專利名稱：正型感射線性組合物、顯示元件用層間絕緣膜及其形成方法
技術領域：
本發(fā)明涉及正型感射線性組合物、顯示元件用層間絕緣膜及其形成方法。
背景技術：
在顯示元件中，一般以將層狀配置的配線之間絕緣為目的而設置有層間絕緣膜。作為層間絕緣膜的形成材料，廣泛使用正型感射線性組合物，這是因為得到必要的圖案形狀的エ序數(shù)少，而且具有充分的平坦性是優(yōu)選的。作為這樣的顯示元件,例如使用層間絕緣膜的TFT型液晶顯示元件等的顯示元件，是經過在層間絕緣膜上形成透明電極膜，再于其上形成液晶配向膜的エ序而制造。此時，層間絕緣膜由于在透明電極膜的形成エ序中暴露于高溫條件下，故需有充分的耐熱性。另外近年來，TFT型液晶顯示元件正在進行大畫面化、高亮度化、高精細化、高速響應化、薄型化等，配線圖案的微細化也顯著。除了透明性、折射率的提高，隨之也希望提高抗蝕劑圖案的微細化技術。在將抗蝕劑圖案微細化時，在基于蝕刻氣體的干蝕刻處理工序中，哪怕處理時間比最合適時間稍長，也容易發(fā)生抗蝕劑的削去或剝落。再者，由于具備顯示元件的顯示裝置大型化，為了均勻處理被處理面的整個面，必須延長干蝕刻處理時間，或必須提高蝕刻氣體的濃度，對如此嚴苛的干蝕刻條件，要求層間絕緣膜的耐干蝕刻性及表面硬度要提高。為實現(xiàn)上述高性能，有各種解決方案。例如，有提案使用能產生羧基的丙烯酸類聚合物、與具有和羧基反應的官能基的聚合物(參照日本特開2009-98673號公報)，或將在丙烯酸類樹脂中加入有聚硅氧烷類材料的成分當作感射線性樹脂組合物的成分的技術(參照日本特開2009-98661號公報、日本特開2009-116223號公報)。然而，即使這些技術中，也尚未得到下述感射線性樹脂組合物，該組合物能形成除了高的耐干蝕刻性、還具有良好的耐熱性、透明性、表面硬度、折射率的顯示元件用層間絕緣膜，而且具有充分的射線敏感度。
背景技術：
文獻專利文獻專利文獻I日本特開2009-98673號公報專利文獻2日本特開2009-98661號公報專利文獻3日本特開2009-116223號公報

發(fā)明內容
發(fā)明要解決的技術問題本發(fā)明是以上述情況為基礎而完成的，其目的在于提供正型感射線性組合物、由該組合物所形成的顯示元件用層間絕緣膜以及該層間絕緣膜的形成方法，該組合物能形成具有充分表面硬度、折射率、耐熱性、透明性，以及高的耐干蝕刻性的顯示元件用層間絕緣膜，而且具有充分的射線敏感度。解決問題的手段為了解決上述問題而完成的本發(fā)明是一種正型感射線性組合物，其含有[A]在同一或不同的聚合物分子中包含具有下述式(I)所示的基團的結構單元
(I)與含環(huán)氧基的結構單元(II)的聚合物(以下也稱為[A]聚合物)，[B]硅氧烷聚合物，及[C]光酸產生體，
權利要求
1.一種正型感射線性組合物，其含有 [A]在同一或不同的聚合物分子中包含具有下述式(I)所示的基團的結構單元(I)與含環(huán)氧基的結構單元(II)的聚合物， [B]硅氧烷聚合物，及 [C]光酸產生體，
2.如權利要求I所述的正型感射線性組合物，其中[B]硅氧烷聚合物是下述式(2)所示的水解性硅烷化合物的水解縮合物，
3.如權利要求I所述的正型感射線性組合物，其中，[A]聚合物與[A]聚合物和[B]硅氧燒聚合物的合計量的質量比為5質量％以上95質量％以下。
4.如權利要求I所述的正型感射線性組合物，其用于形成顯示元件用層間絕緣膜。
5.一種顯示元件用層間絕緣膜的形成方法，其具有 (1)在基板上形成權利要求4記載的正型感射線性組合物的涂膜的エ序， (2)對上述涂膜的至少一部分照射射線的エ序， (3)將上述照射射線后的涂膜顯影的エ序，及 (4)將經上述顯影的涂膜加熱的エ序。
6.一種顯示元件用層間絕緣膜，其由權利要求4記載的正型感射線性組合物所形成。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種正型感射線性組合物，含有[A]在同一或不同的聚合物分子中具有含下述式(1)所示的基團的結構單元(I)與含環(huán)氧基的結構單元(II)的聚合物、[B]硅氧烷聚合物及[C]光酸產生體。[B]硅氧烷聚合物優(yōu)選為下述式(2)所示的水解性硅烷化合物的水解縮合物。[A]聚合物與[A]聚合物和[B]硅氧烷聚合物的合計量的質量比優(yōu)選為5質量%以上95質量%以下。
文檔編號G03F7/039GK102870047SQ201180021318
公開日2013年1月9日 申請日期2011年4月18日 優(yōu)先權日2010年4月28日
發(fā)明者一戶大吾 申請人:Jsr株式會社