專利名稱：光化射線敏感或輻射敏感樹脂組合物，由其形成的光化射線敏感或輻射敏感膜以及使用 ...的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光化射線敏感或輻射敏感樹脂組合物，由該組合物形成的膜，以及使用該組合物形成圖案的方法。更具體地，本發(fā)明涉及在例如IC等半導(dǎo)體制造工藝、液晶電路板制造工藝、熱敏頭等或其他光加工光刻工藝中使用的組合物，并涉及由該組合物形成的膜以及使用該組合物形成圖案的方法。特別地，本發(fā)明涉及適合使用以波長為300nm或更短的遠(yuǎn)紫外線作為光源的投影曝光裝置進行曝光的光化射線敏感或輻射敏感樹脂組合物，并涉及由該組合物形成的膜以及使用該組合物形成圖案的方法。
背景技術(shù)：
迄今為止，在半導(dǎo)體制造工藝等中，傳統(tǒng)實踐是使用抗蝕劑組合物。這樣的組合物的一個實例是化學(xué)放大型抗蝕劑組合物。所述化學(xué)放大型抗蝕劑組合物通常包含當(dāng)與酸作用時分解從而增加其在堿性顯影劑中的溶解度的樹脂，以及當(dāng)曝光于光化射線或輻射時分解從而產(chǎn)生酸的化合物。為了應(yīng)付例如半導(dǎo)體的微型化，對于這種樹脂和化合物已經(jīng)進行了多種開發(fā)(參見例如專利參考文獻(xiàn)I和2)。然而，對于這種組合物，仍然有進一步改善的余地。特別地，在最近幾年，需要其能同時實現(xiàn)在更高尺寸具有優(yōu)異的粗糙度特性和優(yōu)異的圖案形狀。[現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)][專利參考文獻(xiàn)][專利參考文獻(xiàn)I]日本專利申請公開公告號(在下文中稱為JP-A-)2007_230913，和[專利參考文獻(xiàn)2] JP-A-2OO9-I22623。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個目的是提供一種具有優(yōu)異粗糙度特性并且可以形成沒有膜細(xì)化(thinning)和拖尾(trailing)的良好圖案形狀的光化射線敏感或福射敏感樹脂組合物。本發(fā)明進一步的目的是提供一種由該組合物形成的光化射線敏感或輻射敏感膜，以及一種使用該組合物形成圖案的方法。例如，本發(fā)明被定義如下。[I] 一種光化射線敏感或輻射敏感樹脂組合物，其包含(A)當(dāng)與酸作用時分解從而增加其在堿性顯影劑中的溶解度的樹脂，
(B)鐵鹽,所述鐵鹽在其陽離子部分中含有氮原子,所述鐵鹽當(dāng)曝光于光化射線或輻射時分解從而產(chǎn)生酸，和(C)當(dāng)曝光于光化射線或輻射時產(chǎn)生酸的化合物，所述化合物為下面通式(1-1)和(1-2)的化合物中的任一種，
權(quán)利要求
1.一種光化射線敏感或輻射敏感樹脂組合物，其包含 (A)當(dāng)與酸作用時分解從而增加其在堿性顯影劑中的溶解度的樹脂， (B)鋝I鹽，所述鑛鹽在其陽離子部分中含有氮原子，所述锫1鹽當(dāng)曝光于光化射線或輻射時分解從而產(chǎn)生酸，和 (C)當(dāng)曝光于光化射線或輻射時產(chǎn)生酸的化合物，所述化合物為下面通式(1-1)和(1-2)的化合物中的任一種，
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的組合物，其中所述鐵鹽是锍鹽。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的組合物，其中所述陽離子部分包含含有氮原子的堿性部分。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的組合物，其中所述陽離子部分包含由下面通式(N-I)表示的部分結(jié)構(gòu)，
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的組合物，其中所述鋒I鹽由下面通式(N-II)表示，
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的組合物，其中通式(N-II)中出現(xiàn)的4是4(1^)(Rb)，其中Ra和Rb中的每一個獨立地表示氫原子或有機基團，條件是&4、1 、義和Rb中的至少兩個可以彼此連接從而形成環(huán)。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的組合物，其中在通式(N-II)中，R或多個R中的至少一個是芳環(huán)基，并且X或多個X中的至少一個是具有連接至由R表示的芳環(huán)基的碳原子的連接基團，并且其中由R1表示的有機基團是烷基、烯基、脂環(huán)基、芳族烴基或雜環(huán)烴基。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的組合物，其中通式(N-II)中出現(xiàn)的X或多個X中的至少一個由下面通式(N-III)表示，
9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的組合物，其中通式(N-II)中出現(xiàn)的X或多個X中的至少一個由下面通式(N-IV)表示，
10.根據(jù)權(quán)利要求I所述的組合物，所述組合物還包含至少含有氟原子或硅原子的樹脂作為與所述樹脂(A)不同的第二樹脂。
11.一種由根據(jù)權(quán)利要求I所述的組合物形成的光化射線敏感或輻射敏感膜。
12.—種形成圖案的方法，所述方法包括 將根據(jù)權(quán)利要求I所述的組合物形成膜， 將所述膜曝光，和 將所曝光的膜顯影。
13.根據(jù)權(quán)利要求12的方法，其中所述曝光通過浸潰液體進行。
14.一種用于制造半導(dǎo)體器件的方法，所述方法包括權(quán)利要求12所述的圖案形成方法。
15.一種通過權(quán)利要求14所述的方法制造的半導(dǎo)體器件。
全文摘要
本發(fā)明提供一種光化射線敏感或輻射敏感樹脂組合物，其包含(A)當(dāng)與酸作用時分解從而增加其在堿性顯影劑中的溶解度的樹脂，(B)鹽，所述鹽在其陽離子部分中含有氮原子，所述鹽當(dāng)曝光于光化射線或輻射時分解從而產(chǎn)生酸，和(C)當(dāng)曝光于光化射線或輻射時產(chǎn)生酸的化合物，所述化合物為下面通式(1-1)和(1-2)的化合物中的任一種。
文檔編號G03F7/039GK102870046SQ20118002181
公開日2013年1月9日 申請日期2011年12月22日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月24日
發(fā)明者山本慶, 藤田光宏, 松田知樹 申請人:富士膠片株式會社