險(xiǎn)所針對(duì)的分立移動(dòng)相對(duì)應(yīng)的移動(dòng)方案的一部分的路線和/或速度。
文檔編號(hào)G03F7/20GK102402128SQ20111018672
公開(kāi)日2012年4月4日 申請(qǐng)日期2011年6月28日 優(yōu)先權(quán)日2010年7月2日
發(fā)明者C·D·格烏斯塔, D·德伍利斯, M·喬詹姆森, N·J·M·范登涅烏維拉爾, N·R·肯帕, 李華 申請(qǐng)人:Asml荷蘭有限公司