專利名稱：充電構(gòu)件、其生產(chǎn)方法、處理盒和電子照相設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于電子照相設(shè)備的充電構(gòu)件和處理盒等。
背景技術(shù)：
從充分確保電子照相感光構(gòu)件和充電構(gòu)件之間的抵接輥隙的觀點(diǎn)，用于使電子照相感光構(gòu)件的表面帶電的充電構(gòu)件通常具有支承體、設(shè)置于支承體上的彈性層(導(dǎo)電性彈性層)和設(shè)置于彈性層上的表面層。專利文獻(xiàn)I公開了設(shè)置有通過將例如金屬氧化物如氧化鋯和氧化鈦或復(fù)合氧化物如鈦酸鋇分散于粘結(jié)劑中獲得的表面層的充電構(gòu)件作為能夠防止低溫、低濕環(huán)境下發(fā)生帶電不良的充電構(gòu)件。另外，專利文獻(xiàn)2公開了設(shè)置有包含具有氟化烷基和氧化烯基的聚硅氧烷的表面層的充電構(gòu)件作為能夠抑制污物粘著到充電構(gòu)件表面并能夠長(zhǎng)期保持穩(wěn)定的帶電性能的充電構(gòu)件。如上所述，已將各種功能如充電構(gòu)件的帶電性能的改善和其表面特性的改善賦予到充電構(gòu)件的表面層。另外，從最近電子照相設(shè)備在從高溫、高濕環(huán)境至低溫、低濕環(huán)境范圍內(nèi)多種環(huán)境下使用的實(shí)事的觀點(diǎn)，已開始需要在該環(huán)境下發(fā)揮穩(wěn)定的高的帶電性能的充電構(gòu)件。引文列表專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1:日本專利申請(qǐng)?zhí)亻_H06-159349號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2 :日本專利申請(qǐng)?zhí)亻_第2007-004102號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的問題在該情況下，考慮到改善充電構(gòu)件的帶電性能，本發(fā)明的發(fā)明人對(duì)改善表面層的相對(duì)介電常數(shù)進(jìn)行了研究。根據(jù)專利文獻(xiàn)I的引入表面層的氧化鈦的介電常數(shù)為約100，其高于二氧化硅的相對(duì)介電常數(shù)(約4. O)。因此，推測(cè)為了獲得具有高相對(duì)介電常數(shù)的表面層引入氧化鈦顆粒是優(yōu)選的。然而，其中氧化鈦顆粒在均勻分散的同時(shí)而存在的表面層的形成要求在表面層的形成中要使用的涂布劑(涂布液)中將氧化鈦顆粒物理性地高度分散。該涂層劑的制備成本高并且所得涂布劑不適用于長(zhǎng)期貯存。另外，即使氧化鈦顆粒能夠均勻地分散于表面層中，也會(huì)產(chǎn)生以下問題。氧化鈦顆粒通過表面層中的粘結(jié)劑固定的程度未必充分，因此顆粒因充電構(gòu)件的長(zhǎng)期使用而易于從表面層脫落。另外，通過分散氧化鈦顆粒而獲得的表面層的表面自由能趨于增加，因此從抑制污物粘著到表面的觀點(diǎn)存在改善的余地。鑒于上述，本發(fā)明的目的是通過包括具有高的相對(duì)介電常數(shù)和小的表面自由能的表面層來提供能夠長(zhǎng)時(shí)間保持高帶電性能的充電構(gòu)件及生產(chǎn)所述構(gòu)件的方法。另外，本發(fā)明的目的是提供能夠長(zhǎng)期形成高品質(zhì)電子照相圖像的處理盒和電子照相設(shè)備。用于解決問題的方案
根據(jù)本發(fā)明的一方面，提供一種充電構(gòu)件，其包括支承體、彈性層和表面層，其中所述表面層包括涂布劑的固化產(chǎn)物層，所述涂布劑包含水解性硅烷化合物和氧化鈦顆粒的反應(yīng)產(chǎn)物，所述氧化鈦顆粒在其表面上具有含量為0. 7質(zhì)量％至35質(zhì)量％的羥基。根據(jù)本發(fā)明另一方面，提供一種充電構(gòu)件的生產(chǎn)方法，所述充電構(gòu)件包括支承體、彈性層和表面層，所述方法包括在所述彈性層上施涂涂布劑，所述涂布劑包含水解性硅烷化合物和氧化鈦顆粒的反應(yīng)產(chǎn)物，所述氧化鈦顆粒在其表面上具有含量為0. 7質(zhì)量％至35質(zhì)量％的羥基；和通過用活化能量射線照射來固化施涂到所述彈性層上的所述涂布劑，并形成所述表面層。根據(jù)本發(fā)明另外的方面，提供電子照相設(shè)備，其包括電子照相感光構(gòu)件和與所述電子照相感光構(gòu)件接觸配置的上述充電構(gòu)件。根據(jù)本發(fā)明更進(jìn)一步的方面，提供處理盒，其包括電子照相感光構(gòu)件和與所述電子照相感光構(gòu)件接觸配置的上述充電構(gòu)件，其中所述處理盒以可拆卸地安裝至電子照相設(shè)備的主體的方式形成。發(fā)明的效果本發(fā)明的充電構(gòu)件可長(zhǎng)期保持其高的相對(duì)介電常數(shù)，這是因?yàn)榫哂懈呦鄬?duì)介電常數(shù)的氧化鈦?zhàn)鳛榕c水解性硅烷化合物的反應(yīng)產(chǎn)物(固化產(chǎn)物)牢固地保持于表面層中。另夕卜，表面層由于其表面自由能小所以可抑制污物組分的粘著。各自包括充電構(gòu)件的處理盒和電子照相設(shè)備在提高打印速度和延長(zhǎng)電子照相設(shè)備壽命方面是有效的。


圖1為說明本發(fā)明充電構(gòu)件的構(gòu)成的實(shí)例的圖。圖2為根據(jù)本發(fā)明的電子照相設(shè)備的說明圖。圖3為在形成根據(jù)本發(fā)明的表面層時(shí)的化學(xué)反應(yīng)的說明圖。
具體實(shí)施例方式圖1所示的根據(jù)本發(fā)明的充電構(gòu)件依次層壓支承體101、導(dǎo)電性彈性層102和表面層103。作為基本結(jié)構(gòu)，在上述中可在支承體和導(dǎo)電性彈性層之間或?qū)щ娦詮椥詫雍捅砻鎸又g設(shè)置一層或兩層以上的其它層。(支承體)可使用由鐵、銅、不銹鋼、鋁、鋁合金或鎳形成的金屬(合金)支承體作為支承體。(彈性層)可將用于常規(guī)充電構(gòu)件的彈性層(導(dǎo)電性彈性層)的一種或兩種以上的彈性體例如橡膠和熱塑性彈性體各自用于導(dǎo)電性彈性層。橡膠的實(shí)例包括以下聚氨酯橡膠、硅酮橡膠、丁二烯橡膠、異戊二烯橡膠、氯丁橡膠、丁苯橡膠、乙丙橡膠、聚降冰片烯橡膠、苯乙烯-丁二烯-苯乙烯橡膠、丙烯腈橡膠、表氯醇橡膠和烷基醚橡膠。熱塑性彈性體為例如，苯乙烯類彈性體或烯烴類彈性體。苯乙烯類彈性體的商購可得的產(chǎn)品為例如，“RABAL0N” (商品名，由Mitsubishi Chemical Corporation制造)或“ SEPTON compound ”(商品名，由KURARAY CO.，LTD制造)。烯烴類彈性體的商購可得的產(chǎn)品為例如，“Thermolan”(商品名，由 Mitsubishi Chemical Corporation 制造)、“Milastomer” (商品名，由 Mitsui Chemicals, Inc.制造)、“Sumitomo TPE，，(商品名，由 Sumitomo Chemical Co. , Ltd.制造)或 “Santoprene，，(商品名，Advanced ElastomerSystems, L. P.)。另外，通過引入導(dǎo)電劑來將彈性層構(gòu)造為具有預(yù)定的導(dǎo)電性。彈性層的電阻優(yōu)選為IO2Q至IO8Q，特別優(yōu)選IO3Q至IO6Q。用于彈性層的導(dǎo)電劑的實(shí)例包括陽離子性表面活性劑、陰離子性表面活性劑、抗靜電劑和電解質(zhì)。陽離子性表面活性劑的實(shí)例包括季銨鹽(季銨鹽例如月桂基三甲基銨、硬脂基三甲基銨、八_十二燒基三甲基銨(octadodecyltrimethylammonium)、十二燒基三甲基銨、十六烷基三甲基銨和改性的脂肪酸-二甲基乙基銨)、高氯酸鹽、氯酸鹽、氟硼酸鹽、乙基硫酸鹽(ethosulfate salt)和齒化節(jié)基鹽(例如節(jié)基溴鹽和節(jié)基氯鹽)。陰離子性表面活性劑的實(shí)例包括脂肪族磺酸鹽、高級(jí)醇硫酸酯鹽、高級(jí)醇環(huán)氧乙烷加合物硫酸酯鹽、高級(jí)醇磷酸酯鹽和高級(jí)醇環(huán)氧乙烷加合物磷酸酯鹽?？轨o電劑的實(shí)例包括非離子性抗靜電劑例如高級(jí)醇環(huán)氧乙烷、聚乙二醇脂肪酸酯和多元醇脂肪酸酯。電解質(zhì)的實(shí)例包括周期表第I族的金屬(例如L1、Na和K)的鹽(例如季銨鹽)。周期表第I族的金屬的鹽的具體實(shí)例包括LiCF3S03、NaClO4, LiAsF6, LiBF4, NaSCN, KSCN和NaCl。另外，作為彈性層用導(dǎo)電劑，還可使用周期表第2族金屬(例如Ca和Ba)的鹽(例如，Ca(ClO4)2)以及由其衍生的抗靜電劑。可選地，可使用離子導(dǎo)電性導(dǎo)電劑例如任意此類導(dǎo)電劑與多元醇(例如1，4_ 丁二醇、乙二醇、聚乙二醇、丙二醇和聚乙二醇)或其衍生物的配合物，或任意此類導(dǎo)電劑與一元醇(monool)(例如乙二醇單甲醚和乙二醇單乙醚)的配合物。另外，作為彈性層用導(dǎo)電劑，還可使用碳類材料(例如導(dǎo)電性炭黑和石墨)、金屬氧化物(例如氧化錫、氧化鈦和氧化鋅)和金屬(例如鎳、銅、銀和鍺)。從當(dāng)充電構(gòu)件和作為被充電體的電子照相感光構(gòu)件彼此抵接時(shí)抑制充電構(gòu)件變形的觀點(diǎn)，導(dǎo)電性彈性層具有優(yōu)選60°至85°、特別地更優(yōu)選70°至80°的MD-1硬度。另夕卜，充電構(gòu)件優(yōu)選為沿其寬度方向中央部的厚度大于其兩端厚度的所謂的冠狀，以便充電構(gòu)件在寬度方向上可均勻地與感光構(gòu)件抵接。(表面層)充電構(gòu)件的表面層由涂布劑的固化產(chǎn)物層形成，所述涂布劑包含水解性硅烷化合物和氧化鈦顆粒之間的反應(yīng)產(chǎn)物，所述氧化鈦顆粒在其表面上具有含量為0. 7質(zhì)量％至35質(zhì)量％的羥基。將羥基的含量設(shè)定在上述范圍內(nèi)能夠使氧化鈦顆粒和水解性硅烷化合物充分鍵合。結(jié)果，幾乎不發(fā)生在形成表面層用涂布劑中氧化鈦細(xì)顆粒的分離和沉淀等。另夕卜，所得表面層的表面自由能可更加確實(shí)地降低。應(yīng)當(dāng)注意，羥基含量超過35質(zhì)量％意味著T1-O-Ti鍵的數(shù)量減少，這阻止氧化鈦保持其晶體結(jié)構(gòu)并弱化其對(duì)充電構(gòu)件的相對(duì)介電常數(shù)的增加效果。(氧化鈦細(xì)顆粒的表面處理)可通過將氧化鈦細(xì)顆粒進(jìn)行堿處理和酸處理或進(jìn)行酸處理而將羥基導(dǎo)入到氧化鈦細(xì)顆粒的表面。作為指導(dǎo)，要進(jìn)行任何此類表面處理的氧化鈦細(xì)顆粒的粒徑為0. 050 um至 0. 600 u m。
氧化鈦細(xì)顆粒的具體實(shí)例如下所述。(T-1)MT-150A(TAYCA CORPORATION)(T-2)MT-500B(TAYCA CORPORATION)(T-3)MT-600B(TAYCA CORPORATION)(T-4)TT0-55N(ISHIHARA SANGYO KAISHA, LTD.)(T-5)TT0-51N(ISHIHARA SANGYO KAISHA, LTD.)(T-6)STR-60N(Sakai Chemical Industry Co. , Ltd.)(T-7)STR-100N(Sakai Chemical Industry Co. , Ltd.)用于堿處理的試劑優(yōu)選為氫氧化鈉、氫氧化鉀或氨水等的堿性水溶液。所用溶液的濃度期望地為0. 005mol/L以上，特別更期望地為0. 01mol/L至1. OOmoI/L0將堿性水溶液添加到使氧化鈦細(xì)顆粒充分浸潰于其中的程度，然后通過攪拌分散細(xì)顆粒。在堿處理時(shí)優(yōu)選進(jìn)行用水浴或油浴等的加熱，并且特別地，更優(yōu)選將溫度設(shè)定為40°C至100°C。處理時(shí)間優(yōu)選為I小時(shí)以上。在已進(jìn)行堿處理后進(jìn)行水洗。用于酸處理的試劑優(yōu)選選自鹽酸、硝酸、硫酸和乙酸等的酸性水溶液。所用溶液的濃度期望地為0. 01mol/L以上，特別更期望地為0. lmol/L至3mol/L。將酸性水溶液添加到使氧化鈦細(xì)顆?；蛞堰M(jìn)行堿處理的氧化鈦細(xì)顆粒充分浸潰于其中的程度，然后通過攪拌分散細(xì)顆粒。在酸處理時(shí)優(yōu)選進(jìn)行用水浴或油浴等的加熱，并且特別地，更優(yōu)選將溫度設(shè)定為40°C至100°C。處理時(shí)間優(yōu)選為I小時(shí)以上，并在處理后進(jìn)行水洗。酸處理和水洗優(yōu)選各自進(jìn)行多次，特別地更優(yōu)選兩次至四次。使如上所述已進(jìn)行堿處理和酸處理或進(jìn)行酸處理的氧化鈦細(xì)顆粒風(fēng)干，然后用瑪瑙研缽等粉碎。(水解/縮合反應(yīng))接下來，將已進(jìn)行如上所述的使羥基可導(dǎo)入其表面的任何此類表面處理的氧化鈦細(xì)顆粒、水和醇添加到水解性硅烷化合物,然后在加熱下回流的同時(shí)攪拌混合物。由此,使水解性硅烷化合物水解從而可將烷氧基轉(zhuǎn)變?yōu)榱u基。然后，使羥基與氧化鈦細(xì)顆粒表面上的羥基反應(yīng)。此處，Si原子的數(shù)量與Ti原子的數(shù)量之比(Si/Ti)優(yōu)選為0.5至10，特別地更優(yōu)選0.5至2. O。只要所述比例為0.5以上，則氧化鈦細(xì)顆粒與水解性硅烷化合物充分反應(yīng)，因此不可能存在由于摩擦引起的細(xì)顆粒剝離。另外，只要所述比例為10以下，則可充分實(shí)現(xiàn)氧化鈦對(duì)相對(duì)介電常數(shù)的增加效果。作為水解性硅烷化合物，使用選自由下式(I)和(2)表示的化合物的一種或多種，優(yōu)選其至少一種為由式(I)表示的水解性硅烷化合物。式(I)R1-Z-S1-(OR2)3式(2)R3-S1-(OR4)3上述式(I)中，R1表示陽離子可聚合有機(jī)基團(tuán)，Z表示二價(jià)有機(jī)基團(tuán)，R2和R4各自獨(dú)立地表示飽和或不飽和烴基，和R3表示取代或未取代的烷基或芳基。由式(I)中的R1表示的陽離子可聚合有機(jī)基團(tuán)是指通過斷裂產(chǎn)生氧化烯基的陽離子可聚合有機(jī)基團(tuán)，并且所述基團(tuán)的實(shí)例包括環(huán)醚基團(tuán)(例如環(huán)氧基和氧雜環(huán)丁烷基)和乙烯醚基團(tuán)。其中，從獲得的容易性以及反應(yīng)控制的容易性的觀點(diǎn)，優(yōu)選環(huán)氧基。
由式(I)中的Z表示的二價(jià)有機(jī)基團(tuán)的實(shí)例包括亞烷基和亞芳基。其中，優(yōu)選具有I至6個(gè)碳原子的亞烷基，并更優(yōu)選亞乙基。由式(I)中的R2和R4各自表示的飽和或不飽和的單價(jià)烴基的實(shí)例包括烷基、烯基和芳基。其中，優(yōu)選具有I至4個(gè)碳原子的直鏈或支鏈烷基，并更優(yōu)選甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基或叔丁基。具有由式(I)表示的結(jié)構(gòu)的水解性硅烷化合物的具體實(shí)例如下所述。(1-1):環(huán)氧丙氧丙基三甲氧基硅烷(1~2):環(huán)氧丙氧丙基二乙氧基娃燒(1-3):環(huán)氧環(huán)己基乙基三甲氧基硅烷(1-4):環(huán)氧環(huán)己基乙基三乙氧基硅烷由式⑵中的R3表示的用芳基取代的烷基或未取代的烷基優(yōu)選為具有I至21個(gè)碳原子的直鏈烷基，更優(yōu)選具有6至10個(gè)碳原子的直鏈烷基。由式(2)中的R3表示的用烷基取代的芳基或未取代的芳基優(yōu)選為苯基。具有由式(2)表示的結(jié)構(gòu)的水解性硅烷化合物的具體實(shí)例如下所述。(2-1):甲基三甲氧基硅烷(2~2):甲基二乙氧甲娃燒(2~3):甲基二丙氧基娃燒(2-4):乙基三甲氧基硅烷(2-5):乙基三乙氧基硅烷(2~6):乙基二丙氧基娃燒(2~7):丙基二甲氧基娃燒(2~8):丙基二乙氧基娃燒(2~9):丙基二丙氧基娃燒(2-10):己基三甲氧基硅烷(2-11):己基三乙氧基硅烷(2~12):己基二丙氧基娃燒(2-13):癸基三甲氧基硅烷(2-14):癸基三乙氧基硅烷(2-15):癸基三丙氧基硅烷(2~16):苯基二甲氧基娃燒(2-17):苯基三乙氧基硅烷(2~18):苯基二丙氧基娃燒當(dāng)組合使用具有由式(2)表示的結(jié)構(gòu)的水解性硅烷化合物時(shí)，更優(yōu)選組合其中R3表不苯基的水解性娃燒化合物和其中R3表不具有6至10個(gè)碳原子的直鏈燒基的水解性娃烷化合物，這是因?yàn)榧词巩?dāng)由于水解/縮合反應(yīng)而使任何此類單體的結(jié)構(gòu)變化時(shí)，其與溶劑的相容性也是令人滿意的。另外，水的添加量(mol)優(yōu)選為待添加的水解性硅烷化合物的摩爾數(shù)的3. 0倍至
9.0倍。特別地，更優(yōu)選該添加量為水解性硅烷化合物的摩爾數(shù)的3. 5倍至6. 0倍。只要添加量落入所述范圍內(nèi)，則幾乎不殘留未反應(yīng)的單體，反應(yīng)不過度進(jìn)行，因此可獲得均勻、透明的溶液。另外，當(dāng)水量大時(shí)，則醇和縮合物之間的相容性劣化，因此存在如上所述的溶液易于不透明或產(chǎn)生沉淀的趨勢(shì)。另外，伯醇，仲醇，或叔醇、伯醇和仲醇的混合體系或伯醇和叔醇的混合體系優(yōu)選用作醇。特別地，優(yōu)選使用乙醇、甲醇和2- 丁醇的混合溶液或乙醇和2- 丁醇的混合溶液。(涂布劑的制備)通過將光聚合引發(fā)劑添加到如上所述合成的反應(yīng)產(chǎn)物(水解/縮合物)來制備涂布劑。涂布劑的濃度用適當(dāng)?shù)娜軇﹣碚{(diào)節(jié)以便可以改善其涂布性能。溶劑的實(shí)例包括醇例如乙醇和2- 丁醇，乙酸乙酯，甲基乙基酮，及其混合物。優(yōu)選將路易斯酸或布郎斯臺(tái)德酸的鎗鹽用作光聚合引發(fā)劑。任何其它陽離子聚合催化劑為，例如，硼酸鹽、具有酰亞胺結(jié)構(gòu)的化合物、具有三嗪結(jié)構(gòu)的化合物、偶氮化合物和過氧化物。應(yīng)當(dāng)注意，光聚合引發(fā)劑可以以用溶劑例如醇和酮預(yù)先制備的稀釋溶液的形式來添加，以便可以改善其與水解/縮合物的相容性。溶劑的實(shí)例包括甲醇和甲基異丁基酮。在各種陽離子聚合催化劑中，從感光度、穩(wěn)定性和反應(yīng)性的觀點(diǎn)，優(yōu)選芳族锍鹽或芳族碘鎗鹽。特別地，更優(yōu)選雙(4-叔丁基苯基)碘鎗鹽、具有由下式(3)表示的結(jié)構(gòu)的化合物(商品名:“Adekaoptomer SP150”，由ADEKA CORPORATION制造)或具有由下式(4)表不的結(jié)構(gòu)的化合物(商品名IRGACURE261 ”，由 Ciba Specialty Chemicals Inc.制造)。式(3)
權(quán)利要求
1.一種充電構(gòu)件，其包括:支承體、彈性層和表面層； 所述表面層包括涂布劑的固化產(chǎn)物層，所述涂布劑包含水解性硅烷化合物和氧化鈦顆粒的反應(yīng)產(chǎn)物，所述氧化鈦顆粒的表面上具有含量為0.7質(zhì)量％至35質(zhì)量％的羥基。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的充電構(gòu)件，其中所述水解性硅烷化合物的Si原子數(shù)與所述氧化鈦顆粒的Ti原子數(shù)之比Si/Ti為0.5至10。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的充電構(gòu)件，其中將所述氧化鈦顆粒進(jìn)行堿處理和酸處理或進(jìn)行酸處理。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的充電構(gòu)件，其中 所述水解性硅烷化合物包括選自由下式(I)和(2)表示的化合物的一種或多種，并且其至少一種為由式(I)表示的化合物:式(I)R1-Z-S1-(OR2)3式(2) R3-S1-(OR4)3 其中R1表示陽離子可聚合有機(jī)基團(tuán)，Z表示二價(jià)有機(jī)基團(tuán)，R2和R4各自獨(dú)立地表示飽和或不飽和烴基，和R3表示取代或未取代的烷基或芳基。
5.一種充電構(gòu)件的生產(chǎn)方法，所述充電構(gòu)件包括支承體、彈性層和表面層，所述方法包括:在所述彈性層上施涂涂布劑，所述涂布劑包含水解性硅烷化合物和氧化鈦顆粒的反應(yīng)產(chǎn)物，所述氧化鈦顆粒的表面上具有含量為0.7質(zhì)量％至35質(zhì)量％的羥基；和通過用活化能量射線照射來固化施涂在所述彈性層上的所述涂布劑，并形成所述表面層。
6.一種電子照相 設(shè)備，其包括:電子照相感光構(gòu)件；和與所述電子照相感光構(gòu)件接觸配置的根據(jù)權(quán)利要求1至4任一項(xiàng)所述的充電構(gòu)件。
7.—種處理盒，其包括:電子照相感光構(gòu)件；和與所述電子照相感光構(gòu)件接觸配置的根據(jù)權(quán)利要求1至4任一項(xiàng)所述的充電構(gòu)件，其中所述處理盒以可拆卸地安裝至電子照相設(shè)備的主體的方式形成。
全文摘要
提供相對(duì)介電常數(shù)高和表面自由能小并且能夠長(zhǎng)期保持高的特定介電常數(shù)的充電構(gòu)件。還提供有效地增加電子照相設(shè)備的打印速度和壽命的處理盒以及電子照相設(shè)備。充電構(gòu)件具有支承體、彈性層和表面層，其中所述表面層為固化的涂布劑層，所述涂布劑包含水解性硅烷化合物和在表面上具有0.7質(zhì)量%至35質(zhì)量%的羥基的氧化鈦顆粒的反應(yīng)產(chǎn)物。所述電子照相設(shè)備和所述處理盒各自包括所述充電構(gòu)件。
文檔編號(hào)G03G15/02GK103080848SQ20118003941
公開日2013年5月1日 申請(qǐng)日期2011年6月30日 優(yōu)先權(quán)日2010年8月9日
發(fā)明者鈴村典子, 黑田紀(jì)明 申請(qǐng)人:佳能株式會(huì)社