專(zhuān)利名稱(chēng):用于與外涂的光刻膠一起使用的涂料組合物的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及仲班酸(parabanic acid)組合物,其作為在外涂的光刻膠下面的涂料組合物的組分來(lái)說(shuō)是特別有用的。
背景技術(shù):
光刻膠是用于將圖像轉(zhuǎn)移到基材上的感光膜。在基材上形成光刻膠涂層,然后經(jīng)光掩模將所述光刻膠層在活化射線(xiàn)源曝光。所述光掩模具有對(duì)活化射線(xiàn)不透明的區(qū)域和透明的其它區(qū)域?;罨渚€(xiàn)曝光使得光刻膠涂層發(fā)生光致轉(zhuǎn)變或化學(xué)轉(zhuǎn)變,從而將光掩模的圖案轉(zhuǎn)移到所述光刻膠涂覆的基材上。曝光后,將光刻膠顯影以提供一種允許對(duì)基材進(jìn)行選擇性加工的浮雕圖像。光刻膠主要用于半導(dǎo)體制造業(yè),目的是將高度拋光的半導(dǎo)體片如硅或砷化鎵,轉(zhuǎn)化成起電路作用的電子傳導(dǎo)路線(xiàn)的復(fù)合物基體。適當(dāng)?shù)墓饪坦に囀沁_(dá)到這一目的關(guān)鍵。雖然各種光刻工藝步驟之間存在很強(qiáng)的相關(guān)性,曝光被認(rèn)為是獲得高分辨率光刻膠圖像的最重要的步驟之一。用于曝光光刻膠的活化射線(xiàn)的反射常常會(huì)使光刻膠層上的成像的分辨率受到限制。來(lái)自基材/光刻膠界面的輻射反射會(huì)使光刻膠中的輻射強(qiáng)度產(chǎn)生空間改變,導(dǎo)致在顯影時(shí)產(chǎn)生不均勻的光刻膠線(xiàn)寬。另外,射線(xiàn)還會(huì)由基材/光刻膠界面散射到光刻膠的非預(yù)定曝光區(qū)域,從而再次產(chǎn)生線(xiàn)寬改變。已經(jīng)使用的降低射線(xiàn)反射問(wèn)題的一個(gè)途徑是在基材表面和光刻膠涂層之間插入射線(xiàn)吸收層。參見(jiàn)US2007(^6458和2010029556。電子設(shè)備制造業(yè)不斷尋求各種減反射涂層來(lái)提高光刻膠成像的分辨率。減反射
發(fā)明內(nèi)容
在一方面,提供了包含一種或多種仲班酸部分的樹(shù)脂。本發(fā)明涂料組合物優(yōu)選的樹(shù)脂可以包含一種或多種聚酯鍵。優(yōu)選的樹(shù)脂還可以包含除了仲班酸部分之外的基團(tuán)例如尿嘧啶(uracil)基團(tuán)和/或氰脲酸酯(cyanurate)基團(tuán)。在另一方面,提供了下層涂料組合物,包括下層減反射組合物,其包含著含有一種或多種仲班酸部分的組分。本發(fā)明優(yōu)選的下層涂料組合物包括這些,其包含著含有一種或多種仲班酸部分的樹(shù)脂。下層涂料組合物優(yōu)選的另外的組分包括交聯(lián)性官能度(functionality)或者材料。優(yōu)選的下層涂料組合物是作為有機(jī)溶劑組合物來(lái)配制的,用于旋涂在所希望的基底例如微電子晶片上。優(yōu)選本發(fā)明的涂料組合物在調(diào)整水接觸角處理之前被交聯(lián)。這種交聯(lián)包括硬化和在一個(gè)或多個(gè)組合物組分之間的共價(jià)鍵形成反應(yīng)。對(duì)于減反射應(yīng)用,本發(fā)明的下層組合物還包含一種組分,所述組分包含發(fā)色團(tuán)基團(tuán),所述發(fā)色團(tuán)可以吸收用于曝光外涂光刻膠層且通過(guò)反射進(jìn)入光刻膠層的不希望的射線(xiàn)。此類(lèi)發(fā)色團(tuán)可以存在于其它組合物組分如樹(shù)脂或酸產(chǎn)生劑化合物中;或者,所述組合物包含另一種包含此類(lèi)發(fā)色團(tuán)單元的組分,例如一種包含一個(gè)或多個(gè)發(fā)色團(tuán)部分例如一個(gè)或多個(gè)任選取代的苯基、任選取代的蒽或任選取代的萘基的小分子(例如,Mw低于約1000或500)。對(duì)于本發(fā)明的下層涂料組合物來(lái)說(shuō)(其是在193nm用外涂的光刻膠成像的),該仲班酸組分的仲班酸部分可以充當(dāng)有效的曝光輻射吸收性發(fā)色團(tuán)。通常優(yōu)選包含在本發(fā)明涂料組合物中的發(fā)色團(tuán)(特別是用于減反射應(yīng)用的那些)包括單環(huán)和多環(huán)芳基,如任選取代的苯基、任選取代的萘基,任選取代的蒽基、任選取代的菲基、任選取代的喹啉基,等等。特別優(yōu)選的發(fā)色團(tuán)可以隨用于曝光外涂光刻膠層的射線(xiàn)而變化。更優(yōu)選地,對(duì)于在M8nm下的外涂光刻膠曝光,減反射組合物的優(yōu)選發(fā)色團(tuán)為任選取代的蒽基和任選取代的萘基。對(duì)于在193nm下的外涂光刻膠曝光,減反射組合物的特別優(yōu)選發(fā)色團(tuán)為任選取代的苯基和任選取代的萘基。優(yōu)選此類(lèi)發(fā)色團(tuán)與所述減反射組合物的樹(shù)脂組分相連(例如,作為側(cè)基)。正如上述討論的,本發(fā)明的涂料組合物優(yōu)選是交聯(lián)組合物,并包含那些通過(guò)例如熱或活化射線(xiàn)處理會(huì)交聯(lián)或固化的原料。通常,所述組合物包含交聯(lián)劑組分,例如含胺原料如蜜胺、甘脲(glycouril)或苯苯并胍胺(benzoguanamine)化合物或樹(shù)脂。優(yōu)選地,本發(fā)明的交聯(lián)組合物可以通過(guò)熱處理所述組合物涂層而固化。合適地,涂料組合物還包含一種酸或更優(yōu)選一種酸產(chǎn)生劑化合物,特別是熱致酸產(chǎn)生劑化合物,以促進(jìn)所述交聯(lián)反應(yīng)。對(duì)于作為減反射涂料組合物,以及其它應(yīng)用如通孔-填充,優(yōu)選所述組合物在光刻膠組合物層涂覆所述組合物層之前被交聯(lián)。各種光刻膠可以與本發(fā)明的涂料組合物結(jié)合(即外涂)。與本發(fā)明的減反射組合物一起使用的優(yōu)選光刻膠是化學(xué)增強(qiáng)型光刻膠,尤其是包含一種或多種光產(chǎn)酸化合物和樹(shù)脂組分的正性光刻膠,所述樹(shù)脂組分包含能在光產(chǎn)酸存在下進(jìn)行解封或裂解反應(yīng)的單元,如光酸不穩(wěn)定的酯、縮醛、縮酮或醚單元。負(fù)性光刻膠也可以與本發(fā)明的涂料組合物一起使用,例如在活化射線(xiàn)曝光時(shí)發(fā)生交聯(lián)(即固化或硬化)的光刻膠。優(yōu)選與本發(fā)明的涂料組合物一起使用的光刻膠可以用相對(duì)較短波長(zhǎng)的射線(xiàn)成像,例如波長(zhǎng)低于300nm或低于260nm(如M8nm)的射線(xiàn),或者是波長(zhǎng)低于約200nm(如193nm)的射線(xiàn)。EUV和其他高能成像也是合適的。本發(fā)明進(jìn)一步提供了用于形成光刻膠浮雕像和新制品的方法,所述新制品包含單獨(dú)使用本發(fā)明的涂料組合物或?qū)⑵渑c光刻膠組合物結(jié)合使用涂覆的基材(如微電子晶片基材)。本發(fā)明的其它方面公開(kāi)如下。
具體實(shí)施例方式我們?cè)诖颂峁┬滦陀袡C(jī)涂料組合物,所述組合物特別適于與外涂光刻膠層一起使用。優(yōu)選本發(fā)明的涂料組合物可以用旋涂涂覆(旋涂組合物),并將其配制成溶劑組合物。本發(fā)明的涂料組合物特別適于作為減反射組合物用于外涂光刻膠和/或作為整平或通孔填充組合物用于外涂光刻膠組合物涂層。優(yōu)選本發(fā)明的下層涂料組合物會(huì)表現(xiàn)出快的反應(yīng)性蝕刻速率以及高的折射率O 1.8)和在193nm低的吸收率,這會(huì)是高級(jí)平板印刷技術(shù)應(yīng)用所需要的。另外,本發(fā)明優(yōu)選的仲班酸聚合物可以表現(xiàn)出高的熱穩(wěn)定性。本發(fā)明的仲班酸組分包括含有仲班酸(PBA)的聚合物,共聚物,三元聚合物,四元聚合物和其他高級(jí)含PBA的聚合物以及這樣的聚合物的共混物。在本發(fā)明的下層有機(jī)涂料組合物中有用的仲班酸組分能夠容易的制備。例如,仲班酸二乙酸酯化合物是一種有用的反應(yīng)劑,通常如下面的實(shí)施例所述來(lái)制備和使用。下層涂料組合物的樹(shù)脂如上所述,優(yōu)選的樹(shù)脂包括這些,其包含一種或多種仲班酸部分。合適的,該一種或多種仲班酸部分可以側(cè)接到樹(shù)脂主鏈上,或者可選擇的可以是樹(shù)脂主鏈鍵合例如通過(guò)仲班酸基團(tuán)的每個(gè)環(huán)氮來(lái)鍵合。本發(fā)明的仲班酸樹(shù)脂可以通過(guò)多種方法來(lái)合成,例如通過(guò)聚合一種或者多種包含仲班酸基團(tuán)的單體例如通過(guò)酸性或者堿性縮合反應(yīng)來(lái)合成。特別優(yōu)選的仲班酸樹(shù)脂合成在下面的實(shí)施例中闡明。優(yōu)選的,所形成的樹(shù)脂的至少大約1,2,3,4或者5%的總重復(fù)單元,更優(yōu)選所形成的樹(shù)脂的至少大約10,15,20,25,30,35,40,45,50或者55%的總重復(fù)單元包含一種或多種仲班酸部分。本發(fā)明特別優(yōu)選的仲班酸樹(shù)脂包含聚酯鍵,S卩,在本發(fā)明的某些方面聚酯樹(shù)脂是優(yōu)選的。聚酯樹(shù)脂能夠容易的通過(guò)將一種或者多種多元醇反應(yīng)劑與一種或者多種含仲班酸的反應(yīng)劑進(jìn)行反應(yīng)來(lái)制備。合適的多元醇反應(yīng)劑包括二醇,甘油和三醇,例如二醇,例如二醇是乙二醇,1,2-丙二醇,1,3-丙二醇,丁二醇,戊二醇,環(huán)丁二醇,環(huán)戊二醇,環(huán)己二醇,二羥甲基環(huán)己燒,和三醇例如甘油,三羥甲基乙烷,三羥甲基丙烷等。特別優(yōu)選的多元醇反應(yīng)劑在下面的實(shí)施例中闡明。本發(fā)明的涂料組合物的樹(shù)脂可以包含多種另外的基團(tuán),例如氰脲酸酯基團(tuán),如US專(zhuān)利6852421中所公開(kāi)的那樣。另外優(yōu)選的樹(shù)脂單元是尿嘧啶基團(tuán),例如US臨時(shí)申請(qǐng)61/428896中所公開(kāi)的那樣。特別優(yōu)選的本發(fā)明的樹(shù)脂可以包含一種或多種仲班酸基團(tuán),一種或多種聚酯鍵和任選的一種或多種氰脲酸酯基團(tuán)。如上述討論,對(duì)于減反射應(yīng)用,與一種或多種合適的化合物反應(yīng)形成包含功能為發(fā)色團(tuán)的部分的樹(shù)脂,所述發(fā)色團(tuán)部分可用于吸收用于曝光外涂光刻膠涂層的射線(xiàn)。例如,鄰苯二甲酸酯(phthalate)化合物(例如鄰苯二甲酸(phthalic acid)或鄰苯二甲酸二烷基酯(即二酯,如每個(gè)酯具有1-6個(gè)碳原子,優(yōu)選鄰苯二甲酸二甲酯或鄰苯二甲酸二乙酯)可以與芳族或非芳族多元醇以及任選的其它反應(yīng)性化合物聚合,以提供一種聚酯,所述聚酯特別適用于在低于200nm波長(zhǎng)如193nm下光刻膠成像的減反射組合物。類(lèi)似地,對(duì)用于在低于300nm波長(zhǎng)或低于200nm波長(zhǎng)如248nm或193nm下外涂光刻膠成像組合物的樹(shù)脂,可以通過(guò)聚合萘基化合物得到,如包含一個(gè)或兩個(gè)或更多羧基取代基的萘基化合物,例如萘二甲酸二烷基酯,特別是萘二甲酸二-C1-6烷基酯。反應(yīng)性蒽化合物也是優(yōu)選的,例如具有一個(gè)或多個(gè)羧基或酯基如一個(gè)或多個(gè)甲酯或乙酯基團(tuán)的蒽化合物。那些包含發(fā)色團(tuán)單元的化合物還可以包含一個(gè)或優(yōu)選兩個(gè)或更多個(gè)羥基,并與含羧基化合物反應(yīng)。例如,具有一個(gè)、兩個(gè)或更多個(gè)羥基的苯基化合物或蒽基化合物可以與含羧基化合物起反應(yīng)。
另外,用于減反射目的的下層涂料組合物可以包含發(fā)色團(tuán)單元的原料,所述發(fā)色團(tuán)單元獨(dú)立于提供水接觸角調(diào)節(jié)的樹(shù)脂組分(例如那些包含光酸-不穩(wěn)定基團(tuán)和/或堿活性基團(tuán)的樹(shù)脂)。例如,所述涂料組合物可以包含那些包含苯基、蒽基,萘基等單元的聚合物或非聚合物。然而,通常優(yōu)選一種或多種提供水接觸角調(diào)節(jié)的樹(shù)脂包含發(fā)色團(tuán)部分。優(yōu)選本發(fā)明的下層涂料組合物的樹(shù)脂(包括著含有仲班酸的樹(shù)脂)的重均分子量(Mw)為約1,000-約10,000, 000道爾頓,更優(yōu)選為約2,000-約100,000道爾頓,且數(shù)均分子量(Mn)為約500-約1,000,000道爾頓。本發(fā)明聚合物的分子量Mw或Mn)可以通過(guò)凝膠滲透色譜法合適地測(cè)定。該包含仲班酸的組分(例如包含仲班酸的樹(shù)脂)將是許多優(yōu)選的實(shí)施方案中的下層涂料組合物中的主要固體組分。如這里提到的,涂料組合物的固體指的是該涂料組合物除了溶劑載體之外的全部材料。在某些方面,該包含仲班酸的組分可以占涂料組合物的較小部分(例如小于總固體的50%),并且合適的與一種或多種其他樹(shù)脂(其不包含仲班酸取代)混合。如上所述,優(yōu)選的本發(fā)明下層涂料組合物可以例如通過(guò)熱和/或射線(xiàn)處理而被交聯(lián)。例如,優(yōu)選本發(fā)明的下層涂料組合物包含單獨(dú)的交聯(lián)劑組分,所述交聯(lián)劑組分可以與一個(gè)或多個(gè)涂料組合物的其它組分交聯(lián)。通常優(yōu)選交聯(lián)涂料組合物包含單獨(dú)的交聯(lián)劑組分。特別優(yōu)選本發(fā)明的涂料組合物包含如下獨(dú)立組分樹(shù)脂、交聯(lián)劑和酸源如熱致酸產(chǎn)生劑化合物。通常優(yōu)選通過(guò)活化所述熱致酸產(chǎn)生劑來(lái)熱弓I發(fā)所述涂料組合物的交聯(lián)。用于涂料組合物的合適的熱致酸產(chǎn)生劑化合物包括離子或者基本上中性的熱致酸產(chǎn)生劑,例如芳烴磺酸銨,用于在減反射組合物涂層固化期間催化或促進(jìn)交聯(lián)。通常一種或多種熱致酸產(chǎn)生劑在涂料組合物中的存在量為所述組合物總的干組分(除溶劑載體外的所有組分)重量的約0. l-10wt%,更優(yōu)選為總的干組分重量的約2wt%。優(yōu)選本發(fā)明的交聯(lián)型涂料組合物還包含一種交聯(lián)劑組分??梢允褂酶鞣N交聯(lián)劑,包括在希普雷公司的歐洲申請(qǐng)M2008中公開(kāi)的那些交聯(lián)劑,該公開(kāi)文獻(xiàn)以引用的方式全文插入于此。例如,合適的涂料組合物交聯(lián)劑包括胺基交聯(lián)劑如蜜胺原料,包括蜜胺樹(shù)脂,例如由氰胺工業(yè)公司(Cytec Industries)生產(chǎn)并銷(xiāo)售的下列商品Cymel 300、301、303、350、370、380、1116和1130。甘脲是特別優(yōu)選的,包括購(gòu)自氰胺工業(yè)公司(CytecIndustries)的甘脲。苯并胍胺(Benzoquanamines)和脲基原料也是適合的,包括樹(shù)脂如購(gòu)自氰胺工業(yè)公司(Cytec hdustries)商品名為Cymel 1123和1125的苯胍胺樹(shù)脂,和購(gòu)自氰胺工業(yè)公司(Cytec Industries)商品名為Powderlink 1174和1196的脲樹(shù)脂。除了從市場(chǎng)購(gòu)買(mǎi)之外,此類(lèi)胺基樹(shù)脂還可以例如通過(guò)丙烯酰胺或甲基丙烯酰胺共聚物與甲醛在含醇溶液中反應(yīng)制備,或者選擇性地通過(guò)N-烷氧基甲基丙烯酰胺或甲基丙烯酰胺與其它合適的單體共聚制備。本發(fā)明的涂料組合物的交聯(lián)劑組分的存在量通常為減反射組合物的總固體(除溶劑載體外的所有組分)的約5-50wt%,更典型地為總固體的約7-25wt%。本發(fā)明的涂料組合物,特別是用于反射控制應(yīng)用的涂料組合物,還可以包含能吸收外涂光刻膠層曝光用射線(xiàn)的其它染料化合物。其它任選的添加劑包括表面流平劑,例如,以商品名Silwet 7604購(gòu)得的流平劑,或購(gòu)自3M公司的表面活性劑FC 171或FC 431。本發(fā)明的下層涂料組合物還可以包含其它原料如光酸產(chǎn)生劑,包括如上討論的與
6外涂光刻膠組合物一起使用的光酸產(chǎn)生劑。所述光酸產(chǎn)生劑在減反射組合物中的使用的論述參見(jiàn)美國(guó)專(zhuān)利6261743。為了制備本發(fā)明的液體涂料組合物,可以將涂料組合物的組分溶于合適的溶劑中,所述溶劑如一種或多種如上所討論的氧代異丁酸酯,特別是如上述討論的甲基-2-羥基異丁酸酯;乳酸乙酯;或一種或多種二醇醚,如2-甲氧基乙醚(二甘醇二甲醚)、乙二醇單甲醚和丙二醇單甲醚;兼?zhèn)涿押土u基部分的溶劑,如甲氧基丁醇、乙氧基丁醇、甲氧基丙醇和乙氧基丙醇;甲基2-羥基異丁酸酯;酯,如甲基溶纖劑乙酸酯、乙基溶纖劑乙酸酯、丙二醇單甲醚乙酸酯、二丙二醇單甲醚乙酸酯;以及其它溶劑,如二元酸酯、碳酸丙二酯和Y-丁內(nèi)酯。溶劑中干組分的濃度取決于諸如涂覆方法等幾個(gè)因素。通常,下層涂料組合物的固含量為涂料組合物總重量的約0. 5-20wt%,優(yōu)選固含量為涂料組合物的約0. 5-10wt%。示例性光刻膠體系各種光刻膠組合物都可以與本發(fā)明的涂料組合物一起使用,包括正性和負(fù)性光酸-產(chǎn)生組合物。與本發(fā)明的減反射組合物一起使用的光刻膠典型地包含樹(shù)脂粘合劑和光活性組分,所述光活性組分典型地是光酸產(chǎn)生劑化合物。優(yōu)選地,光刻膠樹(shù)脂粘合劑具有能給成像的光刻膠組合物賦予堿性水溶液顯影性的官能團(tuán)。正如上述討論的,與本發(fā)明的下層涂料組合物一起使用的特別優(yōu)選的光刻膠是化學(xué)增強(qiáng)型光刻膠,特別是正性化學(xué)增強(qiáng)型光刻膠組合物,其中光刻膠層中經(jīng)光活化的酸引發(fā)了一種或多種組合物組分的脫保護(hù)(cbprotection)型反應(yīng),從而在光刻膠涂層的曝光和未曝光區(qū)域之間產(chǎn)生了溶解度差別。眾多化學(xué)增強(qiáng)型光刻膠組合物是已知的,例如,如美國(guó)專(zhuān)禾U No. 4,968,581 ;4,883,740 ;4,810,613 ;4,491,628 和 5,492,793 所述。本發(fā)明的涂料組合物特別適合與正性化學(xué)增強(qiáng)型光刻膠一起使用,所述光刻膠帶有能在光酸的存在下進(jìn)行解封反應(yīng)的縮醛基團(tuán)。此類(lèi)縮醛基光刻膠已經(jīng)在例如美國(guó)專(zhuān)利5,929,176和6,090,526 中描述。本發(fā)明的下層涂料組合物還可以與其它正性光刻膠一起使用,所述其它正性光刻膠包括包含帶極性官能團(tuán)如羥基或羧酸酯基的樹(shù)脂粘合劑的那些,且所述樹(shù)脂粘合劑在光刻膠組合物中的用量為足以使得所述光刻膠能用堿性水溶液顯影。通常,優(yōu)選的光刻膠樹(shù)脂粘合劑是酚醛樹(shù)脂,包括本領(lǐng)域已知的被稱(chēng)為酚醛樹(shù)脂清漆(novolak resins)的酚醛縮合物、烯基酚的均聚物和共聚物以及N-羥苯基-馬來(lái)酰亞胺的均聚物和共聚物。與本發(fā)明的下層涂料組合物一起使用的優(yōu)選的正性光刻膠含有成像有效量的光酸產(chǎn)生劑化合物和一種或多種選自以下組的樹(shù)脂1)酚樹(shù)脂,其包含能夠提供特別適于在MSnm成像的化學(xué)增強(qiáng)型正性光刻膠的酸不穩(wěn)定基團(tuán)。特別優(yōu)選的此類(lèi)樹(shù)脂包括i)包含乙烯基苯酚和丙烯酸烷基酯聚合單元的聚合物,其中所述聚合的丙烯酸烷基酯聚合單元可以在光酸的存在下進(jìn)行解封(deblock)反應(yīng)??梢赃M(jìn)行光酸引發(fā)解封反應(yīng)的丙烯酸烷基酯的示例包括,例如丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、丙烯酸甲基金剛酯、甲基丙烯酸甲基金剛酯,以及可以進(jìn)行光酸引發(fā)反應(yīng)的其它丙烯酸非環(huán)烷基酯和丙烯酸脂環(huán)基酯,例如在美國(guó)專(zhuān)利6,042,997和5,492,793中的聚合物;ii)包含乙烯基苯酚、不含羥基或羧基環(huán)上取代基的任選取代的乙烯基苯基(例如苯乙烯)和丙烯酸烷基酯(例如如上述聚合物i)中描述的那些解封基團(tuán))聚合單元的聚合物,此類(lèi)聚合物如美國(guó)專(zhuān)利6,042,997所述;和iii)包含帶有能與光酸反應(yīng)的縮醛或縮酮部分的重復(fù)單元和任選的芳族重復(fù)單元如苯基或酚基的聚合物;此類(lèi)聚合物已經(jīng)在美國(guó)專(zhuān)利5,929,176 和 6,090,526 中描述。2)樹(shù)脂,其基本上沒(méi)有或完全沒(méi)有苯基或其它芳基,并能夠提供特別適于在低于200nm如193nm波長(zhǎng)成像的化學(xué)增強(qiáng)型正性光刻膠。特別優(yōu)選的這類(lèi)樹(shù)脂包括i)包含非芳族環(huán)烯烴(環(huán)內(nèi)雙鍵)如任選取代的降冰片烯的聚合單元的聚合物,如在美國(guó)專(zhuān)利5,843,624和6,048,664中所述的聚合物;ii)包含丙烯酸烷基酯單元的聚合物,所述丙烯酸烷基酯單元例如丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、丙烯酸甲基金剛烷酯、甲基丙烯酸甲基金剛烷酯,以及其它丙烯酸非環(huán)烷酯和丙烯酸脂環(huán)酯;此類(lèi)聚合物已經(jīng)在美國(guó)專(zhuān)利6,057,083、歐洲公開(kāi)申請(qǐng)EP01008913A1和EP 00930542A1以及美國(guó)未決專(zhuān)利申請(qǐng)No. 09/143,462中描述;iii)包含聚合酸酐單元的聚合物,特別是聚合馬來(lái)酸酐和/或衣康酸酐單元,例如在歐洲已公開(kāi)申請(qǐng)EP 01008913A1和美國(guó)專(zhuān)利6,048,662中公開(kāi)的那些。3)包含帶有雜原子、特別是氧和/或硫的重復(fù)單元(但酸酐除外,即所述單元不含酮環(huán)原子)的樹(shù)脂,并且優(yōu)選該樹(shù)脂基本上或者完全不含任何芳族單元。優(yōu)選地,所述雜脂環(huán)單元與樹(shù)脂主鏈稠合,并且更優(yōu)選的是,其中樹(shù)脂包含稠合的碳脂環(huán)族單元,例如由降冰片烯基和/或酸酐單元聚合形成,例如由馬來(lái)酸酐或者衣康酸酐聚合形成。此類(lèi)樹(shù)脂在PCT/US01/14914 和美國(guó)申請(qǐng) 09/567,634 中公開(kāi)。4)包含氟取代基的樹(shù)脂(氟聚合物),例如其可以由四氟乙烯、氟化芳基如氟-苯乙烯化合物等聚合形成。此類(lèi)樹(shù)脂的實(shí)施例在例如PCT/US99/21912中公開(kāi)。用于外涂在本發(fā)明的涂料組合物上的正性或負(fù)性光刻膠中的合適光酸產(chǎn)生劑包括酰亞胺基磺酸酯,例如如下式的化合物
權(quán)利要求
1.一種涂覆的基底,所述涂覆的基底包含(a)在基底上的涂料組合物層,該涂料組合物包含這樣的組分,該組分包含一種或多種仲班酸部分;和(b)在該涂料組合物層上的光刻膠層。
2.權(quán)利要求1的基底,其中該包含一種或多種仲班酸部分的組分是樹(shù)脂。
3.權(quán)利要求2的基底,其中該樹(shù)脂包含聚酯鍵。
4.權(quán)利要求2或者3的基底,其中該樹(shù)脂進(jìn)一步包含一種或多種氰脲酸酯和/或尿嘧啶基團(tuán)。
5.一種形成光刻膠浮雕圖像的方法,所述方法包含(a)將涂料組合物施涂到基底上,該涂料組合物包含這樣的組分,該組分包含一種或多種仲班酸部分;(b)將光刻膠組合物施涂到該涂料組合物層上;和(c)曝光和顯影該光刻膠層來(lái)提供抗蝕劑浮雕圖像。
6.權(quán)利要求5的方法,其中該包含一種或多種仲班酸部分的組分是樹(shù)脂。
7.權(quán)利要求6的方法,其中該樹(shù)脂包含聚酯鍵。
8.權(quán)利要求5-7任一的方法,其中該涂料組合物包含含有苯基或者蒽基的組分。
9.權(quán)利要求5-8任一的方法,其中該光刻膠是用193nm的輻射來(lái)曝光的。
10.權(quán)利要求5-9任一的方法,其中在施涂該光刻膠組合物之前,交聯(lián)所施涂的涂料組合物。
11.一種減反射組合物,所述組合物用于與外涂的光刻膠組合物一起使用,該減反射組合物包含樹(shù)脂,該樹(shù)脂包含一種或多種仲班酸部分。
12.權(quán)利要求13的減反射組合物,其中該樹(shù)脂包含聚酯鍵。
13.權(quán)利要求11或者12的減反射組合物,其中該樹(shù)脂包含苯基。
14.權(quán)利要求11-13任一的減反射組合物,其中該組合物包含交聯(lián)劑組分。
全文摘要
用于與外涂的光刻膠一起使用的涂料組合物。提供了有機(jī)涂料組合物,特別是減反射涂料組合物,其包含這樣的組分,該組分包含一種或多種仲班酸部分。優(yōu)選本發(fā)明的組合物能夠用于減少曝光輻射從基底返回到外涂的光刻膠層中的反射和/或充當(dāng)平坦化的、保形的或者塞孔層。提供了一種涂覆的基底,所述涂覆的基底包含(a)在基底上的涂料組合物層,該涂料組合物包含這樣的組分,該組分包含一種或多種仲班酸部分;和(b)在該涂料組合物層上的光刻膠層。
文檔編號(hào)G03F7/09GK102591154SQ201110463289
公開(kāi)日2012年7月18日 申請(qǐng)日期2011年12月31日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月31日
發(fā)明者A·贊皮尼, O·昂格伊, S·克雷, V·簡(jiǎn)恩 申請(qǐng)人:羅門(mén)哈斯電子材料有限公司