專(zhuān)利名稱(chēng)：感光性元件、抗蝕圖案形成方法及印刷電路板的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及感光性元件、抗蝕圖案的形成方法及印刷電路板的制造方法。
背景技術(shù)：
以往，在印刷電路板的制造領(lǐng)域中，作為用于蝕刻或鍍覆等的抗蝕材料，廣泛使用 感光性元件。感光性元件通常是通過(guò)在支持體上形成由感光性樹(shù)脂組合物構(gòu)成的感光層后，在該感光層上形成保護(hù)膜來(lái)得到。感光性元件可以進(jìn)行如下操作形成抗蝕圖案。首先，剝離感光性元件的保護(hù)膜后，將感光層層壓到基板(銅基板)上。接著，將制作有圖案的光工具(phototool)密合于支持體上，照射(曝光)紫外線等活性光線后，噴霧顯影液除去未曝光部。近年來(lái)，隨著印刷電路板的高密度化和高精細(xì)化，對(duì)感光性元件要求高析像度和高密合性化。另外，為了提高印刷電路板的生產(chǎn)率，要求感光性元件的高靈敏度化。為了迎合這些要求，進(jìn)行過(guò)旨在改善感光性樹(shù)脂組合物的特性的試驗(yàn)(參照專(zhuān)利文獻(xiàn)I)。另一方面，作為抗蝕圖案的形成方法，不使用光工具而直接描繪的所謂直接描繪曝光法受到了人們的注目。認(rèn)為通過(guò)該直接描繪曝光法，可以實(shí)現(xiàn)高生產(chǎn)率且高析像度的抗蝕圖案的形成。直接描繪曝光法可以舉出激光直接描繪曝光法和DLP (Digital LightProcessing :數(shù)字光處理)曝光法等。激光直接描繪曝光法中，可以實(shí)際利用激發(fā)出波長(zhǎng)405nm的激光的，長(zhǎng)壽命且高輸出的氮化鎵系藍(lán)色激光器光源。在直接描繪曝光法中通過(guò)利用這種短波長(zhǎng)的激光，有望實(shí)現(xiàn)對(duì)于以往來(lái)說(shuō)制造困難的高密度抗蝕圖案的形成。另外，DLP曝光法是應(yīng)用了由德州儀器公司提倡的DLP系統(tǒng)的方法，已由BalI半導(dǎo)體公司提出，并已開(kāi)始了應(yīng)用該方法的曝光裝置的實(shí)用化。專(zhuān)利文獻(xiàn)I中記載的感光性元件是針對(duì)以波長(zhǎng)365nm的光為中心的水銀燈光源的全波長(zhǎng)曝光來(lái)設(shè)計(jì)的。因此，對(duì)于直接描繪曝光法的曝光光(例如以波長(zhǎng)405nm的光為中心的藍(lán)紫色半導(dǎo)體激光)的感光性元件的靈敏度低，難以充分提高生產(chǎn)率。因此，提出了含有六芳基二咪唑化合物和二茂鈦(titanocene)化合物作為自由基產(chǎn)生劑，并且含有二烷基氨基苯化合物作為增感色素的感光性元件(參照專(zhuān)利文獻(xiàn)2)。專(zhuān)利文獻(xiàn)I :日本特開(kāi)平10-110008號(hào)公報(bào)專(zhuān)利文獻(xiàn)2 日本特開(kāi)2002-296764號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的問(wèn)題可是，即使是專(zhuān)利文獻(xiàn)2中記載的感光性元件，也不能說(shuō)對(duì)直接描繪曝光法的曝光光具有充分的靈敏度。本發(fā)明的目的是提供對(duì)于直接描繪曝光法的曝光光具有充分高的靈敏度的感光性元件。解決問(wèn)題的方案本發(fā)明的感光性元件是順次層疊支持體、感光層、保護(hù)膜而成，感光層由含有粘合劑聚合物、光聚合性化合物、光聚合引發(fā)劑以及最大吸收波長(zhǎng)為37(T420nm的化合物的感光性樹(shù)脂組合物形成，保護(hù)膜的主要成分是聚丙烯。另外，本發(fā)明的感光性元件是順次層疊支持體、感光層、保護(hù)膜而成，感光層由含有粘合劑聚合物、光聚合性化合物、光聚合引發(fā)劑、以及下述通式(I)、(2)和/或(3)所示的增感劑的感光性樹(shù)脂組合物形成，保護(hù)膜的主要成分是聚丙烯。[化學(xué)式I]
權(quán)利要求
1.ー種感光性元件，其特征在于，順次層疊支持體、感光層、保護(hù)膜而成，所述感光層由含有粘合劑聚合物、光聚合性化合物、光聚合引發(fā)劑以及最大吸收波長(zhǎng)為37(T420nm的化合物的感光性樹(shù)脂組合物形成，所述保護(hù)膜以聚丙烯為主要成分。
2.ー種感光性元件，其特征在于，順次層疊支持體、感光層、保護(hù)膜而成，所述感光層由含有粘合劑聚合物、光聚合性化合物、光聚合引發(fā)劑以及下述通式(I)、(2)和/或(3)所示的增感劑的感光性樹(shù)脂組合物形成，所述保護(hù)膜以聚丙烯為主要成分， [化學(xué)式I]
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的感光性元件，其中，所述R分別獨(dú)立地為從正丁基、叔丁基、叔辛基和十二烷基所組成的組中選出的基團(tuán)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的感光性元件，其中，所述通式(I)所示的化合物為I-苯基-3- (4-叔丁基苯こ烯基)-5- (4-叔丁基苯基)吡唑啉。
5.根據(jù)權(quán)利要求2 4中的任一項(xiàng)所述的感光性樹(shù)脂組合物，其中，所述R1和R2各自獨(dú)立地為碳原子數(shù)廣4的烷基，所述R3、R4、R5> R6> R7> R8> R9和Rw為氫原子。
6.根據(jù)權(quán)利要求2飛中的任一項(xiàng)所述的感光性元件，其中，所述通式(2)所示的化合物為9，10-ニ丁氧基蒽。
7.根據(jù)權(quán)利要求2飛中的任一項(xiàng)所述的感光性元件，其中，所述通式(3)所示的化合物為7- ニこ氨基-4-甲基香豆素。
8.根據(jù)權(quán)利要求Γ7中的任一項(xiàng)所述的感光性元件，其中，所述光聚合引發(fā)劑為2,4, 5-三芳基咪唑ニ聚物。
9.根據(jù)權(quán)利要求1 8中的任一項(xiàng)所述的感光性元件，其中，所述保護(hù)膜中的直徑在80 μ m以上的魚(yú)眼的存在密度為5個(gè)/m2以下。
10.根據(jù)權(quán)利要求廣9中的任一項(xiàng)所述的感光性元件，其中，所述保護(hù)膜的厚度為b 60 μ m0
11.一種抗蝕圖案的形成方法，其特征在于，具備邊從感光層上剝離權(quán)利要求f 10中的任一項(xiàng)所述的感光性元件的保護(hù)膜，邊將所述感光層層疊在電路形成用基板上的層疊エ序；對(duì)于被層疊的所述感光層的規(guī)定部分照射活性光線的曝光エ序；對(duì)所述照射活性光線后的所述感光層進(jìn)行顯影來(lái)形成抗蝕圖案的顯影エ序。
12.—種印刷電路板的制造方法，其特征在于，具備邊從感光層上剝離權(quán)利要求f 10中的任一項(xiàng)所述的感光性元件的保護(hù)膜，邊將所述感光層層疊在電路形成用基板上的層疊エ序；對(duì)于被層疊的所述感光層的規(guī)定部分照射活性光線的曝光エ序；對(duì)所述照射活性光線后的所述感光層進(jìn)行顯影來(lái)形成抗蝕圖案的顯影エ序；對(duì)所述形成有抗蝕圖案的所述電路形成用基板進(jìn)行蝕刻或鍍覆來(lái)形成導(dǎo)體圖案的導(dǎo)體圖案形成エ序。
全文摘要
本發(fā)明提供一種順次層疊支持體、感光層、保護(hù)膜而成的感光性元件、抗蝕圖案的形成方法及印刷電路板的制造方法，所述感光層由含有粘合劑聚合物、光聚合性化合物、光聚合引發(fā)劑以及最大吸收波長(zhǎng)為370~420nm的化合物的感光性樹(shù)脂組合物形成，所述保護(hù)膜是以聚丙烯為主要成分。
文檔編號(hào)G03F7/11GK102662306SQ201210142249
公開(kāi)日2012年9月12日 申請(qǐng)日期2007年4月13日 優(yōu)先權(quán)日2006年4月18日
發(fā)明者大橋武志, 宮坂昌宏, 市川立也, 齋藤學(xué), 熊木尚, 磯純一, 賴(lài)華子 申請(qǐng)人:日立化成工業(yè)株式會(huì)社