專利名稱：間隙物的散布方法及裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及液晶面板制作領(lǐng)域，更具體的說，是涉及一種間隙物的散布方法及裝置。
背景技術(shù)：
在液晶面板的制作過程中，為了保證彩膜基板與陣列基板之間的液晶厚度，需要在液晶面板的彩膜基板或陣列基板上散布SpaceH間隙物)，以便于控制彩膜基板與陣列基板的間隙，已達(dá)到防止因液晶厚度不均所產(chǎn)生顯示影像模糊的目的。通常情況下，通過在彩膜基板或陣列基板上散布硅球Spacer ;然后，利用液晶滴下法將液晶滴入封框膠內(nèi)部；最后，使用紫外光盡快硬化封框膠以形成液晶盒。此時(shí)，散布在液晶盒內(nèi)的硅球Spacer則起到支撐盒厚的作用。硅球Spacer在散布之前存在于SUS (不銹鋼)管道內(nèi)。且硅球Spacer在高壓氣體的作用下會與SUS管壁進(jìn)行高速碰撞，從而使得娃球Spacer帶上同種電荷。當(dāng)該娃球Spacer由SUS管道噴出口噴出時(shí)，會由于同種電荷相斥的原理分散開來。但是，由于上述方式在進(jìn)行娃球Spacer散布時(shí)是無規(guī)律的散布，所以娃球Spacer很容易掉入像素顯示區(qū)域中，由此會引起黑態(tài)漏光等造成顯示不良的問題。因此，現(xiàn)有技術(shù)中在彩膜側(cè)制作時(shí)采用Photo Spacer技術(shù)，對應(yīng)內(nèi)部顯示區(qū)外的BM區(qū)(邊框區(qū)域或面板黑框區(qū)域)，利用光微影制程進(jìn)行樹脂Spacer的散布，從而避免上述娃球Spacer造成的黑態(tài)漏光現(xiàn)象。但是,采用Photo Spacer技術(shù)不僅成本高,還不可避免的加長了彩膜的生產(chǎn)周期，從而降低了液晶面板的生產(chǎn)效率。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，本發(fā)明實(shí)施例的目的在于提供一種間隙物的散布方法及裝置，以克服現(xiàn)有技術(shù)采用Photo Spacer技術(shù)造成的成本增加、生產(chǎn)周期長和生產(chǎn)效率低的問題。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明實(shí)施例提供如下技術(shù)方案:一種間隙物的散布裝置，包括:與存貯間隙物的管道相連的噴出口，所述間隙物在管道內(nèi)碰撞后帶同種電荷；一端與所述噴出口連接的接受基板；設(shè)置于所述接受基板與所述噴出口連接處兩側(cè)的一組偏轉(zhuǎn)線圈，當(dāng)所述間隙物從所述噴出口噴出時(shí)，接受所述偏轉(zhuǎn)線圈的偏轉(zhuǎn)控制后散布于所述接受基板上。優(yōu)選地，存貯所述間隙物的管道為不銹鋼SUS構(gòu)成。優(yōu)選地，所述一組偏轉(zhuǎn)線圈內(nèi)至少對稱包括一個(gè)左偏轉(zhuǎn)線圈和右偏轉(zhuǎn)線圈。優(yōu)選地，所述接受基板的另一端面上設(shè)置有間隙物散布標(biāo)識。優(yōu)選地，所述間隙物包括由非金屬間隔材料構(gòu)成的間隙物。優(yōu)選地，所述間隙物包括由硅材料構(gòu)成的球體。
優(yōu)選地,所述間隙物包括由樹脂材料構(gòu)成的球體?！N間隙物的散布方法,應(yīng)用于權(quán)利要求1 7中任意一項(xiàng)所述裝置，包括:按照預(yù)設(shè)速度將攜帶同種電荷的間隙物依次從噴出口噴出；當(dāng)當(dāng)前間隙物從所述噴出口噴出時(shí)，依據(jù)位于噴出口兩側(cè)的偏轉(zhuǎn)線圈構(gòu)成的均勻電場的強(qiáng)度，使所述當(dāng)前間隙物偏轉(zhuǎn)預(yù)設(shè)偏轉(zhuǎn)幅度；依次從噴出口噴出的所述間隙物按照對應(yīng)的偏轉(zhuǎn)預(yù)設(shè)幅度改變運(yùn)動(dòng)軌跡，且有序散布于接受基板上。優(yōu)選地，所述偏轉(zhuǎn)線圈構(gòu)成的均勻電場可調(diào)控；依據(jù)依次噴出的當(dāng)前間隙物調(diào)整所述均勻電場的強(qiáng)度，控制所述當(dāng)前間隙物進(jìn)行偏轉(zhuǎn)；所述均勻電場的調(diào)控強(qiáng)度各自對應(yīng)不同的預(yù)設(shè)偏轉(zhuǎn)幅度。優(yōu)選地，所述間隙物對應(yīng)有序散布于所述接受基板的間隙物散布標(biāo)識上。經(jīng)由上述的技術(shù)方案可知，與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明實(shí)施例公開了一種間隙物的散布方法及裝置。將噴出前在管道內(nèi)帶上同種電荷的SpaceH間隙物)，按照預(yù)設(shè)速度依次從噴口噴出。在當(dāng)前噴出的間隙物，即當(dāng)前Spacer從噴出口噴出時(shí)，利用偏轉(zhuǎn)線圈構(gòu)成的均勻電場的強(qiáng)度改變當(dāng)前Spacer的運(yùn)動(dòng)軌跡,使當(dāng)前Spacer在電場力的作用下產(chǎn)生偏轉(zhuǎn)后散布于接受基板上。通過上述本發(fā)明所公開的該種方案不僅能夠消除Spacer散布時(shí)是無規(guī)律的散布所帶來的問題，而且通過使用電場控制Spacer進(jìn)行有序散布，實(shí)現(xiàn)了減少開發(fā)時(shí)間、降低制作成本和提高生產(chǎn)效率的目的。


為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)提供的附圖獲得其他的附圖。圖1為本發(fā)明實(shí)施例公開的一種間隙物的散布裝置結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本發(fā)明實(shí)施例公開的一種間隙物的散布方法流程圖。
具體實(shí)施例方式為了引用和清楚起見，下文中使用的技術(shù)名詞的說明、簡寫或縮寫總結(jié)如下:Spacer:間隙物；SUS管道:不銹鋼管道。下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。為了避免無規(guī)律散布Spacer時(shí)容易使Spacer掉入像素顯示區(qū)域中，從而引起黑態(tài)漏光等造成顯示不良的問題?，F(xiàn)有技術(shù)中在彩膜側(cè)制作過程中采用Photo Spacer技術(shù)，對應(yīng)內(nèi)部顯示區(qū)外的BM區(qū)(邊框區(qū)域或面板黑框區(qū)域)，利用光微影制程進(jìn)行樹脂Spacer的散布，從而避免上述娃球Spacer造成的黑態(tài)漏光現(xiàn)象。但是,采用Photo Spacer技術(shù)不僅成本高，還不可避免的加長了彩膜的生產(chǎn)周期，從而降低了液晶面板的生產(chǎn)效率。因此，本發(fā)明實(shí)施例公開了一種新的Spacer的散布方法及裝置。將噴出前在SUS (不銹鋼)管道內(nèi)帶上同種電荷的Spacer (間隙物)，按照預(yù)設(shè)速度依次從噴口噴出。在當(dāng)前噴出的間隙物，即當(dāng)前Spacer從噴出口噴出時(shí)，利用偏轉(zhuǎn)線圈構(gòu)成的均勻電場的強(qiáng)度改變當(dāng)前Spacer的運(yùn)動(dòng)軌跡,使當(dāng)前Spacer在電場力的作用下產(chǎn)生偏轉(zhuǎn)后散布于接受基板上。通過上述本發(fā)明所公開的該種方案不僅能夠消除Spacer散布時(shí)是無規(guī)律的散布所帶來的問題，而且通過使用電場控制Spacer進(jìn)行有序散布，實(shí)現(xiàn)了減少開發(fā)時(shí)間、降低制作成本和提高生產(chǎn)效率的目的。具體過程通過以下實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)說明。實(shí)施例一如圖1所示，為本發(fā)明實(shí)施例一公開的一種Spacer的散布裝置，主要包括:管道
1、噴出口 2、接受基板3和偏轉(zhuǎn)線圈4。管道I與噴出口 2的一端相連,該管道I中則存忙有Spacer,該Spacer在該管道I中進(jìn)行碰撞后帶同種電荷。噴出口 2的另一端連接接受基板3的一端，在該噴出口 2與接受基板3的連接處兩側(cè)則設(shè)置有一組偏轉(zhuǎn)線圈4。該接受基板3未連接噴出口 2的另一端的寬度大于連接噴出口 2的一端；具體該接受基板3未連接噴出口 2的另一端為一端面，該端面上設(shè)置有Spacer散布標(biāo)識5。當(dāng)該Spacer從噴出口 2依照順序噴出時(shí)，接受偏轉(zhuǎn)線圈4的偏轉(zhuǎn)控制后，對應(yīng)接受基板3上的散布標(biāo)識5進(jìn)行有序散布。需要說明的是，位于該噴出口 2與接受基板3的連接處兩側(cè)則設(shè)置有一組偏轉(zhuǎn)線圈4具體包括一個(gè)左偏轉(zhuǎn)線圈41和右偏轉(zhuǎn)線圈42。該左偏轉(zhuǎn)線圈41和右偏轉(zhuǎn)線圈42之間能夠形成一均勻電場，并且可通過偏轉(zhuǎn)線圈對該均勻電場的強(qiáng)度進(jìn)行控制，以便于調(diào)控Spacer的偏轉(zhuǎn)幅度。另外，上述Spacer具體可以由非金屬間隔材料構(gòu)成；管道I可以具體為SUS管道，但是本發(fā)明并不僅限于此。針對上述本發(fā)明實(shí)施例公開的裝置，本發(fā)明實(shí)施例具體在執(zhí)行Spacer散布時(shí)的過程如圖2所示，主要包括以下步驟:步驟S101,按照預(yù)設(shè)速度將攜帶同種電荷的Spacer依次從噴出口噴出。在執(zhí)行步驟SlOl之前，Spacer在SUS管道中碰撞后攜帶上的同種電荷。步驟S102,當(dāng)當(dāng)前Spacer從所述噴出口噴出時(shí)，依據(jù)位于噴出口兩側(cè)的偏轉(zhuǎn)線圈構(gòu)成的均勻電場的強(qiáng)度，控制所述當(dāng)前間隙物偏轉(zhuǎn)預(yù)設(shè)偏轉(zhuǎn)幅度。步驟S103，所述當(dāng)前Spacer依據(jù)偏轉(zhuǎn)預(yù)設(shè)幅度后的運(yùn)動(dòng)軌跡散布于接受基板上。針對上述執(zhí)行過程，在執(zhí)行步驟S102和步驟S103時(shí)，所述偏轉(zhuǎn)線圈構(gòu)成的均勻電場可調(diào)控，具體為:針對依次有序從噴出口噴出的Spacer調(diào)控偏轉(zhuǎn)線圈；對于依次有序噴出的Spacer對應(yīng)不同時(shí)段調(diào)控的均勻電場的強(qiáng)度，各自對應(yīng)不同的預(yù)設(shè)偏轉(zhuǎn)幅度，使每一個(gè)Spacer被噴出時(shí)，都依據(jù)當(dāng)前調(diào)控好的均勻電場的強(qiáng)度進(jìn)行偏轉(zhuǎn)；從而按照一定的次序有序的散布于所述接受基板上。
通過上述本發(fā)明實(shí)施例公開的方案，通過電場控制噴出口 2噴出Spacer的偏轉(zhuǎn)幅度，并按照預(yù)設(shè)的幅度對每一時(shí)間段噴出的Spacer進(jìn)行偏轉(zhuǎn)控制,從而實(shí)現(xiàn)Spacer的有序散布。而且通過使用電場控制Spacer進(jìn)行有序散布，實(shí)現(xiàn)了減少開發(fā)時(shí)間、降低制作成本和提聞生廣效率的目的。實(shí)施例二在上述本發(fā)明實(shí)施例一的基礎(chǔ)上，本發(fā)明還公開了一種Spacer的散布裝置。在本發(fā)明實(shí)施例二所公開的Spacer的散布裝置中具有兩組偏轉(zhuǎn)線圈，其他結(jié)構(gòu)與本發(fā)明實(shí)施例一中所公開的散布裝置一致，這里不再進(jìn)行贅述。而增加一組偏轉(zhuǎn)線圈可以構(gòu)成更好的均勻電場，能夠更好的實(shí)現(xiàn)利用電場對Spacer有序散布的控制。另外，對于散布裝置中偏轉(zhuǎn)線圈的組數(shù)，本發(fā)明并不僅限于所公開的上述個(gè)數(shù)。需要說明的是，在本發(fā)明實(shí)施例二中該Spacer可以具體為由硅材料構(gòu)成的球體，也可以為由樹脂材料構(gòu)成的球體；上述實(shí)施例一中的管道I也可以具體為SUS管道，對于該管道I的構(gòu)成本發(fā)明并不僅限于此，只要滿足能夠使Spacer在管道內(nèi)碰撞后帶同種電荷即可。對于由樹脂材料構(gòu)成的球體Spacer,在現(xiàn)有技術(shù)中采用Photo Spacer技術(shù)所散布的Spacer材料也為樹脂，相比一般的硅球Spacer體形較大，材料較軟，在散布的過程中會占用像素開口部的面積，造成像素開口率的下降，從而引發(fā)在液晶面板顯示時(shí)出現(xiàn)水平條紋的新問題。但是，采用本發(fā)明實(shí)施例所公開的采用電場控制Spacer進(jìn)行散布,能夠使Spacer有序的散布到接受基板上，不會在散布過程中占用像素開口部的面積，因此，也不會造成像素開口率下降的問題。綜上所述:通過上述本發(fā)明實(shí)施例公開的一種新的Spacer的散布方法及裝置。將噴出前在SUS (不銹鋼)管道內(nèi)帶上同種電荷的Spacer (間隙物)，按照預(yù)設(shè)速度依次從噴口噴出。在當(dāng)前噴出的間隙物，即當(dāng)前Spacer從噴出口噴出時(shí)，利用偏轉(zhuǎn)線圈構(gòu)成的均勻電場的強(qiáng)度改變當(dāng)前Spacer的運(yùn)動(dòng)軌跡,使當(dāng)前Spacer在電場力的作用下產(chǎn)生偏轉(zhuǎn)后散布于接受基板上。通過上述本發(fā)明所公開的該種方案不僅能夠消除Spacer散布時(shí)是無規(guī)律的散布所帶來的問題，而且通過使用電場控制Spacer進(jìn)行有序散布，實(shí)現(xiàn)了減少開發(fā)時(shí)間、降低制作成本和提高生產(chǎn)效率的目的。本說明書中各個(gè)實(shí)施例采用遞進(jìn)的方式描述，每個(gè)實(shí)施例重點(diǎn)說明的都是與其他實(shí)施例的不同之處，各個(gè)實(shí)施例之間相同相似部分互相參見即可。對于實(shí)施例公開的裝置而言，由于其與實(shí)施例公開的方法相對應(yīng)，所以描述的比較簡單，相關(guān)之處參見方法部分說明即可。對所公開的實(shí)施例的上述說明，使本領(lǐng)域?qū)I(yè)技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)或使用本發(fā)明。對這些實(shí)施例的多種修改對本領(lǐng)域的專業(yè)技術(shù)人員來說將是顯而易見的，本文中所定義的一般原理可以在不脫離本發(fā)明的精神或范圍的情況下，在其它實(shí)施例中實(shí)現(xiàn)。因此，本發(fā)明將不會被限制于本文所示的這些實(shí)施例，而是要符合與本文所公開的原理和新穎特點(diǎn)相4一致的最寬的范圍。
權(quán)利要求
1.一種間隙物的散布裝置，其特征在于，包括: 與存貯間隙物的管道相連的噴出口，所述間隙物在所述管道內(nèi)碰撞后帶同種電荷； 一端與所述噴出口連接的接受基板； 設(shè)置于所述接受基板與所述噴出口連接處兩側(cè)的一組偏轉(zhuǎn)線圈，當(dāng)所述間隙物從所述噴出口噴出時(shí)，接受所述偏轉(zhuǎn)線圈的偏轉(zhuǎn)控制后散布于所述接受基板上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，存貯所述間隙物的管道由不銹鋼SUS構(gòu)成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述一組偏轉(zhuǎn)線圈內(nèi)至少對稱包括一個(gè)左偏轉(zhuǎn)線圈和右偏轉(zhuǎn)線圈。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述接受基板的另一端面上設(shè)置有間隙物散布標(biāo)識。
5.根據(jù)權(quán)利要求1 4中任意一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，所述間隙物包括由非金屬間隔材料構(gòu)成的間隙物。
6.根據(jù)權(quán)利要求1 4中任意一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，所述間隙物包括由硅材料構(gòu)成的球體。
7.根據(jù)權(quán)利要求1 4中任意一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，所述間隙物包括由樹脂材料構(gòu)成的球體。
8.一種間隙物的散布方法，其特征在于，應(yīng)用于權(quán)利要求1 7中任意一項(xiàng)所述裝置，包括: 按照預(yù)設(shè)速度將管道內(nèi)攜帶同種電荷的間隙物依次從噴出口噴出； 當(dāng)當(dāng)前間隙物從所述噴出口噴出時(shí)，依據(jù)位于噴出口兩側(cè)的偏轉(zhuǎn)線圈構(gòu)成的均勻電場的強(qiáng)度，使所述當(dāng)前間隙物偏轉(zhuǎn)預(yù)設(shè)偏轉(zhuǎn)幅度； 依次從噴出口噴出的所述間隙物按照對應(yīng)的偏轉(zhuǎn)預(yù)設(shè)幅度改變運(yùn)動(dòng)軌跡，且有序散布于接受基板上。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述偏轉(zhuǎn)線圈構(gòu)成的均勻電場可調(diào)控； 依據(jù)依次噴出的當(dāng)前間隙物調(diào)整所述均勻電場的強(qiáng)度，控制所述當(dāng)前間隙物進(jìn)行偏轉(zhuǎn); 所述均勻電場的調(diào)控強(qiáng)度各自對應(yīng)不同的預(yù)設(shè)偏轉(zhuǎn)幅度。
10.根據(jù)權(quán)利要求9或8所述的方法，其特征在于，所述間隙物對應(yīng)有序散布于所述接受基板的間隙物散布標(biāo)識上。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種間隙物的散布方法及裝置，其方法為將噴出前在管道內(nèi)帶上同種電荷的Spacer，按照預(yù)設(shè)速度依次從噴口噴出。在當(dāng)前噴出的間隙物，即當(dāng)前Spacer從噴出口噴出時(shí)，利用偏轉(zhuǎn)線圈構(gòu)成的均勻電場的強(qiáng)度改變當(dāng)前Spacer的運(yùn)動(dòng)軌跡，使當(dāng)前Spacer在電場力的作用下產(chǎn)生偏轉(zhuǎn)后散布于接受基板上。通過上述本發(fā)明所公開的該種方案不僅能夠消除Spacer散布時(shí)是無規(guī)律的散布所帶來的問題，而且通過使用電場控制Spacer進(jìn)行有序散布，實(shí)現(xiàn)了減少開發(fā)時(shí)間、降低制作成本和提高生產(chǎn)效率的目的。
文檔編號G02F1/1339GK103176312SQ20111043680
公開日2013年6月26日 申請日期2011年12月22日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月22日
發(fā)明者葉舟 申請人:上海中航光電子有限公司