專利名稱：包括微結(jié)構(gòu)化表面的抗反射膜的制作方法
包括微結(jié)構(gòu)化表面的抗反射膜
背景技術(shù)：
已描述了各種啞光膜(也描述為防眩膜)?？芍频镁哂薪惶娴母哒凵渎蕦雍偷驼凵渎蕦拥膯」饽?。這種啞光膜可顯示具有低光澤度以及抗反射性。然而，在不存在交替的高折射率層和低折射率層時，這種膜將顯示具有防眩性而不抗反射。如US 2007/0286994的0039段所述，抗反射啞光膜通常具有比當(dāng)量光澤度的膜更低的透射和更高的霧度值。例如，根據(jù)ASTM D1003所測量，霧度一般為至少5%、6%、7%、8%、9%，或10%。另外，在根據(jù)ASTM D 2457-03在60°下測量時，光澤表面通常具有至少130的光澤度；而啞光表面具有小于120的光澤度。存在數(shù)種用于獲得啞光膜的方法?！だ纾瑔」馔繉涌赏ㄟ^加入啞光粒子而制得，如在US 6，778，240中所述。此外，抗反射啞光膜也可通過在啞光膜基材上提供高折射率層和低折射率層而制得。在又一方法中，可將防眩膜或抗反射膜的表面進(jìn)行粗糙化或紋理化以提供啞光表面。根據(jù)美國專利No. 5，820，957，“可通過多種紋理化材料、表面或方法的任一種提供抗反射膜的紋理化表面。紋理化材料或表面的非限制性實例包括具有糙面精整層的膜或襯片、微壓紋膜、含有所需紋理化圖案或模板的微復(fù)制模具、套管或束帶、輥(如金屬輥或橡膠輥，或橡膠涂布輥)?！?br>
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明涉及抗反射膜，其包含高折射率層和設(shè)置在該高折射率層上的低折射率層。該抗反射膜具有可得自微復(fù)制模具的微結(jié)構(gòu)化表面。在一些實施例中，微結(jié)構(gòu)化表面包括多個微結(jié)構(gòu)，所述多個微結(jié)構(gòu)具有補(bǔ)足的累積傾斜度值分布(cumulative slope magnitudedistribution),使得至少30%具有至少
O.7度的傾斜度值，且至少25%具有小于I. 3度的傾斜度值。在另一個實施例中，抗反射膜的特征在于小于90%的透明度和至少O. 05微米且不超過O. 14微米的平均表面粗糙度(Ra)。在另一個實施例中，抗反射膜的特征在于小于90%的透明度和至少O. 50微米且不超過I. 20微米的平均最大表面高度(Rz)。在另一個實施例中，抗反射膜的特征在于小于90%的透明度，且所述微結(jié)構(gòu)化層包括平均當(dāng)量直徑為至少5微米且不超過30微米的峰。在一些實施例中，抗反射膜不含嵌入的啞光粒子。在其它實施例中，不超過50%的微結(jié)構(gòu)包含嵌入的啞光粒子?？狗瓷淠ねǔ＞哂兄辽?0%的透明度和不超過10%的霧度。另外，抗反射膜在500nm至625nm的波長范圍內(nèi)具有小于2%的平均光適應(yīng)反射率。在一些實施例中，至少30%、至少35%或至少40%的微結(jié)構(gòu)具有小于I. 3度的傾斜度值。
在一些實施例中，少于15%、或少于10%、或少于5%的微結(jié)構(gòu)具有4. I度或更大的傾斜度值。另外，至少70%的微結(jié)構(gòu)具有至少O. 3度的傾斜度值。在具有低“閃光”的一些實施例中，微結(jié)構(gòu)包括平均圓當(dāng)量直徑(EOT)為至少5微米或至少10微米的峰。此外，峰的平均E⑶通常小于30微米或小于25微米。在一些實施例中，微結(jié)構(gòu)包括平均長度為至少5微米或至少10微米的峰。此外,微結(jié)構(gòu)峰的平均寬度通常為至少5微米。在一些實施例中，峰的平均寬度小于15微米。在其它實施例中，描述了高折射率組合物和低折射率組合物，可由這些組合物來制備本文所述的抗反射膜。


圖IA為啞光膜的示意性側(cè)視圖；圖IB為抗反射膜的示意性側(cè)視圖； 圖2A為微結(jié)構(gòu)凹陷的示意性側(cè)視圖；圖2B為微結(jié)構(gòu)凸起的示意性側(cè)視圖；圖3A為規(guī)則排列的微結(jié)構(gòu)的示意性俯視圖；圖3B為不規(guī)則排列的微結(jié)構(gòu)的示意性俯視圖；圖4為微結(jié)構(gòu)的示意性側(cè)視圖；圖5為包括一部分微結(jié)構(gòu)的光學(xué)膜的示意性側(cè)視圖，該微結(jié)構(gòu)包括嵌入的啞光粒子；圖6為切削工具系統(tǒng)的示意性側(cè)視圖；圖7A-7D為各種切削器的示意性側(cè)視圖；圖8A為示例性微結(jié)構(gòu)化表面(即微結(jié)構(gòu)化的高折射率層Hl)的二維表面輪廓；圖8B為圖8A的示例性微結(jié)構(gòu)化表面的三維表面輪廓；圖8C-8D分別為圖8A的微結(jié)構(gòu)化表面沿χ-和y_方向的橫截面輪廓；圖9A為另一個示例性微結(jié)構(gòu)化表面(即微結(jié)構(gòu)化的高折射率層H4)的二維表面輪廓；圖9B為圖9A的示例性微結(jié)構(gòu)化表面的三維表面輪廓；圖9C-9D分別為圖9A的微結(jié)構(gòu)化表面沿x_和y_方向的橫截面輪廓；圖IOA為另一個示例性微結(jié)構(gòu)化表面(即抗反射膜實例F10B)的二維表面輪廓；圖IOB為圖IOA的示例性微結(jié)構(gòu)化表面的三維表面輪廓；圖10C-10D分別為圖IOA的微結(jié)構(gòu)化表面沿x_和y_方向的橫截面輪廓；和圖11為顯示各種示例性微結(jié)構(gòu)化表面的補(bǔ)足累積傾斜度值分布的圖。圖12示出了計算曲率的方式。
具體實施例方式本發(fā)明描述了啞光(即防眩)膜和抗反射膜。參照圖1A，啞光膜100包括通常設(shè)置于透光性(例如膜)基材50上的微結(jié)構(gòu)化高折射率(例如觀測表面)層60?；?0以及啞光膜或抗反射膜通常具有至少85%或90%、且在一些實施例中至少91%、92%、93%或更大的透射率。
透明基材可為膜。膜基材的厚度通常取決于預(yù)期用途。對于多數(shù)應(yīng)用，優(yōu)選的基底厚度為小于約O. 5_，更優(yōu)選地為約O. 02到約O. 2_?；蛘撸该髂せ目蔀楣鈱W(xué)(例如照射)顯示器，通過該顯示器可顯示測試、圖形或其它信息。透明基材可包含任何下述材料或由其組成多種非聚合材料，如玻璃；或各種熱塑性的和交聯(lián)的聚合材料，如聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、(例如雙酚A)聚碳酸酯、醋酸纖維素、聚(甲基丙烯酸甲酯)和聚烯烴(如常用于各種光學(xué)裝置中的雙軸取向的聚丙烯)。圖IB的抗反射膜還包括設(shè)置在微結(jié)構(gòu)化的高折射率層上的低折射率表面層80。如圖IB所示，該抗反射膜的暴露的低折射率(觀測)表面層也包括由基礎(chǔ)微結(jié)構(gòu)化的高折射率層形成的微結(jié)構(gòu)化表面。高折射率層的折射率為至少約I. 60。對于具有分散于交聯(lián)的有機(jī)材料中的高折射率無機(jī)(例如氧化鋯)納米粒子的涂層而言，高折射率層的最大折射率通常不超過約I. 75。低折射率層的折射率小于高折射率層的折射率。高折射率層與低折射率層之間的折射率差值通常為至少O. 10、或O. 15、或O. 2或更大。低折射率層的折射率通常小于約I. 5，更通常 的是小于約I. 45，并且甚至更通常地小于約I. 42。低折射率層的最低折射率一般為至少約
I.35。耐用的啞光或抗反射膜通常包含與相對較薄的低折射率層結(jié)合的相對較厚的高折射率層。高折射率層通常具有至少O. 5微米、優(yōu)選至少I微米、且更優(yōu)選至少2或3微米的平均厚度(“t”)。高折射率層的厚度通常不超過15微米，且更通常的是不超過4或5微米。該低折射率層具有約1/4波長的光學(xué)厚度。該厚度典型地小于O. 5微米，更典型地小于約O. 2微米，并且常常為約90nm至IlOnm當(dāng)耐用高折射率層與耐用低折射率層結(jié)合使用時，可在沒有附加硬涂層的情況下生成耐用(如兩層)抗反射膜。然而，當(dāng)不需要啞光或抗反射膜的耐久性時，高折射率層的厚度可更薄。在一些實施例中，所述微結(jié)構(gòu)可以為凹陷。例如，圖2A為包括凹陷微結(jié)構(gòu)320或微結(jié)構(gòu)空穴的微結(jié)構(gòu)化(例如啞光)層310的示意性側(cè)視圖。工具表面(微結(jié)構(gòu)化表面自所述工具表面形成)通常包括多個凹陷。啞光或抗反射膜的微結(jié)構(gòu)通常為凸起。例如，圖2B為包括凸起微結(jié)構(gòu)340的微結(jié)構(gòu)化層330的示意性側(cè)視圖。圖8A-10D顯示了包括多個微結(jié)構(gòu)凸起的各種微結(jié)構(gòu)化表面。在一些實施例中，微結(jié)構(gòu)可形成規(guī)則圖案。例如，圖3A為在主表面415中形成規(guī)則圖案的微結(jié)構(gòu)410的示意性俯視圖。然而，微結(jié)構(gòu)通常形成不規(guī)則圖案。例如，圖3B為形成不規(guī)則圖案的微結(jié)構(gòu)420的示意性俯視圖。在一些情況下，微結(jié)構(gòu)可形成顯得無規(guī)的偽無規(guī)圖案。(例如分立的)微結(jié)構(gòu)可通過傾斜度表征。圖4為一部分微結(jié)構(gòu)化(例如啞光)層140的示意性側(cè)視圖。特別地，圖4示出了主表面120中且面向主表面142的微結(jié)構(gòu)160。微結(jié)構(gòu)160具有在整個微結(jié)構(gòu)表面上的傾斜度分布。例如，微結(jié)構(gòu)在位置510處具有傾斜度Θ，其中Θ為法線520與切線530之間的角度，法線520在位置510垂直于微結(jié)構(gòu)表面(α =90度)，切線530為在相同位置處的微結(jié)構(gòu)表面的切線。傾斜度Θ也為切線530與啞光層的主表面142之間的角度。通常，高折射率層和抗反射膜的微結(jié)構(gòu)可通常具有高度分布。在一些實施例中，微結(jié)構(gòu)的平均高度(根據(jù)實例中描述的測試方法測得)不超過約5微米、或不超過約4微米、或不超過約3微米、或不超過約2微米、或不超過約I微米。平均高度通常為至少O. I或O. 2微米。在一些實施例中，微結(jié)構(gòu)基本上不含(例如無機(jī)氧化物或聚苯乙烯)啞光粒子。然而，即使在不存在啞光粒子的條件下，微結(jié)構(gòu)70和高折射率層通常包含(例如氧化鋯)納米粒子30,如圖IA所示。選擇納米粒子的尺寸以避免顯著的可見光散射。可能希望使用多種類型的無機(jī)氧化物顆粒的混合物，以便使光學(xué)性能或材料性能達(dá)到最優(yōu)，并且降低組合物的總成本。經(jīng)表面改性的膠體納米粒子可為(例如非締合)原生粒度或締合粒度為至少Inm或5nm的無機(jī)氧化物粒子。原生粒度或締合粒度通常小于100nm、75nm或50nm。通常，原生粒度或締合粒度小于40nm、30nm、或20nm。優(yōu)選的是,納米粒子為非締合的。它們的測量可依賴于透射電子顯微鏡(TEM)。表面改性的膠體納米粒子基本上可以充分凝結(jié)。完全凝結(jié)的納米粒子(除二氧化硅之外)的結(jié)晶度(以分離的金屬氧化物顆粒的形 式測量)通常大于55%、優(yōu)選大于60%，并且更優(yōu)選大于70%。例如，結(jié)晶度可達(dá)到約86%或更高。結(jié)晶度可以采用X光衍射技術(shù)進(jìn)行測定。凝結(jié)的結(jié)晶(如氧化鋯)納米粒子具有高折射率，而無定形納米粒子通常具有低折射率。由于顯著更小的納米粒子尺寸，這種納米粒子不形成微結(jié)構(gòu)。相反，微結(jié)構(gòu)包括多個納米粒子。雖然未示出，但低折射率層80通常也包括(例如二氧化硅)納米粒子。在其它實施例中，高折射率層的微結(jié)構(gòu)的一部分包括嵌入的啞光粒子。啞光粒子通常具有大于約O. 25微米(250納米)、或大于約O. 5微米、或大于約
O.75微米、或大于約I微米、或大于約I. 25微米、或大于約I. 5微米、或大于約I. 75微米、或大于約2微米的平均尺寸。對于包含相對較薄的高折射率層的抗反射膜而言，通常為較小的啞光粒子。然而，對于其中高折射率層更厚的實施例，啞光粒子可具有最高至5微米或10微米的平均尺寸。啞光粒子的濃度可為至少I或2重量％至約5、6、7、8、9或10重量％或更大。圖5為包括設(shè)置于基材850上的啞光層860的光學(xué)膜800的不意性側(cè)視圖。啞光層860包括附著至基材850的第一主表面810以及分散于聚合粘合劑840中的多個啞光粒子830和/或啞光粒子聚集體。相當(dāng)大一部分，如至少約50%、或至少約60%、或至少約70%、或至少約80%、或至少約90%的微結(jié)構(gòu)870不存在啞光粒子830或啞光粒子聚集體880。因此，這種微結(jié)構(gòu)不含(例如嵌入的)啞光粒子。據(jù)認(rèn)為，(例如二氧化硅或CaCO3)啞光粒子的存在可提供改進(jìn)的耐用性，即使當(dāng)這種啞光粒子的存在不足以提供所需的抗反射性、透明度和霧度性質(zhì)時，如隨后所述。然而，由于相對較大的啞光粒子尺寸，因此難以將啞光粒子保持均勻地分散于涂料組合物中。這可導(dǎo)致施用的啞光粒子的濃度的變化(特別是就料片涂層而言)，這進(jìn)而導(dǎo)致啞光性質(zhì)的變化。對于其中至少一部分微結(jié)構(gòu)包括嵌入的啞光粒子或聚集的啞光粒子的實施例，啞光粒子的平均尺寸通常足夠小于微結(jié)構(gòu)的平均尺寸(例如至少為約2分之一或更小)，使得所述啞光粒子被微結(jié)構(gòu)化層的可聚合樹脂組合物所圍繞，如圖5所示。當(dāng)啞光層包括啞光粒子時，所述啞光層具有比粒子的平均尺寸大至少約O. 5微米、或至少約I微米、或至少約I. 5微米、或至少約2微米、或至少約2. 5微米、或至少約3微米的平均厚度“t”。
作為另外一種選擇或除此之外，低折射率層可包括啞光粒子?？墒褂萌魏魏线m的制造方法來制備微結(jié)構(gòu)化表面。通常通過澆鑄和固化與工具表面接觸的可聚合樹脂組合物使用從工具微復(fù)制來制造微結(jié)構(gòu)，例如在美國專利No. 5，175，030 (Lu等人)和No. 5，183，597 (Lu)中所述?？墒褂萌魏慰捎玫闹圃旆椒?，如通過使用雕刻或金剛石車削而制造工具。示例性的金剛石車削系統(tǒng)和方法可包括和利用例如PCT已公布的專利申請No. WO 00/48037以及美國專利No. 7，350，442和No. 7，328，638中所述的快速刀具伺服機(jī)構(gòu)(FTS)，這些專利的公開內(nèi)容以引用的方式并入本文。圖6為可用于切削工具的切削工具系統(tǒng)1000的示意性側(cè)視圖，該工具可被微復(fù)制以產(chǎn)生微結(jié)構(gòu)160和啞光層140。切削工具系統(tǒng)1000采用螺紋切削車床車削工藝，并包括可通過驅(qū)動器1030圍繞中心軸1020旋轉(zhuǎn)和/或沿中心軸1020移動的輥1010，以及用于切削輥材料的切削器1040。切削器被安裝在伺服機(jī)構(gòu)1050上，并且可通過驅(qū)動器1060沿χ-方向移動至輥內(nèi)和/或沿輥移動。通常，切削器1040垂直于輥和中心軸1020安裝，并且在輥圍繞中心軸旋轉(zhuǎn)的同時被驅(qū)動到輥1010的可雕刻材料內(nèi)。然后平行于中心軸驅(qū)動切削器以產(chǎn)生螺紋切削?？赏瑫r以高頻率和低位移來致動切削器1040以在輥中產(chǎn)生復(fù)制時 得到微結(jié)構(gòu)160的特征。伺服機(jī)構(gòu)1050為快速刀具伺服機(jī)構(gòu)(FTS)，并且包括快速調(diào)節(jié)切削器1040位置的固態(tài)壓電(PZT)裝置(通常也稱為PZT疊堆)。FTS 1050允許切削器1040在x_、y-和/或Z-方向上，或在偏軸方向上的高精確和高速移動。伺服機(jī)構(gòu)1050可為能夠相對于靜止位置產(chǎn)生受控移動的任何高品質(zhì)位移伺服機(jī)構(gòu)。在一些情況下，伺服機(jī)構(gòu)1050可牢靠地且可重復(fù)地提供分辨率為約O. I微米或更好的O至約20微米范圍內(nèi)的位移。驅(qū)動器1060可沿平行于中心軸1020的x_方向移動切削器1040。在一些情況下，驅(qū)動器1060的位移分辨率優(yōu)于約O. I微米，或優(yōu)于約O. 01微米。驅(qū)動器1030產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)移動與驅(qū)動器1060產(chǎn)生的平移移動同步進(jìn)行，以便精確地控制微結(jié)構(gòu)160的所得形狀。輥1010的可雕刻材料可為能夠通過切削器1040進(jìn)行雕刻的任何材料。示例性的輥材料包括金屬(如銅)、各種聚合物,和各種玻璃材料。切削器1040可為任何類型的切削器，并在應(yīng)用中可具有可能期望的任何形狀。例如，圖7A為具有半徑“R”的弧形切削刀頭1115的切削器1110的示意性側(cè)視圖。在一些情況下，切削刀頭1115的半徑R為至少約100微米、或至少約150微米、或至少約200微米。在一些實施例中，切削刀頭的半徑R為至少約300微米、或至少約400微米、或至少約500微米、或至少約1000微米、或至少約1500微米、或至少約2000微米、或至少約2500微米、或至少約3000微米?；蛘撸ぞ叩奈⒔Y(jié)構(gòu)化表面可使用如圖7B所示的具有V形切削刀頭1125的切削器1120、如圖7C所示的具有分段線性切削刀頭1135的切削器1130、或如7D所示的具有彎曲切削刀頭1145的切削器1140而形成。在一個實施例中，使用頂角β為至少約178度或更大的V形切削刀頭。重新參照圖6，當(dāng)切削輥材料時，輥1010沿中心軸1020的旋轉(zhuǎn)和切削器1040沿
χ-方向的移動限定了圍繞輥的沿中心軸具有間距P1的螺紋路徑。當(dāng)切削器沿垂直于輥表面的方向移動以切削輥材料時，由切削器切削的材料的寬度隨切削器移入和移出或者切入和切出而改變。參照例如圖7Α，切削器的最大穿透深度對應(yīng)于切削器切削的最大寬度Ρ2。通常，比率P2A31在約2至約4范圍內(nèi)。通過微復(fù)制九個不同的圖案化工具以制備高折射率啞光層而制得數(shù)個微結(jié)構(gòu)化的高折射率層。由于高折射率啞光層的微結(jié)構(gòu)化表面為工具表面的精確復(fù)制，所以微結(jié)構(gòu)化的高折射率層的如下描述也是反相工具表面的描述。微結(jié)構(gòu)化表面H5和H5A使用相同的工具，因此顯示基本上相同的補(bǔ)足累積傾斜度值分布FcJ Θ )和峰尺寸特性，如隨后所述。微結(jié)構(gòu)化表面HlOA和HlOB也使用相同的工具，因此也顯示基本上相同的補(bǔ)足累積傾斜度值分布Fee( Θ )和峰尺寸特性。微結(jié)構(gòu)化表面H2A、H2B和H2C也使用相同的工具。因此，H2B和H2C具有與H2A基本上相同的補(bǔ)足累積傾斜度值分布和峰尺寸特性。示例性的微結(jié)構(gòu)化的高折射率層的表面輪廓的一些例子示于圖8A-9D中。代表性微結(jié)構(gòu)化抗反射膜示于圖10A-10D中。
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根據(jù)實例中所述的測試方法使用原子力顯微鏡法(AFM)、共焦顯微鏡法、或相移干涉測量法表征面積為約200微米X 250微米至面積為約500微米X 600微米的制造樣品的表面的代表性部分。傾斜度分布的F。。( Θ )補(bǔ)足累積傾斜度值分布由如公式定義
ΣΛ; ⑷Fccm=^-
Σ勒)
q "C在特定角度(Θ)的F。。為大于或等于Θ的傾斜度的比率。微結(jié)構(gòu)化的高折射率層的微結(jié)構(gòu)的Fee(Q)不于下表I中。表I-微結(jié)構(gòu)化的高折射率層透明度、霧度&累積傾斜度值表征
權(quán)利要求
1.一種抗反射膜，其包含高折射率層和設(shè)置在所述高折射率層上的低折射率表面層；其中所述低折射率層包括具有補(bǔ)足的累積傾斜度值分布的多個微結(jié)構(gòu)，以使得至少30%具有至少O. 7度的傾斜度值，至少25%具有小于I. 3度的傾斜度值，并且所述抗反射膜不含嵌入的啞光粒子。
2.一種抗反射膜，其包含高折射率層和設(shè)置在所述高折射率層上的低折射率表面層；其中所述低折射率層包括具有補(bǔ)足的累積傾斜度值分布的多個微結(jié)構(gòu)，以使得至少25%具有至少O. 7度的傾斜度值，至少40%具有小于I. 3度的傾斜度值，并且不超過50%的所述微結(jié)構(gòu)包含嵌入的啞光粒子。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的啞光膜，其中至少30%的所述微結(jié)構(gòu)具有小于I.3度的傾斜度值。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的啞光膜，其中至少35%的所述微結(jié)構(gòu)具有小于I.3度的傾斜度值。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的啞光膜，其中至少40%的所述微結(jié)構(gòu)具有小于I.3度的傾斜度值。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5所述的抗反射膜，其中少于15%的所述微結(jié)構(gòu)具有4.I度或更大的傾斜度值。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-5所述的抗反射膜，其中少于5%的所述微結(jié)構(gòu)具有4.I度或更大的傾斜度值。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-5所述的抗反射膜，其中至少75%的所述微結(jié)構(gòu)具有至少O.3度的傾斜度值。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-8所述的抗反射膜，其中所述表面層包括平均圓當(dāng)量直徑為至少5微米的峰。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的抗反射膜，其中所述平均圓當(dāng)量直徑為至少10微米。
11.根據(jù)權(quán)利要求9或10所述的抗反射膜，其中所述平均圓當(dāng)量直徑小于30微米。
12.根據(jù)權(quán)利要求9或10所述的抗反射膜，其中所述平均圓當(dāng)量直徑小于25微米。
13.根據(jù)權(quán)利要求1-8所述的抗反射膜，其中所述微結(jié)構(gòu)化表面包括平均長度為至少5微米的峰。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的抗反射膜，其中所述峰具有至少10微米的平均長度。
15.根據(jù)權(quán)利要求1-8所述的抗反射膜，其中所述微結(jié)構(gòu)化表面包括平均寬度為至少5微米的峰。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的抗反射膜，其中所述峰具有小于15微米的平均寬度。
17.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的抗反射膜，其中所述膜具有小于O.14微米的平均粗糙度(Ra)。
18.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的抗反射膜，其中所述膜具有小于I.20微米的平均最大表面高度(Rz)。
19.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的抗反射膜，其中所述抗反射膜具有至少70%的透明度。
20.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的抗反射膜，其中所述抗反射膜其中所述光學(xué)膜具有不超過10%的霧度。
21.一種抗反射膜，其包含微結(jié)構(gòu)化的高折射率層和設(shè)置在所述高折射率層上的低折射率層，其中所述抗反射膜具有不超過90%的透明度、至少O. 05微米且不超過O. 14微米的平均表面粗糙度，并且所述抗反射膜不含嵌入的啞光粒子。
22.一種抗反射膜，其包含微結(jié)構(gòu)化的高折射率層和設(shè)置在所述高折射率層上的低折射率層，其中所述抗反射膜具有不超過90%的透明度、至少O. 50微米且不超過I. 20微米的平均最大表面高度，并且所述抗反射膜不含嵌入的啞光粒子。
23.一種抗反射膜，其包含微結(jié)構(gòu)化的高折射率層和設(shè)置在所述高折射率層上的低折射率層，其中所述抗反射膜具有不超過90%的透明度，并且所述微結(jié)構(gòu)化層包括平均當(dāng)量直徑為至少5微米且不超過30微米的峰，并且不超過50%的所述微結(jié)構(gòu)包含嵌入的啞光粒子。
24.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的抗反射膜，其中所述抗反射膜在550nm的波長下具有小于2%的平均光適應(yīng)反射率。
25.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的抗反射膜，其中所述高折射率層包括折射率為至少I. 60的可聚合樹脂組合物的反應(yīng)產(chǎn)物。
26.根據(jù)權(quán)利要求25所述的抗反射膜，其中聚合的樹脂組合物包含折射率為至少I.60的納米粒子。
27.根據(jù)權(quán)利要求26所述的抗反射膜，其中所述納米粒子包括氧化鋯。
28.根據(jù)權(quán)利要求26-27所述的啞光膜，其中所述納米粒子用包含羧酸端基的化合物進(jìn)行表面改性。
29.根據(jù)權(quán)利要求26所述的抗反射膜，其中所述化合物包含C3-C8酯重復(fù)單元或至少一個C6-C16酯單兀。
30.根據(jù)權(quán)利要求29所述的抗反射膜，其中所述表面處理劑包括以下物質(zhì)的反應(yīng)產(chǎn)物 i)至少一種脂族酸酐；和 ii)至少一種羥基聚己內(nèi)酯(甲基)丙烯酸酯。
31.根據(jù)權(quán)利要求29或30所述的抗反射膜，其中所述納米粒子用通過脂族酸酐與羥基C2-C8烷基(甲基)丙烯酸酯的反應(yīng)制備的化合物進(jìn)行表面改性。
32.根據(jù)權(quán)利要求25-31所述的抗反射膜，其中所述可聚合樹脂組合物包含含量范圍在約10至約20重量％內(nèi)的一種或多種芳族二(甲基)丙烯酸酯單體。
33.根據(jù)權(quán)利要求25-32所述的抗反射膜，其中所述可聚合樹脂組合物包含約5至約.15重量％的具有至少三個(甲基)丙烯酸酯基團(tuán)的交聯(lián)劑。
34.根據(jù)權(quán)利要求25-33所述的抗反射膜，其中所述可聚合樹脂組合物包含最高至約10重量％的芳族單(甲基)丙烯酸酯單體。
35.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的抗反射膜，其中所述低折射率層包括可自由基聚合的氟化聚合物。
36.根據(jù)權(quán)利要求35所述的抗反射膜，其中所述可自由基聚合的氟化聚合物包括具有超支化結(jié)構(gòu)的聚合物。
37.根據(jù)權(quán)利要求36所述的抗反射膜，其中所述可自由基聚合的氟化聚合物包括以下物質(zhì)的反應(yīng)產(chǎn)物i)至少一種氟含量為至少25重量％的多官能可自由基聚合材料和ii)可任選的至少一種氟含量在O至小于25重量％范圍內(nèi)的多官能可自由基聚合材料，其中基于所述可聚合有機(jī)組合物的固體的重量％，所述多官能材料的總量為至少約25重量％。
38.根據(jù)權(quán)利要求35所述的抗反射膜，其中所述可自由基聚合的氟化聚合物包括選自TFE、VDF和HFP的至少兩種組分單體，并且具有來自至少一種含鹵素的固化部位單體的反應(yīng)性官能度。
39.根據(jù)權(quán)利要求35-38所述的抗反射膜，其中所述低折射率層包括至少一種氟含量為至少約25重量％的氟化可自由基聚合的單體。
40.根據(jù)權(quán)利要求35-39所述的抗反射膜，其中所述低折射率層還包括氨基硅烷偶聯(lián)劑。
41.根據(jù)權(quán)利要求35-40所述的抗反射膜，其中所述低折射率層還包括熱解法二氧化硅。
42.一種高折射率可聚合樹脂組合物，其包括 40重量％至70重量％的氧化鋯納米粒子，其用包含羧酸端基和C3-C8酯重復(fù)單元或至少一種C6-C16酯單元的化合物進(jìn)行表面改性； 一種或多種芳族二(甲基)丙烯酸酯單體，其量的范圍在約10至約20重量％內(nèi)； I重量％至15重量％的交聯(lián)劑，其具有至少三個(甲基)丙烯酸酯基團(tuán)；和 最多5重量％的芳族單(甲基)丙烯酸酯單體。
43.根據(jù)權(quán)利要求42所述的高折射率可聚合樹脂組合物，其中所述芳族單(甲基)丙烯酸酯單體為聯(lián)苯單體。
44.一種低折射率可聚合組合物，其包括第一可自由基聚合的氟化聚合物，其包括具有超支化結(jié)構(gòu)的聚合物；和 第二可自由基聚合的氟化聚合物，其包括選自TFE、VDF和HFP的至少兩種組分單體，并且具有來自至少一種含鹵素的固化部位單體的反應(yīng)性官能度。
45.根據(jù)權(quán)利要求44所述的低折射率可聚合組合物，其中所述第一可自由基聚合的氟化聚合物包括以下物質(zhì)的反應(yīng)產(chǎn)物i)至少一種氟含量為至少25重量％的多官能可自由基聚合材料和ii)任選的至少一種氟含量在O至小于25重量％范圍內(nèi)的多官能可自由基聚合材料，其中基于所述可聚合有機(jī)組合物的固體的重量％，所述多官能材料的總量為至少約25重量％。
46.根據(jù)權(quán)利要求44-45所述的低折射率可聚合組合物，其中所述低折射率還包括至少一種氟含量為至少約25重量％的氟化可自由基聚合的單體。
47.根據(jù)權(quán)利要求44-46所述的低折射率可聚合組合物，其中所述低折射率層還包括氣基娃燒偶聯(lián)劑。
48.根據(jù)權(quán)利要求44-47所述的低折射率可聚合組合物，其中所述低折射率層還包括表面改性的二氧化硅。
全文摘要
本發(fā)明涉及抗反射膜，其包含高折射率層(60)和設(shè)置在所述高折射率層上的低折射率層(80)。所述抗反射膜具有可得自微復(fù)制工具的微結(jié)構(gòu)化表面(70)。
文檔編號G02B1/10GK102884453SQ201180023032
公開日2013年1月16日 申請日期2011年5月3日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月7日
發(fā)明者小克里斯托弗·B·沃克, 克里斯托弗·P·特伯, 特里·D·范, 史蒂文·H·孔, 約瑟夫·T·阿倫森, 凱爾·J·林德斯特倫, 邁克爾·K·格拉赫, 米歇爾·L·托伊, 陶恩·L·麥肯齊, 安東尼·M·倫斯特, 羅伯特·A·亞佩爾, 米切爾·A·F·約翰遜 申請人:3M創(chuàng)新有限公司