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具有多孔低折射率層并且具有保護層的光學元件的制作方法

文檔序號:2682742閱讀:118來源:國知局
專利名稱:具有多孔低折射率層并且具有保護層的光學元件的制作方法
具有多孔低折射率層并且具有保護層的光學元件
背景技術
具有納米級孔或空隙結構的制品可用于多種應用,這些應用基于由其納米空隙組合物提供的光學、物理或機械性能。例如,納米空隙制品包含至少部分地圍繞孔或空隙的聚合物固體網(wǎng)絡或基質(zhì)??谆蚩障锻ǔ1粴怏w(例如空氣)填充。納米空隙制品中的孔或空隙的尺寸總體上可描述為具有可以在約I納米至約1000納米范圍內(nèi)的平均有效直徑。國際純粹與應用化學聯(lián)合會(The International Union of Pure and Applied Chemistry,IUPAC)已定義納米多孔材料的三個尺寸類別:空隙小于2nm的微孔、空隙在2nm與50nm之的中孔和空隙大于50nm的大孔。上述不同尺寸類別的每一種都可為納米空隙制品提供獨特的性質(zhì)。數(shù)種技術已用于產(chǎn)生多孔或有空隙的制品,包括例如聚合誘導相分離(PIPS)、熱致相分離(TIPS)、溶劑誘導相分離(SIPS)、乳液聚合以及使用起泡劑/發(fā)泡劑的聚合技術。通常,由這些方法制得的多孔或有空隙的制品需要洗滌步驟,以移除用于形成該結構的材料,例如表面活性劑、油或化學殘留物。洗滌步驟會限制產(chǎn)生的孔或空隙的尺寸范圍和均勻度。這些技術還受到可用材料類型的限制。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明涉及包括低折射率層和聚合物保護層的光學元件。具體地講,本發(fā)明涉及包括低折射率層和聚合物保護層的光學元件,所述聚合物保護層不使所述光學元件的有效折射率增加超過10%。在一個不例性實施例中,光學制品包括光學兀件、設置在所述光學兀件上并且有效折射率為1.3或更小的低折射率層和設置在所述低折射率層上的聚合物保護層。所述低折射率層包括粘結劑、分散在所述粘結劑中的多個金屬氧化物粒子和多個互連空隙。所述聚合物保護層不使所述光學制品的有效折射率增加超過10%。在另一個示例性實施例中,光學制品包括光學元件、設置在所述光學元件上并且有效折射率為1.3或更小的低折射率層和設置在所述低折射率層上的聚合物保護層。所述低折射率層包括粘結劑、分散在所述粘結劑中的多個金屬氧化物粒子和多個互連空隙。所述聚合物保護層是由平均分子量為至少50,000g/mol的聚合物形成。在另一個示例性實施例中,光學制品包括光學元件、設置在所述光學元件上并且有效折射率為1.3或更小的低折射率層和交聯(lián)聚合物保護層。所述低折射率層包括粘結齊U、分散在所述粘結劑中的多個金屬氧化物粒子和多個互連空隙。閱讀了下面的詳細說明后,上述這些以及其它各種特征和優(yōu)點將顯而易見。


結合附圖,參考以下對本發(fā)明的多個實施例的詳細說明,可更全面地理解本發(fā)明,其中:圖1為一個示例性光學制品的示意圖側視圖。
該圖不一定是按比例繪制。附圖中所使用的類似標號是指類似部件。
具體實施例方式在以下的說明書中,參照附圖,所述附圖構成本文的一部分,并且其中通過舉例說明示出。應當理解,在不脫離本發(fā)明的范圍或精神的情況下,可設想其他實施例并可進行修改。因此,以下的具體實施方式
不具有限制性意義。除非另外指明,否則本說明書和權利要求中使用的表示特征尺寸、數(shù)量和物理特性的所有數(shù)字均應該理解為在所有情況下均是由術語“約”來修飾的。因此,除非有相反的說明,否則上述說明書和所附權利要求書中列出的數(shù)值參數(shù)均是近似值,根據(jù)本領域的技術人員利用本文所公開的教導內(nèi)容尋求獲得的所需特性,這些近似值可以變化。除非內(nèi)容明確指定,否則本說明書和所附權利要求中使用的“一種”、“該”、“所述”或未指明數(shù)量的形式涵蓋了具有多個指代對象的具體情況。除非本文內(nèi)容以其他方式明確指出,否則本說明書和所附權利要求書中使用的術語“或”一般以包括“和/或”的意義使用。與空間相關的術語(包括但不限于“下面”、“上面”、“在下面”、“在之下”、“在之上”和“在頂部”),如果在本文中使用,則用于便于描述一個元件相對于另一個元件的空間關系。除了在圖中所示的和本文所述的特定取向以外,此類與空間有關的術語涵蓋了使用中裝置和操作的不同取向。例如,如果圖中所示單元翻過來或翻轉(zhuǎn)過來,那么先前描述的在其它元件之下或下面的部分就在這些其它元件之上了。如本文所用,例如當元件、組件或?qū)用枋鰹榕c另一元件、組件或?qū)有纬伞耙恢陆缑妗?,或在另一元件、組件或?qū)印吧稀?、“連接到”、“耦合到”或“接觸”另一元件、組件或?qū)訒r,其可以直接在所述元件、組件或?qū)又希苯舆B接到,直接耦合到,直接接觸所述特定元件、組件或?qū)樱蛘呔娱g的元件、組件或?qū)涌赡茉谒鎏囟ㄔ?、組件或?qū)又?,或連接到、I禹合到或接觸所述特定元件、組件或?qū)?。例如當元件、組件或?qū)颖环Q為“直接在另一元件上”、“直接連接到”、“直接耦合到”或“直接接觸”另一元件時,沒有例如居間的元件、組件或?qū)印1景l(fā)明涉及包括低折射率層和聚合物保護層的光學元件。具體地講,本發(fā)明涉及包括低折射率層和聚合物保護層的光學元件,所述聚合物保護層不使所述光學元件的有效折射率增加超過10%。所述聚合物保護層為在老化后實質(zhì)上不降低所述光學元件或所述低折射率層的物理特性的的穩(wěn)定保護層。所述聚合物保護層基本上不會擴散到所述納米多孔低折射率層中。本發(fā)明描述可用于顯示器應用的呈膜形式的集成光學件。本發(fā)明描述改善具有低折射率層的膜構造的粘合強度的保護層。雖然本發(fā)明不受此限制,但是通過討論下面提供的實例,將認識到本發(fā)明的各個方面。本發(fā)明的漫射體涂層、制品或構造的一些實施例包括一個或多個低折射率層,所述低折射率層包括分散于粘結劑中的多個空隙??障毒哂姓凵渎蔨和介電常數(shù)εν,其中ην2=εν,且粘合劑具有折射率nb和介電常數(shù)^,其中%2=^。通常,低折射率層與光(如在低折射率層上入射或在低折射率層內(nèi)傳播的光)的相互作用取決于多個膜或?qū)犹匦裕纾せ驅(qū)雍穸?、粘合劑折射率、空隙或孔穴折射率、孔穴形狀和尺寸、孔穴的空間分布、和光的波長。在一些實施例中,在低折射率層上入射或在低折射率層內(nèi)傳播的光“識別”或“感受”有效介電常數(shù)ε eff和有效折射率neff,其中nrff可以用空隙折射率nv、粘結劑折射率nb和空隙孔隙率或體積分數(shù)“f”表示。在這種實施例中,光學膜或低折射率層足夠厚且空隙足夠小,使得光不能分辨單個或分開的空隙的形狀和特征。在這種實施例中,至少大部分空隙(如至少60%或70%或80%或90%的空隙)的尺寸不大于約λ /5、或不大于約λ /6、或不大于約λ/8、或不大于約λ/10、或不大于約λ/20,其中λ為光的波長。在一些實施例中,一些空隙可為足夠小,使得它們的主要光學作用為降低有效折射率,而其他一些空隙可降低有效折射率和散射光,而其他另一些空隙可為足夠大,使得它們的主要光學作用為散射光。在一些實施例中,在低折射率層上入射的光為可見光,意味著光的波長在電磁光譜的可見范圍內(nèi)。在這些實施例中,可見光具有在約380nm至約750nm、或約400nm至約700nm、或約420nm至約680nm范圍內(nèi)的波長。在這些實施例中,低折射率層具有有效折射率,并包括多個空隙,如果至少大多數(shù)空隙(如至少60%或70%或80%或90%的空隙)的尺寸不大于約70nm、或不大于約60nm、或不大于約50nm、或不大于約40nm、或不大于約30nm、或不大于約20nm、或不大于約10nm。在一些實施例中,低折射率層足夠厚,使得低折射率層具有有效折射率,所述有效折射率可以用空隙和粘合劑的折射率和空隙或孔穴體積分數(shù)或孔隙率表示。在這種實施例中,低折射率層的厚度不小于約I微米或不小于約2微米,或在I至20微米范圍內(nèi)。當所公開的低折射率層中的空隙足夠小且低折射率層足夠厚時,低折射率層具有可如下表示的有效介電常數(shù)erff:ε eff=f ε v+(l-f) eb⑴在這些實施例中,光學膜或低折射率層的有效折射率neff可表示為:neff2=f nv2+(l-f) nb2(2)
在一些實施例中,如當孔穴和粘結劑的折射率之間的差異足夠小時,低折射率層的有效折射率可由如下表達式估算:neff=f nv+(l-f) nb(3)在這些實施例中,低折射率層的有效折射率為空隙和粘結劑的折射率的體積加權平均值。在環(huán)境條件下,空隙含有空氣,因此空隙的折射率nv為大約1.00。例如,空隙體積分數(shù)為約50%且具有折射率為約1.5的粘結劑的低折射率層具有約1.25的有效折射率。在一些實施例中,低折射率層的有效折射率不大于(或小于)約1.3,或小于約1.25,或小于約1.2,或小于約1.15,或小于約1.1。在一些實施例中,折射率為約1.14至約
1.30。在一些實施例中,低折射率層包括粘結劑、多個粒子、和多個互連空隙或互連空隙的網(wǎng)絡。在其他實施例中,低折射率層包括粘結劑和多個互連空隙或互連空隙的網(wǎng)絡。多個互連空隙或互連空隙的網(wǎng)絡可存在于多種方法中。在一個方法中,在粘合劑混合物中利用高度結構化、高表面積氣相法金屬氧化物(如氣相法二氧化硅)的固有孔隙率以形成結合粘合劑、粒子、空隙和任選的交聯(lián)劑或其他輔助材料的復合結構。所需的粘合劑與粒子的比率取決于用于形成互連空隙結構的方法類型。盡管粘合劑樹脂不是形成多孔氣相法二氧化硅結構的先決條件,但通常所需的是摻入一些類型的聚合物樹脂或粘合劑與金屬氧化物網(wǎng)絡一起,以改進最終構造的加工、涂層品質(zhì)、粘附力和耐久性??捎玫恼澈蟿渲睦訛檠苌詿峁绦?、熱塑性和UV可固化聚合物的那些。例子包括聚乙烯醇(PVA)、聚乙烯醇縮丁醛(PVB)、聚乙烯吡咯烷酮(PVP)、聚乙烯乙酸乙烯酯共聚物(EVA)、乙酸丁酸纖維素(CAB)、聚氨酯(TOR)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚丙烯酸酯、環(huán)氧樹脂、有機硅和含氟聚合物。粘結劑可以溶解于適當溶劑中,如水、乙酸乙酯、丙酮、2-丁酮等等,或它們可以作為分散體或乳液使用。一些可用的呈混合物形式的市售粘結劑的例子為可從美國可樂麗公司(Kuraray-USA)、瓦克化學品公司(ffacker Chemical)、泰良公司(Dyneon LLC)和羅門哈斯公司(Rhom and Haas)商購的那些。盡管粘合劑可為聚合物體系,其也可作為可聚合單體體系(如UV可固化或可熱固化或可交聯(lián)體系)加入。這種體系的例子可為UV聚合型丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、多官能丙烯酸酯、氨基甲酸酯丙烯酸酯、和它們的混合物。一些典型例子可為1,6己二醇二丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯。這種體系易得自供應商,如美國特拉華州紐華克的尼奧瑞斯公司(Neo Res (Newark, DE))、美國賓西法尼亞州費城的阿科瑪公司(Arkema(PhiIadelphia, PA))或美國賓夕法尼亞州??怂诡D的沙多瑪公司(Sartomer (Exton, PA))。光化福射,如電子束(E-beam)、Y和紫外線福射,為用于引發(fā)這些體系聚合的可用方法,其中許多實施例利用紫外線活性體系。其它可用粘結劑體系也可以進行陽離子聚合,這種體系可作為乙烯基醚和環(huán)氧化物得到。聚合物粘合劑也可與交聯(lián)劑一起配制,所述交聯(lián)劑可與聚合物粘合劑化學結合以形成交聯(lián)網(wǎng)絡。盡管交聯(lián)的形成不是形成多孔結構或低折射率光學性質(zhì)的先決條件,但由于其它功能性原因,交聯(lián)的形成通常是所需的,所述其它功能性原因如改進涂層的粘合強度、對基材的粘合或者耐濕性或耐熱性及耐溶劑性。交聯(lián)劑的特定類型取決于所用的粘合劑。用于聚合物型粘結劑,如PVA的典型交聯(lián)劑將為二異氰酸酯;鈦酸酯,如TYZ0R-LA (可得自美國特拉華州威爾明頓的杜邦公司(DuPont, Wi lmington, DE);聚(表氯醇)酰胺加合物,如PolyCupl72 (可得自美國特拉華州威爾明頓的大力神公司(Hercules, Wilmington, DE));多官能團氮丙唳,如CXlOO (可得自美國特拉華州紐華克的尼奧瑞斯公司(Neo-Res, Newark, DE));和硼酸、二環(huán)氧化物、二酸等等。聚合物粘結劑可與粒子聚集體形成分離相,或可以一定方式分散于粒子聚集體之間,所述方式為通過直接共價鍵的形成或分子相互作用(如離子力、偶極力、范德華力、氫鍵和與金屬氧化物的物理纏結)將聚集體“結合”在一起形成與金屬氧化粒子連接的結構。示例性的粒子包括氣相法金屬氧化物或焦化金屬氧化物,例如氣相法二氧化硅或氧化鋁。在一些實施例中,可使用高度支化或結構化的粒子。這種粒子抑制了在粘合劑基質(zhì)中的有效堆積,并允許形成空隙或孔穴。包括高度支化或結構化粒子的示例性材料包括Cabo-Sil 氣相法二氧化硅或二氧化硅分散體(如以商品名H15、TS520銷售的那些),或預分散的氣相法二氧化硅粒子(如可作為Cabo-Sperse PG001、PG002、PG022、1020K、4012K、1015得到的那些)(可得自卡博特公司(Cabot Corporation))。盡管由于二氧化娃具有固有地比氧化鋁更低的骨架折射率而可能優(yōu)選二氧化硅,但氣相法氧化鋁也是可用于形成低折射率體系的結構化粒子。氧化鋁的例子可以商標名Cabo-Sperse得到,如以商標名Carbo-Sperse PG003或Carbo Spec-Al 出售的那些。在一些實施例中,這些示例性氣相法金屬氧化物的聚集體包括在約8nm至約20nm范圍內(nèi)的多個原生粒子且形成高度支化結構,所述高度支化結構具有在約80nm至大于300nm范圍內(nèi)的寬尺寸分布。在一些實施例中,這些聚集體在涂層的單元體積中無規(guī)堆積以形成具有通道、隧道、和孔穴的復雜雙連續(xù)網(wǎng)絡的介孔結構、所述通道、隧道、和孔穴將空氣夾帶在網(wǎng)絡中并由此降低涂層的密度和折射率。其它可用多孔材料是衍生自天然存在的無機材料,如粘土、硫酸鋇、氧化鋁、硅酸鹽等
氣相法二氧化硅粒子也可用表面處理劑進行處理。金屬氧化物粒子的表面處理可提供例如改進的在聚合物粘結劑中的分散性、改變的表面性質(zhì)、增強的粒子粘結劑相互作用、和/或反應性。在一些實施例中,表面處理穩(wěn)定了粒子,使得粒子良好分散于粘結劑中,從而得到基本上更均勻的組合物??烧{(diào)整表面改性的無機粒子的結合,例如以提高粒子與粘結劑的共價鍵合,由此提供更持久和更均勻的聚合物/粒子網(wǎng)絡。優(yōu)選的處理劑類型部分地由金屬氧化物表面的化學性質(zhì)決定。硅烷對于二氧化硅和其它含硅填料來說是優(yōu)選的。在硅烷的情況中,可優(yōu)選的是在摻入至粘合劑之前使硅烷與粒子表面反應。表面改性劑的所需量取決于若干因素,例如粒子尺寸、粒子類型、改性劑分子量、和/或改性劑類型。硅烷改性劑可具有在粒子和粘結劑之間形成共價鍵的反應性基團,如羧基、醇、異氰酸酯、丙烯酰氧基、環(huán)氧基、硫醇或胺。反之,硅烷改性劑可具有非反應性基團,例如,烷基、烷氧基、苯基、苯氧基、聚醚、或它們的混合物。這種非反應性基團可改性涂層的表面以改進例如防污性和防塵性,或改進靜電耗散。表面改性的二氧化硅粒子的市售例子包括,例如,Cabo-Sil TS720和TS530。有時也所需的是在粒子表面上引入官能團和非官能團的混合物以獲得這些所需特征的組合。適合在本發(fā)明的組合物中使用的表面處理劑的代表性實施例包括,例如,N- (3-三乙氧基甲硅烷基丙基)甲氧基乙氧基乙氧基乙基氨基甲酸酯、N-(3-三乙氧基甲硅烷基丙基)甲氧基乙氧基乙氧基乙基氨基甲酸酯、3-(甲基丙烯酰氧基)丙基三甲氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3_(甲基丙烯酰氧基)丙基三乙氧基硅烷、3-(甲基丙烯酰氧基)丙基甲基二甲氧基硅烷、3-(丙烯酰氧基丙基)甲基二甲氧基硅烷、3-(甲基丙烯酰氧基)丙基~■甲基乙氧基娃燒、3-(甲基丙稀酸氧基)丙基_■甲基乙氧基娃燒、乙稀基_■甲基乙氧基娃燒、苯基二甲氧基娃燒、正羊基二甲氧基娃燒、十~■燒基二甲氧基娃燒、十八燒基二甲氧基娃燒、丙基二甲氧基娃燒、己基二甲氧基娃燒、乙稀基甲基_■乙酸氧基娃燒、乙稀基甲基~■乙氧基娃燒、乙稀基二乙酸氧基娃燒、乙稀基二乙氧基娃燒、乙稀基二異丙氧基娃燒、乙稀基二甲氧基娃燒、乙稀基二苯氧基娃燒、乙稀基二叔丁氧基娃燒、乙稀基二異丁氧基娃燒、乙稀基二異丙稀氧基娃燒、乙稀基二(2_甲氧基乙氧基)娃燒、苯乙稀基乙基二甲氧基硅烷、巰丙基三甲氧基硅烷、3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、丙烯酸、甲基丙烯酸、油酸、硬脂酸、十二烷酸、2-[2-(2_甲氧基乙氧基)乙氧基]乙酸(MEEAA)、β-羧基乙基丙烯酸酯(BCEA)、2-(2_甲氧基乙氧基)乙酸、甲氧基苯基乙酸、和它們的混合物。粒子體積濃度(PVC)和臨界粒子體積濃度(CPVC)可用于表征用于制造涂層的粒子粘結劑體系的孔隙率。術語PVC和CPVC為油漆和顏料文獻中明確定義的術語,并且還定義于很多情況下參考的論文和技術書籍中,如油漆流動和顏料分散(PaintFlow and Pigment Dispersion),巴頓(Patton),T.C.,第 2 版,約翰威立(J.Wiley)Intersceince, 1978,第5章,第126頁;和模型化群集空隙和顏料分布以預測涂層的性質(zhì)和 CPVC(Modeling Cluster Voids and Pigment Distribution to Predict Propertiesand CPVC in Coatings)。第 I 部分:干法涂布分析(Dry Coating Analysis)和薩杜斯(Sudduth),R.D ;顏料和樹脂技術(Pigment and Resin Technology),2008,37 (6)。第 375頁中。當粒子體積濃度大于CPVC時,涂層為多孔層,因為不存在足夠的粘結劑來填充粒子之間的所有間隙和涂層的空隙區(qū)域。所述涂層則變?yōu)檎澈蟿?、粒子、和空隙的混合物。發(fā)生這種情況的體積濃度與粒子尺寸和粒子結構、濕潤情況和/或形狀有關。體積濃度在CPVC以上的配制物具有在混合物中樹脂的體積缺陷,所述體積缺陷被空氣取代。CPVC、PVC
和孔隙率之間的關系為:
權利要求
1.一種光學制品,其包括: 光學元件; 設置在所述光學元件上并具有有效折射率為1.3或更小的低折射率層,所述低折射率層包括:粘結劑;分散在所述粘結劑中的多個金屬氧化物粒子;和多個互連空隙;和 設置在所述低折射率層上的聚合物保護層,其中所述聚合物保護層不使所述光學制品的有效折射率增加超過10%。
2.根據(jù)權利要求1所述的光學制品,其中所述聚合物保護層由有機改性的有機硅或熱塑性有機硅丙烯酸酯共聚物形成。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的光學制品,其中所述聚合物保護層由平均分子量為至少50, 000g/mol的聚合物形成。
4.根據(jù)權利要求1至3所述的光學制品,其中所述聚合物保護層包含交聯(lián)聚合物。
5.根據(jù)權利要求4所述的光學制品,其中所述聚合物保護層由水性乳液形成。
6.根據(jù)權利要求1至3所述的光學制品,其中所述聚合物保護層包含Tg為60°C或更高的熱塑性聚合物。
7.根據(jù)權利要求1至6所述的光學制品,其中所述聚合物保護層為壓敏粘合劑。
8.根據(jù)權利要求1至7所述的光學制品,其中所述聚合物保護層包括分散在所述保護層中的多個霧度產(chǎn)生粒子。
9.根據(jù)權利要求8所述的光學制品,其中所述霧度產(chǎn)生粒子具有I微米或更大的平均橫向尺寸。
10.根據(jù)權利要求1至9所述的光學制品,其中所述金屬氧化物粒子包含氣相法二氧化硅。
11.根據(jù)權利要求1至10所述的光學制品,其中所述低折射率層具有在I至20微米范圍內(nèi)的厚度,并且所述聚合物保護層具有在I至15微米范圍內(nèi)的厚度。
12.根據(jù)權利要求1至11所述的光學制品,其中所述粘結劑與所述多個金屬氧化物粒子的重量比為1:2或更小。
13.根據(jù)權利要求1至12所述的光學制品,其中所述光學制品具有至少75%的霧度值。
14.根據(jù)權利要求1至12所述的光學制品,其中所述光學制品具有小于10%的霧度值。
15.根據(jù)權利要求1至14所述的光學制品,其中所述光學元件包括偏振膜、漫射膜、反射膜、延遲片、光導或液晶顯示面板。
16.根據(jù)權利要求1至15所述的光學制品,其還包括設置在所述光學元件或聚合物保護層上或設置在所述低折射率層與所述聚合物保護層之間的第二低折射率層。
17.—種光學制品,其包括: 光學元件; 設置在所述光學元件上并具有有效折射率為1.3或更小的低折射率層,所述低折射率層包括:粘結劑;分散在所述粘結劑中的多個金屬氧化物粒子;和多個互連空隙;和 設置在所述低折射率層上的聚合物保護層,所述聚合物保護層由平均分子量為至少50, 000g/mol的聚合物形成。
18.根據(jù)權利要求17所述的光學制品,其中所述聚合物保護層包含交聯(lián)聚合物。
19.根據(jù)權利要求17或18所述的光學制品,其中所述聚合物保護層包含平均分子量為至少100,000g/mol的聚合物。
20.根據(jù)權利要求17至19所述的光學制品,其中所述聚合物保護層包含平均分子量為至少250,000g/mol的聚合物。
21.根據(jù)權利要求17至20所述的光學制品,其中所述聚合物保護層包含平均分子量為至少500,000g/mol的聚合物。
22.根據(jù)權利要求17至21所述的光學制品,其中所述聚合物保護層包括分散在所述保護層中的多個霧度產(chǎn)生粒子。
23.根據(jù)權利要求22所述的光學制品,其中所述霧度產(chǎn)生粒子具有I微米或更大的平均橫向尺寸。
24.根據(jù)權利要求17至23所述的光學制品,其中所述低折射率層具有在I至20微米范圍內(nèi)的厚度,并且所述聚合物保護層具有在I至15微米范圍內(nèi)的厚度。
25.根據(jù)權利要求17至24所述的光學制品,其中所述粘結劑與所述多個金屬氧化物粒子的重量比為1:1或更小。
26.根據(jù)權利要求17至25所述的光學制品,其中所述光學制品具有至少75%的霧度值。
27.根據(jù)權利要求17至26所述的光學制品,其中所述光學元件包括偏振膜、漫射膜、反射膜、延遲片、光導或液晶顯示面板。
28.—種光學制品,其包括: 光學元件; 設置在所述光學元件上并具有有效折射率為1.3或更小的低折射率層,所述低折射率層包括:粘結劑;分散在所述粘結劑中的多個金屬氧化物粒子;和多個互連空隙;和設置在所述低折射率層上的聚合物保護層,所述聚合物保護層包含交聯(lián)聚合物。
29.根據(jù)權利要求28所述的光學制品,其中所述低折射率層具有在I至20微米范圍內(nèi)的厚度,并且所述聚合物保護層具有在I至15微米范圍內(nèi)的厚度。
30.根據(jù)權利要求28或29所述的光學制品,其中所述粘結劑與所述多個金屬氧化物粒子的重量比為1:2或更小。
31.根據(jù)權利要求28至30所述的光學制品,其中所述光學制品具有至少75%的霧度值。
32.根據(jù)權利要求28至31所述的光學制品,其中所述光學元件包括偏振膜、漫射膜、反射膜、延遲片、光導或液晶顯示面板。
33.根據(jù)權利要求28至32所述的光學制品,其中所述聚合物保護層由水性乳液形成。
34.根據(jù)權利要求28至33所述的光學制品,其中所述聚合物保護層不使所述光學制品的有效折射率增加超過10%。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種光學制品,所述光學制包括光學元件、設置在所述光學元件上并且有效折射率為1.3或更小的低折射率層和設置在所述低折射率層上的聚合物保護層。所述低折射率層包括粘結劑、分散在所述粘結劑中的多個金屬氧化物粒子和多個互連空隙。所述聚合物保護層不使所述光學制品的有效折射率增加超過10%。
文檔編號G02B1/11GK103168257SQ201180050013
公開日2013年6月19日 申請日期2011年10月20日 優(yōu)先權日2010年10月20日
發(fā)明者威廉·D·科焦, 拉梅什·C·庫瑪, 約翰·A·惠特利, 邁克爾·L·斯坦納, 威廉·F·埃德蒙茲, 劉蘭虹, 郝恩才, 羅伯特·F·卡姆拉特, 約翰·J·斯特拉丁格 申請人:3M創(chuàng)新有限公司
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