專(zhuān)利名稱(chēng)：顯示裝置制造方法和顯示裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種顯示裝置制造方法和利用該方法制造的顯示裝置。
背景技術(shù)：
諸如液晶顯示器(IXD)和電泳顯示裝置的顯示裝置被廣泛應(yīng)用。顯示裝置包括兩個(gè)彼此面對(duì)的基板和設(shè)置在這兩個(gè)基板之間的圖像顯示層，例如，液晶層或電泳層。兩個(gè)基板彼此耦接，并且兩個(gè)基板彼此隔開(kāi)一定距離以在其間設(shè)置圖像顯示層。在兩個(gè)基板之一上通常形成有間隔件，以保持兩個(gè)基板之間的距離，并且可以使用粘合劑將間隔件結(jié)合至另一個(gè)基板。顯示裝置的制造過(guò)程可能是復(fù)雜的，從而造成制造成本增加，并造成基于粘合劑的使用的出現(xiàn)缺陷。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明通過(guò)提供一種能夠簡(jiǎn)化制造過(guò)程從而降低制造成本和減少缺陷出現(xiàn)的顯示裝置制造方法而消除上述問(wèn)題。本發(fā)明還提供一種利用該方法制造的顯示裝置。根據(jù)本發(fā)明的一示例性實(shí)施方式，提供一種顯示裝置制造方法。該方法包括制備第一基板和第二基板在具有第一高度的第一基板上形成結(jié)合間隔件；以及在具有小于所述第一高度的第二高度的第二基板上形成支撐間隔件。在第一基板和第二基板之一上形成圖像顯示部，并將第一基板和所述第二基板耦接在一起，直到支撐間隔件的上表面與第一基板接觸并且第二基板結(jié)合至結(jié)合間隔件。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，通過(guò)如下方法形成結(jié)合間隔件在第一基板上涂覆抗蝕劑；在大約80°C至大約100°C的溫度下對(duì)抗蝕劑預(yù)烘培大約50秒至大約70秒的時(shí)間；將抗蝕劑曝光；以及顯影所述抗蝕劑。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，結(jié)合間隔件可以是隔離件(barrier)。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，通過(guò)如下方法形成支撐間隔件在第二基板上涂覆抗蝕劑；在大約80°C至大約100°C的溫度下對(duì)抗蝕劑預(yù)烘培大約50秒至大約70秒的時(shí)間；將抗蝕劑曝光；顯影所述抗蝕劑；以及在大約210°C至大約240°C的溫度下，對(duì)抗蝕劑后烘培 (pre-bake)大約15分鐘大約120分鐘的時(shí)間。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，在按壓第一基板和第二基板之前，可沿著第一基板和第二基板之一的端部形成密封劑。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，在按壓第一基板和第二基板之后，可在大約10(TC至大約 140°C的溫度下，對(duì)結(jié)合間隔件和密封劑后烘培大約15分鐘至大約120分鐘的時(shí)間。CN 102375263 A
說(shuō)明書(shū)
2/13 頁(yè)根據(jù)本發(fā)明的另一示例性實(shí)施方式，提供一種顯示裝置。該顯示裝置包括第一基板、面對(duì)第一基板的第二基板、設(shè)置在第一基板上的結(jié)合間隔件。結(jié)合間隔件將第一基板分成多個(gè)區(qū)域，保持第一基板與第二基板之間的距離，并將第一基板和第二基板結(jié)合，并且圖像顯示部布置在第一基板與第二基板之間的多個(gè)區(qū)域中。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，第一基板包括第一絕緣基板、形成在第一絕緣基板上并沿著第一方向延伸的柵線(xiàn)、在其上形成有柵線(xiàn)的第一絕緣基板上形成的第一絕緣層、形成在第一絕緣層上且與柵線(xiàn)交叉的數(shù)據(jù)線(xiàn)、布置在位于柵線(xiàn)與數(shù)據(jù)線(xiàn)之間的第一絕緣層上以補(bǔ)償數(shù)據(jù)線(xiàn)與第一絕緣層之間的階差的階差補(bǔ)償圖案、以及與柵線(xiàn)和數(shù)據(jù)線(xiàn)連接的開(kāi)關(guān)元件。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，結(jié)合間隔件與數(shù)據(jù)線(xiàn)和階差補(bǔ)償圖案重疊。根據(jù)另一示例性實(shí)施方式，結(jié)合間隔件與柵線(xiàn)和階差補(bǔ)償圖案重疊，或者與數(shù)據(jù)線(xiàn)、階差補(bǔ)償圖案和柵線(xiàn)重疊。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，圖像顯示部包括吸收或反射光以顯示圖像的圖像顯示層。圖像顯示層可以是液晶層、電泳層、電潤(rùn)濕層或電致變色層(electrochromic layer) 中的一種。而且，圖像顯示層可以是膽留相(cholesteric)液晶層。根據(jù)本發(fā)明的一示例性實(shí)施方式，可以不使用粘合劑來(lái)制造顯示裝置，因此可以簡(jiǎn)化制造過(guò)程，從而降低制造成本。而且，第一基板與第二基板之間的距離可通過(guò)結(jié)合間隔件穩(wěn)定地保持，而無(wú)需使用附加的粘合劑。因此，可以防止由于使用粘合劑造成的包括圖像顯示層的圖像顯示部中發(fā)生的缺陷。


通過(guò)參照下面的結(jié)合附圖進(jìn)行考慮的詳細(xì)描述，本發(fā)明的上述和其他優(yōu)點(diǎn)將變得更顯而易見(jiàn)，附圖中圖1是示出根據(jù)本發(fā)明的顯示裝置的一示例性實(shí)施方式的截面圖；圖2是示出根據(jù)本發(fā)明的制造圖1顯示裝置的方法的一示例性實(shí)施方式的流程圖；圖3是示意性示出根據(jù)本發(fā)明的制造圖1顯示裝置的方法的一示例性實(shí)施方式的截面圖；圖4是示意性示出根據(jù)本發(fā)明的制造顯示裝置的方法的另一示例性實(shí)施方式的截面圖；圖5是示意性示出根據(jù)本發(fā)明的制造圖4顯示裝置的方法的另一示例性實(shí)施方式的截面圖；圖6是示意性示出根據(jù)本發(fā)明的制造顯示裝置的方法的另一示例性實(shí)施方式的截面圖；圖7是示出根據(jù)本發(fā)明的顯示裝置的另一示例性實(shí)施方式的截面圖；圖8是示出根據(jù)本發(fā)明的制造顯示裝置的方法的另一示例性實(shí)施方式的流程圖；圖9是示出根據(jù)本發(fā)明的將第一基板與第二基板進(jìn)行耦接操作的一示例性實(shí)施方式的截面圖10是示出根據(jù)本發(fā)明的顯示裝置的另一示例性實(shí)施方式的平面圖；圖11是沿圖10中的線(xiàn)Ι-Γ截取的截面圖；圖12是示出根據(jù)本發(fā)明的圖10中的包括結(jié)合間隔件的像素區(qū)域的一示例性實(shí)施方式的平面圖；圖13是示出根據(jù)本發(fā)明的顯示裝置的另一示例性實(shí)施方式的平面圖；圖14是示出根據(jù)本發(fā)明的圖13中的包括隔離件的像素區(qū)域PA的一示例性實(shí)施方式的平面圖；圖15是示出根據(jù)本發(fā)明的顯示裝置的另一示例性實(shí)施方式的平面圖；圖16是示出根據(jù)本發(fā)明的顯示裝置的另一示例性實(shí)施方式的平面圖；圖17是示出根據(jù)本發(fā)明的顯示裝置的一示例性實(shí)施方式的截面圖，該顯示裝置包括作為圖像顯示層的電泳層；圖18是示出根據(jù)本發(fā)明的顯示裝置的一示例性實(shí)施方式的截面圖，該顯示裝置包括作為圖像顯示層的電致變色層；以及圖19是示出根據(jù)本發(fā)明的顯示裝置的一示例性實(shí)施方式的截面圖，該顯示裝置包括作為圖像顯示層的電潤(rùn)濕層。
具體實(shí)施例方式下面參照附圖更全面地描述本發(fā)明，附圖中示出了本發(fā)明的實(shí)施方式。但是本發(fā)明可以以很多不同的方式實(shí)現(xiàn)，不應(yīng)將本發(fā)明理解為僅限于本文所描述的實(shí)施方式。相反， 提供這些實(shí)施方式的目的在于使本公開(kāi)更充分和完整，并將本發(fā)明的范圍完全傳達(dá)給本領(lǐng)域技術(shù)人員。相同參考標(biāo)號(hào)始終表示相同元件。應(yīng)理解的是，當(dāng)提到一元件位于另一元件“上”時(shí)，該元件可直接位于另一元件上， 也可存在中間的元件。相反，當(dāng)提到一元件“直接位于”另一元件上時(shí)，則不存在中間的元件。如本文所使用的，術(shù)語(yǔ)“和/或”包括所列出的相關(guān)項(xiàng)目中的一個(gè)以及一個(gè)或多個(gè)相關(guān)項(xiàng)目的所有組合。應(yīng)理解的是，雖然本文中可以使用術(shù)語(yǔ)“第一”、“第二”、“第三”等來(lái)描述各種元件、部件、區(qū)域、層和/或部分，但是這些元件、部件、區(qū)域、層和/或部分不應(yīng)該受這些術(shù)語(yǔ)的限制。這些術(shù)語(yǔ)僅用來(lái)將一個(gè)元件、部件、區(qū)域、層或部分與另一區(qū)域、層或部分區(qū)別開(kāi)。 這樣，在不脫離本發(fā)明宗旨的前提下，下面討論的“第一元件”、“部件”、“區(qū)域”、“層”或“部分”也可以稱(chēng)為第二元件、部件、區(qū)域、層或部分。本文所使用的術(shù)語(yǔ)僅是為了描述具體實(shí)施方式
的目的，并不意欲限制本發(fā)明。除了文中另有明確規(guī)定以外，文中使用的單數(shù)形式“一(a)”、“一個(gè)(an)”和“該(the) ”同樣包括復(fù)數(shù)形式。還可進(jìn)一步理解，說(shuō)明書(shū)中所使用的術(shù)語(yǔ)“包括”(“comprises”和/或 "comprising")或“包含” (“includes”和/或“including”)表示存在所述特征、區(qū)域、 整體、步驟、操作、元件和/或部件，但不排除存在或附加有一個(gè)或多個(gè)其他的特征、區(qū)域、 整體、步驟、操作、元件、部件和/或其組合。本文中可用到諸如“上面的”等的空間關(guān)系術(shù)語(yǔ)，以方便描述附圖中示出的一個(gè)元件或特征相對(duì)于另一個(gè)元件或特征的關(guān)系?？梢岳斫?，除了圖中示出的方位以外，空間關(guān)系術(shù)語(yǔ)意欲包含裝置在使用或操作中的不同方位。除非另有規(guī)定，文中使用的所有術(shù)語(yǔ)(包括技術(shù)和科學(xué)術(shù)語(yǔ))的含義與本發(fā)明所屬領(lǐng)域的普通技術(shù)人員的一般理解相同。還可進(jìn)一步理解，術(shù)語(yǔ)(如在普通詞典中定義的那些)應(yīng)該解釋為具有與它們?cè)谙嚓P(guān)技術(shù)環(huán)境和本公開(kāi)中一致的含義，且除了在此明確限定以外，不應(yīng)解釋為具有理想化的或過(guò)于正式的含義。在本文中參照截面圖描述本發(fā)明的實(shí)施方式，這些截面圖是本發(fā)明的理想實(shí)施方式的示意圖。因而，由于例如制造技術(shù)和/或公差所導(dǎo)致的所示形狀的變化是可預(yù)期的。因此，本發(fā)明的實(shí)施方式不應(yīng)被理解成限于本文中所示區(qū)域的特定形狀，而應(yīng)包括由于例如制造所導(dǎo)致的形狀上的偏差。例如，被示出或描述為平坦的區(qū)域可能典型地具有圓形和/ 或非線(xiàn)性特征。而且示出的尖角可以是經(jīng)倒圓的。因此，圖中所示的區(qū)域本質(zhì)上是示意性的，并且，區(qū)域的形狀并非旨在示出區(qū)域的實(shí)際形狀，并且，并非旨在限制本發(fā)明權(quán)利要求的范圍。在下文中，將參照附圖詳細(xì)解釋本發(fā)明。圖1是示出根據(jù)本發(fā)明的顯示裝置的一示例性實(shí)施方式的截面圖。參照?qǐng)D1，根據(jù)一示例性實(shí)施方式的顯示裝置包括第一基板100、第二基板200、結(jié)合間隔件ADS、圖像顯示部300和密封劑SL。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，第一基板100包括多個(gè)像素區(qū)域PA，并且第二基板200布置成面對(duì)第一基板100。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，結(jié)合間隔件ADS保持第一基板100與第二基板200之間的距離并將第一基板100結(jié)合至第二基板200。結(jié)合間隔件ADS可形成為各種形狀。根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施方式，結(jié)合間隔件ADS可以是柱狀間隔件。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，密封劑SL沿第一基板100和第二基板200的端部布置， 以圍繞第一基板100和第二基板200之間的空間。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，圖像顯示部300布置在由第一基板100、第二基板200和密封劑SL圍繞的空間中以顯示圖像。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，圖像顯示部300包括吸收或反射光以顯示圖像的圖像顯示層301以及向圖像顯示層301施加電場(chǎng)的至少一個(gè)電極(未示出)。雖然在圖1中未示出，但電極可形成在第一基板100或第二基板200上。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，圖像顯示層 301是非發(fā)光型顯示裝置，但是不具體限定于此。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，圖像顯示層301 可以是液晶層、電泳層、電潤(rùn)濕層或電致變色層。此外，圖像顯示層301可以是反射型圖像顯示層。當(dāng)圖像顯示層301是反射型圖像顯示層時(shí)，從外部提供的光在被圖像顯示層301 反射之后對(duì)使用者而言是可見(jiàn)的。當(dāng)圖像顯示層301是透射型圖像顯示層時(shí)，從包括在顯示裝置中的背光提供的光在經(jīng)由圖像顯示層301傳輸之后對(duì)使用者而言是可見(jiàn)的。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，現(xiàn)在將描述反射型顯示裝置。圖2是示出制造圖1顯示裝置的方法的示例性實(shí)施方式的流程圖，而圖3是示意性示出制造圖1顯示裝置的方法的示例性實(shí)施方式的截面圖。參照?qǐng)D1至圖3，根據(jù)一示例性實(shí)施方式，該方法包括在操作11和12中分別提供第一基板100和第二基板200。在提供第一基板和第二基板之后，在操作21、31和41中在第一基板100上形成結(jié)合間隔件ADS (下文詳細(xì)描述)；并且在操作51中在第一基板100 上形成圖像顯示層301。接著，在操作60中，將第一基板100與第二基板200耦接在一起，接著，在操作70中，對(duì)第一基板100和第二基板200進(jìn)行后烘焙。如上所述，在操作11和12中分別制備第一基板100和第二基板200。接著，根據(jù)一示例性實(shí)施方式，在第一基板100上形成結(jié)合間隔件ADS。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，結(jié)合間隔件ADS可形成在第一基板100或第二基板200上，或者形成在第一基板100和第二基板200兩者上，使得在將第一基板100和第二基板200耦接在一起時(shí)，形成在第一基板100上的結(jié)合間隔件ADS與形成在第二基板200上的結(jié)合間隔件ADS不重疊。 根據(jù)一示例性實(shí)施方式，現(xiàn)在將參照?qǐng)D2中示出的操作21、31和41描述形成在第一基板 100上的結(jié)合間隔件ADS的形成。但是，操作21、31和41也可以被執(zhí)行為在第二基板200 上形成結(jié)合間隔件ADS。在操作21中，利用抗蝕劑形成結(jié)合間隔件ADS。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，抗蝕劑是光敏有機(jī)聚合物材料，但是材料不應(yīng)限于此。抗蝕劑可以是其中可能發(fā)生光聚合反應(yīng)或光降解反應(yīng)的各種光敏聚合物。進(jìn)而，通過(guò)光刻工藝對(duì)抗蝕劑進(jìn)行圖案化。如圖1至圖3所示，根據(jù)一示例性實(shí)施方式，每個(gè)結(jié)合間隔件ADS具有梯形形狀，但是，結(jié)合間隔件ADS的形狀不應(yīng)限于此。即，根據(jù)光刻工藝的條件，結(jié)合間隔件ADS可以形成為其他形狀(例如，矩形形狀)。下文中，將描述光刻工藝。在操作21中，在第一基板100上涂覆液體形式的抗蝕劑。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，可利用旋轉(zhuǎn)涂覆法涂覆抗蝕劑。抗蝕劑可具有大約2微米至大約4微米的厚度。在操作31中，在大約80°C至大約100°C的溫度下，對(duì)抗蝕劑預(yù)烘焙大約 50秒至大約70秒的時(shí)間。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，在預(yù)烘焙過(guò)程中，抗蝕劑中的溶劑部分地蒸發(fā)，因此，抗蝕劑是較易變形的(flexible)且其粘度較高。但是，在此操作中，抗蝕劑沒(méi)有被完全烘焙。接著，在操作41中，使用掩模對(duì)經(jīng)預(yù)烘焙的抗蝕劑曝光(例如，紫外線(xiàn))， 并且顯影所述抗蝕劑，其中掩模具有與結(jié)合間隔件ADS相對(duì)應(yīng)的圖案。顯影操作的結(jié)果是， 抗蝕劑被圖案化。被圖案化的抗蝕劑可具有大約10微米至大約30微米的寬度。接著，在第一基板100上形成密封劑SL。密封劑SL沿第一基板100的端部形成， 以提供形成圖像顯示層301的空間。接著，在操作51中，在形成有密封劑SL的第一基板100上形成圖像顯示層301。 當(dāng)圖像顯示層301是具有粘度的流體時(shí)，可通過(guò)“一滴填充(ODF) ”工藝或噴墨工藝(其在基板上滴注流體)形成圖像顯示層301。接著，在操作60中，將其上形成有結(jié)合間隔件ADS的第一基板100布置成面對(duì)第二基板200，并且例如通過(guò)按壓將第一基板100和第二基板200耦接在一起。耦接的結(jié)果是將結(jié)合間隔件ADS結(jié)合至第二基板200。接著，在大約100°C至大約140°C的溫度下，對(duì)第一基板100與第二基板200后烘焙大約15分鐘至大約120分鐘的時(shí)間(70)。后烘焙操作被執(zhí)行為同時(shí)烘焙密封劑SL和結(jié)合間隔件ADS。當(dāng)完成后烘焙操作時(shí)，密封劑SL和結(jié)合間隔件ADS被完全烘焙。由于結(jié)合間隔件ADS在結(jié)合至第二基板200的同時(shí)被完全烘焙，所以可穩(wěn)定地保持第一基板100和第二基板200之間的距離。當(dāng)根據(jù)上述方法制造顯示裝置時(shí)，如上所述，可穩(wěn)定地保持第一基板100和第二基板200之間的距離，另外，第一基板100和第二基板200可以在不使用附加粘合劑的情況下彼此結(jié)合。因此，與使用粘合劑有關(guān)的缺陷，例如，當(dāng)粘合劑與圖像顯示層301混合時(shí)的缺陷，可得以減少。圖4是示意性示出根據(jù)本發(fā)明的制造顯示裝置的方法的另一示例性實(shí)施方式的截面圖。相同參考標(biāo)號(hào)表示與圖3所示的示例性實(shí)施方式中相同的元件，因此將省略相同元件的詳細(xì)描述。參照?qǐng)D4，根據(jù)本發(fā)明的顯示裝置的一示例性實(shí)施方式設(shè)置有無(wú)機(jī)層I0L，該無(wú)機(jī)層布置在結(jié)合間隔件ADS與第二基板200之間。由于第二基板200包含諸如玻璃、石英或硅的材料，所以無(wú)機(jī)層IOL布置在第二基板200與包含有機(jī)聚合物的結(jié)合間隔件ADS之間， 以改進(jìn)第二基板200與結(jié)合間隔件ADS之間的粘合特性。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，無(wú)機(jī)層 IOL可包含氮化硅(SiNx)。根據(jù)本發(fā)明該示例性實(shí)施方式的顯示裝置按如下制造。當(dāng)在圖2所示的操作11 和12中分別制備第一基板100和第二基板200時(shí)，在操作21、31和41中在第一基板100 上形成結(jié)合間隔件ADS和密封劑SL。接著，在操作51中，在第一基板100上形成圖像顯示層301，并將第一基板100和第二基板200耦接在一起。此后，在操作70中對(duì)第一基板100 和第二基板200進(jìn)行烘焙。但是，在此示例性實(shí)施方式中，在將第一基板100和第二基板200耦接在一起之前，在第二基板200上形成無(wú)機(jī)層I0L，如圖4所示。無(wú)機(jī)層IOL形成為與結(jié)合間隔件ADS對(duì)應(yīng)，使得在將第一基板100和第二基板200耦接在一起時(shí)，無(wú)機(jī)層IOL可與結(jié)合間隔件ADS 的上表面接觸。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，可通過(guò)在絕緣基板上沉積諸如氮化硅的無(wú)機(jī)材料并通過(guò)光刻工藝對(duì)所述無(wú)機(jī)材料進(jìn)行圖案化來(lái)形成無(wú)機(jī)層I0L。根據(jù)示例性實(shí)施方式，也可使用其他方法制造顯示裝置。圖5是示意性示出根據(jù)本發(fā)明的制造圖4顯示裝置的方法的另一示例性實(shí)施方式的截面圖。如圖5所示，分別制備第一基板100和第二基板200，并在第一基板100上形成結(jié)合間隔件ADS。進(jìn)而，根據(jù)一示例性實(shí)施方式，在第二基板200上形成無(wú)機(jī)層I0L。在將第一基板 100和第二基板200耦接在一起時(shí)，無(wú)機(jī)層IOL形成為與結(jié)合間隔件ADS對(duì)應(yīng)。可在第二基板200上形成無(wú)機(jī)配向?qū)应?ΑΝ，以覆蓋無(wú)機(jī)層I0L。無(wú)機(jī)配向?qū)覫OAN可包含諸如氮化硅 (SiNx)或氧化硅(SiOx)的無(wú)機(jī)材料。沿第二基板200的端部形成密封劑SL。接著，在其上形成有無(wú)機(jī)層I0L、無(wú)機(jī)配向?qū)覫OAN和密封劑SL的第二基板200上形成圖像顯示層301。 將第一基板100和第二基板200耦接在一起，然后如上所述對(duì)第一基板100和第二基板200 進(jìn)行后烘焙，以制造顯示裝置。由于圖像顯示層301包括液晶層，所以無(wú)機(jī)配向?qū)覫OAN可對(duì)液晶層的液晶分子進(jìn)行配向并保持液晶分子，而不會(huì)分散液晶分子。即，無(wú)機(jī)配向?qū)覫OAN形成為改變第二基板 200的表面能量，因此，無(wú)機(jī)配向?qū)覫OAN與液晶層之間的表面張力增加，以減弱圖像顯示層 301的分散性。因此，根據(jù)一示例性實(shí)施方式，圖像顯示層301可根據(jù)無(wú)機(jī)層IOL的圖案而布置。當(dāng)不形成無(wú)機(jī)配向?qū)覫OAN時(shí)，液晶層可形成為與第一電極或第二電極直接接觸，這將在后文描述。當(dāng)液晶層與第一電極或第二電極直接接觸時(shí)，液晶層的分散性變得高于存在有無(wú)機(jī)配向?qū)覫OAN時(shí)的分散性。因此，可使用噴墨方法形成液晶層，從而可在預(yù)定區(qū)域中形成液晶層。圖6是示意性示出根據(jù)本發(fā)明的制造顯示裝置的方法的另一示例性實(shí)施方式的截面圖。參照?qǐng)D6，根據(jù)一示例性實(shí)施方式的顯示裝置包括第二基板200，該第二基板上形成有結(jié)合間隔件ADS、密封劑SL和圖像顯示層301。如上所述，分別制備第一基板100和第二基板200。接著，在第二基板200上形成結(jié)合間隔件ADS和密封劑SL，然后在第二基板200 上形成圖像顯示層301。將第一基板100和第二基板200耦接在一起，并對(duì)第一基板100和第二基板200進(jìn)行后烘焙。圖7是示出根據(jù)本發(fā)明的顯示裝置的另一示例性實(shí)施方式的截面圖。參照?qǐng)D7，根據(jù)一示例性實(shí)施方式的顯示裝置包括第一基板100、第二基板200、結(jié)合間隔件ADS、支撐間隔件SS、圖像顯示部300和密封劑SL。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，支撐間隔件SS保持第一基板100與第二基板200之間的距離。雖然第一基板100和第二基板200是在結(jié)合間隔件ADS沒(méi)有被完全烘焙之前耦接在一起的，但是由于使用了支撐間隔件SS，所以可在第一基板100和第二基板200的整個(gè)區(qū)域上均勻地保持第一基板100與第二基板200之間的距離。支撐間隔件SS具有統(tǒng)一的高度， 而與完全烘焙支撐間隔件SS時(shí)施加的壓力無(wú)關(guān)。圖8是示出根據(jù)本發(fā)明的制造顯示裝置的方法的一示例性實(shí)施方式的流程圖。圖 9是示出根據(jù)本發(fā)明的將圖7所示的第一基板與第二基板進(jìn)行耦接操作的示例性實(shí)施方式的截面圖。參照?qǐng)D8，該方法包括在操作11和12中分別制備第一基板100和第二基板200， 并(在操作21、31和41中)在第一基板100或第二基板200上形成結(jié)合間隔件ADS。在其上沒(méi)有形成結(jié)合間隔件ADS的第一基板100或第二基板200上形成支撐間隔件SS。根據(jù)該示例性實(shí)施方式，在操作22、32、42和52中，在第二基板200上形成支撐間隔件SS，這些操作與操作21、31、41類(lèi)似，不同之處在于，在操作52中進(jìn)行后烘焙操作(后面將描述)，并且在操作51中，在第一基板100上形成圖像顯示層301。將第一基板100和第二基板200耦接在一起，并在操作70中，對(duì)第一基板100和第二基板200進(jìn)行后烘焙。因此，如上所述，在操作11和操作12中分別制備第一基板100和第二基板200。 然后，在操作21、31和41中，在第一基板100或第二基板200上形成結(jié)合間隔件ADS，并且在其上沒(méi)有形成結(jié)合間隔件ADS的第一基板100或第二基板200上形成支撐間隔件SS。在該示例性實(shí)施方式中，在操作22、32、42和52中，在第二基板200上形成支撐間隔件SS。為了說(shuō)明目的，在該示例性實(shí)施方式中，將描述結(jié)合間隔件ADS形成在第一基板100上且支撐間隔件SS形成在第二基板200上的結(jié)構(gòu)，然而，示例性實(shí)施方式不限于此。類(lèi)似于圖2中描述的方法來(lái)形成結(jié)合間隔件ADS。此外，可使用類(lèi)似于結(jié)合間隔件ADS的抗蝕劑形成支撐間隔件SS。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，支撐間隔件SS形成為具有比結(jié)合間隔件ADS小的高度。即，結(jié)合間隔件ADS具有第一高度Hl且支撐間隔件SS具有第二高度H2，使得第一高度Hl大于第二高度H2。抗蝕劑可以是光敏有機(jī)材料并且可通過(guò)光刻工藝進(jìn)行圖案化?，F(xiàn)在將描述有關(guān)光刻工藝的細(xì)節(jié)。在操作22中，將液體形式的抗蝕劑涂覆在第一基板100上。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，可利用旋轉(zhuǎn)涂覆法涂覆抗蝕劑。在操作32中，在大約80°C至大約100°C的溫度下，對(duì)抗蝕劑預(yù)烘培大約50秒至大約70秒的時(shí)間。在預(yù)烘焙操作中，抗蝕劑中的溶劑可部分地蒸發(fā)，因此，抗蝕劑是較易變形的且其粘度很高。然而，在預(yù)烘焙操作中，抗蝕劑沒(méi)有被完全烘焙。然后，在操作42中，使用掩模對(duì)烘焙的抗蝕劑曝光于紫外線(xiàn)，該掩模具有與支撐間隔件SS相對(duì)應(yīng)的圖案并且所述掩模形成在沒(méi)有形成結(jié)合間隔件ADS的區(qū)域中，使得當(dāng)將第一基板100和第二基板200耦接在一起時(shí)掩模與結(jié)合間隔件ADS不重疊。當(dāng)對(duì)曝光的抗蝕劑進(jìn)行顯影時(shí)，抗蝕劑被圖案化。在操作52中，在大約210°C至大約240°C的溫度下，對(duì)圖案化的抗蝕劑后烘焙大約 15分鐘至大約120分鐘的時(shí)間。在后烘焙過(guò)程之后，抗蝕劑成為被完全烘焙的支撐間隔件 SS。由于支撐間隔件SS通過(guò)后烘焙操作被完全烘焙，因此支撐間隔件SS具有比結(jié)合間隔件ADS相對(duì)更低的粘度和彈性。雖然在圖8中未示出，但根據(jù)一示例性實(shí)施方式，可在第一基板100或第二基板 200上形成密封劑SL。密封劑SL沿著第一基板100或第二基板200的端部形成，從而提供其中形成圖像顯示層301的空間。在該示例性實(shí)施方式中，可在第一基板100上形成密封劑SL，然而，示例性實(shí)施方式不限于此。接著，在操作51中，在形成有密封劑SL的第一基板100上形成圖像顯示層301。 當(dāng)圖像顯示層301是具有粘度的流體時(shí)，可通過(guò)一滴填充(“0DF”)工藝或噴墨工藝(其在基板上滴注流體)形成圖像顯示層301。將第一基板100布置成面對(duì)第二基板200，并對(duì)第一基板100或第二基板200中的至少一個(gè)施加壓力P，以將第一基板100耦接至第二基板200。將第一基板100和第二基板 200按壓在一起，直到第一基板100與第二基板200之間的距離等于第二高度H2。由于結(jié)合間隔件ADS是較易變形的，所以可按壓結(jié)合間隔件ADS，直到結(jié)合間隔件 ADS的第一高度Hl變得等于第二高度H2。當(dāng)按壓結(jié)合間隔件ADS時(shí)，結(jié)合間隔件ADS與第二基板200之間的接觸面積增加，并且結(jié)合間隔件ADS的粘合性能可通過(guò)壓力P改善。因此，結(jié)合間隔件ADS可穩(wěn)定地結(jié)合至第二基板200。支撐間隔件SS在進(jìn)行后烘焙過(guò)程之后不具有變形能力，從而不管壓力P如何都可保持第二高度H2。結(jié)果，可通過(guò)支撐間隔件SS 在整個(gè)面積上均勻地保持第一基板100與第二基板200之間的距離。在操作70中，在大約100°C至大約140°C的溫度下，對(duì)第一基板100和第二基板 200后烘焙大約15分鐘至大約120分鐘的時(shí)間。后烘焙操作被執(zhí)行為完全烘焙密封劑SL 和結(jié)合間隔件ADS。根據(jù)上述方法，可穩(wěn)定地保持第一基板100與第二基板200之間的距離，并且第一基板100和第二基板200可在不使用附加粘合劑的情況下彼此結(jié)合。進(jìn)而，根據(jù)一示例性實(shí)施方式，結(jié)合間隔件ADS可用作將圖像顯示層301分成多個(gè)區(qū)域的隔離件。因此，不需要附加的隔離件來(lái)分開(kāi)圖像顯示層301，從而簡(jiǎn)化了制造方法。圖10是示出根據(jù)本發(fā)明的顯示裝置的另一示例性實(shí)施方式的平面圖，而圖11是沿圖10中的線(xiàn)I-I'截取的截面圖。利用與圖2所示相同的方法制造根據(jù)該示例性實(shí)施方式的顯示裝置，并且結(jié)合間隔件ADS而不是柱狀間隔件被用作隔離件。此外，根據(jù)該示例性實(shí)施方式的顯示裝置包括作為圖像顯示層301的液晶層。在該示例性實(shí)施方式中省去支撐間隔件SS，然而，不應(yīng)限于此。因此，如果包括支撐間隔件SS，則可利用與圖8所示相同的方法形成支撐間隔件。參照?qǐng)D10和圖11，根據(jù)一示例性實(shí)施方式，顯示裝置包括第一基板100、第二基板 200、結(jié)合間隔件ADS、圖像顯示部300和密封劑(未示出)。顯示裝置包括顯示圖像的多個(gè)像素區(qū)域PA和沿著顯示裝置的端部形成為圍繞像素區(qū)域的非像素區(qū)域。如圖1至圖9所示，密封劑沿著第一基板100或第二基板200的端部布置在非像素區(qū)域中。在圖10和圖11中，為了說(shuō)明目的，描述了像素區(qū)域PA的一示例性實(shí)施方式，然而，像素區(qū)域PA也可布置在具有多個(gè)行和列的矩陣構(gòu)造中。每個(gè)像素區(qū)域PA具有相同的結(jié)構(gòu)和功能，因此將詳細(xì)地描述一個(gè)像素區(qū)域PA。此外，根據(jù)一示例性實(shí)施方式，每個(gè)像素區(qū)域PA具有如圖10所示的矩形形狀，但像素區(qū)域PA的形狀不應(yīng)限于矩形形狀。S卩，像素區(qū)域PA可以具有各種形狀，如V形或Z形。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，第一基板100包括第一絕緣基板110、第一絕緣層113、柵線(xiàn)GL、數(shù)據(jù)線(xiàn)DL、階差補(bǔ)償圖案SCP、開(kāi)關(guān)元件(例如薄膜晶體管(“TFT”))和第二絕緣層 115。柵線(xiàn)GL布置在第一絕緣基板110上并在第一方向Dl延伸。第一絕緣層113形成在其上形成有柵線(xiàn)GL的第一絕緣基板110上。數(shù)據(jù)線(xiàn)DL布置在第一絕緣層113上并且與柵線(xiàn)GL交叉。數(shù)據(jù)線(xiàn)DL包括第一數(shù)據(jù)線(xiàn)部分DLl和第二數(shù)據(jù)線(xiàn)部分DL2，其中第一數(shù)據(jù)線(xiàn)部分DLl在基本上垂直于第一方向 Dl的第二方向D2上延伸，第二數(shù)據(jù)線(xiàn)部分DL2連接至第一數(shù)據(jù)線(xiàn)部分DLl并且在第一方向 Dl上突出。第二數(shù)據(jù)線(xiàn)部分DL2鄰近柵線(xiàn)GL布置。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，階差補(bǔ)償圖案SCP布置在位于柵線(xiàn)GL和數(shù)據(jù)線(xiàn)DL之間的第一絕緣層113上。階差補(bǔ)償圖案SCP用于補(bǔ)償數(shù)據(jù)線(xiàn)DL與第一絕緣層113之間的階差，并且階差補(bǔ)償圖案SCP的上表面布置在與數(shù)據(jù)線(xiàn)DL的上表面相同的平面上。如平面圖所示，階差補(bǔ)償圖案SCP布置在第一數(shù)據(jù)線(xiàn)部分DLl延伸的第二方向D2上。因此，階差補(bǔ)償圖案SCP在其中數(shù)據(jù)線(xiàn)DL與柵線(xiàn)GL交叉的區(qū)域附近位于柵線(xiàn)GL的兩側(cè)處。階差補(bǔ)償圖案SCP可包含無(wú)機(jī)材料。所述無(wú)機(jī)材料可包括氮化硅(SiNx)、非晶硅(a-Si)或摻雜雜質(zhì)的非晶硅(n+a-Si)。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，薄膜晶體管TFT鄰近其中數(shù)據(jù)線(xiàn)DL與柵線(xiàn)GL交叉的區(qū)域布置，并且包括柵電極GE、半導(dǎo)體層SM、源電極SE和漏電極DE。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，柵電極GE從柵線(xiàn)GL分支出來(lái)。半導(dǎo)體層SM形成在第一絕緣層113上以與柵電極GE重疊。源電極SE從數(shù)據(jù)線(xiàn)DL分支出來(lái)并與半導(dǎo)體層SM的一部分重疊。漏電極DE與源電極SE隔開(kāi)并與半導(dǎo)體層SM的一部分重疊。半導(dǎo)體層SM形成源電極SE與漏電極DE之間的導(dǎo)電通道。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，第二絕緣層115布置在其上形成有源電極SE和漏電極DE 的第一絕緣層113上。第二絕緣層115設(shè)置有穿過(guò)其中而形成的接觸孔CH，以部分露出漏電極DE，并且第一電極ELl (將在后面描述)通過(guò)接觸孔CH連接至漏電極DE。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，階差補(bǔ)償圖案SCP可通過(guò)單獨(dú)的圖案化過(guò)程形成，或者根據(jù)另一示例性實(shí)施方式，階差補(bǔ)償圖案SCP可由與半導(dǎo)體層SM相同的層形成。因此，半導(dǎo)體層SM和階差補(bǔ)償圖案SCP可基本上被同時(shí)圖案化，從而不需要另外的過(guò)程來(lái)形成階差補(bǔ)償圖案SCP。如圖11進(jìn)一步示出的，第二基板200布置成面對(duì)第一基板100。第二基板200包括第二絕緣基板210。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，結(jié)合間隔件ADS布置在第一基板100上。結(jié)合間隔件ADS 保持第一基板100和第二基板200之間的距離并將第一基板100結(jié)合至第二基板200。在該示例性實(shí)施方式中，結(jié)合間隔件ADS可用作將第一基板100分成多個(gè)區(qū)域的隔離件。由于隔離件形成在第一基板100和第二基板200之間，因此隔離件可將第一基板100和第二基板200之間的空間分成多個(gè)區(qū)域。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，由結(jié)合間隔件ADS分成的多個(gè)區(qū)域可以具有各種形狀。 而且，結(jié)合間隔件ADS可沿著像素區(qū)域PA的端部形成。結(jié)合間隔件ADS沿著第一數(shù)據(jù)線(xiàn)部分DLl延伸的第二方向D2以直線(xiàn)形狀形成，并且結(jié)合間隔件ADS與第一數(shù)據(jù)線(xiàn)部分DLl和階差補(bǔ)償圖案SCP重疊。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，結(jié)合間隔件ADS具有的寬度大于第一數(shù)據(jù)線(xiàn)部分DLl的寬度。結(jié)合間隔件ADS與其他元件接觸，并且結(jié)合間隔件ADS與這些元件之間的接觸尺寸可基于像素設(shè)計(jì)和工藝裕度而改變。而且，結(jié)合間隔件ADS可與第二數(shù)據(jù)線(xiàn)部分DL2的一部分重疊。圖像顯示部300介于第一基板100與第二基板200之間，且位于由第一基板100、 第二基板200和結(jié)合間隔件ADS限定的空間內(nèi)。圖像顯示部300包括第一電極ELl、第二電極EL2和圖像顯示層301，以吸收或反射外部光，從而顯示圖像。參照?qǐng)D10和圖11，第一電極ELl以與像素區(qū)域PA—一對(duì)應(yīng)的關(guān)系布置在第一基板100上。第一電極ELl布置在第二絕緣層115上。第一電極ELl包含反射光的金屬反射材料。第一電極ELl通過(guò)穿過(guò)第二絕緣層115而形成的接觸孔CH電連接至漏電極DE。第二電極EL2形成在第二絕緣基板210上。第二電極EL2接收公共電壓，并且在第二電極EL2和第一電極ELl之間產(chǎn)生電場(chǎng)。第二電極EL2利用透明材料形成在第二絕緣基板210上。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，圖像顯示層301是液晶層310。液晶層310由電場(chǎng)控制以顯示圖像。液晶層310可以是膽留相液晶層，因此顯示裝置可以是反射型顯示裝置。膽甾相液晶層包括具有恒定節(jié)距的周期性螺旋結(jié)構(gòu)并根據(jù)恒定節(jié)距選擇性地反射光。因此，膽甾相液晶層可根據(jù)其節(jié)距反射紅光、綠光和藍(lán)光。因此，每個(gè)反射紅光、綠光和藍(lán)光的液晶層分別設(shè)置在圖像顯示層301的由結(jié)合間隔件ADS分開(kāi)的各區(qū)域中。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，當(dāng)顯示裝置是反射型顯示裝置時(shí)，結(jié)合間隔件ADS可形成為具有相對(duì)于外部光具有高反射率的白色。在反射型顯示裝置中，結(jié)合間隔件ADS可覆蓋數(shù)據(jù)線(xiàn)，而無(wú)需形成附加的黑矩陣。此外，由于結(jié)合間隔件ADS具有白色，因此反射型顯示裝置的亮度可增加。圖12是示出圖10中的包括結(jié)合間隔件的像素區(qū)域的一示例性實(shí)施方式的平面圖。參照?qǐng)D12，第一基板100包括像素區(qū)域PA。結(jié)合間隔件ADS位于每個(gè)像素區(qū)域PA 的端部。結(jié)合間隔件ADS在第二方向D2上延伸并且沿第一方向Dl排列。由結(jié)合間隔件ADS分開(kāi)的各區(qū)域被填充以紅色反射型膽留相液晶層、綠色反射型膽留相液晶層和藍(lán)色反射型膽甾相液晶層。如圖12所示，結(jié)合間隔件ADS設(shè)置在表示不同顏色的像素區(qū)域PA之間，而不設(shè)置在表示相同顏色的像素區(qū)域PA之間。因此，表示相同顏色的像素區(qū)域PA可同時(shí)被填充以具有與表示相同顏色的像素區(qū)域PA對(duì)應(yīng)的顏色的膽留相液晶層。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，在顯示裝置中，當(dāng)液晶分子的配向方向由于電場(chǎng)而改變時(shí)，通過(guò)液晶層透射的光的量被控制，從而顯示圖像。由于膽留相液晶層顯示顏色，因此即使顯示彩色圖像也不需要單獨(dú)的濾色片。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，第二數(shù)據(jù)線(xiàn)部分DL2在第一方向Dl上突出，以便最小化第一基板100的與形成有結(jié)合間隔件ADS的區(qū)域?qū)?yīng)的表面上的階差。因此，結(jié)合間隔件 ADS與其中數(shù)據(jù)線(xiàn)DL與柵線(xiàn)GL交叉的區(qū)域不重疊。并且，由于第二數(shù)據(jù)線(xiàn)部分DL2在第一方向Dl上突出，因此在第一絕緣層113與第一和第二數(shù)據(jù)線(xiàn)部分DLl和DL2之間產(chǎn)生的階差可通過(guò)階差補(bǔ)償圖案SCP補(bǔ)償。因此，第一基板100在形成有結(jié)合間隔件ADS的區(qū)域中包括平坦表面，從而可防止液晶向相鄰像素區(qū)域PA的泄漏。圖13是示出根據(jù)本發(fā)明的顯示裝置的一示例性實(shí)施方式的平面圖，而圖14是示出圖13中所示的包括隔離件的像素區(qū)域PA的平面圖。在圖13和圖14中，相同的參考標(biāo)號(hào)表示與圖10和圖11中相同的元件，因此將省略相同元件的詳細(xì)描述。參照?qǐng)D13和圖14，與圖12中所示的結(jié)合間隔件ADS不同，結(jié)合間隔件ADS形成為圍繞每個(gè)像素區(qū)域PA。即，結(jié)合間隔件ADS在第二方向D2上與數(shù)據(jù)線(xiàn)DL和階差補(bǔ)償圖案 SCP重疊并且在第一方向Dl上與柵線(xiàn)GL重疊。因此，由第一基板100、第二基板200和結(jié)合間隔件ADS限定的空間形成為與每個(gè)像素區(qū)域PA對(duì)應(yīng)。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，結(jié)合間隔件ADS可形成為具有相對(duì)于外部光具有高反射率的白色。雖然沒(méi)有形成附加的黑矩陣，但是顯示裝置可利用結(jié)合間隔件ADS覆蓋柵線(xiàn)GL 和數(shù)據(jù)線(xiàn)DL。并且，當(dāng)結(jié)合間隔件ADS具有白色時(shí)，由結(jié)合間隔件ADS反射的光的量增加， 從而改善顯示裝置的亮度。根據(jù)該示例性實(shí)施方式，膽留相液晶層可布置在與相鄰像素區(qū)域PA顯示不同顏色的每個(gè)像素區(qū)域PA中。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，當(dāng)紅色反射型膽留相液晶層布置在一像素區(qū)域PA中時(shí)，綠色反射型膽留相液晶層或藍(lán)色反射型膽留相液晶層布置在與布置有紅色反射型膽留相液晶層的一個(gè)像素區(qū)域PA相鄰的像素區(qū)域PA中。圖15是示出根據(jù)本發(fā)明的顯示裝置的另一示例性實(shí)施方式的平面圖。在圖15中， 相同的參考標(biāo)號(hào)表示與圖10和圖11中相同的元件，因此將省略相同元件的詳細(xì)描述。參照?qǐng)D15，結(jié)合間隔件ADS可具有與圖12中所示的結(jié)合間隔件ADS類(lèi)似的結(jié)構(gòu)， 然而，根據(jù)該示例性實(shí)施方式的結(jié)合間隔件ADS具有比第一數(shù)據(jù)線(xiàn)部分DLl的寬度小的寬度。此外，結(jié)合間隔件ADS具有比結(jié)合間隔件ADS與第一數(shù)據(jù)線(xiàn)部分DLl重疊的區(qū)域大的寬度，以完全覆蓋階差補(bǔ)償圖案SCP。因此，根據(jù)一示例性實(shí)施方式，結(jié)合間隔件ADS覆蓋可能在階差補(bǔ)償圖案SCP與數(shù)據(jù)線(xiàn)DL之間產(chǎn)生的裂隙(crevice)。結(jié)果，第一基板100可形成為具有與形成有結(jié)合間隔件ADS的區(qū)域?qū)?yīng)的平坦表面，從而減少液晶分子向相鄰像素區(qū)域PA的泄漏。圖16是示出根據(jù)本發(fā)明的顯示裝置的另一示例性實(shí)施方式的平面圖。在圖16中， 相同的參考標(biāo)號(hào)表示與圖10和圖11中相同的元件，因此將省略相同元件的詳細(xì)描述。
參照?qǐng)D16，根據(jù)一示例性實(shí)施方式，示出的結(jié)合間隔件ADS可具有與圖12中所示的結(jié)合間隔件ADS類(lèi)似的結(jié)構(gòu)，然而，該結(jié)合間隔件ADS包括雙壁形狀。即，結(jié)合間隔件ADS 包括通過(guò)第一數(shù)據(jù)線(xiàn)部分DLl彼此隔開(kāi)同時(shí)彼此相鄰的第一結(jié)合間隔件ADSl和第二結(jié)合間隔件ADS2。第一結(jié)合間隔件ADSl和第二結(jié)合間隔件ADS2在第二方向D2上延伸。第一結(jié)合間隔件ADSl和第二結(jié)合間隔件ADS2可以與第一數(shù)據(jù)線(xiàn)部分DLl部分地重疊。在圖16 中，根據(jù)一示例性實(shí)施方式，第一結(jié)合間隔件ADSl和第二結(jié)合間隔件ADS2與第一數(shù)據(jù)線(xiàn)部分DLl不重疊。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，第一結(jié)合間隔件ADSl和第二結(jié)合間隔件ADS2中的一個(gè)防止液晶分子向相鄰像素區(qū)域PA的泄漏，另一結(jié)合間隔件ADSl或ADS2防止液晶分子的泄漏。因此，可防止液晶分子的泄漏。如上所述，根據(jù)一示例性實(shí)施方式，圖像顯示層301是液晶層310，然而，其不限于此。根據(jù)另一示例性實(shí)施方式，圖像顯示層301可以是如下所述的電泳層320。圖17是示出根據(jù)本發(fā)明的顯示裝置的示例性實(shí)施方式的截面圖，該顯示裝置包括作為圖像顯示層的電泳層。圖17是對(duì)應(yīng)于圖13中的線(xiàn)II-II'的截面圖。在圖17中， 相同的參考標(biāo)號(hào)表示圖11中相同的元件，因此將省略相同元件的詳細(xì)描述。參照?qǐng)D13至圖17，在該示例性實(shí)施方式中，圖像顯示層301是電泳層320。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，電泳層320包括絕緣介質(zhì)323以及帶電顆粒325和327。 絕緣介質(zhì)323對(duì)應(yīng)于其中分散有帶電顆粒325和327的分散系統(tǒng)中的分散介質(zhì)。帶電顆粒 325和327包括白色帶電顆粒325和非白色帶電顆粒327。非白色帶電顆粒327可具有黑色。白色帶電顆粒325和非白色帶電顆粒327被充電成具有互相相反的極性。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，第二基板200包括顯示顏色的濾色片層CF。濾色片層CF 設(shè)置在第二絕緣基板210與第二電極EL2之間。濾色片層CF顯示與每個(gè)像素區(qū)域PA對(duì)應(yīng)的紅色R、綠色G和藍(lán)色B。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，當(dāng)薄膜晶體管TFT響應(yīng)于通過(guò)柵線(xiàn)GL施加的驅(qū)動(dòng)信號(hào)而接通時(shí)，通過(guò)數(shù)據(jù)線(xiàn)DL提供的圖像信號(hào)通過(guò)接通的薄膜晶體管TFT傳輸至第一電極ELl。 因此，在第一電極ELl與施加有公共電壓的第二電極EL2之間產(chǎn)生電場(chǎng)。帶電顆粒325和 327根據(jù)電場(chǎng)移動(dòng)，因此入射到電泳層230的外部光被帶電顆粒325和327吸收或反射，以顯示圖像。雖然在圖中沒(méi)有示出，但根據(jù)另一示例性實(shí)施方式，電泳層320可以包括多個(gè)囊 (capsule)。當(dāng)電泳層320包括囊時(shí)，帶電顆粒325和327以及絕緣介質(zhì)323設(shè)置在所述囊中。根據(jù)另一示例性實(shí)施方式，當(dāng)帶電顆粒具有顏色時(shí)，可以省略濾色片層CF。并且，根據(jù)另一示例性實(shí)施方式，電泳層320可包含電泳乳劑。電泳乳劑包括形成連續(xù)相的非極性溶劑和被非極性溶劑分散并形成由第一電極ELl和第二電極EL2所產(chǎn)生的電場(chǎng)控制的液滴的極性溶劑。極性溶劑包括不溶于非極性溶劑且可溶于極性溶劑的染料，使得極性溶劑通過(guò)所述染料可顯示黑色或白色。因此，由于電場(chǎng)，極性溶劑可具有比非極性溶劑更好的移動(dòng)性或粘合力。根據(jù)另一示例性實(shí)施方式，圖像顯示層301可以是電致變色層330。圖18是示出根據(jù)本發(fā)明的顯示裝置的一示例性實(shí)施方式的截面圖，該顯示裝置包括作為圖像顯示層的電致變色層330。在圖18中，相同的參考標(biāo)號(hào)表示與圖17中相同的元件，因此將省略相同元件的詳細(xì)描述。電致變色層330顯示出不同程度的氧化反應(yīng)和還原反應(yīng)，并且電致變色層330的透明度由氧化和還原差異來(lái)控制。電致變色層330通過(guò)施加至第一電極ELl和第二電極 EL2的電壓來(lái)顯示圖像。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，電致變色層330由選自由氧化鎢(WO3)、氧化鉬(MoO3)和銥氧化物(IrOx)組成的組中的至少一種無(wú)機(jī)化合物或選自由紫羅堿、稀土酞菁染料和苯乙烯組成的組中的至少一種有機(jī)化合物形成。并且，電致變色層330可以由選自包括聚吡咯、聚噻吩和聚苯胺的組中的至少一種導(dǎo)電聚合物形成。根據(jù)另一示例性實(shí)施方式，圖像顯示層301可以是電潤(rùn)濕層340。圖19是示出根據(jù)本發(fā)明的顯示裝置的一示例性實(shí)施方式的截面圖，該顯示裝置包括作為圖像顯示層301的電潤(rùn)濕層340。在圖19中，相同的參考標(biāo)號(hào)表示與圖18中相同的元件，因此將省略相同元件的詳細(xì)描述。參照?qǐng)D19，圖像顯示部300包括第一電極ELl 和電潤(rùn)濕層340，而省去了第二電極EL2。在電潤(rùn)濕層340中，發(fā)生電毛細(xì)現(xiàn)象，其中界面的表面張力由于存在于導(dǎo)電流體的界面上的電荷而變化，以改變接觸角。電潤(rùn)濕是這樣的一種技術(shù)，通過(guò)當(dāng)導(dǎo)電流體接觸第一電極上的非導(dǎo)電流體時(shí)對(duì)導(dǎo)電流體施加電壓，并且控制導(dǎo)電流體的表面張力，利用電毛細(xì)現(xiàn)象來(lái)改變導(dǎo)電流體的接觸角和兩種流體的界面。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，電潤(rùn)濕層340包括彼此不混合的第一流體345和第二流體343。第一流體345可以是黑色流體。電潤(rùn)濕層340根據(jù)電場(chǎng)改變第一流體345和第二流體343的分布，從而阻擋或傳輸外部光。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，第一流體345和第二流體343可以具有不同的導(dǎo)電性。 在一個(gè)示例性實(shí)施方式，第一流體345可以具有導(dǎo)電性，而第二流體343可以具有電絕緣特性。在一示例性實(shí)施方式，第一流體345是其溶劑為水的電解質(zhì)，而第二流體343是油。根據(jù)一示例性實(shí)施方式，當(dāng)對(duì)第一電極ELl施加電壓時(shí)，第一流體345的表面張力變?nèi)醪⒏采w每個(gè)像素區(qū)域PA的整個(gè)表面，從而顯示黑色。根據(jù)另一示例性實(shí)施方式，當(dāng)不對(duì)第一電極ELl施加電壓時(shí)，第一流體345的表面張力變強(qiáng)，并且第一流體345會(huì)集在每個(gè)像素區(qū)域PA的某些區(qū)域中，從而傳輸光。雖然已經(jīng)描述了示例性實(shí)施方式，但是應(yīng)理解的是，本發(fā)明不應(yīng)限于這些示例性實(shí)施方式，本領(lǐng)域技術(shù)人員可在如所要求保護(hù)的本發(fā)明的實(shí)質(zhì)和范圍內(nèi)進(jìn)行各種變化和更改。例如，雖然已經(jīng)描述了圖像顯示層的各種示例性實(shí)施方式，然而，圖像顯示層不應(yīng)限于此。即，電流體層或其他類(lèi)型的層也可以用作圖像顯示層。此外，雖然已經(jīng)參照反射型顯示裝置主要描述了本發(fā)明的示例性實(shí)施方式，但是顯示裝置不應(yīng)限于此。即，上述示例性實(shí)施方式可應(yīng)用于采用單獨(dú)的光源的透射型顯示裝置。
權(quán)利要求
1.一種顯示裝置制造方法，包括 制備第一基板和第二基板在具有第一高度的所述第一基板上形成結(jié)合間隔件；在具有小于所述第一高度的第二高度的所述第二基板上形成支撐間隔件；在所述第一基板和第二基板之一上形成圖像顯示部；以及將所述第一基板與所述第二基板耦接在一起，直到所述支撐間隔件的上表面與所述第一基板接觸并且所述第二基板結(jié)合至所述結(jié)合間隔件。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述結(jié)合間隔件的形成包括 在所述第一基板上涂覆抗蝕劑；在大約80°C至大約100°C的溫度下，對(duì)所述抗蝕劑預(yù)烘培大約50秒至大約70秒的時(shí)間；將所述抗蝕劑曝光；以及顯影所述抗蝕劑。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，進(jìn)一步包括在耦接所述第一基板和第二基板之前，沿著所述第一基板和第二基板之一的端部形成密封劑。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，進(jìn)一步包括在所述第二基板上形成面對(duì)所述結(jié)合間隔件的無(wú)機(jī)層。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，進(jìn)一步包括在將所述第一基板和第二基板耦接在一起之后，在大約100°c至大約140°c的溫度下，對(duì)所述結(jié)合間隔件和所述密封劑后烘培大約 15分鐘至大約120分鐘的時(shí)間。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述支撐間隔件的形成包括 在所述第二基板上涂覆抗蝕劑；在大約80°C至大約100°C的溫度下，對(duì)所述抗蝕劑預(yù)烘培大約50秒至大約70秒的時(shí)間；將所述抗蝕劑曝光； 顯影所述抗蝕劑；以及在大約210°C至大約240°C的溫度下，對(duì)所述抗蝕劑后烘培大約15分鐘至大約120分鐘的時(shí)間。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述圖像顯示部包括吸收或反射光以顯示圖像的圖像顯示層，其中，所述圖像顯示層是液晶層、電泳層、電潤(rùn)濕層或電致變色層中的至少一種。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中，所述圖像顯示層是液晶層，并且所述液晶層包括膽甾相液晶。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中，所述第一基板和所述第二基板之一包括多個(gè)像素區(qū)域，并且所述結(jié)合間隔件是形成在每個(gè)像素區(qū)域的端部處的隔離件。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中，所述第一基板和所述第二基板之一包括多個(gè)像素區(qū)域；并且所述第一基板或第二基板的制備進(jìn)一步包括在各個(gè)像素區(qū)域中分別形成開(kāi)關(guān)元件。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種顯示裝置制造方法和顯示裝置，其中，顯示裝置制造方法包括制備第一基板和第二基板在具有第一高度的第一基板上形成結(jié)合間隔件；在具有小于第一高度的第二高度的第二基板上形成支撐間隔件；在第一基板和第二基板之一上形成圖像顯示部；以及將第一基板和第二基板耦接在一起，直到支撐間隔件的上表面與第一基板接觸并且第二基板結(jié)合至結(jié)合間隔件。
文檔編號(hào)G02F1/15GK102375263SQ20111022897
公開(kāi)日2012年3月14日 申請(qǐng)日期2011年8月10日 優(yōu)先權(quán)日2010年8月10日
發(fā)明者尹海柱, 崔洛初, 李熙根 申請(qǐng)人:三星電子株式會(huì)社