專利名稱：一種基于模式搜索法光刻配置參數(shù)的優(yōu)化方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種基于模式搜索法光刻配置參數(shù)的優(yōu)化方法，屬于光刻機(jī)配置參數(shù)協(xié)同優(yōu)化設(shè)計(jì)領(lǐng)域
背景技術(shù)：
光學(xué)光刻是光刻機(jī)用光學(xué)投影曝光的方法將掩模板上的電路器件結(jié)構(gòu)圖形刻蝕到硅片上的過(guò)程。光刻機(jī)主要由光源、照明系統(tǒng)、掩模臺(tái)、投影物鏡以及硅片工件臺(tái)五部分組成。為了實(shí)現(xiàn)良好的光刻性能，達(dá)到較大的光刻焦深，需要合理配置光刻機(jī)各部分參數(shù)， 如投影物鏡數(shù)值孔徑NA的大小、照明相干因子Sigma的值、偏振光類型、光刻膠厚度以及掩模Bias大小等。評(píng)價(jià)光刻性能的指標(biāo)主要有圖形對(duì)比度Contrast、歸一化對(duì)數(shù)斜率NILS以及光刻焦深DOF等。光刻焦深是評(píng)價(jià)光刻系統(tǒng)性能的主要參數(shù)之一，光刻焦深定義為在一定的曝光劑量變化范圍EL內(nèi)，光刻膠圖形在一定的尺寸誤差、側(cè)壁角、光刻膠損失的約束條件下，所能實(shí)現(xiàn)的最大離焦量。光刻焦深越大，光刻性能越好。光刻配置參數(shù)優(yōu)化是合理的配置光刻系統(tǒng)中器件結(jié)構(gòu)參數(shù)、曝光工藝參數(shù)、分辨率增強(qiáng)技術(shù)(離軸照明、相移掩模、光學(xué)臨近效應(yīng)校正)、工藝疊層參數(shù)等多個(gè)系統(tǒng)參數(shù)，統(tǒng)籌考慮不同因素在其不同限定條件下的約束，以實(shí)現(xiàn)最優(yōu)的光刻性能。當(dāng)前，已有很多優(yōu)化光刻配置參數(shù)的方法(李艷秋等，光學(xué)參數(shù)配置對(duì)ArF光刻性能影響研究[J].電子工業(yè)專用設(shè)備，2004，33 (4) :36-39.)。但是，當(dāng)前的光刻配置參數(shù)優(yōu)化方法僅限于對(duì)一個(gè)或兩個(gè)光刻配置參數(shù)的優(yōu)化，要使光刻機(jī)的性能達(dá)到最優(yōu)，光刻機(jī)中每個(gè)參數(shù)均應(yīng)合理配置；同時(shí)，當(dāng)前的研究主要應(yīng)用遍歷仿真的方法確定光刻配置參數(shù)，計(jì)算量非常大，且精度低，難以找出最優(yōu)的光刻配置參數(shù)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種基于模式搜索法光刻配置參數(shù)的優(yōu)化方法；該方法同時(shí)對(duì)多種光刻配置參數(shù)進(jìn)行優(yōu)化配置，可使優(yōu)化后的光刻機(jī)達(dá)到良好的光刻性能，且優(yōu)化效率高。實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的技術(shù)方案如下一種基于模式搜索法光刻配置參數(shù)的優(yōu)化方法，具體步驟為步驟101、確定欲優(yōu)化的η種光刻配置參數(shù)，針對(duì)每一種光刻配置參數(shù)選定一初始值構(gòu)成包含η維元素的點(diǎn)IxJ(U) = Ix1, x2，L xj (ka), i = {1，2，1^，11}，并令循環(huán)次數(shù)1^ = 1 ；確定每種光刻配置參數(shù)的變化范圍(Xi e [ai，bi]} = {[ai，bJ，[a2，b2]L，[an，bn]}，給定優(yōu)化精度允許誤差ε > 0，最大一維搜索次數(shù)kmax ；步驟102、確定用于評(píng)價(jià)光刻性能的m種光刻性能評(píng)價(jià)指標(biāo)y」，j = {l，2，L，m}，并
m
構(gòu)造光刻性能綜合評(píng)價(jià)函數(shù)，其中Yj*針對(duì)各光刻性能評(píng)價(jià)指標(biāo)設(shè)定的比
；=1重值；步驟103、設(shè)定本循環(huán)第一次搜索點(diǎn)= ；步驟104、設(shè)變量re {1，2，L，η}，取r為{1，2，L，η}內(nèi)未被遍歷的數(shù)，選定搜索方向 d(k’ri，其中 d(k’ri 為{Ci} = {Cl，c2, L，cn}，當(dāng) i = r 時(shí)，Ci = 1，否則 Ci = 0 ；根據(jù){<}_)和{[ ，bj}，更新d(k’ri所對(duì)應(yīng)的一維搜索變化范圍為Ixi e [Ui, Vi]}(k,r)，且 {[^,vjl^ej^,^]}；步驟105、從點(diǎn)KV。)出發(fā)，沿方向d(k’ri在{[Ui，Vi]}(k,r)范圍內(nèi)進(jìn)行一維搜索，得到在d(k’ri方向上最小的F值，記為Fmin，并獲取Fmin對(duì)應(yīng)的點(diǎn)；步驟106、判斷變量r是否取遍1至η上的所有正整數(shù)，若是則令汰 +υ =, 進(jìn)入步驟107，否則令= ,返回步驟104 ；步驟107、重新獲取搜索方向#’"+1) =；并進(jìn)一步判斷|p(t’"+1)|的大
小，其中Il Il為取模運(yùn)算，若|p(t’"+1)|y ,則進(jìn)入步驟110;否則進(jìn)入步驟108;步驟108、設(shè)定本循環(huán)中第二次搜索點(diǎn)=,根據(jù)和bj}， 更新所對(duì)應(yīng)的一維搜索變化范圍為{ 乂，巧隊(duì)叫,且{[ 幻}(一υ [{[ 義]}；步驟109、從點(diǎn)Κ}_出發(fā)，沿方向在{[Ui，Vi]}(k,n+1)范圍內(nèi)進(jìn)行一維搜索， 得到3^+1)方向上最小的F值，記為Fmin，并獲取Fmin對(duì)應(yīng)的點(diǎn)IxJ (U)，并將點(diǎn)IxJ(U)作為下次循環(huán)的第一次搜索點(diǎn)，令k = k+Ι，并返回步驟103 ；步驟110、輸出點(diǎn){Xi} (k,n+1)，以及點(diǎn){Xi} (k,n+1)對(duì)應(yīng)的F值，優(yōu)化結(jié)束。有益效果本發(fā)明統(tǒng)籌考慮各種光刻評(píng)價(jià)指標(biāo)，通過(guò)構(gòu)造具有多種光刻性能評(píng)價(jià)指標(biāo)的評(píng)價(jià)函數(shù)，實(shí)現(xiàn)對(duì)優(yōu)化結(jié)果進(jìn)行評(píng)價(jià)，因此使得優(yōu)化后的光刻配置參數(shù)具有很好的光刻性能。其次、本發(fā)明通過(guò)模式搜索優(yōu)化算法優(yōu)化光刻配置參數(shù)，其搜索簡(jiǎn)單、優(yōu)化速度快，且具有較高的精度。


圖1為基于模式搜索法光刻配置參數(shù)的優(yōu)化方法流程圖。圖2為搜索范圍與搜索方向、迭代光刻配置參數(shù)點(diǎn)關(guān)系圖。圖3為一維搜索方法的流程圖。圖4為優(yōu)化過(guò)程中光刻性能綜合評(píng)價(jià)函數(shù)的下降曲線。圖5為優(yōu)化過(guò)程中光刻焦深的變化曲線
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖進(jìn)一步對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。圖1為本發(fā)明基于模式搜索法光刻配置參數(shù) 的優(yōu)化方法的流程圖，其具體步驟為步驟101、確定欲優(yōu)化的η種光刻配置參數(shù)，針對(duì)每一種光刻配置參數(shù)選定一初始值構(gòu)成包含η維元素的點(diǎn)IxJ(U) = Ix1, x2，L xj (ka), i = {1，2，1^，11}，并令循環(huán)次數(shù)1^ =1 ；確定每種光刻配置參數(shù)的變化范圍{Xi e [ai，bi]} = {[ai，bJ，[a2，b2]L，[an，bn]}，給定優(yōu)化精度允許誤差ε >0，最大一維搜索次數(shù)kmax。在優(yōu)化光刻配置參數(shù)的過(guò)程中需要統(tǒng)籌考慮對(duì)光刻性能存在影響的參數(shù)，因此本發(fā)明所述欲優(yōu)化的光刻參數(shù)包括投影物鏡數(shù)值孔徑NA的大小、照明相干因子Sigma的值、 偏振光類型、光刻膠厚度以及掩模Bias大小等。對(duì)于某一光刻技術(shù)節(jié)點(diǎn)下的圖形結(jié)構(gòu)，其每一光刻配置參數(shù)的大概可變化范圍是確定的，因此本發(fā)明根據(jù)選定光刻技術(shù)節(jié)點(diǎn)以及圖形結(jié)構(gòu)類型，確定其對(duì)應(yīng)的每一光刻配置參數(shù)的可變化范圍。本發(fā)明精度允許誤差ε可以根據(jù)實(shí)際的需要進(jìn)行選取，例如當(dāng)優(yōu)化的光刻機(jī)需要有較高的光學(xué)性能要求時(shí)，則可將ε 選取為小于0.01的數(shù)。步驟102、確定用于評(píng)價(jià)光刻性能的m種光刻性能評(píng)價(jià)指標(biāo)y」，j = {l，2，L，m}，并
m
構(gòu)造光刻性能綜合評(píng)價(jià)函數(shù)^7 = -Ed；，其中、為針對(duì)各光刻性能評(píng)價(jià)指標(biāo)設(shè)定的比
；=1重值。本發(fā)明光刻性能的評(píng)價(jià)指標(biāo)包括圖形對(duì)比度Contrast、歸一化對(duì)數(shù)斜率NILS以及光刻焦深DOF等，其中比重值是根據(jù)每種評(píng)價(jià)指標(biāo)對(duì)光刻性能的重要程度進(jìn)行設(shè)定，當(dāng)重要程度高時(shí)，則比重值可設(shè)置較大，當(dāng)重要程度低，則比重值可設(shè)置較小，通過(guò)綜合考慮各種評(píng)價(jià)指標(biāo)構(gòu)造綜合評(píng)價(jià)函數(shù)，可以很好地實(shí)現(xiàn)對(duì)優(yōu)化光刻配置參數(shù)的光刻機(jī)的光刻性能進(jìn)行評(píng)價(jià)。步驟103、設(shè)定本循環(huán)第一次搜索點(diǎn)= (切ο步驟104、設(shè)變量re {1，2，L，η}，取r為{1，2，L，η}內(nèi)未被遍歷的數(shù)，選定搜索方向 d(k’ri，其中 d(k’ri 為{Ci} = {Cl，c2, L，cn}，當(dāng) i = r 時(shí)，Ci = 1，否則 Ci = 0 ；根據(jù){<}_)和{[ ，bj}，更新d(k’ri所對(duì)應(yīng)的一維搜索變化范圍為Ixi e [Ui, Vi]}(k,r)，且 {[、”.認(rèn)幼口僅巧々]}。本步驟中更新光刻配置參數(shù)的一維搜索變化范圍{[Ui，Vi]}(k,r)的具體過(guò)程為令{ζ丄={x;}(M)；設(shè)定中間變量{HL，《 }和)和伐,化工,vn}(Kr)；步驟201、針對(duì)第ρ種光刻配置參數(shù)(zp)k，其中變量ρ e {1,2, L，n}，判斷(dp)(k, r)的正負(fù)當(dāng)(dp)(k,r) > 0時(shí)，則令中間變量⑷)問(wèn)=K),中間變量= ,當(dāng)(dp)(k,r) < 0時(shí)，則令中間變量= ,中間變量= ,當(dāng)(dp)(k’ri =0時(shí)，則令中間變量(<‘,)=“1,中間變量(化‘,)=“1;步驟202、判斷變量ρ是否取遍1至η上的所有正整數(shù)，若是則進(jìn)入步驟203，否則返回步驟201 ；步驟203、針對(duì)第ρ種光刻配置參數(shù)(Zp) k，判斷(dp) (k'r)是否為0 當(dāng)(dp)(k,ri= 0 時(shí)，則令(S)問(wèn)=⑷)問(wèn)，(vAm = KU ；當(dāng)(dp)(k,r) Φ 0 時(shí)，則(Up) (k,r) = (zp)k+g(k,r) · (dp) (k,r)，(Vp) (k,r) = (zp)k+h(k,r) · (dp)(k'r)；其中D為I⑷二廣H中絕對(duì)值 最小的一個(gè)，h(k,r)為I⑷二H中絕對(duì)值
⑷ J, ⑷ J,
最小的一個(gè)；步驟204、判斷變量ρ是否取遍1至η上的所有正整數(shù)，若是則結(jié)束，否則返回步驟 203。步驟105、從點(diǎn)KV。；>出發(fā)，沿方向d(k’ri在{[Ui，Vi]}(k,r)范圍內(nèi)進(jìn)行一維搜索，得到在d(k’ri方向上最小的F值，記為Fmin，并獲取Fmin對(duì)應(yīng)的點(diǎn){幻財(cái)。如圖3所示，本步驟中進(jìn)行一維搜索的具體步驟為設(shè)定變量WX,Lyn}t、{ L Xjt、{W,L，<},以及{ L ,μ'η\ ；步驟401、令{<},=,{ν}t= [Vl^kryi= {l，2，L，n}，并設(shè)定一維搜索精度因子δ。步驟402、根據(jù)黃金分割法計(jì)算搜索分割點(diǎn)光刻配置參數(shù)值μ/丨,和丨/4,令循環(huán)次數(shù) t = 1，μ;}( = {<}, +0.382({眾-{<}》，{/4 = {<}, +0.618({眾-{<}》，獲得搜
索區(qū)間端點(diǎn)光刻配置參數(shù)值{<},和^'；},,以及搜索區(qū)間分割點(diǎn)光刻配置參數(shù)值μ/},和 Wt ,其中kl、KI、U1和這四個(gè)集合中的每一個(gè)對(duì)應(yīng)一種光刻配置方式；仿真計(jì)算{<},、Kl、Ul和{/4分別對(duì)應(yīng)的m種光刻性能評(píng)價(jià)指標(biāo){y」}u、t、{y」}v、t、{yj} μ, , t和{y」} Λ- ,t ；將光刻性能評(píng)價(jià)指標(biāo){y」}u, , t、IyjIv- ,t、IyjI μ, , t和{y」} λ, , t代入公式
m
F = -Yjry1，得到^ι 、 |v；} 、 μ,)和^!對(duì)應(yīng)的光刻性能綜合評(píng)價(jià)函數(shù)值，分別記為
Fui ,t>Fv, ,t.FA, ,t以及Fli,，t。本發(fā)明針對(duì)一確定的光刻系統(tǒng)，獲取其對(duì)應(yīng)的光刻性能評(píng)價(jià)指標(biāo)為現(xiàn)有技術(shù)，因此在此不對(duì)獲取性能評(píng)價(jià)指標(biāo)的過(guò)程作具體的描述。步驟403、比較搜索區(qū)間端點(diǎn)與分割點(diǎn)光刻配置參數(shù)值所對(duì)應(yīng)的光刻性能綜合評(píng)價(jià)函數(shù)，t、Fv,，t、FA,，t 以及 Fli,，t 的大小，令 Fmin = min{Fu,，t，F(xiàn)v,，t，F(xiàn)A,,J0步驟404、若 Fu, , t = Ffflin 或 Fa , , t = Fmin，則進(jìn)入步驟 405 ；若 Fli, , t = Ffflin 或 Fv,, t = Fmin，則進(jìn)入步驟406。步驟4 0 5、令{<}i+1 = {u[}t , {ν;} +1 = {/4 , {μ[}Μ = (^i , U'L=KL+0.382({v;}i+i-{<}i+i),仿真計(jì)算出Κ} +1對(duì)應(yīng)的光刻性能評(píng)價(jià)指標(biāo)IyjI λ ‘, t+1，根據(jù)性能評(píng)價(jià)指標(biāo){yjr，t+1獲取對(duì)應(yīng)的光刻性能綜合評(píng)價(jià)函數(shù)值Fa,，t+1，并進(jìn)入步驟407。步驟4 0 6、令{<L=U1 , KL=Kh , KL= K},, KL=KL+0-618(KL-KL),仿真計(jì)算出{/<L對(duì)應(yīng)的光刻性能評(píng)價(jià)指標(biāo){yA,, t+1，根據(jù)性能評(píng)價(jià)指標(biāo)，t+1獲取對(duì)應(yīng)的光刻性能綜合評(píng)價(jià)函數(shù)值IV，t+1，并進(jìn)入步驟407。步驟407、當(dāng)判定時(shí)，進(jìn)入步驟408，否則，令t = t+Ι，返回步驟 403。步驟408、令 Fmin = Hiin {Fu,，t+1，F(xiàn)v, ,t+1，F(xiàn)a , ,t+1，F(xiàn)li,，t+1}，獲取 Fmin 對(duì)應(yīng)的光刻配置參數(shù){Xi}(k,ri，結(jié)束一維搜索。步驟106、判斷變量r是否取遍1至η上的所有正整數(shù)，若是則令
權(quán)利要求
1.一種基于模式搜索法光刻配置參數(shù)的優(yōu)化方法，其特征在于，具體步驟為步驟101、確定欲優(yōu)化的η種光刻配置參數(shù)，針對(duì)每一種光刻配置參數(shù)選定一初始值構(gòu)成包含η維元素的點(diǎn)IxJ(U) = Ix1, x2，L xn} (ka),i = {1，2丄，11}，并令循環(huán)次數(shù)1^= 1 ；確定每種光刻配置參數(shù)的變化范圍Ixi e [ai，bi]} = {[ai，bJ，[a2，b2]L，[an，bn]}，給定優(yōu)化精度允許誤差ε > 0，最大一維搜索次數(shù)kmax ；步驟102、確定用于評(píng)價(jià)光刻性能的m種光刻性能評(píng)價(jià)指標(biāo)ypj = {l，2，L，m}，并構(gòu)造m光刻性能綜合評(píng)價(jià)函數(shù)^7 = _1& _>)；，其中、為針對(duì)各光刻性能評(píng)價(jià)指標(biāo)設(shè)定的比重值；；=1步驟103、設(shè)定本循環(huán)第一次搜索點(diǎn){幻汰。)=^}^切；步驟104、設(shè)變量re {l，2，L，n}，取r為{l，2，L，n}內(nèi)未被遍歷的數(shù)，選定搜索方向d(k’ r)，其中 d(k,r)為{cj = {Cl，C2，L，CJ，ii =r 時(shí)，Ci = 1，否則 Ci = 0 ；根據(jù)伏}_和{[ai; bj}，更新d(k’rim對(duì)應(yīng)的一維搜索變化范圍為Ixi e [Ui，Vi]}(k,ri，且{["』]}_[{[ 』]};步驟105、從點(diǎn)出發(fā)，沿方向d(k’ri在{[Ui，Vi]}(k,ri范圍內(nèi)進(jìn)行一維搜索，得到在 d(k’ri方向上最小的F值，記為Fmin，并獲取Fmin對(duì)應(yīng)的點(diǎn)；步驟106、判斷變量r是否取遍1至η上的所有正整數(shù)，若是則令…= ,進(jìn)入步驟107，否則令=,返回步驟104 ；步驟107、重新獲取搜索方向#’"+1) =；并進(jìn)一步判斷|p(t’"+1)|的大小，其中Il Il為取模運(yùn)算，若|#’"+1)|^ ,則進(jìn)入步驟110;否則進(jìn)入步驟108;步驟108、設(shè)定本循環(huán)中第二次搜索點(diǎn)=,根據(jù){<}_和{[%，bj}，更新^^叫所對(duì)應(yīng)的一維搜索變化范圍為^；^^巧^叫,且{[ ^}汰 +1) [{[ 義]}；步驟109、從點(diǎn)Κ}_出發(fā)，沿方向在{[Ui，Vi]}(k,n+1)范圍內(nèi)進(jìn)行一維搜索，得到方向上最小的F值，記為Fmin，并獲取Fmin對(duì)應(yīng)的點(diǎn)IxJ(U),并將點(diǎn)IxJ(U)作為下次循環(huán)的第一次搜索點(diǎn)，令k = k+Ι，并返回步驟103 ；步驟110、輸出點(diǎn){Xi} (k,n+1)，以及點(diǎn){Xi} (k,n+1)對(duì)應(yīng)的F值，優(yōu)化結(jié)束。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述基于模式搜索法光刻配置參數(shù)的優(yōu)化方法，其特征在于，所述步驟104更新搜索范圍時(shí)，令PHx^om),更新搜索范圍的具體過(guò)程為設(shè)定中間變量{HL；步驟201、針對(duì)第ρ種光刻配置參數(shù)(zp)k，其中變量ρ e {1,2, L，n}，判斷(dp)(k’ 的正負(fù)當(dāng)(dp)(k,r) > 0時(shí)，則令中間變量⑷= ,中間變量(化‘,)=(~)‘ 當(dāng)(dp)(k,r) < 0時(shí)，則令中間變量⑷)(M = ( )，中間變量(iU0M =( )‘當(dāng)(dp) D = ο時(shí)，則令中間變量⑷)(μ = (ζΛ ,中間變量= (ζΑ ；步驟202、判斷變量ρ是否取遍1至η上的所有正整數(shù)，若是則進(jìn)入步驟203，否則返回步驟201 ；步驟203、針對(duì)第ρ種光刻配置參數(shù)(zp)k，判斷(dp) (k’ri是否為0 當(dāng)(dp)(k,r) = O時(shí)，則令=⑷)問(wèn)，( )問(wèn)=(化)問(wèn)；當(dāng)(dp) (k'r) Φ 0 時(shí)，則(up) (k,r) = (zp)k+g(k,r) · (dp)(k,r)，(Vp) (k,r) = (zp)k+h(k,r) · (dp)(k,Γ)；其中為 H:) 中絕對(duì)值最小的一個(gè)，h(k,ri為中絕對(duì)值最小的一個(gè)；步驟204、判斷變量ρ是否取遍1至η上的所有正整數(shù)，若是則結(jié)束，否則返回步驟203。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述基于模式搜索法光刻配置參數(shù)的優(yōu)化方法，其特征在于，所述步驟108更新搜索范圍時(shí)，令= ,更新搜索范圍的具體過(guò)程為設(shè)定中間變量{HL，<}化 +1)和伐戈工，弋}* +1)；步驟301、針對(duì)第ρ種光刻配置參數(shù)(認(rèn)，其中變量ρ e {1，2丄，11}，判斷(之廣+1)的正負(fù)當(dāng)⑷―D >o時(shí)，則令中間變量⑷
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述基于模式搜索法光刻配置參數(shù)的優(yōu)化方法，其特征在于，所述步驟105和109中針對(duì)每一光刻配置參數(shù)，其進(jìn)行一維搜索的方法相同，所述一維搜索的具體步驟為設(shè)定變量WX，L ,Kjt ,{ν；,ν；,L Xjt、{W,L，A:}(以及{ L ,μ'η\ ； 步驟401、當(dāng)進(jìn)行步驟105中的一維搜索時(shí)，令Kli,Kl, i = {1,2,L, η}，并設(shè)定一維搜索精度因子δ ;當(dāng)進(jìn)行步驟109中的一維搜索時(shí)，令{<1=^‘， +1),
全文摘要
本發(fā)明提供一種基于模式搜索法光刻配置參數(shù)的優(yōu)化方法，具體步驟為確定優(yōu)化光刻配置參數(shù)以及光刻性能綜合評(píng)價(jià)函數(shù)；在給定的所搜方向上更新一維搜索范圍，在一維搜索范圍內(nèi)進(jìn)行一維搜索，獲取最小光刻性能綜合評(píng)價(jià)函數(shù)對(duì)應(yīng)的光刻配置參數(shù)點(diǎn)；獲取新的一維搜索方向并進(jìn)行一維搜索，獲取最小光刻性能綜合評(píng)價(jià)函數(shù)對(duì)應(yīng)的光刻配置參數(shù)點(diǎn)；當(dāng)循環(huán)次數(shù)達(dá)到最大或滿足精度要求時(shí)，則結(jié)束優(yōu)化。本發(fā)明統(tǒng)籌考慮各種光刻評(píng)價(jià)指標(biāo)，通過(guò)構(gòu)造具有多種光刻性能評(píng)價(jià)指標(biāo)的評(píng)價(jià)函數(shù)，實(shí)現(xiàn)對(duì)優(yōu)化結(jié)果進(jìn)行評(píng)價(jià)，因此使得優(yōu)化后的光刻配置參數(shù)可實(shí)現(xiàn)很好的光刻性能。
文檔編號(hào)G03F7/20GK102360171SQ201110353960
公開(kāi)日2012年2月22日 申請(qǐng)日期2011年11月9日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月9日
發(fā)明者李艷秋, 郭學(xué)佳 申請(qǐng)人:北京理工大學(xué)