專利名稱：液晶取向劑、液晶顯示元件及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及液晶取向劑、液晶顯示元件以及液晶顯示元件的制造方法。
背景技術(shù)：
近年，液晶顯示元件由于具有消耗電力小、小型化及扁平化容易等優(yōu)點，因此被應(yīng)用于從手機等的小型液晶顯示裝置到液晶電視等的大屏幕液晶顯示裝置這樣寬范圍的用途中。目前，液晶顯示裝置的驅(qū)動模式根據(jù)液晶分子的取向(排列)狀態(tài)的變化，已知有 TN(扭曲向列)、STN(超扭曲向列)、IPS(平面轉(zhuǎn)換)、VA(垂直取向)等。另外，就VA模式而言，為了通過取向分割來提高視角，采用有MVA(多疇垂直取向)方式、PVA(圖像垂直取向)方式，為了進一步提高高速響應(yīng)性、面板開口率，正在研究采用PSA(聚合物穩(wěn)定取向) 方式。此PSA方式是指，事先將可通過光或熱聚合的單體混入液晶，在施加電壓使液晶分子傾斜后的狀態(tài)下使單體聚合，從而記憶住液晶分子的傾斜方向的技術(shù)(參照日本特開 2002-357830號公報、日本特開2003-307720號公報、日本特開2003-177418號公報)。就使用了 PSA方式的液晶顯示元件而言，由于例如液晶分子是在相對于基板界面極小地傾斜后的狀態(tài)下被支撐著，因此在施加電壓時，可使液晶分子確實地倒向該傾斜方向，其結(jié)果是響應(yīng)速度快。這樣的液晶顯示元件中的液晶分子的取向狀態(tài)被液晶取向膜控制，液晶取向膜在相當(dāng)大的程度上擔(dān)負著液晶顯示元件的功能特性的顯現(xiàn)、控制。在PSA方式方面，為了提高響應(yīng)速度等功能，也正在開發(fā)一種規(guī)定了用于形成此液晶取向膜的液晶取向劑的組成的液晶顯示裝置(日本特開2006-215326號公報)，但是為了實現(xiàn)響應(yīng)速度等的高性能化，要求實現(xiàn)更進一步的改善?，F(xiàn)有技術(shù)文獻專利文獻專利文獻I :日本特開2002-357830號公報專利文獻2 :日本特開2003-307720號公報專利文獻3 :日本特開2003-177418號公報專利文獻4 :日本特開2006-215326號公報
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明基于上述那樣的情形而進行，其目的在于提供可形成高速響應(yīng)性等諸特性優(yōu)異的PSA方式的液晶顯示元件的液晶取向劑、具備由該液晶取向劑形成的液晶取向膜的PSA方式的液晶顯示元件以及這樣的液晶顯示元件的制造方法。為了解決上述課題而開發(fā)的發(fā)明的特征在于，為一種形成PSA方式的液晶顯示元件中的液晶取向膜用的液晶取向劑，含有[A]具有由下述式(I)表示的基團的化合物(以下，亦稱為“ [A]化合物”)，
權(quán)利要求
1.一種液晶取向劑，其特征在于，其為形成PSA方式的液晶顯示元件中的液晶取向膜用的液晶取向劑，含有[A]具有由下述式(I)表示的基團的化合物，
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的液晶取向劑，其中，[A]化合物具有源自具有環(huán)氧基的聚有機硅氧烷的部分、源自由下述式(2)表示的化合物的部分，
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的液晶取向劑，其中，上述R1為由下述式⑶表示的基團，
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的液晶取向劑，其中，上述環(huán)氧基為由下述式(X1-I)或化-2) 表不的基團，
5.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的液晶取向劑，其進一步含有[B]由聚酰胺酸及聚酰亞胺組成的群組中選出的至少一種聚合物。
6.—種PSA方式的液晶顯不兀件,其具備由權(quán)利要求I 權(quán)利要求5中任一項所述的液晶取向劑形成的液晶取向膜。
7.—種PSA方式的液晶顯示元件的制造方法，其具有如下工序在具有透明電極的一對基板的各內(nèi)表面通過權(quán)利要求I 權(quán)利要求5中任一項所述的液晶取向劑形成液晶取向I吳的工序，將上述一對基板按照內(nèi)表面彼此面對面的方式對向配置，向該基板之間填充聚合性液晶組合物的工序，以及在施加了電壓的狀態(tài)下使上述聚合性液晶組合物固化的工序。
全文摘要
本發(fā)明涉及液晶取向劑、液晶顯示元件及其制造方法，其目的在于提供可形成高速響應(yīng)性等諸特性優(yōu)異的PSA方式的液晶顯示元件的液晶取向劑、具備由該液晶取向劑形成的液晶取向膜的PSA方式的液晶顯示元件以及這樣的液晶顯示元件的制造方法。本發(fā)明為形成PSA方式的液晶顯示元件中的液晶取向膜用的液晶取向劑，其特征在于，含有[A]具有由下述式(1)表示的基團的化合物(以下，亦稱為“[A]化合物”)。，式(1)中，R1為至少具有兩個單環(huán)結(jié)構(gòu)的基團。R2為包含雙鍵、三鍵、醚鍵、酯鍵或氧原子的連結(jié)基團。a為0～1的整數(shù)。
文檔編號G02F1/1333GK102604652SQ20121001479
公開日2012年7月25日 申請日期2012年1月12日 優(yōu)先權(quán)日2011年1月13日
發(fā)明者吉澤純司, 宮本佳和, 德久博昭, 樫下幸志, 清水成夫, 秋池利之, 西川通則 申請人:Jsr株式會社