專利名稱：圖像形成方法以及用于該方法的感光性組合物的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及圖像形成方法以及用于該方法的感光性組合物，具體而言，涉及不使用濕式顯影法而能夠兼顧高對比度化和優(yōu)異的圖像穩(wěn)定性的圖像形成方法以及用于該方法的感光性組合物。
背景技術(shù)：
通常，基于光刻法的圖像形成方法由于微細(xì)加工性優(yōu)異、操作性良好而適于大量生產(chǎn)，現(xiàn)在也還廣泛應(yīng)用于印刷業(yè)界、電子業(yè)界。從降低環(huán)境負(fù)荷的觀點(diǎn)來看，特別是基于堿水溶液的濕式顯影法迄今為止被廣泛應(yīng)用于印刷電路板的制造、阻焊劑的形成、以及半導(dǎo)體相關(guān)構(gòu)件的制造等。近年來，這種圖像形成方法也被廣泛利用在如下各種領(lǐng)域例如在基材上形成反 射率不同的圖像、用受光元件等讀取來自發(fā)光元件的反射光的位移傳感器的制造等MEMS領(lǐng)域等。當(dāng)利用于這些領(lǐng)域時，需要在可對堿水溶液絕緣劣化的晶圓上、有腐蝕性的鋁電路上進(jìn)行圖案化，作為圖像形成方法，光刻法并不一定是有用的?，F(xiàn)在，在這些用途中大多利用有機(jī)溶劑系的顯影液，從減少環(huán)境負(fù)荷的觀點(diǎn)來看是不優(yōu)選的?；谶@樣的觀點(diǎn)，可以預(yù)見不使用顯影液而形成圖像對比度的技術(shù)會在今后推廣。作為這種不使用顯影液而形成圖像的技術(shù)，目前進(jìn)行了各種研究。例如，從減少環(huán)境負(fù)荷的觀點(diǎn)來看，基于利用光固化和熱熔融的光敏熱顯影的圖像形成方法也可期待作為無廢棄物的問題的干式圖像形成方法。作為基于該方法的圖像形成方法之一，可列舉出利用由染料引起的顯色的顯色型感熱記錄法。該方法進(jìn)一步大致分為利用重氮基的偶聯(lián)反應(yīng)的重氮型感熱記錄法和利用隱色染料等給電子性染料的隱色型感熱記錄法這兩種。作為這些方法的課題，可列舉出高對比度(高顯色性)與圖像形成后的品質(zhì)穩(wěn)定性的兼顧，對關(guān)于顯色性優(yōu)異的隱色型的圖像形成后的品質(zhì)穩(wěn)定化的技術(shù)、或者關(guān)于在圖像穩(wěn)定性上有優(yōu)勢的重氮型的高對比度化的技術(shù)進(jìn)行了大量研究(參照專利文獻(xiàn)1、2)。然而，在電子元件等基板周圍、MEMS傳感器等使用環(huán)境嚴(yán)格的領(lǐng)域盡可能應(yīng)用展開的技術(shù)尚未確立，迄今，其利用還僅限于感熱記錄紙、耐受材料(proof material)等領(lǐng)域中。現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)I :日本特開昭52-89915號公報(權(quán)利要求書)專利文獻(xiàn)2 :日本特開昭61-123838號公報(權(quán)利要求書)

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的問題本發(fā)明借鑒了上述現(xiàn)有技術(shù)中的問題，其目的在于提供不使用顯影液而可實現(xiàn)高對比性和高圖像穩(wěn)定性、以及優(yōu)異的涂膜物性的干式圖像形成方法及使用該方法的感光性組合物。用于解決問題的方案本發(fā)明的發(fā)明人等為了達(dá)成上述目的，發(fā)現(xiàn)通過將形成圖像的對比度的曝光工序的波段與進(jìn)行光固化的曝光工序的波段分開，進(jìn)行多次曝光，可以分別將著色部和未著色部圖像定影，并率先進(jìn)行了專利申請。該申請的圖像形成方法的特征在于，在不同波段對含有光產(chǎn)酸劑和給電子性染料的感光性組合物的涂膜進(jìn)行多次曝光，從而分別進(jìn)行由著色部和未著色部組成的圖像對比度的形成和定影，優(yōu)選的是，在不同波段的多次曝光包括形成由著色部和未著色部組成的圖像對比度的第一曝光工序、和在與第一曝光工序的曝光波段不同的、未著色部不顯色的波段進(jìn)行整面曝光、通過光交聯(lián)將由著色部和未著色部組成的圖像對比度定影的第二曝光工序。
根據(jù)該申請的技術(shù)方案，由于與現(xiàn)有技術(shù)不同地對著色部、未著色部均進(jìn)行光固化，因此圖像形成后的對比度穩(wěn)定性優(yōu)異，在以往工藝中無法實現(xiàn)的與涂膜物性的兼顧也成為可能。然而，本發(fā)明的發(fā)明人等觀察用上述方法所得的圖像，結(jié)果判明，根據(jù)用途，圖像形成后的體系內(nèi)殘存的光產(chǎn)酸劑的去活化作為新的問題而殘留。即，發(fā)現(xiàn)了如下問題在暴露在太陽光等光下這樣的使用環(huán)境中，會由涂膜內(nèi)殘存的光產(chǎn)酸劑產(chǎn)生酸，引起意外的顯色(著色)反應(yīng)。因此，本發(fā)明的發(fā)明人等針對圖像圖案形成后的圖像穩(wěn)定性，著眼于到達(dá)地面的太陽光的紫外線成分，通過考察紫外線成分對圖像穩(wěn)定性造成的影響，解決了上述課題。即，本發(fā)明的發(fā)明人等為了減少太陽光的紫外線成分對圖像穩(wěn)定性造成的影響，對本方法的將曝光波長進(jìn)行區(qū)分的區(qū)域進(jìn)行了深入研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，通過將進(jìn)行圖像圖案形成的曝光工序A的曝光波段設(shè)定為不足280nm、將進(jìn)行光固化而使圖像定影的曝光工序B的曝光波段設(shè)定為280nm以上的波段，可以顯著地改善圖像穩(wěn)定性，從而完成了本發(fā)明。通常作為根據(jù)紫外線的波長而進(jìn)行的分類，可分為波長38(T200nm的近紫外線、波長20(Tl0nm的遠(yuǎn)紫外線、波長l(Tlnm的極端紫外線。太陽光中包括UVA (40(T315nm)、UVB (315 280nm)、UVC (不足280nm)的波長的近紫外線。其中，只有UVA、UVB能通過臭氧層到達(dá)地表，UVC的基于物質(zhì)的吸收明顯，不能通過大氣。本發(fā)明在如下方面具備特征從這種太陽光中的UVC的特性、即不足280nm的光未到達(dá)地表的現(xiàn)象出發(fā)，將僅在該波長下活性化的光產(chǎn)酸劑用于圖像圖案形成，由此可以顯著地改善圖像圖案形成后的圖像穩(wěn)定性。S卩，根據(jù)本發(fā)明的圖像形成方法的一個實施方式，其特征在于，其包括如下工序曝光工序A，用不足280nm的波段的光對含有光產(chǎn)酸劑和給電子性染料的感光性組合物的涂膜進(jìn)行部分曝光，形成圖像圖案；和曝光工序B，用280nm以上的波段的光進(jìn)行整面曝光，將圖像圖案定影。在此，用于本發(fā)明的圖像形成方法的感光性組合物優(yōu)選含有通過不足280nm的波段的光產(chǎn)生酸的光產(chǎn)酸劑、給電子性染料、光聚合引發(fā)劑以及含烯屬不飽和基團(tuán)化合物。另外，前述光聚合引發(fā)劑優(yōu)選可通過前述光產(chǎn)酸劑不產(chǎn)生酸的波段、即280nm以上的波段的光感光。發(fā)明的效果發(fā)現(xiàn)如下本發(fā)明特有的效果根據(jù)本發(fā)明，通過屬于未到達(dá)地面的太陽光的紫外線UVC的波段的不足280nm的波長形成圖像圖案，因此不會由于太陽光中所含的紫外線而對對比度形成后的圖像穩(wěn)定性造成影響。其結(jié)果，不僅可以利用于以往的感熱記錄紙、耐受材料，還可以廣泛利用于例如使用環(huán)境嚴(yán)格的電子基板、顯示器相關(guān)領(lǐng)域的標(biāo)記用途、遮光用途，進(jìn)而能夠在光刻法中由于腐蝕的問題而無法處理的鋁電路上形成圖像，因此可期待將應(yīng)用拓展至受光元件、位移傳感器等MEMS用途中。
具體實施例方式以下，詳細(xì)說明本發(fā)明的圖像形成方法。本發(fā)明的圖像形成方法為通過在不同波段對感光性組合物的涂膜進(jìn)行多次曝 光，分別進(jìn)行由著色部和未著色部組成的圖像圖案(以下也稱為“圖像對比度”等。)的形成和定影，其中，所述感光性組合物含有通過不足280nm的波段的光產(chǎn)生酸的光產(chǎn)酸劑和給電子性染料。在曝光工序A中，用不足280nm的波段的光進(jìn)行部分曝光，由此曝光部的光產(chǎn)酸劑產(chǎn)生酸，該酸與給電子性染料反應(yīng)并顯色，形成著色部。另外，在曝光工序B中，用光產(chǎn)酸劑不產(chǎn)生酸的280nm以上的波段的光進(jìn)行整面曝光，由此抑制顯色反應(yīng)，并通過光交聯(lián)固定著色部和未著色部，將圖像對比度定影。這樣的曝光工序A和B只要能達(dá)到曝光波長的分離，則對各工序的順序、次數(shù)沒有特別的限制。為了對感光性組合物的涂膜形成圖像，需要在感光性組合物中含有給電子性染料和光產(chǎn)酸劑。光產(chǎn)酸劑以對感光性組合物中的顯色劑的給電子性染料顯示出作為顯色劑的效果的電子受容性化合物的形式使用。具體而言，光產(chǎn)酸劑是通過曝光時從光產(chǎn)酸劑產(chǎn)生的酸與給電子性染料反應(yīng)、即、通過給電子性染料與酸在涂膜內(nèi)接觸而顯色的物質(zhì)。另一方面，為了減少太陽光的紫外線成分對圖像穩(wěn)定性造成的影響，于280nm處將曝光波長分離，通過不足280nm的曝光(曝光工序A)形成由著色部和未著色部組成的圖像對比度。因此，構(gòu)成本發(fā)明的感光性組合物的給電子性染料和光產(chǎn)酸劑可以使用在不足280nm下顯色的化合物。作為這種給電子性染料，可從公知的化合物中根據(jù)期望的色調(diào)適宜選擇使用至少一種。例如可列舉出3，3-雙(對二甲氨基苯基)-6-二甲基氨基苯酞、3，3-雙(對二甲氨基苯基)苯駄、3_ (對二甲氛基苯基)_3_ (1，2_ 二甲基口引噪_3_基)苯駄等二芳基甲燒系化合物、4，4’-雙-二甲氛基二苯甲基節(jié)基釀、N-齒代苯基路克胺(N-halophenyl leucauramine)、N_2, 4，5-三氯苯基路克胺(N_2, 4，5-trichlorophenyl leucauramine)等二苯基甲燒系化合物、7_ 二甲氨基-3-氯突燒、7-二甲基氨基-3-氯-2-甲基突燒、2-苯氨基-3-甲基-6- (N-乙基-N-對甲苯氨基)熒烷等熒烷系化合物、苯甲酰隱色亞甲基藍(lán)、對硝基芐基隱色亞甲基藍(lán)等噻嗪系化合物、3-甲基-螺-二萘并吡喃、3-乙基-螺-二萘并吡喃、3-丙基-螺-二萘并吡喃、3-丙基-螺-二苯并吡喃等螺環(huán)系化合物等。這些給電子性染料可以單獨(dú)使用或組合兩種以上使用。另外，作為提高圖像穩(wěn)定性的公知的手段，也可以將給電子性染料膠囊化來使用。另外，在這些給電子性染料中還可以配混如用于提高顯色性的四溴化碳這樣的光氧化劑、如防止暗顯色的羥基喹啉這樣的添加劑。作為光產(chǎn)酸劑，只要是在不足280nm的波段的曝光下產(chǎn)生酸，在280nm以上的波段的曝光下不產(chǎn)生酸的公知的光產(chǎn)酸劑即可使用。通常，感光波段的強(qiáng)度(感光度)取決于其濃度，因此即使光產(chǎn)酸劑所具有的感光波段的邊緣位于280nm處，也可通過限制其配混量從而減少280nm的強(qiáng)度，作為在280nm以上的波段的曝光下不產(chǎn)生酸的光產(chǎn)酸劑而使用。作為這種光產(chǎn)酸劑，例如可列舉出锍鹽、碘鎗鹽、鱗鹽、重氮鹽、銨鹽、吡啶鎗鹽、二茂鐵等鎗鹽、砜化合物、磺酸酯、磺酰亞胺、二磺酰重氮甲烷化合物以及二磺酰甲烷化合物等，可單獨(dú)使用或組合兩種以上使用。作為具體的一個例子，可列舉出三苯基锍三氟甲烷磺酸鹽、三苯基锍九氟丁烷磺酸鹽、三(4-甲基苯基)锍三氟甲烷磺酸鹽、三(4-甲基苯基)锍六氟磷酸鹽、二苯基-4-甲基苯基锍三氟甲烷磺酸鹽、二苯基-2，4，6-三甲基苯基锍對甲苯磺酸鹽、雙(4-叔丁基苯 基)碘鎗六氟磷酸鹽、雙(4-叔丁基苯基)碘鎗三氟甲烷磺酸鹽、雙(環(huán)己基磺酰)重氮甲烷、雙(叔丁基磺酰)重氮甲烷等。上述光產(chǎn)酸劑之中，從圖像穩(wěn)定性的觀點(diǎn)來看，更理想的是雙(環(huán)己基磺酰)重氮甲烷、雙(叔丁基磺酰)重氮甲烷這樣的感光波段為比280nm短的波長、幾乎沒有在280nm以上的感光性的光產(chǎn)酸劑。此外，使用上述受配混量限制的光產(chǎn)酸劑時，在無法充分顯色的情況下，為了提高顯色性，可根據(jù)需要配混通過由光產(chǎn)酸劑產(chǎn)生的酸產(chǎn)生新的酸而使酸發(fā)生連鎖增殖的酸增殖劑。作為這種酸增殖劑，只要是通過由光產(chǎn)酸劑產(chǎn)生的酸的作用產(chǎn)生酸，且該酸具有達(dá)到作為給電子性染料的顯色劑作用的酸強(qiáng)度的物質(zhì)就沒有特別的限制。例如可列舉出具有能夠用酸解離的叔丁基、縮醛基等保護(hù)基團(tuán)的酚類衍生物、羧酸衍生物、磺酸酯、磷酸酯類等。曝光工序A中的曝光波長為不足280nm,因此作為其光源,例如可使用低壓萊燈、中壓汞燈、高壓汞燈、準(zhǔn)分子激光器等公知的光源。在它們當(dāng)中，從對比度形成及其后的圖像穩(wěn)定性的觀點(diǎn)來看，優(yōu)選曝光工序A和曝光工序B的曝光波段不重疊的光源，例如優(yōu)選Ar2準(zhǔn)分子激光器(126nm)、Kr2準(zhǔn)分子激光器(146nm)、F2準(zhǔn)分子激光器(157nm)、Xe2準(zhǔn)分子激光器(172nm)、ArCl準(zhǔn)分子激光器(175nm)、ArF準(zhǔn)分子激光器(193nm)、KrBr準(zhǔn)分子激光器(207nm)、KrCl準(zhǔn)分子激光器(223nm)、KrF準(zhǔn)分子激光器(248nm)等僅在不足280nm處具有波長分布的光源。 進(jìn)而在它們當(dāng)中，更優(yōu)選ArF準(zhǔn)分子激光器(193nm)、KrBr準(zhǔn)分子激光器(207nm)、KrCl準(zhǔn)分子激光器(223nm)、KrF準(zhǔn)分子激光器(248nm)。此時，有時構(gòu)成后述感光性組合物的光聚合引發(fā)劑感光而產(chǎn)生自由基，引發(fā)含烯屬不飽和基團(tuán)化合物的光聚合，這在種情況下，在形成著色部的同時進(jìn)行一定的定影。曝光工序A中，在形成著色部的同時進(jìn)行一定的定影時，為了不出現(xiàn)顯色不充分，優(yōu)選不優(yōu)先進(jìn)行光聚合。在這一點(diǎn)上，由于光產(chǎn)酸劑與光聚合引發(fā)劑不同，不受氧阻礙，因此具有即使在氧氣氛中曝光也可以穩(wěn)定供給酸的優(yōu)點(diǎn)，從而可自由地選擇公知的真空密合方式等接觸曝光方式、接近式曝光等非接觸曝光方式、直接成像方式等。尤其是為了有效利用不足280nm的波段而更優(yōu)選不需要光掩模的利用激光的直接成像方式。另一方面，在將后述圖像對比度定影的工序中，為了降低光交聯(lián)度而不降低固化涂膜物性，優(yōu)選邊抑制顯色反應(yīng)邊使涂膜整體光聚合。此外，在這種形成圖像對比度的曝光工序A中，為了使因曝光而產(chǎn)生的酸在涂膜內(nèi)擴(kuò)散，可進(jìn)行曝光后加熱處理(Post Exposure Bake :PEB)。作為該曝光后加熱處理(PEB)，可應(yīng)用公知的方法、條件。接著，在曝光工序B中，如上所述為了將對感光性組合物的涂膜形成的圖像對比度定影而通過與曝光工序A不同的波段、即未著色部不顯色的280nm以上的波段進(jìn)行曝光，利用光交聯(lián)使涂膜整體固化。在本發(fā)明中，給電子性染料的顯色反應(yīng)是光產(chǎn)酸劑感光而產(chǎn)生酸的平衡反應(yīng)，因此為了確保優(yōu)異的圖像穩(wěn)定性，優(yōu)選必須斷絕酸的供給源并且通過交聯(lián)反應(yīng)抑制涂膜內(nèi)的染料和酸的接觸。
因此，通過在光產(chǎn)酸劑不感光、僅光聚合引發(fā)劑感光的280nm以上的波段曝光，可防止與顯色相關(guān)的酸的產(chǎn)生、僅進(jìn)行涂膜整體的光交聯(lián)、將圖像對比度定影。為了有效地進(jìn)行該定影，對構(gòu)成感光性組合物的光聚合引發(fā)劑進(jìn)行選定是特別有效的。即、作為光聚合引發(fā)劑，優(yōu)選使用具有與光產(chǎn)酸劑的感光波段不重疊的感光波段、即在光產(chǎn)酸劑不產(chǎn)生酸的280nm以上的波段感光的光聚合引發(fā)劑。作為光聚合引發(fā)劑，如上所述，在上述光產(chǎn)酸劑不產(chǎn)生酸的波段中具有感光區(qū)域是必需條件，因此其選擇高度依賴于與光產(chǎn)酸劑的組合。即，只要僅存在光聚合引發(fā)劑感光的波段與光產(chǎn)酸劑產(chǎn)生酸的波段不重疊的感光波段、或者除光聚合引發(fā)劑感光的波段與光產(chǎn)酸劑產(chǎn)生酸的波段重疊的波段以外存在僅光聚合引發(fā)劑具有的感光波段，則沒有特別的限制。在本發(fā)明中，由于光產(chǎn)酸劑利用的是在不足280nm的波段的曝光下產(chǎn)生酸的光產(chǎn)酸齊U，因此可利用對280nm以上的波段的曝光產(chǎn)生自由基的物質(zhì)作為光聚合引發(fā)劑。作為這種光聚合引發(fā)劑，可列舉出二苯甲酮系、苯乙酮系、氨基苯乙酮系、苯偶姻醚系、苯偶酰縮酮系、酰基氧化膦系、肟醚系、肟酯系、二茂鈦系等公知的自由基光聚合引發(fā)齊U，特別優(yōu)選使用在組合使用的光產(chǎn)酸劑不顯示光活性的280nm以上的波段顯示吸收、光活性，在該波段具有高感光性的光聚合引發(fā)劑。這些光聚合引發(fā)劑可單獨(dú)使用或組合兩種以上使用。這些光聚合引發(fā)劑可與苯甲酸系、叔胺系等公知的光聚合促進(jìn)劑的單獨(dú)一種或兩種以上組合使用。另外，作為可任意設(shè)定感光波段的引發(fā)系，例如還可利用將香X豆素、花青、方酸(squarylium)等色素與自由基產(chǎn)生劑組合而成的公知的雙分子復(fù)合引發(fā)系。例如，已知有作為自由基發(fā)生劑的咪唑二聚物和作為色素的吖啶色素、三嗪系色素的組合、作為自由基產(chǎn)生劑的N-苯基甘氨酸和作為色素的香豆素酮系的組合、作為自由基產(chǎn)生劑的碘鎗鹽和各種色素的組合、作為自由基產(chǎn)生劑的三嗪系化合物和作為色素的芳香族酮衍生物的組合等。另外，作為有效的可視光引發(fā)劑還已知有花青、羅丹明(rhodamine)、番紅(safranine)等色素的烷基硼酸鹽，也可使用這些公知的光聚合引發(fā)劑系。這樣，將圖像對比度定影的曝光工序B僅使構(gòu)成感光性組合物的含烯屬不飽和基團(tuán)化合物和光聚合引發(fā)劑發(fā)生反應(yīng)，邊抑制該工序中的著色(光產(chǎn)酸劑的感光)邊進(jìn)行涂膜這個整體的光交聯(lián)。由此，未著色部的固化自不必說，在曝光工序A中感光的著色部也進(jìn)行再固化，因此可得到圖像穩(wěn)定性優(yōu)異的圖像的定影。曝光工序B中利用的波段如上所述，優(yōu)選感光性組合物中的光產(chǎn)酸劑不產(chǎn)生酸的波段。另外，為了防止本工序的未著色部的霧化(fogging)，優(yōu)選使曝光的波段盡量遠(yuǎn)離光產(chǎn)酸劑產(chǎn)生酸的波段。用于本發(fā)明的光產(chǎn)酸劑由于在UVC區(qū)域、即不足280nm的波段產(chǎn)生酸，因此本工序只要在它的長波長一側(cè)，單射線、混合射線均可。作為曝光工序B的光源，只要是可發(fā)射滿足基于光交聯(lián)的圖像定影這一目的的波段的活性射線的光源，就可以適宜地選擇使用。例如除了公知的低壓汞燈、中壓汞燈、高壓汞燈、超高壓汞燈、氙燈或金屬鹵化物燈等以外，還可列舉出氬離子激光器、氦氖激光器、氦鎘激光器、色素激光器、半導(dǎo)體激光器、YAG激光器等公知的激光器。關(guān)于曝光工序B中波段的分離方法，可以用各種激光等直接分離，進(jìn)而隔著去掉300nm以下的光的過濾器、PET、PEN等薄膜類或者玻璃進(jìn)行曝光，由此即使是發(fā)射波長分布寬的曝光源也能夠容易地進(jìn)行波段的分離。
如以上說明，在本發(fā)明的圖像形成方法中，作為使用的感光性組合物，只要是感光并進(jìn)行光交聯(lián)的組合物即可，例如優(yōu)選包含上述光聚合引發(fā)劑和含烯屬不飽和基團(tuán)化合物。作為含烯屬不飽和基團(tuán)化合物，例如可列舉出乙二醇、甲氧基四乙二醇、聚乙二醇、丙二醇等二醇的二丙烯酸酯類；己二醇、三羥甲基丙烷、季戊四醇、二季戊四醇、三羥乙基異氰脲酸酯等多元醇或它們的環(huán)氧乙烷加成物或環(huán)氧丙烷加成物等多元丙烯酸酯類；丙烯酸苯氧酯、雙酚A二丙烯酸酯以及它們的酚類的環(huán)氧乙烷加成物或環(huán)氧丙烷加成物等多元丙烯酸酯類；甘油二縮水甘油醚、甘油三縮水甘油醚、三羥甲基丙烷三縮水甘油醚、三縮水甘油基異氰脲酸酯等縮水甘油醚的多元丙烯酸酯類；以及三聚氰胺丙烯酸酯、和/或上述丙烯酸酯對應(yīng)的各甲基丙烯酸酯類等。另外，可列舉出使丙烯酸與甲酚線性酚醛清漆型環(huán)氧樹脂等多官能環(huán)氧樹脂反應(yīng)而得到的環(huán)氧丙烯酸酯樹脂、使季戊四醇三丙烯酸酯等羥基丙烯酸酯與異佛爾酮二異氰酸酯等二異氰酸酯的半氨基甲酸酯化合物與該環(huán)氧丙烯酸酯樹脂的羥基反應(yīng)而得到的環(huán)氧氨基甲酸酯丙烯酸酯化合物等。這種環(huán)氧丙烯酸酯系樹脂可不使指觸干燥性降低而提高光固化性。這種含烯屬不飽和基團(tuán)化合物可根據(jù)目的用途而單獨(dú)使用或任意組合兩種以上使用。另外，在曝光工序A中，根據(jù)用于感光性組合物的化合物的結(jié)構(gòu)，有時會產(chǎn)生由曝光引起的酸產(chǎn)生效率的降低。因此，例如，具有芳香族基團(tuán)的化合物大致上會在不足280nm的區(qū)域的某處出現(xiàn)大的吸收，由此通過使用由非芳香族系的基礎(chǔ)樹脂構(gòu)成的組合物，可提高對短波長的光線的透明性，使感光度提高。進(jìn)而，在用于本發(fā)明的感光性組合物中，為了調(diào)整粘度，可根據(jù)需要配混有機(jī)溶齊U。作為這種有機(jī)溶劑，可使用甲乙酮、環(huán)己酮等酮類；甲苯、二甲苯、四甲基苯等芳香族烴類；溶纖劑、甲基溶纖劑、丁基溶纖劑、卡必醇、甲基卡必醇、丁基卡必醇、丙二醇單甲醚、二丙二醇單甲醚、二丙二醇二乙醚、三丙二醇單甲醚等二醇醚類；醋酸乙酯、醋酸丁酯、乳酸丁酯、溶纖劑醋酸酯、丁基溶纖劑醋酸酯、卡必醇醋酸酯、丁基卡必醇醋酸酯、丙二醇單甲醚醋酸酯、二丙二醇單甲醚醋酸酯、碳酸丙烯酯等酯類；辛烷、癸烷等脂肪族烴類；石油醚、石腦油、溶劑石腦油等石油系溶劑等公知的有機(jī)溶劑。這些有機(jī)溶劑可以單獨(dú)使用或組合兩種以上使用。另外，除上述成分以外，可根據(jù)需要配混各種添加劑，例如二氧化硅、氧化鋁、滑石、碳酸鈣、硫酸鋇等無機(jī)填料、丙烯酸類珠粒、氨基甲酸酯珠粒等有機(jī)填料等填充劑、偶聯(lián)劑、消泡劑、流平劑等涂料用添加劑等。 此外，本發(fā)明的圖像形成方法中，作為形成圖像的對象的涂膜，可以是由感光性組合物制成的涂膜，例如，用絲網(wǎng)印刷法、簾幕涂布法、噴涂法、輥涂法、旋涂法等方法在基材上涂布感光性組合物，在例如6(T80°C的溫度下加熱干燥15飛0分鐘所得的涂膜、或者使用由感光性組合物制成的干膜得到的涂膜等。實施例以下示出實施例和比較例來對本發(fā)明進(jìn)行具體說明，但本發(fā)明顯然不受下述實施例的任何限制。需要說明的是，以下的“份”和“％”若無特別說明則均為質(zhì)量基準(zhǔn)。按表I所示的各種成分、比例(質(zhì)量份)配合、用攪拌機(jī)預(yù)混合后，用三輥磨進(jìn)行混煉，得到組合物廣7。[表1]
權(quán)利要求
1.一種圖像形成方法，其特征在于，其包括 曝光工序A，用不足280nm的波段的光對含有光產(chǎn)酸劑和給電子性染料的感光性組合物的涂膜進(jìn)行部分曝光，形成圖像圖案； 曝光工序B，用280nm以上的波段的光進(jìn)行整面曝光，將圖像圖案定影。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的圖像形成方法，其特征在于，所述光產(chǎn)酸劑是通過不足280nm的波段的光產(chǎn)生酸的光產(chǎn)酸劑。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的圖像形成方法，其特征在于，曝光工序A中，還同時進(jìn)行基于光交聯(lián)的定影。
4.一種光固化圖像，其通過權(quán)利要求廣3中的任一項所述的圖像形成方法形成。
5.一種感光性組合物，其特征在于，其含有通過不足280nm的波段的光產(chǎn)生酸的光產(chǎn)酸劑、給電子性染料、光聚合引發(fā)劑以及含烯屬不飽和基團(tuán)化合物。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的感光性組合物，其特征在于，所述光聚合弓I發(fā)劑通過280nm以上的波段的光感光。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的感光性組合物，其特征在于，所述光聚合引發(fā)劑還通過不足280nm的波段的光感光。
全文摘要
提供一種可不使用顯影液而實現(xiàn)高對比性和優(yōu)異的涂膜物性、特別是圖像穩(wěn)定性優(yōu)異的干式圖像形成方法以及用于該方法的感光性組合物。本發(fā)明的圖像形成方法的特征在于，其包括曝光工序A，用不足280nm的波段的光對含有光產(chǎn)酸劑和給電子性染料的感光性組合物的涂膜進(jìn)行部分曝光，形成圖像圖案；曝光工序B，用280nm以上的波段的光進(jìn)行整面曝光，將圖像圖案定影。
文檔編號G03C5/08GK102770805SQ20118001080
公開日2012年11月7日 申請日期2011年2月2日 優(yōu)先權(quán)日2010年2月26日
發(fā)明者大渕健太郎, 宮部英和 申請人:太陽控股株式會社