專利名稱：曝光機(jī)用平臺(tái)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型是有關(guān)于一種曝光機(jī)用平臺(tái)裝置。
背景技術(shù)：
一般曝光機(jī)的平臺(tái)包括上框臺(tái)與下框臺(tái)，待曝光基板是可供放置于上框臺(tái)與下框臺(tái)之間進(jìn)行曝光作業(yè)，然而，由于上框臺(tái)通常是可供相對(duì)于下框臺(tái)位移而蓋合于下框臺(tái)上或移開上框臺(tái)，因此，如何使上框臺(tái)每次蓋合于下框臺(tái)時(shí)，都能維持其位置精度，是一個(gè)需要被改進(jìn)的課題，此外，當(dāng)待曝光基板放置于平臺(tái)時(shí)，其相對(duì)于平臺(tái)的定位精度同樣也會(huì)影響曝光精度。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，提供一種可提高曝光精度的曝光機(jī)用平臺(tái)裝置。其技術(shù)方案如下。一種曝光機(jī)用平臺(tái)裝置，包含工作平臺(tái)、對(duì)位機(jī)構(gòu)及調(diào)整機(jī)構(gòu)，其中，工作平臺(tái)包括下框臺(tái)，供放置待曝光基板；以及上框臺(tái)，能受驅(qū)動(dòng)蓋合于該下框臺(tái)或離開該下框臺(tái)；對(duì)位機(jī)構(gòu)，包括多個(gè)定位凹穴，設(shè)置于該上框臺(tái)；以及多個(gè)定位銷組，設(shè)置于該下框臺(tái)，每一定位銷組包括可彈性往上凸出該下框臺(tái)的第一銷件，當(dāng)該上框臺(tái)蓋合于該下框臺(tái)，該定位銷組的第一銷件分別伸入該定位凹穴；調(diào)整機(jī)構(gòu)，包括活動(dòng)平臺(tái)，設(shè)置于該下框臺(tái)并且能受驅(qū)動(dòng)相對(duì)于該下框臺(tái)位移；第二銷件，設(shè)置于該活動(dòng)平臺(tái)并且能受驅(qū)動(dòng)穿設(shè)于該待曝光基板，帶動(dòng)該待曝光基板隨該活動(dòng)平臺(tái)相對(duì)于該下框臺(tái)位移。優(yōu)選的，每一定位銷組還包括殼件、線性襯套以及彈簧，該殼件設(shè)置固定于該下框臺(tái)，該彈簧與該第一銷件設(shè)置于該殼件內(nèi)，該彈簧提供該第一銷件可彈性往上凸出的彈力， 該線性襯套套設(shè)于該第一銷件并且位于該殼件內(nèi)。優(yōu)選的，每一定位銷組的殼件包括頂部開放的下殼體以及結(jié)合于該下殼體的上套筒，該彈簧容納于該下殼體內(nèi)，該第一銷件位于該上套筒并且具有往上凸出該上套筒并且概呈截頭錐狀的端部，該上套筒內(nèi)壁面形成有環(huán)狀凸緣，該線性襯套容納于該上套筒內(nèi)并且受承托于該環(huán)狀凸緣上。優(yōu)選的，該線性襯套為滾珠套筒。優(yōu)選的，該下框臺(tái)包括下框體與設(shè)置于該下框體的下曝光底片，該下曝光底片設(shè)有第一定位孔，該待曝光基板具有用以對(duì)應(yīng)該第一定位孔的第二定位孔，該第二銷件包括控制閥、連接該控制閥的桿件以及直立管體，該直立管體往上穿伸出該第一定位孔并且頂端往下延伸形成有多個(gè)槽縫，該槽縫于該直立管體界定出多個(gè)活動(dòng)片，該桿件穿設(shè)于該直立管體且頂端往外徑向延伸形成有頭部，該桿件底端連接該控制閥，該桿件能受該控制閥驅(qū)動(dòng)相對(duì)于該直立管體往下位移，通過該頭部將該直立管體的該活動(dòng)片徑向撐抵于該待曝光基板之第二定位孔內(nèi)孔緣。優(yōu)選的，所述調(diào)整機(jī)構(gòu)還包括基座；第一馬達(dá)，設(shè)置于該基座；第一軸向平臺(tái)，設(shè)置于該基座與該活動(dòng)平臺(tái)之間；第一傳動(dòng)軸，連接該第一馬達(dá)并且具有偏心軸段，該第一軸向平臺(tái)抵接于該偏心軸段而能隨該偏心軸段之旋轉(zhuǎn)帶動(dòng)該活動(dòng)平臺(tái)沿第一軸向相對(duì)于該下框臺(tái)位移；第一套環(huán)，可相對(duì)旋轉(zhuǎn)的套設(shè)于該第一傳動(dòng)軸的偏心軸段；以及第一彈簧，連接該第一軸向平臺(tái)與該第一套環(huán)。優(yōu)選的，所述調(diào)整機(jī)構(gòu)還包括第二馬達(dá)，設(shè)置于該基座；第二軸向平臺(tái)，設(shè)置于該基座與該活動(dòng)平臺(tái)之間；第二傳動(dòng)軸，連接該第二馬達(dá)并且具有偏心軸段，該第二軸向平臺(tái)抵接于該偏心軸段而能隨該偏心軸段之旋轉(zhuǎn)帶動(dòng)該活動(dòng)平臺(tái)沿垂直該第一軸向的第二軸向相對(duì)于該下框臺(tái)位移；第二套環(huán)，可相對(duì)旋轉(zhuǎn)的套設(shè)于該第二傳動(dòng)軸的偏心軸段；以及第二彈簧，連接該第二軸向平臺(tái)與該第二套環(huán)。優(yōu)選的，所述調(diào)整機(jī)構(gòu)還包括第一旋轉(zhuǎn)軸，設(shè)置于該第一軸向平臺(tái)與該活動(dòng)平臺(tái)之間，使該活動(dòng)平臺(tái)與該第一軸向平臺(tái)能相對(duì)旋轉(zhuǎn)；第二旋轉(zhuǎn)軸，設(shè)置于該第二軸向平臺(tái)與該活動(dòng)平臺(tái)之間，使該活動(dòng)平臺(tái)與該第二軸向平臺(tái)能相對(duì)旋轉(zhuǎn)。優(yōu)選的，所述調(diào)整機(jī)構(gòu)還包括第三馬達(dá)，設(shè)置于該基座；第三軸向平臺(tái)，設(shè)置于該基座與該活動(dòng)平臺(tái)之間；第三傳動(dòng)軸，連接該第三馬達(dá)并且具有偏心軸段，該第三軸向平臺(tái)抵接于該偏心軸段而能隨該偏心軸段之旋轉(zhuǎn)帶動(dòng)該活動(dòng)平臺(tái)沿該第二軸向相對(duì)于該下框臺(tái)位移；第三套環(huán)，可相對(duì)旋轉(zhuǎn)的套設(shè)于該第三傳動(dòng)軸的偏心軸段；第三彈簧，連接該第三軸向平臺(tái)與該第三套環(huán)；第三旋轉(zhuǎn)軸，設(shè)置于該第三軸向平臺(tái)與該活動(dòng)平臺(tái)之間，使該活動(dòng)平臺(tái)與該第三軸向平臺(tái)能相對(duì)旋轉(zhuǎn)。綜上所述，本實(shí)用新型曝光機(jī)用平臺(tái)裝置同時(shí)具有針對(duì)該工作平臺(tái)本身的定位機(jī)制與該待曝光基板相對(duì)于該工作平臺(tái)的定位機(jī)制，以此提高曝光精度。

圖1是本實(shí)用新型曝光機(jī)用平臺(tái)裝置的實(shí)施例中，下框臺(tái)與調(diào)整機(jī)構(gòu)的立體圖；圖2是工作平臺(tái)的側(cè)視分解圖；圖3是定位本體的側(cè)視圖；[0040]圖4是定位銷組的立體圖；圖5是定位銷組的分解圖；圖6是定位銷組的剖視圖；圖7是下框臺(tái)的俯視圖；圖8是調(diào)整機(jī)構(gòu)的立體圖；圖9是調(diào)整機(jī)構(gòu)的底視圖；圖10是第一平臺(tái)模組的立體圖；圖11是第一平臺(tái)模組的部分元件分解圖；圖12是第二銷件的分解圖；圖13是第二銷件的側(cè)視透視圖；附圖標(biāo)記說明1、工作平臺(tái)，100、待曝光基板，101、第二定位孔，11、下框臺(tái)，111、下框體，112、下曝光底片，113、第一定位孔，12、上框臺(tái)，121、上框體，122、上曝光底片，2、對(duì)位機(jī)構(gòu)，21、定位凹穴，22、定位銷組，23、定位本體，24、第一銷件，241、端部，25、殼件，251、上套筒，251a、 鎖固環(huán)片，251b、環(huán)狀凸緣，252、下殼體，253、頂蓋，2 、底板，26、彈簧，27、線性襯套，271、 套筒本體，272、滾珠，3、調(diào)整機(jī)構(gòu)，31、基座，32、活動(dòng)平臺(tái)，33、第二銷件，34、第一平臺(tái)模組， 341、第一軸向平臺(tái)，341a、第一凸出部，342、第一 X軸滑軌滑塊組，343、第一 Y軸滑軌滑塊組，；344、第一馬達(dá)，；345、第一傳動(dòng)軸，345a、偏心軸段，；346、第一固定架，；347、第一套環(huán)，348, 第一旋轉(zhuǎn)軸，349、第一彈簧，35、第二平臺(tái)模組，351、第二軸向平臺(tái)，351a、第二凸出部，352、 第二 X軸滑軌滑塊組，353、第二 Y軸滑軌滑塊組，3M、第二馬達(dá)，355、第二傳動(dòng)軸，355a、偏心軸段，356、第二固定架，357、第二套環(huán)，358、第二旋轉(zhuǎn)軸，359、第二彈簧，36、第三平臺(tái)模組，37、桿件，370、桿體，371、頭部，38、座體，381、水平部，382、延伸部，383、通孔，39、控制閥，40、直立管體，401、第一管段，402、第二管段，403、槽縫，404、活動(dòng)片。
具體實(shí)施方式
下面對(duì)本實(shí)用新型的實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)說明。參閱圖1與圖2，本實(shí)用新型曝光機(jī)用平臺(tái)裝置的一個(gè)較佳實(shí)施例適于設(shè)置于機(jī)臺(tái)，該平臺(tái)裝置包含工作平臺(tái)1、對(duì)位機(jī)構(gòu)2與調(diào)整機(jī)構(gòu)3，且本實(shí)施例之曝光機(jī)為雙面曝光機(jī)，但其并不以此為限，該曝光機(jī)也可以是單面曝光機(jī)。工作平臺(tái)1設(shè)置于機(jī)臺(tái)上對(duì)應(yīng)于曝光光源并可供放置待曝光基板100，用以對(duì)放置在工作平臺(tái)1的待曝光基板100進(jìn)行曝光。具體而言，本實(shí)施例的工作平臺(tái)1包括下框臺(tái)11、能受驅(qū)動(dòng)相對(duì)于下框臺(tái)11往下位移而蓋合或往上遠(yuǎn)離的上框臺(tái)12。下框臺(tái)11具有下框體111以及設(shè)置在下框體111中央的下曝光底片112，上框臺(tái)12具有上框體121以及設(shè)置在上框體121中央的上曝光底片 122，待曝光基板100可供放置在下框臺(tái)11的下曝光底片112與上框臺(tái)12的上曝光底片 122之間，待上框臺(tái)12受驅(qū)動(dòng)蓋合于下框臺(tái)11后，通過曝光光源同時(shí)對(duì)待曝光基板100的兩側(cè)表面進(jìn)行曝光。本實(shí)施例中，下框臺(tái)11的下曝光底片112鄰近前緣處設(shè)有左右相間隔的二第一定位孔113，而待曝光基板100鄰近前緣處設(shè)有二第二定位孔101 (見圖1 ，當(dāng)待曝光基板 100放置于下曝光底片112上時(shí)，其兩個(gè)第二定位孔101分別對(duì)應(yīng)到兩第一定位孔113，且
6本實(shí)施例中，第一定位孔113的孔徑大于第二定位孔101孔徑。對(duì)位機(jī)構(gòu)2包括多個(gè)定位凹穴21與多個(gè)定位銷組22，定位銷組22設(shè)置于下框臺(tái) 11的下框體111，定位凹穴21設(shè)置于上框臺(tái)12的上框體121，當(dāng)上框臺(tái)12蓋合于下框臺(tái) 11時(shí)，定位銷組22的位置分別對(duì)齊定位凹穴21的位置。參閱圖2、圖3，本實(shí)施例中，對(duì)位機(jī)構(gòu)2還包括多個(gè)定位本體23，該定位本體23大致呈柱狀嵌設(shè)于上框臺(tái)12的上框體121，前述的定位凹穴21是分別凹陷形成于該定位本體 23。參閱圖2、圖4至圖6，每一定位銷組22包括第一銷件24、殼件25、彈簧沈與線性襯套27。殼件25設(shè)置于下框臺(tái)11的下框體111，第一銷件M與彈簧沈設(shè)置于殼件25，第一銷件M具有概呈截頭錐狀的端部M1，第一銷件M通過彈簧沈提供的偏壓力使其端部 241可彈性的往上凸出殼件25。更具體而言，殼件25包括可上下相結(jié)合的上套筒251與下殼體252、頂蓋253、底板254，上套筒251呈兩端開放的中空筒狀結(jié)構(gòu)，且上套筒251的外壁面往外徑向凸出形成有鎖固環(huán)片251a，上套筒251內(nèi)壁面徑向凸出形成有環(huán)狀凸緣251b， 第一銷件M穿伸在上套筒251并且其端部241往上凸出上套筒251，底板2M鎖固于第一銷件M底端并且位于上套筒251的底端，線性襯套27為滾珠套筒，包括套筒本體271以及多個(gè)嵌設(shè)在套筒本體271的滾珠272，線性襯套27容置在上套筒251內(nèi)并且受承托于環(huán)狀凸緣251b上方，且線性襯套27套設(shè)在第一銷件M外，線性襯套27的滾珠272同時(shí)與第一銷件M的外壁面以及上套筒251的內(nèi)壁面接觸，頂蓋253大致呈環(huán)狀結(jié)合在上套筒251的頂端，頂蓋253的設(shè)置使得第一銷件24的端部241可往上凸出上套筒251，并且將線性襯套27限制于頂蓋253與環(huán)狀凸緣251b之間。下殼體252呈底部封閉而頂部開放的中空結(jié)構(gòu)，上套筒251底端是固定于下殼體252頂端而使得兩者的空間相連通，彈簧沈是容置在下殼體252內(nèi)并且兩端分別抵接于下殼體252與底板2M之間，換言之，彈簧沈可視為是抵接在第一銷件M與下殼體252之間，由此使得第一銷件M的端部241可彈性的往上凸出上套筒251，整個(gè)定位銷組22是通過鎖固環(huán)片251a鎖固于下框臺(tái)11的下框體111并且第一銷件M的端部241往上穿伸通過下框體111而凸出下框體111的頂面。本實(shí)用新型通過線性襯套27的設(shè)置，使第一銷件M與線性襯套27的滾珠272保持接觸，除了消除第一銷件M與上套筒251之間的間隙，使第一銷件M不會(huì)產(chǎn)生相對(duì)于上套筒251的徑向位移之外(也就是下框臺(tái)11水平方向的位移)，通過線性襯套27的導(dǎo)引， 也使第一銷件M只能有上下方向的活動(dòng)自由度，當(dāng)上框臺(tái)12往下鄰近下框臺(tái)11使定位凹穴21與第一銷件M嵌合時(shí)，便可確保上框臺(tái)12與下框臺(tái)11之間的對(duì)位精度，而不會(huì)發(fā)生雖然定位凹穴21與第一銷件M嵌合，但卻由于第一銷件M的偏移誤差而導(dǎo)致上、下框臺(tái) 12、11并未達(dá)成正確對(duì)位的現(xiàn)象，且線性襯套27的設(shè)置也可避免第一銷件M相對(duì)于上套筒 251上下位移時(shí)，與上套筒251產(chǎn)生相對(duì)摩擦。而通過截頭圓錐狀的定位凹穴21與第一銷件M端部Ml的外型導(dǎo)引，當(dāng)上平臺(tái) 12往下鄰近下平臺(tái)11時(shí)，能導(dǎo)引第一銷件M的端部241較順利的伸入定位凹穴21內(nèi)，并且確保上框臺(tái)12蓋合于下框臺(tái)11的定位精度，且通過定位凹穴21與定位銷組22的配合， 即使上框臺(tái)12被反復(fù)相對(duì)于下框臺(tái)11掀合，仍可維持其定位精度。參閱圖1、圖7至圖9，調(diào)整機(jī)構(gòu)3包括基座31、活動(dòng)平臺(tái)32、一對(duì)第二銷件33、第一平臺(tái)模組34、第二平臺(tái)模組35與第三平臺(tái)模組36?；?1設(shè)置于下框臺(tái)11的下框體
7111，活動(dòng)平臺(tái)32通過第一平臺(tái)模組34、第二平臺(tái)模組35、第三平臺(tái)模組36設(shè)置于基座31 并且能受驅(qū)動(dòng)相對(duì)于基座31位移，第二銷件33設(shè)置于活動(dòng)平臺(tái)32而能隨活動(dòng)平臺(tái)32位移，且第二銷件33是對(duì)應(yīng)于下框臺(tái)11的下曝光底片112的第一定位孔113下方。參閱圖9至圖11，具體而言，第一平臺(tái)模組34包括第一軸向平臺(tái)341、第一 X軸滑軌滑塊組342、第一 Y軸滑軌滑軌組343、第一馬達(dá)344、第一傳動(dòng)軸345、第一固定架346、 第一套環(huán)347、第一旋轉(zhuǎn)軸348以及第一彈簧349。第一 X軸滑軌滑塊組342設(shè)置于第一軸向平臺(tái)341與基座31之間，提供第一軸向平臺(tái)341能相對(duì)于基座31沿第一軸向位移，本實(shí)施例所指的第一軸向?yàn)閄軸方向，第一 Y軸滑軌滑塊組343設(shè)置于第一軸向平臺(tái)341與活動(dòng)平臺(tái)32之間，提供第一軸向平臺(tái)341能相對(duì)于基座31沿垂直第一軸向的第二軸向位移， 本實(shí)施例所指第二軸向即為Y軸方向，第一旋轉(zhuǎn)軸348設(shè)置于第一 Y軸滑軌滑塊組343與活動(dòng)平臺(tái)32之間，使第一軸向平臺(tái)341與活動(dòng)平臺(tái)32能相對(duì)旋轉(zhuǎn)，本實(shí)施例的第一固定架 346大致呈U型結(jié)構(gòu)結(jié)合固定于基座31，第一馬達(dá)344架設(shè)于第一固定架346，第一傳動(dòng)軸 345與第一馬達(dá)344動(dòng)力連接并且具有偏心軸段34 ，第一套環(huán)347可相對(duì)旋轉(zhuǎn)的套設(shè)于第一傳動(dòng)軸；345的偏心軸段345a，第一軸向平臺(tái)341凸出形成有抵接于第一傳動(dòng)軸345之偏心軸段34 的第一凸出部341a，第一彈簧349兩端分別連接第一套環(huán)347與第一軸向平臺(tái)341，第一彈簧349的設(shè)置使第一軸向平臺(tái)341的第一凸出部341a恒抵接于第一傳動(dòng)軸 345的偏心軸段34 ，優(yōu)選的，第一傳動(dòng)軸345的偏心軸段34 也可更套設(shè)軸承，供第一軸向平臺(tái)341的第一凸出部341a靠抵，避免第一軸向平臺(tái)341的第一凸出部341a長(zhǎng)期與第一傳動(dòng)軸；345的偏心軸段34 直接接觸摩擦而容易損壞。當(dāng)?shù)谝获R達(dá)344帶動(dòng)第一傳動(dòng)軸345旋轉(zhuǎn)時(shí)，第一軸向平臺(tái)341即隨偏心軸段 345a的旋轉(zhuǎn)而相對(duì)于基座31沿X軸方向位移，并且通過推動(dòng)第一 Y軸滑軌滑塊組343而連動(dòng)活動(dòng)平臺(tái)32相對(duì)于基座31沿X軸方向位移。第二平臺(tái)模組35包括第二軸向平臺(tái)351、第二 X軸滑軌滑塊組352、第二 Y軸滑軌滑軌組353、第二馬達(dá)354、第二傳動(dòng)軸355、第二固定架356、第二套環(huán)357、第二旋轉(zhuǎn)軸 358、第二彈簧359。第二 X軸滑軌滑塊組352設(shè)置于第一軸向平臺(tái)341與活動(dòng)平臺(tái)32之間，提供第二軸向平臺(tái)351能相對(duì)于活動(dòng)平臺(tái)32沿第一軸向(即本實(shí)施例的X軸方向)位移，第二旋轉(zhuǎn)軸358設(shè)置于第二 X軸滑軌滑塊組352與活動(dòng)平臺(tái)32之間，使第二 X軸滑軌滑塊組352與活動(dòng)平臺(tái)32能相對(duì)旋轉(zhuǎn)，第二 Y軸滑軌滑塊組353設(shè)置于第二軸向平臺(tái)351 與基座31之間，提供第二軸向平臺(tái)351能相對(duì)于基座31沿第二軸向(即本實(shí)施例的Y軸方向)位移，第二固定架356結(jié)合固定于基座31，第二馬達(dá)3M架設(shè)于第二固定架356，第二傳動(dòng)軸355與第二馬達(dá)3M動(dòng)力連接并且具有偏心軸段35 ，第二套環(huán)357可相對(duì)旋轉(zhuǎn)的套設(shè)于第二傳動(dòng)軸355的偏心軸段35 ，第二軸向平臺(tái)351凸出形成有抵接于第二傳動(dòng)軸 355之偏心軸段35 的第二凸出部351a，第二彈簧359兩端分別連接于第二套環(huán)357與第二軸向平臺(tái)351，使第二軸向平臺(tái)351的第二凸出部351a恒抵接于第二傳動(dòng)軸355的偏心軸段35 ，前述第二平臺(tái)模組35的元件結(jié)構(gòu)大致與第一平臺(tái)模組34相同，且優(yōu)選的，第二傳動(dòng)軸355的偏心軸段35 也可更套設(shè)軸承，供第二軸向平臺(tái)351的第二凸出部351a靠抵，避免第二軸向平臺(tái)351的第二凸出部351a長(zhǎng)期與第二傳動(dòng)軸355的偏心軸段35 直接接觸摩擦而容易損壞。當(dāng)?shù)诙R達(dá)3M帶動(dòng)第二傳動(dòng)軸355旋轉(zhuǎn)時(shí)，第二軸向平臺(tái)351即隨偏心軸段355a的旋轉(zhuǎn)而相對(duì)于基座31沿Y軸方向位移，并且通過推動(dòng)第二 X軸滑軌滑塊組352而連動(dòng)活動(dòng)平臺(tái)32相對(duì)于基座31沿Y軸方向位移。第三平臺(tái)模組36與第二平臺(tái)模組35左右相間隔設(shè)置于基座31與活動(dòng)平臺(tái)32之間，且其結(jié)構(gòu)大致與第二平臺(tái)模組35相同，關(guān)于第三平臺(tái)模組36的細(xì)部結(jié)構(gòu)，于此便不再重復(fù)說明。參閱圖1、圖7、圖12、圖13，本實(shí)施例中，兩第二銷件33設(shè)置于活動(dòng)平臺(tái)32并且分別往上穿伸出下框臺(tái)11的兩第一定位孔113。每一第二銷件33包括座體38、控制閥39、 直立管體40與桿件37，座體38用以鎖固在活動(dòng)平臺(tái)32并且位于下框臺(tái)11的下曝光底片 112下方，本實(shí)施例中，座體38大致呈上下倒置的L型結(jié)構(gòu)并且具有水平部381及由水平部 381往下延伸的延伸部382，且水平部381設(shè)有縱向貫穿的通孔383，通孔383的位置對(duì)應(yīng)下曝光底片112的第一定位孔113，控制閥39為例如氣壓驅(qū)動(dòng)的控制閥，設(shè)置固定于座體38 的延伸部382而位于水平部381的下方，直立管體40穿設(shè)于水平部381并且位于控制閥39 的上方，本實(shí)施例中，直立管體40具有第一管段401、由第一管段401更往上延伸且外徑小于第一管段401的第二管段402、多數(shù)軸向設(shè)置在第二管段402的相間隔槽縫403，該些槽縫403將第二管段402管壁分隔成多數(shù)活動(dòng)片404，且第二管段402往上穿伸出下框臺(tái)11 的第一定位孔113，且第一定位孔113的孔徑是使得第二管段402能于第一定位孔113內(nèi)有一定程度的位移量。桿件37包括桿體370以及由桿體370頂端徑向延伸形成的頭部371，桿件37的桿體370穿設(shè)于直立管體40且其底端與控制閥39連接，桿件37的頭部371往上外露出直立管體40的第二管段402。當(dāng)桿件37受控制閥39驅(qū)動(dòng)位移時(shí)，會(huì)相對(duì)于直立管體40往下位移并且通過其頭部371將直立管體40頂端末段往外徑向撐開。該調(diào)整機(jī)構(gòu)3的作用在于，當(dāng)待曝光基板100放置于下框臺(tái)11上時(shí)，通過使第二銷件33的第二管段402穿過待曝光基板100的第二定位孔101，當(dāng)需要調(diào)整待曝光基板100 相對(duì)于下曝光底片112的位置時(shí)，先驅(qū)動(dòng)兩第二銷件33的桿件37相對(duì)于直立管體40往下位移，將直立管體40的活動(dòng)片404往外撐抵于待曝光基板100的第二定位孔101內(nèi)孔緣， 接著再通過第一平臺(tái)模組34、第二平臺(tái)模組35、第三平臺(tái)模組36帶動(dòng)活動(dòng)平臺(tái)32與第二銷件33相對(duì)于下曝光底片112位移，即可帶動(dòng)待曝光基板100相對(duì)于于下曝光底片112位移，進(jìn)而調(diào)整待曝光基板100相對(duì)于下曝光底片112的位置。值得一提的是，由于第一彈簧349、第二彈簧359是通過第一套環(huán)347、第二套環(huán) 357套設(shè)在第一傳動(dòng)軸345、第二傳動(dòng)軸355的偏心軸段34fe、355a，當(dāng)?shù)谝获R達(dá)344、第二馬達(dá)邪4轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，第一彈簧349、第二彈簧359是整體隨著第一軸向平臺(tái)341、第二軸向平臺(tái) 351同時(shí)位移且第一彈簧349、第二彈簧359本身并不會(huì)被拉伸或壓縮，因此，便可避免因第一彈簧349、第二彈簧359的彈性疲乏而造成第一馬達(dá)344、第二馬達(dá)3M與第一軸向平臺(tái) 341、第二軸向平臺(tái)351之間傳動(dòng)不確實(shí)的問題。此外，由于該些活動(dòng)片404是通過桿件37的頭部371往下位移而被往外撐開抵住待曝光基板100的第二定位孔101內(nèi)緣，因此，直立管體40撐抵在第二定位孔101內(nèi)緣的結(jié)構(gòu)具有較高的剛性，較不易產(chǎn)生變形，且此舉亦可消除第二銷件33與第二定位孔101之間的間隙，避免影響待曝光基板100的位移精確度。[0073]綜上所述，本實(shí)用新型除通過對(duì)位機(jī)構(gòu)2的設(shè)置可確保上框臺(tái)12與下框臺(tái)11的定位精度以外，更通過調(diào)整機(jī)構(gòu)3的設(shè)置，使得待曝光基板100相對(duì)于工作平臺(tái)1的位置也可供調(diào)整，因此，整體而言，該曝光機(jī)同時(shí)具有針對(duì)工作平臺(tái)1本身的定位機(jī)制與待曝光基板100相對(duì)于工作平臺(tái)1的定位機(jī)制，由此更能提高曝光精度。以上僅為本實(shí)用新型的具體實(shí)施例，并不以此限定本實(shí)用新型的保護(hù)范圍；在不違反本實(shí)用新型構(gòu)思的基礎(chǔ)上所作的任何替換與改進(jìn)，均屬本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1.一種曝光機(jī)用平臺(tái)裝置，其特征在于，包含工作平臺(tái)、對(duì)位機(jī)構(gòu)及調(diào)整機(jī)構(gòu)，其中， 工作平臺(tái)包括下框臺(tái)，供放置待曝光基板；以及上框臺(tái)，能受驅(qū)動(dòng)蓋合于該下框臺(tái)或離開該下框臺(tái)；對(duì)位機(jī)構(gòu)，包括多個(gè)定位凹穴，設(shè)置于該上框臺(tái)；以及多個(gè)定位銷組，設(shè)置于該下框臺(tái)， 每一定位銷組包括可彈性往上凸出該下框臺(tái)的第一銷件，當(dāng)該上框臺(tái)蓋合于該下框臺(tái)，該定位銷組的第一銷件分別伸入該定位凹穴；調(diào)整機(jī)構(gòu)，包括活動(dòng)平臺(tái)，設(shè)置于該下框臺(tái)并且能受驅(qū)動(dòng)相對(duì)于該下框臺(tái)位移；第二銷件，設(shè)置于該活動(dòng)平臺(tái)并且能受驅(qū)動(dòng)穿設(shè)于該待曝光基板，帶動(dòng)該待曝光基板隨該活動(dòng)平臺(tái)相對(duì)于該下框臺(tái)位移。
2.如權(quán)利要求1所述曝光機(jī)用平臺(tái)裝置，其特征在于，每一定位銷組還包括殼件、線性襯套以及彈簧，該殼件設(shè)置固定于該下框臺(tái)，該彈簧與該第一銷件設(shè)置于該殼件內(nèi)，該彈簧提供該第一銷件可彈性往上凸出的彈力，該線性襯套套設(shè)于該第一銷件并且位于該殼件內(nèi)。
3.如權(quán)利要求2所述曝光機(jī)用平臺(tái)裝置，其特征在于，每一定位銷組的殼件包括頂部開放的下殼體以及結(jié)合于該下殼體的上套筒，該彈簧容納于該下殼體內(nèi)，該第一銷件位于該上套筒并且具有往上凸出該上套筒并且概呈截頭錐狀的端部，該上套筒內(nèi)壁面形成有環(huán)狀凸緣，該線性襯套容納于該上套筒內(nèi)并且受承托于該環(huán)狀凸緣上。
4.如權(quán)利要求3所述曝光機(jī)用平臺(tái)裝置，其特征在于，該線性襯套為滾珠套筒。
5.如權(quán)利要求1所述曝光機(jī)用平臺(tái)裝置，其特征在于，該下框臺(tái)包括下框體與設(shè)置于該下框體的下曝光底片，該下曝光底片設(shè)有第一定位孔，該待曝光基板具有用以對(duì)應(yīng)該第一定位孔的第二定位孔，該第二銷件包括控制閥、連接該控制閥的桿件以及直立管體，該直立管體往上穿伸出該第一定位孔并且頂端往下延伸形成有多個(gè)槽縫，該槽縫于該直立管體界定出多個(gè)活動(dòng)片，該桿件穿設(shè)于該直立管體且頂端往外徑向延伸形成有頭部，該桿件底端連接該控制閥，該桿件能受該控制閥驅(qū)動(dòng)相對(duì)于該直立管體往下位移，通過該頭部將該直立管體的該活動(dòng)片徑向撐抵于該待曝光基板之第二定位孔內(nèi)孔緣。
6.如權(quán)利要求5所述曝光機(jī)用平臺(tái)裝置，其特征在于，調(diào)整機(jī)構(gòu)還包括 基座；第一馬達(dá)，設(shè)置于該基座；第一軸向平臺(tái)，設(shè)置于該基座與該活動(dòng)平臺(tái)之間；第一傳動(dòng)軸，連接該第一馬達(dá)并且具有偏心軸段，該第一軸向平臺(tái)抵接于該偏心軸段而能隨該偏心軸段之旋轉(zhuǎn)帶動(dòng)該活動(dòng)平臺(tái)沿第一軸向相對(duì)于該下框臺(tái)位移； 第一套環(huán)，可相對(duì)旋轉(zhuǎn)的套設(shè)于該第一傳動(dòng)軸的偏心軸段；以及第一彈簧，連接該第一軸向平臺(tái)與該第一套環(huán)。
7.如權(quán)利要求6所述曝光機(jī)用平臺(tái)裝置，其特征在于，調(diào)整機(jī)構(gòu)還包括 第二馬達(dá)，設(shè)置于該基座；第二軸向平臺(tái)，設(shè)置于該基座與該活動(dòng)平臺(tái)之間；第二傳動(dòng)軸，連接該第二馬達(dá)并且具有偏心軸段，該第二軸向平臺(tái)抵接于該偏心軸段而能隨該偏心軸段之旋轉(zhuǎn)帶動(dòng)該活動(dòng)平臺(tái)沿垂直該第一軸向的第二軸向相對(duì)于該下框臺(tái)位移；第二套環(huán)，可相對(duì)旋轉(zhuǎn)的套設(shè)于該第二傳動(dòng)軸的偏心軸段；以及第二彈簧，連接該第二軸向平臺(tái)與該第二套環(huán)。
8.如權(quán)利要求7所述曝光機(jī)用平臺(tái)裝置，其特征在于，調(diào)整機(jī)構(gòu)還包括第一旋轉(zhuǎn)軸，設(shè)置于該第一軸向平臺(tái)與該活動(dòng)平臺(tái)之間，使該活動(dòng)平臺(tái)與該第一軸向平臺(tái)能相對(duì)旋轉(zhuǎn)；第二旋轉(zhuǎn)軸，設(shè)置于該第二軸向平臺(tái)與該活動(dòng)平臺(tái)之間，使該活動(dòng)平臺(tái)與該第二軸向平臺(tái)能相對(duì)旋轉(zhuǎn)。
9.如權(quán)利要求8所述曝光機(jī)用平臺(tái)裝置，其特征在于，調(diào)整機(jī)構(gòu)還包括 第三馬達(dá)，設(shè)置于該基座；第三軸向平臺(tái)，設(shè)置于該基座與該活動(dòng)平臺(tái)之間；第三傳動(dòng)軸，連接該第三馬達(dá)并且具有偏心軸段，該第三軸向平臺(tái)抵接于該偏心軸段而能隨該偏心軸段之旋轉(zhuǎn)帶動(dòng)該活動(dòng)平臺(tái)沿該第二軸向相對(duì)于該下框臺(tái)位移； 第三套環(huán)，可相對(duì)旋轉(zhuǎn)的套設(shè)于該第三傳動(dòng)軸的偏心軸段； 第三彈簧，連接該第三軸向平臺(tái)與該第三套環(huán)；第三旋轉(zhuǎn)軸，設(shè)置于該第三軸向平臺(tái)與該活動(dòng)平臺(tái)之間，使該活動(dòng)平臺(tái)與該第三軸向平臺(tái)能相對(duì)旋轉(zhuǎn)。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種曝光機(jī)用平臺(tái)裝置，包含工作平臺(tái)、對(duì)位機(jī)構(gòu)及調(diào)整機(jī)構(gòu)，其中，工作平臺(tái)包括下框臺(tái)，供放置待曝光基板；以及上框臺(tái)，能受驅(qū)動(dòng)蓋合于該下框臺(tái)或離開該下框臺(tái)；對(duì)位機(jī)構(gòu)，包括多個(gè)定位凹穴，設(shè)置于該上框臺(tái)；以及多個(gè)定位銷組，設(shè)置于該下框臺(tái)，每一定位銷組包括可彈性往上凸出該下框臺(tái)的第一銷件，當(dāng)該上框臺(tái)蓋合于該下框臺(tái)，該定位銷組的第一銷件分別伸入該定位凹穴；調(diào)整機(jī)構(gòu)，包括活動(dòng)平臺(tái)，設(shè)置于該下框臺(tái)并且能受驅(qū)動(dòng)相對(duì)于該下框臺(tái)位移；第二銷件，設(shè)置于該活動(dòng)平臺(tái)并且能受驅(qū)動(dòng)穿設(shè)于該待曝光基板，帶動(dòng)該待曝光基板隨該活動(dòng)平臺(tái)相對(duì)于該下框臺(tái)位移。本實(shí)用新型可以有效的提高爆光精度。
文檔編號(hào)G03F7/20GK202210214SQ20112032633
公開日2012年5月2日 申請(qǐng)日期2011年9月1日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月1日
發(fā)明者張永裕, 陳立揚(yáng) 申請(qǐng)人:志圣科技(廣州)有限公司