專利名稱：一種多膜層光學板的制備方法及一種多膜層光學板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及觸摸屏技術(shù)，尤其涉及ー種多膜層光學板的制備方法及ー種多膜層光學板。
背景技術(shù)：
多膜層導電光學板廣泛應用于智能手機、掌上游戲機、數(shù)碼相機、汽車導航儀、家電等電子產(chǎn)品觸摸屏控制面板。多膜層導電光學板以基材區(qū)分，可以分為玻璃基材和塑膠(也稱塑料)基材式兩 種。目前，廣泛采用的是以玻璃為基材，玻璃基板鍍設(shè)IT0，但由于玻璃基板太厚且重，無法滿足很多電子產(chǎn)品“輕” “薄”化的要求，另外玻璃容易脆裂，加工性能不好，且存在一定的安全隱患。后來也有人采用磁控濺射低溫成膜技術(shù)，在透明雙層復合板上鍍制ITO透明導電膜，已經(jīng)實現(xiàn)規(guī)?；I(yè)生產(chǎn)，產(chǎn)品已經(jīng)在電子通訊領(lǐng)域，透明隔熱領(lǐng)域等廣泛應用。如我們常見的LCD顯示屏、觸摸屏、玻璃窗隔熱膜等產(chǎn)品。隨著相關(guān)技術(shù)的不斷發(fā)展，新的應用方式及產(chǎn)生的對產(chǎn)品特性的新的要求不斷出現(xiàn)，如近年出現(xiàn)的ー些新型結(jié)構(gòu)的觸摸屏。采用現(xiàn)有技術(shù)制備的光學板，可以實現(xiàn)高硬度，但無法同時實現(xiàn)增透功能。另一方面，兩層復合板在耐侯性測試中容易變形，翹曲值大；且單層功能性膜層無法滿足目前面板多性能的使用要求。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的不足之處而提供一種能同時實現(xiàn)高硬度與高透過率的多膜層光學板的制備方法及ー種多膜層光學板。獨立地，本發(fā)明的目的還在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的不足之處而提供ー種不易變形的多膜層光學板的制備方法及ー種多膜層光學板。獨立地，本發(fā)明的目的還在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的不足之處而提供ー種具有雙層導電膜的塑膠基多膜層光學板的制備方法及ー種多膜層光學板。本發(fā)明的目的可以通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)
ー種多膜層光學板的制備方法，其特征在于包括以下步驟S10)，制備復合板；S20)，在復合板的兩面分別鍍設(shè)硬化層；S30)，在兩硬化層的外面分別鍍設(shè)功能層；其中S10)步驟所述的復合板是具有層對稱結(jié)構(gòu)的三層或五層復合板；S30)所述的功能層是增透層、或增光澤度層、或增平滑度層、或抗污抗指紋層。功能層一般指增透層，但也可以是增光澤度層、或增平滑度層、或抗污抗指紋層，以鍍膜方式增光澤度、增平滑度層、抗污抗指紋層是現(xiàn)有技木，可以采用干鍍ニ氧化鈦等エ藝實現(xiàn)。多膜層光學板的制備方法，其特征在于S10)步驟所述的復合板，是三層板，中間層為PC或PET膜，內(nèi)外層均為PMMA材質(zhì)；S20)步驟采用濕鍍エ藝，S30)步驟濕鍍或干鍍。S30)采用濕度可以實現(xiàn)本發(fā)明，但其功能效果沒有干鍍好，指可見光增透性能、光澤鍍、抗污抗指紋方面的性能。多膜層光學板的制備方法，其特征在于S20)步驟所述的硬化層為脂肪族聚氨酯丙烯酸樹脂材料；S30)步驟所述增透層為有機硅改性脂肪族聚氨酯丙烯酸樹脂材料。多膜層光學板的制備方法，其特征在于S20)步驟所述的硬化層為脂肪族聚氨酯丙烯酸樹脂材料或有機硅改性脂肪族聚氨酯丙烯酸樹脂材料；S30)步驟所述增透層為ニ氧化硅材質(zhì)或五氧化ニ鈮材質(zhì)或氟化鈦材質(zhì)。多膜層光學板的制備方法，其特征在于S20)步驟采用濕鍍方式；S30)步驟采用干鍍方式。多膜層光學板的制備方法，其特征在于S10)步驟所述的復合板，是三層板，中間 層為PC或PET膜，內(nèi)外層均為PMMA材質(zhì)；S20)步驟及S30)步驟所述的鍍設(shè)均采用真空鍍膜方式；具體地，S20)步驟采用濕鍍方式；S30)步驟采用干鍍方式；S20)步驟所述的硬化層為脂肪族聚氨酯丙烯酸樹脂材料或有機硅改性脂肪族聚氨酯丙烯酸樹脂材料；S30)步驟所述增透層為ニ氧化硅材質(zhì)或五氧化ニ鈮材質(zhì)或氟化鈦材質(zhì)。本發(fā)明的目的還可以通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)
ー種多膜層光學板，其特征在于包括復合板層，復合板層的兩面分別鍍設(shè)硬化層，兩硬化層的外面分別鍍設(shè)增透層、或增光澤度層、或增平滑度層、或抗污抗指紋層。多膜層光學板，其特征在于所述復合板層，中間層為PC或PET膜，內(nèi)外層均為PMMA材質(zhì)。多膜層光學板，其特征在于S20)步驟所述的硬化層為脂肪族聚氨酯丙烯酸樹脂材料或有機硅改性脂肪族聚氨酯丙烯酸樹脂材料；S30)步驟所述增透層為ニ氧化硅材質(zhì)或五氧化ニ鈮材質(zhì)或氟化鈦材質(zhì)。—種多膜層光學板,其特征在于包括復合板層，所述的復合板是具有層對稱結(jié)構(gòu)的三層或五層復合板；復合板層的兩面分別鍍設(shè)硬化層，兩硬化層的外面分別鍍設(shè)增透層；其中，復合板層的厚度為0. 4毫米至3. 0毫米，硬化層的厚度為3微米至18微米，增透層的厚度為5鈉米至50鈉米。本發(fā)明的多膜層光學板的制備方法包括以下步驟S10)，制備復合板；S20)，在復合板的兩面分別鍍設(shè)硬化層；S30)，在兩硬化層的外面分別鍍設(shè)增透層；其中S10)步驟所述的復合板是具有層對稱結(jié)構(gòu)的三層或五層復合板；與現(xiàn)有技術(shù)的玻璃板基材制備方法相比，采用復合板基材制膜之成品加工性好，輕薄。與傳統(tǒng)的塑膠基材成膜エ藝相比，由于設(shè)置了增透層，成品膜在實現(xiàn)高硬度同時實現(xiàn)高透過率。因本發(fā)明采用的塑膠基材是層對稱結(jié)構(gòu)的復合板，與現(xiàn)有技術(shù)相比成品膜不易變形和翹曲。


圖I是本發(fā)明第一個實施例的流程圖。圖2是本發(fā)明第二個實施例層狀結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施例方式下面將結(jié)合附圖對本發(fā)明作進ー步詳述。
參考圖1，本發(fā)明第一個實施例是ー種多膜層光學板的制備方法，包括以下步驟S10)，制備復合板；S20)，在復合板的兩面分別鍍設(shè)硬化層；S30)，在兩硬化層的外面分別鍍設(shè)增透層；其中S10)步驟所述的復合板是具有層對稱結(jié)構(gòu)的三層或五層復合板。本實施例中，S10)步驟所述的復合板，是三層板，中間層為PC或PET膜，內(nèi)外層均為PMMA材質(zhì)；S20)步驟及S30)步驟所述的鍍設(shè)均采用真空鍍膜方式。S20)步驟所述的硬化層為脂肪族聚氨酯丙烯酸樹脂材料或有機硅改性脂肪族聚氨酯丙烯酸樹脂材料；S30)步驟所述增透層為ニ氧化硅材質(zhì)或五氧化ニ鈮材質(zhì)或氟化鈦材質(zhì)。S20)步驟采用濕鍍方式；S30)步驟采用干鍍方式。 在本實施例中，S20)步驟可以采用低溫表面涂布電鍍エ藝；S30)步驟可以采用低溫真空鍍膜電鍍エ藝；當應理解，這兩個步驟的鍍設(shè)方式并不限于此，也可以采用現(xiàn)有技述中其它溫鍍和干鍍方式，但應當首選低溫成膜エ藝。應當理解，在本實施例中，S30)所述的功能層不僅可以是增透層，還可以是增光澤度層、或增平滑度層、或抗污抗指紋層等功能層。如采用干鍍ニ氧化鈦等エ藝實現(xiàn)抗污抗指紋。也應當理解，S30)采用濕度可以實現(xiàn)本發(fā)明，但其功能效果沒有干鍍好，指可見光增透性能、光澤鍍、抗污抗指紋方面的性能，但也可以實現(xiàn)發(fā)明目的。參考圖2，本發(fā)明第二個實施例是通過本發(fā)明第一個實施例之方法制備的多膜層光學板，包括復合板層101，復合板層101的兩面分別鍍設(shè)硬化層102，兩硬化層102的外面分別鍍設(shè)增透層103 ;本實施例所述復合板層101，中間層1011為PC或PET膜/或板，內(nèi)外層1012均為PMMA材質(zhì)；所述的硬化層102為脂肪族聚氨酯丙烯酸樹脂材料，所述增透層103為有機硅改性脂肪族聚氨酯丙烯酸樹脂材料。應當理解，在本實施例中，可以用增光澤度層、或增平滑度層、或抗污抗指紋層取代增透層。
權(quán)利要求
1.ー種多膜層光學板的制備方法，其特征在于包括以下步驟 S10)，制備復合板； S20)，在復合板的兩面分別鍍設(shè)硬化層； S30)，在兩硬化層的外面分別鍍設(shè)功能層； 其中SlO)步驟所述的復合板是具有層對稱結(jié)構(gòu)的三層或五層復合板；S30)所述的功能層是增透層、或增光澤度層、或增平滑度層、或抗污抗指紋層。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的多膜層光學板的制備方法，其特征在于 S10)步驟所述的復合板，是三層板，中間層為PC或PET膜，內(nèi)外層均為PMMA材質(zhì)；S20)步驟采用濕鍍エ藝，S30)步驟濕鍍或干鍍。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的多膜層光學板的制備方法，其特征在于 S20)步驟所述的硬化層為脂肪族聚氨酯丙烯酸樹脂材料；S30)步驟所述增透層為有機硅改性脂肪族聚氨酯丙烯酸樹脂材料。
4.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的多膜層光學板的制備方法，其特征在于 S20)步驟所述的硬化層為脂肪族聚氨酯丙烯酸樹脂材料或有機硅改性脂肪族聚氨酯丙烯酸樹脂材料；S30)步驟所述增透層為ニ氧化硅材質(zhì)或五氧化ニ鈮材質(zhì)或氟化鈦材質(zhì)。
5.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的多膜層光學板的制備方法，其特征在于S20)步驟采用濕鍍方式；S30)步驟采用干鍍方式。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的多膜層光學板的制備方法，其特征在干S10)步驟所述的復合板，是三層板，中間層為PC或PET膜，內(nèi)外層均為PMMA材質(zhì)；S20)步驟及S30)步驟所述的鍍設(shè)均采用真空鍍膜方式；具體地，S20)步驟采用濕鍍方式；S30)步驟采用干鍍方式；S20)步驟所述的硬化層為脂肪族聚氨酯丙烯酸樹脂材料或有機硅改性脂肪族聚氨酯丙烯酸樹脂材料；S30)步驟所述增透層為ニ氧化硅材質(zhì)或五氧化ニ鈮材質(zhì)或氟化鈦材質(zhì)。
7.一種通過1-6任意一項權(quán)利要求所述的制備方法所制備的多膜層光學板。
8.ー種多膜層光學板，其特征在于包括復合板層，復合板層的兩面分別鍍設(shè)硬化層，兩硬化層的外面分別鍍設(shè)增透層、或增光澤度層、或增平滑度層、或抗污抗指紋層。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的多膜層光學板，其特征在于所述復合板層，中間層為PC或PET膜，內(nèi)外層均為PMMA材質(zhì)。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的多膜層光學板，其特征在于S20)步驟所述的硬化層為脂肪族聚氨酯丙烯酸樹脂材料或有機硅改性脂肪族聚氨酯丙烯酸樹脂材料；S30)步驟所述增透層為ニ氧化硅材質(zhì)或五氧化ニ鈮材質(zhì)或氟化鈦材質(zhì)。
全文摘要
本發(fā)明涉及觸摸屏技術(shù)，尤其涉及一種多膜層光學板的制備方法及一種多膜層光學板。多膜層光學板的制備方法包括以下步驟S10)，制備復合板；S20)，在復合板的兩面分別鍍設(shè)硬化層；S30)，在兩硬化層的外面分別鍍設(shè)功能層；其中S10)步驟所述的復合板是具有層對稱結(jié)構(gòu)的三層或五層復合板；S30)所述的功能層是增透層、或增光澤度層、或增平滑度層、或抗污抗指紋層。多膜層光學板，包括復合板層，復合板層的兩面分別鍍設(shè)硬化層，兩硬化層的外面分別鍍設(shè)增透層、或增光澤度層、或增平滑度層、或抗污抗指紋層。本發(fā)明提供一種能同時實現(xiàn)高硬度與高透過率、不易變形、具有雙層導電膜的多膜層光學板及其制備方法。
文檔編號G02B1/11GK102642357SQ20121011369
公開日2012年8月22日 申請日期2012年4月18日 優(yōu)先權(quán)日2012年4月18日
發(fā)明者金烈 申請人:深圳市金凱新瑞光電有限公司