專利名稱：制作光線濾波結(jié)構(gòu)的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種制作光線濾波結(jié)構(gòu)的方法，其是尤指一種可客制化與節(jié)省光罩使用的光線濾波結(jié)構(gòu)的制作方法。
背景技術(shù)：
光線偵測器已被廣泛地運用于各種領(lǐng)域，例如工業(yè)、行動電話、電子裝置以及零售自動化等。光線偵測器可偵測多種不同的環(huán)境亮度，且依據(jù)不同亮度對應(yīng)輸出不同的電子訊號，以讓后端電路依據(jù)電子訊號而得知當(dāng)前的環(huán)境亮度。目前光線偵測器最常用于目前市面上常見的行動電話、液晶屏幕/面板和筆記型計算機的液晶背光控制。光線偵測器是偵測當(dāng)前環(huán)境中的光度，以供后端電路依據(jù)偵測到的亮度而適度調(diào)節(jié)屏幕的亮度，如此可提高人眼觀看屏幕的舒適度，而不會因為屏幕的亮度太暗或太亮，造成眼睛疲勞。此外，也可以在亮度充足的環(huán)境下，降低屏幕的亮度以降低電源消耗，而達到省電的目的，這對于攜帶式電子裝置而言即可提高電池使用時間，而延長使用時間。
光線偵測器主要是用于偵測特定波長的光線，例如人眼可見的可見光，所以光線偵測器中是包含有光線濾波器，以過濾環(huán)境中的光線而僅讓特定波長的光線通過，如此光線偵測器即可偵測特定波長的光線?，F(xiàn)今的光線濾波結(jié)構(gòu)大都皆為法布里-伯羅空腔 (Fabry Perot Cavuty)結(jié)構(gòu)，其包含有兩反射層與一干涉層，干涉層位于兩反射層之間，干涉層是主要決定何種波長的光線可通過濾波結(jié)構(gòu)，而隔絕其它波長的光線。
現(xiàn)今為了讓光線偵測器可以同時偵測多種波長的光線，所以發(fā)展出可以讓兩種以上波長的光線通過的濾波結(jié)構(gòu)，例如美國專利第7，521，666號。請參閱圖1，其為上述習(xí)用專利的結(jié)構(gòu)圖。如圖所示，其包含一基層410’、一第一反射層411’、一第一干涉層412’、一第二反射層413，、一第二干涉層421，、一第三反射層422，、一第三干涉層431，與一第四反射層432，。第一反射層411，設(shè)置于基層410，上，第一干涉層412，設(shè)置于第一反射層411， 上，第二反射層413’設(shè)置于第一干涉層412’上。如此即為一個法布里-伯羅空腔結(jié)構(gòu)，允許一特定波長的光線通過法布里-伯羅空腔結(jié)構(gòu)。
復(fù)參閱圖1，第二干涉層421，設(shè)置于第二反射層413，上，第三反射層422，設(shè)置于第二干涉層421’上，如此，即形成第二個法布里-伯羅空腔結(jié)構(gòu)。由圖示可知，第二反射層413’的長度是長于第一反射層411’的長度，以供第一個法布里-伯羅空腔結(jié)構(gòu)與第二個法布里-伯羅空腔結(jié)構(gòu)共享。同理，第三反射層422’、第三干涉層431’與第四反射層 432’形成第三個法布里-伯羅空腔結(jié)構(gòu)。第三反射層422’是供第二個法布里-伯羅空腔結(jié)構(gòu)與第三個法布里-伯羅空腔結(jié)構(gòu)共享。上述習(xí)用光線濾波結(jié)構(gòu)因為兩個法布里-伯羅空腔結(jié)構(gòu)要共享一反射層，所以其為堆棧結(jié)構(gòu)。如圖所示，第二個法布里-伯羅空腔結(jié)構(gòu)是堆棧于第一個法布里-伯羅空腔結(jié)構(gòu)，而第三個法布里-伯羅空腔結(jié)構(gòu)是堆棧于第二個法布里-伯羅空腔結(jié)構(gòu)。此外，每一個法布里-伯羅空腔結(jié)構(gòu)更包含有一頂層而覆蓋反射層， 以保護反射層。由于圖1所示的光線濾波結(jié)構(gòu)具有三個法布里-伯羅空腔結(jié)構(gòu)，所以有三種不同波長的光線可以通過光線濾波器。
雖然干涉層是主要決定何種波長的光線可以通過光線濾波結(jié)構(gòu)，但是干涉層下方的底層亦會影響光線濾波結(jié)構(gòu)的濾波特性。此外，若干涉層上的反射層更覆蓋有頂層時， 其亦會影響光線濾波結(jié)構(gòu)的濾波特性。換言之，設(shè)計光線濾波器時，是必須考慮底層、干涉層與頂層的厚度，以決定何種波長的光線可以通過光線濾波器。習(xí)用光線濾波器因為是堆棧式，所以除了第一個法布里-伯羅空腔結(jié)構(gòu)以外，其余法布里-伯羅空腔結(jié)構(gòu)的基層的厚度是會包含前面法布里-伯羅空腔結(jié)構(gòu)的干涉層的厚度，也就是說位于前面的法布里-伯羅空腔結(jié)構(gòu)是會影響后面法布里-伯羅空腔結(jié)構(gòu)的濾波特性。因此，設(shè)計者在設(shè)計堆棧型式的濾波結(jié)構(gòu)時，必須考慮每一法布里-伯羅空腔結(jié)構(gòu)的干涉層對后續(xù)法布里-伯羅空腔結(jié)構(gòu)的底層的影響。如此，由于每一法布里-伯羅空腔結(jié)構(gòu)的干涉層對后續(xù)法布里-伯羅空腔結(jié)構(gòu)的底層的影響，而使設(shè)計者無法有效地客制化三種不同波長的光線通過光線濾波器，并且每一法布里-伯羅空腔結(jié)構(gòu)的干涉層對后續(xù)法布里-伯羅空腔結(jié)構(gòu)的底層都有關(guān)聯(lián)，而必須使用多道光罩，進而增加制作的成本。
因此，如何針對上述問題而提出一種新穎制作光線濾波結(jié)構(gòu)的方法，不僅可有效客制化光線濾波結(jié)構(gòu)，并可減少使用光罩，進而達到節(jié)省制作成本，使可解決上述的問題。發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的之一，在于提供一種制作光線濾波結(jié)構(gòu)的方法，其通過個別獨立形成一第一濾波結(jié)構(gòu)與一第二濾波結(jié)構(gòu)于一第一光二極管與一第二光二極管的上方，以達到客制化光線濾波結(jié)構(gòu)的目的。
本發(fā)明的目的之一，在于提供一種制作光線濾波結(jié)構(gòu)的方法，其通過個別獨立形成復(fù)數(shù)濾波結(jié)構(gòu)于復(fù)數(shù)光二極管的上方，以減少光罩的使用，進而節(jié)省其成本。
本發(fā)明的目的之一，在于提供一種制作光線濾波結(jié)構(gòu)的方法，其通過一晶圓形成復(fù)數(shù)光偵測器，以減少其制作成本。
本發(fā)明的技術(shù)方案是一種制作光線濾波結(jié)構(gòu)的方法，其步驟包含
提供一基層，該基層包含一第一光二極管與一第二光二極管；
依據(jù)一光線的一波長，形成一第一濾波結(jié)構(gòu)于該基層的上方，該第一濾波結(jié)構(gòu)對應(yīng)該第一光二極管的上方；以及
依據(jù)該光線的該波長，形成一第二濾波結(jié)構(gòu)于該基層的上方，該第二濾波結(jié)構(gòu)對應(yīng)于該第二光二極管的上方；
其中，該第一濾波結(jié)構(gòu)與該第二濾波結(jié)構(gòu)是個別獨立形成于該第一光二極管與該第二光二極管的上方。
本發(fā)明中，其更包含一步驟
提供一晶圓，該晶圓包含該些基層。
本發(fā)明中，其中于依據(jù)一光線的一波長，形成一第一濾波結(jié)構(gòu)于該基層的上方的步驟中，更包含
形成一遮蔽層于該基層的上方，并預(yù)定的該第一濾波結(jié)構(gòu)的區(qū)域不遮蔽。
本發(fā)明中，其中于形成一遮蔽層于該基層的步驟中，更包含
提供一遮蔽件于該基層的上方；以及
涂布一不透光液體于該遮蔽件的上方，形成該遮蔽層，以遮蔽非該第一濾波結(jié)構(gòu)的區(qū)域。
本發(fā)明中，其中于涂布一不透光液體于該遮蔽件的上方的步驟中，是可噴墨或印刷該不透光液體于該遮蔽件的上方。
本發(fā)明中，其中于形成一遮蔽層于該基層的步驟中，更包含
提供一光阻于該基層的上方；以及
光處理該光阻，形成該遮蔽層，以遮蔽非該第一濾波結(jié)構(gòu)的區(qū)域。
本發(fā)明中，其中于形成一遮蔽層于該基層的上方的步驟之后，更包含
去除該遮蔽層。
本發(fā)明中，其中于依據(jù)該光線的該波長，形成一第二濾波結(jié)構(gòu)于該基層的上方的步驟中，更包含
形成一遮蔽層于該基層的上方，并預(yù)定的該第二濾波結(jié)構(gòu)的區(qū)域不遮蔽。
本發(fā)明中，其中于遮蔽該基層的步驟中，更包含
提供一遮蔽件于該基層的上方；以及
涂布一不透光液體于該遮蔽件的上方，形成該遮蔽層，以遮蔽非該第二濾波結(jié)構(gòu)的區(qū)域。
本發(fā)明中，其中涂布一不透光液體于該遮蔽件的上方的步驟中，是可噴墨或印刷該不透光液體于該遮蔽件的上方。
本發(fā)明中，其中于遮蔽該基層的步驟中，更包含
提供一光阻于該基層的上方；以及
光處理該光阻，形成一遮蔽層，以遮蔽非該第二濾波結(jié)構(gòu)的區(qū)域。
本發(fā)明中，其中于形成一遮蔽層于該基層的上方的步驟之后，更包含
去除該遮蔽層。
本發(fā)明具有的有益效果本發(fā)明所述制作光線濾波結(jié)構(gòu)的方法，通過個別獨立形成一第一濾波結(jié)構(gòu)與一第二濾波結(jié)構(gòu)于一第一光二極管與一第二光二極管的上方，以達到客制化光線濾波結(jié)構(gòu)的目的，并且可減少光罩的使用，進而節(jié)省其成本。
此外，本發(fā)明的制作光線濾波結(jié)構(gòu)的方法是更包含提供一晶圓，該晶圓包含該些基層。如此，本發(fā)明可通過晶圓形成復(fù)數(shù)光偵測器，以減少其制作成本。


圖1為現(xiàn)有技術(shù)的光線濾波結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)圖2為本發(fā)明的一較佳實施例的流程圖3A為本發(fā)明的一較佳實施例的動作示意圖;3B為本發(fā)明的另一較佳實施例的動作示意圖3C為本發(fā)明的另一較佳實施例的動作示意圖3D為本發(fā)明的另一較佳實施例的動作示意圖3E為本發(fā)明的另一較佳實施例的剖面圖；以及
圖4為本發(fā)明的另一較佳實施例的剖面圖。
圖號對照說明
現(xiàn)有技術(shù)
410:’基層411，第一反射層
412:'第--干涉層413，第二反射層
421:’第二二干涉層422，第三反射層
431:’第三三干涉層432，第四反射層
本發(fā)明
10基層12第一光二極管
14第二光二極管16第三光二極管
20第—"■濾波結(jié)構(gòu)200第一反射層
202第—-干涉層204第二反射層
206第—4呆護層22第二濾波結(jié)構(gòu)
220第三反射層222第二干涉層
224第四反射層226第二保護層
24第三濾波結(jié)構(gòu)240第五反射層
242第三干涉層244第六反射層
246第三保護層30第一遮蔽層
32第—々慮波結(jié)構(gòu)的區(qū)域40第二遮蔽層
42第二濾波結(jié)構(gòu)的區(qū)域50第三遮蔽層
52第三濾波結(jié)構(gòu)的區(qū)域6基板
60第四濾波結(jié)構(gòu)600第四干涉層
602第五干涉層604第四保護層
62第五濾波結(jié)構(gòu)620第六干涉層
622第七干涉層624第五保護層
64第六濾波結(jié)構(gòu)640第八干涉層
642第九干涉層644第六保護層具體實施方式
為使對本發(fā)明的結(jié)構(gòu)特征及所達成的功效有更進一步的了解與認識，用以較佳的實施例及附圖配合詳細的說明，說明如下
請參閱圖2，為本發(fā)明的一較佳實施例的流程圖。如圖所示，本發(fā)明的制作光線濾波結(jié)構(gòu)的方法是先執(zhí)行步驟SlO提供一晶圓，晶圓包含復(fù)數(shù)基層10，即如圖3A所示，于此實施例中，是以晶圓的該些基層10的部分基層10為例，接著執(zhí)行步驟S12提供該些基層的其中之一，基層10包含有一第一光二極管12與一第二光二極管14 (如圖3E所示)。之后，執(zhí)行步驟S16依據(jù)一光線的一波長，而形成一第一濾波結(jié)構(gòu)20(如圖3E所示)于基層10的上方，并且該第一濾波結(jié)構(gòu)20是對應(yīng)于第一光二極管12的上方，即第一濾波結(jié)構(gòu)20可以依據(jù)需求而過濾光線中不同的波長，使其特定的波長才能通過。接下來執(zhí)行步驟S22依據(jù)光線的波長，而形成一第二濾波結(jié)構(gòu)22(如圖3E所示)于基層10的上方，并第二濾波結(jié)構(gòu) 22是對應(yīng)第二光二極管14的上方，使第二濾波結(jié)構(gòu)22可以依據(jù)需求而過濾光線中不同的波長，使其特定的波長才能通過，其中，第一濾波結(jié)構(gòu)20與第二濾波結(jié)構(gòu)22是個別獨立形成于第一光二極管12與第二光二極管14的上方，如此，本發(fā)明可通過個別獨立形成第一濾波結(jié)構(gòu)20與第二濾波結(jié)構(gòu)22于第一光二極管12與第二光二極管14的上方，而依據(jù)使用者所需求不同過濾的波長，個別調(diào)整第一濾波結(jié)構(gòu)20或第二濾波結(jié)構(gòu)22，以達到客制化光線濾波結(jié)構(gòu)的目的。
此外，本實施例的制作光線濾波結(jié)構(gòu)的方法是更包含一步驟，即執(zhí)行步驟S^依據(jù)光線的波長而形成一第三濾波結(jié)構(gòu)M于基層10的上方，并第三濾波結(jié)構(gòu)M是對應(yīng)于一第三光二極管16的上方，以依據(jù)需求而過濾光線中不同的波長，使其特定的波長才能通過。
請復(fù)參閱圖2，于步驟S16依據(jù)光線的波長，形成第一濾波結(jié)構(gòu)20于基層10的上方的之前，是更包含一步驟S14形成一第一遮蔽層30 (如圖;3B所示)于基層10的上方，并預(yù)定的第一濾波結(jié)構(gòu)20的區(qū)域32不遮蔽。于此步驟中，本實施例形成第一遮蔽層30的方法之一是先提供一遮蔽件(圖中未示)于基層10的上方，之后，涂布一不透光液體于遮蔽件的上方，而形成第一遮蔽層30，以遮蔽非該第一濾波結(jié)構(gòu)20的區(qū)域32，其中，涂布不透光液體于遮蔽件的上方的步驟中，是可以噴墨或印刷的方式將不透光液體于遮蔽件的上方。
此外，本發(fā)明于形成第一遮蔽層30于基層10的上方的方法中，還包括另一個實施例，其提供一光阻(即遮蔽層30)于基層10的上方，之后，光處理光阻而形成遮蔽層30，以遮蔽非該第一濾波結(jié)構(gòu)20的區(qū)域32 (如圖;3B所示)，即曝光及顯影該光阻而形成第一遮蔽層30，以遮蔽基層10的上方，并不遮蔽第一濾波結(jié)構(gòu)20的區(qū)域32。在執(zhí)行步驟S16形成第一濾波結(jié)構(gòu)20于基層10的上方后，是更執(zhí)行步驟S18去除該第一遮蔽層30。
承上所述，在形成第一濾波結(jié)構(gòu)20于基層10的上方的步驟S16后，需要執(zhí)行步驟 S22形成第二濾波結(jié)構(gòu)22(如圖3C所示)于基層10的上方，而在執(zhí)行此步驟之前，亦需要執(zhí)行步驟S20形成一第二遮蔽層40于基層10的上方，并預(yù)定的第二濾波結(jié)構(gòu)22的區(qū)域 42不遮蔽，以供后續(xù)步驟S22形成第二濾波結(jié)構(gòu)22，于此實施例中，由于在形成第二遮蔽層 40，以遮蔽非預(yù)定的第二濾波結(jié)構(gòu)22的區(qū)域42時，亦會遮蔽已形成的第一濾波結(jié)構(gòu)20的區(qū)域32，如此，本發(fā)明即可個別獨立形成復(fù)數(shù)濾波結(jié)構(gòu)于復(fù)數(shù)光二極管的上方，以達到客制化光線濾波結(jié)構(gòu)的目的。其中，形成第二遮蔽層40的方法與上述形成第一遮蔽層30的方法相同，故于此不再多加以贊述。接著，于執(zhí)行完步驟S22之后，是執(zhí)行步驟SM去除第二遮蔽層40。
同理，于步驟S^形成第三濾波結(jié)構(gòu)24 (如圖3E所示)于基層10的上方前，是執(zhí)行步驟S^形成一第三遮蔽層50 (如圖3D所示)于基層10的上方，并預(yù)定的第三濾波結(jié)構(gòu)M的區(qū)域52不遮蔽。接著執(zhí)行步驟S^形成第三濾波結(jié)構(gòu)M于基層10的上方后，執(zhí)行步驟S30去除第三遮蔽層50。如此，即完成一光偵測器的制作。
由上述可知，本發(fā)明于此實施例中，只需要使用三道光罩即可完成光偵測器的制作。而現(xiàn)有技術(shù)的光偵測器(如圖1所示)則需要四至五道光罩才可以完成制作。如此， 本發(fā)明可通過個別獨立形成復(fù)數(shù)濾波結(jié)構(gòu)于復(fù)數(shù)光二極管的上方，以減少光罩的使用，進而節(jié)省其成本。
請一并參閱圖3E，為本發(fā)明的另一較佳實施例的剖面圖。如圖所示，于本實施例中，第一濾波結(jié)構(gòu)20包含一第一反射層200、一第一干涉層202、一第二反射層204與一第一保護層206。第一反射層200形成于基層10的上方，第一干涉層202形成于第一反射層 200的上方，第二反射層204形成于第一干涉層202的上方，第一保護層206形成于第二反射層204的上方。如此，第一濾波結(jié)構(gòu)通過第一反射層200與第二反射層204之間的距離即可過濾特定光線的波長，此為該技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識者所皆知的技術(shù)，故此不再多加以贊述。同理，第二濾波結(jié)構(gòu)22包含一第三反射層220、一第二干涉層222、一第四反射層 224與一第二保護層226。第三反射層220形成于基層10的上方，第二干涉層222形成于第三反射層220的上方，第四反射層2M形成于第二干涉層222的上方，第二保護層2 形成于第四反射層224的上方。第三濾波結(jié)構(gòu)M包含一第五反射層M0、一第三干涉層M2、 一第六反射層244與一第三保護層M6。第五反射層240形成于基層10的上方，第三干涉層242形成于第五反射層240的上方，第六反射層244形成于第三干涉層242的上方，第三保護層246形成于第六反射層244的上方，如此，第二濾波結(jié)構(gòu)22與第三濾波結(jié)構(gòu)M可個別依據(jù)特定光線的波長過濾光線。
請參閱圖4，為本發(fā)明的另一較佳實施例的剖面圖。如圖所示，本實施例與圖3E的實施例不同之處，在于本實施例的一第四濾波結(jié)構(gòu)60、一第五濾波結(jié)構(gòu)62與一第六濾波結(jié)構(gòu)64可僅包含復(fù)數(shù)干涉層，并依據(jù)濾波結(jié)構(gòu)所要過濾光的波長，而調(diào)整干涉層的材料與厚度。于本實施例中，第四濾波結(jié)構(gòu)60包含一第四干涉層600、一第五干涉層602與一第四保護層604。第四干涉層形成于一基板6的上方，第五干涉層602形成于第四干涉層604的上方，第四保護層604形成于第五干涉層602的上方。第五濾波結(jié)構(gòu)62包含一第六干涉層 620、一第七干涉層622與一第五保護層624。第六干涉層620形成于基板6的上方，第七干涉層622形成于第六干涉層620的上方，第五保護層6M形成于第七干涉層622的上方。 第六濾波結(jié)構(gòu)64包含一第八干涉層640、一第九干涉層642與一第六保護層644。第八干涉層640形成于基板6的上方，第九干涉層642形成于第八干涉層640的上方，第六保護層 644形成于第九干涉層644的上方。其中，第四濾波結(jié)構(gòu)60、第五濾波結(jié)構(gòu)62與第六濾波結(jié)構(gòu)64中的干涉層是依據(jù)光波長(顏色)而調(diào)整干涉層的材質(zhì)與厚度。
綜上所述，本發(fā)明的制作光線濾波結(jié)構(gòu)的方法是先提供一基層，基層包含一第一光二極管與一第二光二極管，之后，依據(jù)一光線的一波長，形成一第一濾波結(jié)構(gòu)于基層的上方，第一濾波結(jié)構(gòu)對應(yīng)第一光二極管的上方，接著依據(jù)光線的波長，形成一第二濾波結(jié)構(gòu)于基層的上方，第二濾波結(jié)構(gòu)對應(yīng)于第二光二極管的上方，其中第一濾波結(jié)構(gòu)與第二濾波結(jié)構(gòu)是個別獨立形成于第一光二極管與第二光二極管的上方。如此，本發(fā)明是通過個別獨立形成第一濾波結(jié)構(gòu)與第二濾波結(jié)構(gòu)于第一光二極管與第二光二極管的上方，以達到客制化光線濾波結(jié)構(gòu)的目的，并且可減少光罩的使用，進而節(jié)省其成本。
綜上所述，僅為本發(fā)明的較佳實施例而已，并非用來限定本發(fā)明實施的范圍，凡依本發(fā)明權(quán)利要求范圍所述的形狀、構(gòu)造、特征及精神所為的均等變化與修飾，均應(yīng)包括于本發(fā)明的權(quán)利要求范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種制作光線濾波結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于，其步驟包含 提供一基層，該基層包含一第一光二極管與一第二光二極管；依據(jù)一光線的一波長，形成一第一濾波結(jié)構(gòu)于該基層的上方，該第一濾波結(jié)構(gòu)對應(yīng)該第一光二極管的上方；以及依據(jù)該光線的該波長，形成一第二濾波結(jié)構(gòu)于該基層的上方，該第二濾波結(jié)構(gòu)對應(yīng)于該第二光二極管的上方；其中，該第一濾波結(jié)構(gòu)與該第二濾波結(jié)構(gòu)是個別獨立形成于該第一光二極管與該第二光二極管的上方。
2.如權(quán)利要求1所述的制作光線濾波結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于，其更包含一步驟 提供一晶圓，該晶圓包含該些基層。
3.如權(quán)利要求1所述的制作光線濾波結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于，其中于依據(jù)一光線的一波長，形成一第一濾波結(jié)構(gòu)于該基層的上方的步驟中，更包含形成一遮蔽層于該基層的上方，并預(yù)定的該第一濾波結(jié)構(gòu)的區(qū)域不遮蔽。
4.如權(quán)利要求3所述的制作光線濾波結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于，其中于形成一遮蔽層于該基層的步驟中，更包含提供一遮蔽件于該基層的上方；以及涂布一不透光液體于該遮蔽件的上方，形成該遮蔽層，以遮蔽非該第一濾波結(jié)構(gòu)的區(qū)域。
5.如權(quán)利要求4所述的制作光線濾波結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于，其中于涂布一不透光液體于該遮蔽件的上方的步驟中，是可噴墨或印刷該不透光液體于該遮蔽件的上方。
6.如權(quán)利要求3所述的制作光線濾波結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于，其中于形成一遮蔽層于該基層的步驟中，更包含提供一光阻于該基層的上方；以及光處理該光阻，形成該遮蔽層，以遮蔽非該第一濾波結(jié)構(gòu)的區(qū)域。
7.如權(quán)利要求3所述的制作光線濾波結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于，其中于形成一遮蔽層于該基層的上方的步驟之后，更包含去除該遮蔽層。
8.如權(quán)利要求1所述的制作光線濾波結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于，其中于依據(jù)該光線的該波長，形成一第二濾波結(jié)構(gòu)于該基層的上方的步驟中，更包含形成一遮蔽層于該基層的上方，并預(yù)定的該第二濾波結(jié)構(gòu)的區(qū)域不遮蔽。
9.如權(quán)利要求8所述的制作光線濾波結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于，其中于遮蔽該基層的步驟中，更包含提供一遮蔽件于該基層的上方；以及涂布一不透光液體于該遮蔽件的上方，形成該遮蔽層，以遮蔽非該第二濾波結(jié)構(gòu)的區(qū)域。
10.如權(quán)利要求9所述的制作光線濾波結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于，其中涂布一不透光液體于該遮蔽件的上方的步驟中，是可噴墨或印刷該不透光液體于該遮蔽件的上方。
11.如權(quán)利要求8所述的制作光線濾波結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于，其中于遮蔽該基層的步驟中，更包含提供一光阻于該基層的上方；以及光處理該光阻，形成一遮蔽層，以遮蔽非該第二濾波結(jié)構(gòu)的區(qū)域。
12.如權(quán)利要求8所述的制作光線濾波結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于，其中于形成一遮蔽層于該基層的上方的步驟之后，更包含 去除該遮蔽層。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種制作光線濾波結(jié)構(gòu)的方法，其步驟是提供一基層，基層包含一第一光二極管與一第二光二極管，之后，依據(jù)一光線的一波長，形成一第一濾波結(jié)構(gòu)于基層的上方，第一濾波結(jié)構(gòu)對應(yīng)第一光二極管的上方，接著依據(jù)光線的波長，形成一第二濾波結(jié)構(gòu)于基層的上方，第二濾波結(jié)構(gòu)對應(yīng)于第二光二極管的上方，其中第一濾波結(jié)構(gòu)與第二濾波結(jié)構(gòu)是個別獨立形成于第一光二極管與第二光二極管的上方。如此，本發(fā)明是通過個別獨立形成第一濾波結(jié)構(gòu)與第二濾波結(jié)構(gòu)于第一光二極管與第二光二極管的上方，以達到客制化光線濾波結(jié)構(gòu)的目的，并且可減少光罩的使用，進而節(jié)省其成本。
文檔編號G02B5/28GK102544037SQ20111041206
公開日2012年7月4日 申請日期2011年11月30日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月30日
發(fā)明者李竹盛 申請人:矽創(chuàng)電子股份有限公司