專利名稱：曝光機(jī)光罩的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型有關(guān)于一種用于蝕刻電路制程的曝光機(jī)光罩，特別指一種可避免光罩交界處圖形曝光不佳的曝光機(jī)光罩。
背景技術(shù)：
一般在進(jìn)行芯片加工時(shí)，為了能夠在芯片基底上設(shè)置出細(xì)小而復(fù)雜的電路結(jié)構(gòu)，會以各種物理或化學(xué)的方式重復(fù)對芯片表面進(jìn)行堆積或蝕刻。而用來控制堆積或蝕刻區(qū)域的最主要手段便是利用曝光顯影的方式，先在芯片表面設(shè)置具有微小電路圖案的光阻層，利用光阻層將無需進(jìn)行加工的部分遮蔽住，接著便能夠精確的對所欲加工產(chǎn)生電路的區(qū)域進(jìn)行堆積或是蝕刻。由此可知，曝光顯影時(shí)的精確度將會大幅的影響到芯片成品的良率。而為了解決因?yàn)樾酒系膱D形線寬逐漸縮小所帶來的曝光誤差以及支撐問題，在 進(jìn)行曝光顯影時(shí)會使用許多較小的影像片段分別進(jìn)行曝光，并以各個(gè)小影像區(qū)段共同拼接組合成為完整的曝光影像，藉由上述方法讓各個(gè)影像片段都能夠完美的對焦。然而由于整體影像是由多個(gè)不同的影像片段所組合而成，因此在影像片段與影像片段交界處的圖形會產(chǎn)生圖形與圖形間的間隙不一，或是交界處圖形扭曲的接合問題。為了解決圖形接合的問題，在習(xí)用的技術(shù)中是由曝光機(jī)進(jìn)行調(diào)整，借著逐漸調(diào)整曝光能量而使圖形與圖形交界處的線條能夠正確的結(jié)合。然而，由于各曝光機(jī)皆有其調(diào)整的極限值，因此在進(jìn)行小圖形的曝光顯影時(shí)仍然不容易達(dá)成正確的圖形接合，使得圖形與圖形間的隔線異常明顯，且接合處的圖形也會變形。有鑒于上述曝光顯影的缺點(diǎn)，實(shí)有必要對曝光機(jī)進(jìn)行改進(jìn)。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的主要目的在于提供一種使用于連續(xù)拼接曝光，并且可避免光罩交界處圖形曝光不佳的曝光機(jī)光罩。為達(dá)上述目的，本實(shí)用新型包含一基板，在上述基板表面設(shè)有透光區(qū)及遮光區(qū)，并由所述透光區(qū)形成一用以連續(xù)排列曝光的曝光影像片段；且其中，上述遮光區(qū)進(jìn)一步環(huán)繞上述曝光影像片段的外周側(cè)而形成遮光框，而上述遮光框的邊緣造型設(shè)為無接縫連接的外型。于一較佳實(shí)施例中，上述遮光框設(shè)有上邊緣、下邊緣、左邊緣及右邊緣,其中，上邊緣與下邊緣設(shè)為相對應(yīng)連接的造型，而左邊緣與右邊緣設(shè)為相對應(yīng)連接的造型。于一較佳實(shí)施例中，上述遮光框設(shè)為矩形、平行四邊形、規(guī)則鋸齒形或魚鱗形的其中一種造型。本實(shí)用新型的特點(diǎn)在于包含一基板，在上述基板表面設(shè)有透光區(qū)及遮光區(qū)，并由所述透光區(qū)形成曝光顯影的圖樣；其中，上述遮光區(qū)進(jìn)一步環(huán)繞透光區(qū)的外周側(cè)而形成遮光框，且遮光框的邊緣造型設(shè)計(jì)為無接縫連接的外型，進(jìn)而使本實(shí)用新型的光罩可簡單的以連續(xù)排列的方式重復(fù)對晶圓進(jìn)行曝光，而讓各個(gè)曝光影像片段在晶圓表面連接形成完整的線路影像。且利用環(huán)繞在曝光影像片段外圍的遮光框作用，避免習(xí)用光罩在曝光區(qū)域邊緣容易發(fā)生影像變形或無法對齊的現(xiàn)象。

圖I是本實(shí)用新型的俯視圖；圖2A是本實(shí)用新型一較佳實(shí)施例的俯視圖；圖2B是本實(shí)用新型又一較佳實(shí)施例的俯視圖；圖3是本實(shí)用新型另一較佳實(shí)施例的俯視圖；以及圖4是以本實(shí)用新型的光罩進(jìn)行連續(xù)排列曝光的示意圖。主要組件符號說明·10基板20遮光區(qū)23下邊緣11透光區(qū)21遮光框24左邊緣12 曝光影像片段 22 上邊緣25 右邊緣
具體實(shí)施方式
為便于更進(jìn)一步對本實(shí)用新型的構(gòu)造、使用及其特征有更深一層明確、詳實(shí)的認(rèn)識與了解，現(xiàn)舉出較佳實(shí)施例，配合圖式詳細(xì)說明如下現(xiàn)請參閱圖1，于本圖中所示為一種使用于連續(xù)拼接曝光的曝光機(jī)光罩，其包含一基板10，在所述基板10上設(shè)有透光區(qū)11以及遮光區(qū)20，并由所述透光區(qū)11形成一完整的曝光影像片段12，所述曝光影像片段12包含至少一個(gè)完整的線路圖形單元，且其中，上述遮光區(qū)20進(jìn)一步環(huán)繞上述曝光影像片段12的外周緣而形成遮光框21。藉此避免傳統(tǒng)曝光顯影時(shí)所發(fā)生，線路圖形在曝光區(qū)域邊緣相接而造成變形或歪斜。且上述遮光框21的造型配合光罩上的曝光影像片段12的形狀設(shè)置，以減少所述遮光框21的框緣寬度。且遮光框21的外周緣設(shè)為無接縫連接的造型，使所述光罩可連續(xù)實(shí)行曝光顯影，以無接縫的方式連續(xù)對晶圓表面的光阻層進(jìn)行曝光而形成布滿晶圓表面的完整線路圖案。而為了方便曝光機(jī)進(jìn)行連續(xù)曝光顯影，所述遮光框21大致設(shè)為四邊形的造型，并具有上邊緣22，下邊緣23，左邊緣24及右邊緣25，其中，上邊緣22與下邊緣23設(shè)為相對應(yīng)連接的造型，而左邊緣24與右邊緣25設(shè)為相對應(yīng)連接的造型。則當(dāng)使用曝光機(jī)要進(jìn)行連續(xù)曝光顯影時(shí)，曝光機(jī)僅需沿著曝光機(jī)的步進(jìn)方向移動(dòng)便能夠?qū)φ麄€(gè)晶圓表面進(jìn)行曝光。在本圖所示的較佳實(shí)施例中，在基板10上設(shè)有多數(shù)個(gè)以白色區(qū)塊表示的透光區(qū)11，各個(gè)透光區(qū)11以一定角度傾斜排列而形成一個(gè)用以連續(xù)排列曝光的曝光影像片段12。在所述曝光影像片段12中的各個(gè)透光區(qū)11之間以一定距離區(qū)隔，在透光區(qū)11與透光區(qū)11之間則設(shè)為以網(wǎng)點(diǎn)區(qū)塊表示的遮光區(qū)20。上述遮光區(qū)20向外延伸并由上述曝光影像片段12的外側(cè)包圍上述各個(gè)透光區(qū)11，進(jìn)而在所述曝光影像片段12的邊緣處形成一遮光框21。且為了增加在晶圓表面所能投影的線路數(shù)量，上述遮光框21的邊緣造型配合上述透光區(qū)11的造型以及排列方式設(shè)置，以減少所述遮光框21的寬度。由于上述透光區(qū)11以一固定角度傾斜排列，因而形成近似于平行四邊形的造型。故上述遮光框21的邊緣造型亦配合而設(shè)為平行四邊形，除了方便上述曝光影像區(qū)段進(jìn)行連續(xù)拼接之外，亦使遮光框21的寬度縮小到最適宜的寬度。然而上述遮光框21的外型設(shè)置僅為方便舉例說明之用，并非對遮光框21的外型加以限制?，F(xiàn)請參閱圖2A及圖2B，于圖2A中所示的一較佳實(shí)施例中，上述透光區(qū)11以矩形方式排列，因此上述遮光區(qū)20的邊緣造型配合透光區(qū)11的排列方式而設(shè)為矩形。而在圖2B所示的又一較佳實(shí)施例中，上述透光區(qū)11以弧線狀重復(fù)排列，因此上述遮光區(qū)20的邊緣造型以配合透光區(qū)11排列的方式而設(shè)置為上、下邊緣22、23互相平行，而左、右邊緣24、25呈現(xiàn)弧曲的魚鱗形。藉以使各個(gè)曝光影像片段12能夠連續(xù)相接排列，進(jìn)而形成布滿晶圓表面的完整線路圖案。并且藉由環(huán)繞在曝光影像片段12外圍的遮光框21作用，避免習(xí)用光罩在曝光區(qū)域邊緣容易發(fā)生影像變形或無法對齊的現(xiàn)象。再請參閱圖3，于本圖所示的另一較佳實(shí)施例中，上述各個(gè)透光區(qū)11設(shè)為彼此左右交錯(cuò)的形式，因此上述遮光區(qū)20的左右兩側(cè)邊緣造形便配合透光區(qū)11的排列方式而設(shè)置為上、下邊緣22、23互相平行，而左、右邊緣24、25呈現(xiàn)折線狀的規(guī)則鋸齒形。 再請參閱圖4，如圖中所示，在使用本實(shí)用新型進(jìn)行蝕刻作業(yè)的曝光顯影時(shí)，由于光罩上的遮光框21被設(shè)計(jì)成能夠互相無縫連接的連續(xù)造型，用戶可以簡單的將光罩以連續(xù)排列的方式重復(fù)對晶圓進(jìn)行曝光，使各個(gè)曝光影像片段12在晶圓表面連接形成完整的線路影像。綜上所述，本實(shí)用新型包含一基板，在上述基板表面設(shè)有透光區(qū)及遮光區(qū)，并由所述透光區(qū)形成曝光顯影的圖樣；其中，上述遮光區(qū)進(jìn)一步環(huán)繞透光區(qū)的外周側(cè)而形成遮光框，且遮光框的邊緣造型設(shè)計(jì)為無接縫連接的外型，進(jìn)而使本實(shí)用新型的光罩可簡單的以連續(xù)排列的方式重復(fù)對晶圓進(jìn)行曝光，而讓各個(gè)曝光影像片段在晶圓表面連接形成完整的線路影像。且利用環(huán)繞在曝光影像片段外圍的遮光框作用，避免習(xí)用光罩在曝光區(qū)域邊緣容易發(fā)生影像變形或無法對齊的現(xiàn)象。以上所舉實(shí)施例，僅用為方便說明本實(shí)用新型并非加以限制，在不離本實(shí)用新型精神范疇，熟悉此一行業(yè)技術(shù)人員依本實(shí)用新型申請專利范圍及創(chuàng)作說明所作的各種簡易變形與修飾，均仍應(yīng)含括于本申請專利范圍中。
權(quán)利要求1.一種曝光機(jī)光罩，其特征在于包含一基板，在上述基板表面設(shè)有透光區(qū)及遮光區(qū)，并由所述透光區(qū)形成一用以連續(xù)排列曝光的曝光影像片段；且其中，上述遮光區(qū)進(jìn)一步環(huán)繞上述曝光影像片段的外周側(cè)而形成遮光框，而上述遮光框的邊緣造型設(shè)為無接縫連接的外型。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的曝光機(jī)光罩，其特征在于上述遮光框設(shè)有上邊緣、下邊緣、左邊緣及右邊緣，上邊緣與下邊緣設(shè)為相對應(yīng)連接的造型，而左邊緣與右邊緣設(shè)為相對應(yīng)連接的造型。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的曝光機(jī)光罩，其特征在于上述遮光框設(shè)為矩形、平行四邊形、規(guī)則鋸齒形或魚鱗形的其中一種造型。
專利摘要一種曝光機(jī)光罩，包含基板，在基板表面設(shè)有透光區(qū)及遮光區(qū)，并由該透光區(qū)形成曝光顯影的圖樣；其中，上述遮光區(qū)進(jìn)一步環(huán)繞透光區(qū)的外周側(cè)而形成遮光框，且遮光框的邊緣造型設(shè)計(jì)為無接縫連接的外型，進(jìn)而使本實(shí)用新型的光罩可簡單的以連續(xù)排列的方式重復(fù)對晶圓進(jìn)行曝光，而讓各個(gè)曝光影像片段在晶圓表面連接形成完整的線路影像。且利用環(huán)繞在曝光影像片段外圍的遮光框作用，避免習(xí)用光罩在曝光區(qū)域邊緣容易發(fā)生影像變形或無法對齊的現(xiàn)象。
文檔編號G03F1/64GK202563242SQ20112047549
公開日2012年11月28日 申請日期2011年11月25日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月25日
發(fā)明者何松濂 申請人:宏濂科技有限公司