專利名稱：曝光裝置及曝光、檢查方法及顯示用面板基板的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種曝光裝置、曝光方法及使用這些曝光裝置、曝光方法的顯示用面板基板的制造方法，所述曝光裝置是在液晶顯示器(display)裝置等的顯示用面板(panel)基板的制造中,對(duì)涂布有光致抗蝕劑(photo resist)的基板照射光束,通過(guò)光束來(lái)掃描基板，以在基板上繪制圖案(pattern)。而且，本發(fā)明涉及一種曝光裝置的檢查方法，所述曝光裝置是對(duì)涂布有光致抗蝕劑的基板照射光束，通過(guò)光束來(lái)掃描基板，以在基板上繪制圖案。
背景技術(shù)：
先前技術(shù)文獻(xiàn) 專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)I :日本專利特開2010-44318號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2 :日本專利特開2010-60990號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)3 :日本專利特開2010-102084號(hào)公報(bào)被用作顯示用面板的液晶顯示器裝置的薄膜晶體管(Thin Film Transistor,TFT)基板或彩色濾光器(color filter)基板、等離子體(plasma)顯示器面板用基板、有機(jī)電致發(fā)光(Electroluminescence, EL)顯示面板用基板等的制造是使用曝光裝置,通過(guò)光刻(photolithography)技術(shù)在基板上形成圖案而進(jìn)行。作為曝光裝置，先前有投影(projection)方式及接近(proximity)方式,所述投影方式是使用透鏡(lens)或鏡子將光掩膜(mask)的圖案投影至基板上，所述接近方式是在光掩膜與基板之間設(shè)置微小的間隙(接近間隙(proximity gap))而將光掩膜的圖案轉(zhuǎn)印至基板上。近年來(lái)，開發(fā)出一種曝光裝置，其對(duì)涂布有光致抗蝕劑的基板照射光束，通過(guò)光束來(lái)掃描基板，以在基板上繪制圖案。由于是通過(guò)光束來(lái)掃描基板以在基板上直接繪制圖案，因此不需要昂貴的光掩膜。而且，通過(guò)變更繪制數(shù)據(jù)(data)及掃描程序(program)，能夠應(yīng)對(duì)多種顯示用面板基板。作為此種曝光裝置，例如有專利文獻(xiàn)I、專利文獻(xiàn)2及專利文獻(xiàn)3中公開的曝光裝置。當(dāng)通過(guò)光束在基板上繪制圖案時(shí)，在光束的調(diào)制時(shí)使用數(shù)字微鏡器件(DigitalMicromirror Device, DMD)等的空間光調(diào)制器。DMD是將反射光束的多個(gè)微小的反射鏡(mirror)沿兩方向排列而構(gòu)成，驅(qū)動(dòng)電路基于繪制數(shù)據(jù)來(lái)變更各反射鏡的角度，從而對(duì)從光源供給的光束進(jìn)行調(diào)制。經(jīng)DMD調(diào)制后的光束從光束照射裝置的頭(head)部照射至基板，所述頭部包含投影透鏡等的照射光學(xué)系統(tǒng)。在光束照射裝置內(nèi)，如果在從光源向空間光調(diào)制器供給光束的光學(xué)系統(tǒng)、或在將經(jīng)空間光調(diào)制器調(diào)制后的光束照射至基板的照射光學(xué)系統(tǒng)中產(chǎn)生光路的偏移等，則從光束照射裝置照射的光束會(huì)產(chǎn)生變形。尤其在照射光學(xué)系統(tǒng)中，如果投影透鏡存在變形，則投影至基板的圖形的形狀會(huì)產(chǎn)生桶形或梭形等的變形。一旦從光束照射裝置照射的光束存在變形，則通過(guò)光束而繪制的圖案會(huì)產(chǎn)生變形。先前，此種圖案變形的檢查是以對(duì)實(shí)際上進(jìn)行了曝光的基板進(jìn)行分析的方式進(jìn)行。因此，光束變形的檢測(cè)及修正要耗費(fèi)較多時(shí)間及工夫。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的課題在于容易地檢測(cè)從光束照射裝置照射的光束的變形。而且，本發(fā)明的課題在于抑制從光束照射裝置照射的光束的變形，以提高繪制精度。進(jìn)而，本發(fā)明的課題在于制造聞品質(zhì)的顯不用面板基板。本發(fā)明的曝光裝置包括夾盤(chuck)，支撐涂布有光致抗蝕劑的基板；光束照射裝置，具有空間光調(diào)制器、驅(qū)動(dòng)電路以及包含照射光學(xué)系統(tǒng)的頭部，所述空間光調(diào)制器對(duì)光束進(jìn)行調(diào)制，所述驅(qū)動(dòng)電路基于繪制數(shù)據(jù)來(lái)驅(qū)動(dòng)空間光調(diào)制器，所述照射光學(xué)系統(tǒng)照射經(jīng)空間光調(diào)制器調(diào)制后的光束；以及移動(dòng)機(jī)構(gòu)，使夾盤與光束照射裝置相對(duì)移動(dòng)，通過(guò)移動(dòng)機(jī)構(gòu)使夾盤與光束照射裝置相對(duì)移動(dòng)，通過(guò)來(lái)自光束照射裝置的光束來(lái)掃描基板，以在基板上繪制圖案，此曝光裝置包括繪制控制機(jī)構(gòu)，將檢查用的繪制數(shù)據(jù)及曝光用的繪制數(shù)據(jù)供給至光束照射裝置的驅(qū)動(dòng)電路；第I圖像獲取裝置，設(shè)在夾盤上；標(biāo)線片(reticle)，配置在光束照射裝置的頭部與第I圖像獲取裝置之間，且設(shè)有檢查用圖案；以及圖像處理裝置，從第I圖像獲取裝置所獲取的標(biāo)線片的檢查用圖案的圖像及光束照射裝置照射的光束的像 中，檢測(cè)光束的位置偏移，繪制控制機(jī)構(gòu)將檢查用的繪制數(shù)據(jù)供給至光束照射裝置的驅(qū)動(dòng)電路，并基于由圖像處理裝置檢測(cè)出的光束的位置偏移來(lái)檢測(cè)光束的變形，以對(duì)曝光用的繪制數(shù)據(jù)的坐標(biāo)進(jìn)行修正。而且，本發(fā)明的曝光方法是利用夾盤來(lái)支撐涂布有光致抗蝕劑的基板，使夾盤與光束照射裝置相對(duì)移動(dòng)，所述光束照射裝置具有空間光調(diào)制器、驅(qū)動(dòng)電路以及包含照射光學(xué)系統(tǒng)的頭部，所述空間光調(diào)制器對(duì)光束進(jìn)行調(diào)制，所述驅(qū)動(dòng)電路基于繪制數(shù)據(jù)來(lái)驅(qū)動(dòng)空間光調(diào)制器，所述照射光學(xué)系統(tǒng)照射經(jīng)空間光調(diào)制器調(diào)制后的光束，通過(guò)來(lái)自光束照射裝置的光束掃描基板，以在基板上繪制圖案，此曝光方法中，在夾盤上設(shè)置第I圖像獲取裝置，在光束照射裝置的頭部與第I圖像獲取裝置之間，配置設(shè)有檢查用圖案的標(biāo)線片，將檢查用的繪制數(shù)據(jù)供給至光束照射裝置的驅(qū)動(dòng)電路，通過(guò)第I圖像獲取裝置，獲取標(biāo)線片的檢查用圖案的圖像及從光束照射裝置照射的光束的像，從由第I圖像獲取裝置所獲取的標(biāo)線片的檢查用圖案的圖像及光束的像中，檢測(cè)光束的位置偏移，以檢測(cè)光束的變形，基于光束變形的檢測(cè)結(jié)果，對(duì)曝光用的繪制數(shù)據(jù)的坐標(biāo)進(jìn)行修正，并供給至光束照射裝置的驅(qū)動(dòng)電路。由于在夾盤上設(shè)置第I圖像獲取裝置，在光束照射裝置的頭部與第I圖像獲取裝置之間，配置設(shè)有檢查用圖案的標(biāo)線片，將檢查用的繪制數(shù)據(jù)供給至光束照射裝置的驅(qū)動(dòng)電路，通過(guò)第I圖像獲取裝置，獲取標(biāo)線片的檢查用圖案的圖像及從光束照射裝置照射的光束的像，從由第I圖像獲取裝置所獲取的標(biāo)線片的檢查用圖案的圖像及光束的像中，檢測(cè)光束的位置偏移，因此無(wú)須實(shí)際上進(jìn)行基板的曝光，而可容易地檢測(cè)從光束照射裝置照射的光束的變形。而且，當(dāng)僅從光束的像來(lái)檢測(cè)光束的位置偏移時(shí)，必須使用激光(laser)測(cè)長(zhǎng)系統(tǒng)等來(lái)另行測(cè)定第I圖像獲取裝置的位置，但在本發(fā)明中，從標(biāo)線片的檢查用圖案的圖像及光束的像中檢測(cè)光束的位置偏移，因此可使用高精度的標(biāo)線片的檢查用圖案來(lái)精度良好地檢測(cè)光束的位置偏移，從而精度良好地檢測(cè)光束的變形。并且，基于光束變形的檢測(cè)結(jié)果來(lái)對(duì)曝光用的繪制數(shù)據(jù)的坐標(biāo)進(jìn)行修正，并供給至光束照射裝置的驅(qū)動(dòng)電路，因此可抑制從光束照射裝置照射的光束的變形，繪制精度提高。進(jìn)而，本發(fā)明的曝光裝置中，標(biāo)線片具有多個(gè)位置確認(rèn)用圖案，且所述曝光裝置具備多個(gè)第2圖像獲取裝置，所述多個(gè)第2圖像獲取裝置獲取標(biāo)線片的多個(gè)位置確認(rèn)用圖案的圖像，圖像處理裝置從多個(gè)第2圖像獲取裝置所獲取的標(biāo)線片的多個(gè)位置確認(rèn)用圖案的圖像中，檢測(cè)標(biāo)線片的位置偏移，以對(duì)光束的位置偏移的檢測(cè)結(jié)果進(jìn)行修正。而且，本發(fā)明的曝光方法中，在標(biāo)線片上設(shè)置多個(gè)位置確認(rèn)用圖案，且設(shè)置多個(gè)第2圖像獲取裝置，所述多個(gè)第2圖像獲取裝置獲取標(biāo)線片的多個(gè)位置確認(rèn)用圖案的圖像，從由多個(gè)第2圖像獲取裝置所獲取的標(biāo)線片的多個(gè)位置確認(rèn)用圖案的圖像中，檢測(cè)標(biāo)線片的位置偏移，以對(duì)光束的位置偏移的檢測(cè)結(jié)果進(jìn)行修正。由于對(duì)標(biāo)線片的位置偏移進(jìn)行檢測(cè)，以對(duì)光束的位置偏移的檢測(cè)結(jié)果進(jìn)行修正，因此光束的位置偏移的檢測(cè)結(jié)果的精度提高，可進(jìn)一步精度良好地檢測(cè)光束的變形。本發(fā)明的顯示用面板基板的制造方法是使用上述任一種曝光裝置或曝光方法來(lái)進(jìn)行基板的曝光。通過(guò)使用上述曝光裝置或曝光方法，可抑制從光束照射裝置照射的光束的變形，提聞繪制精度，因此可制造聞品質(zhì)的顯不用面板基板。 本發(fā)明的曝光裝置的檢查方法是利用夾盤來(lái)支撐涂布有光致抗蝕劑的基板，使夾盤與光束照射裝置相對(duì)移動(dòng)，光束照射裝置具有空間光調(diào)制器、驅(qū)動(dòng)電路以及包含照射光學(xué)系統(tǒng)的頭部，所述空間光調(diào)制器對(duì)光束進(jìn)行調(diào)制，所述驅(qū)動(dòng)電路基于繪制數(shù)據(jù)來(lái)驅(qū)動(dòng)空間光調(diào)制器，所述照射光學(xué)系統(tǒng)照射經(jīng)空間光調(diào)制器調(diào)制后的光束，通過(guò)來(lái)自光束照射裝置的光束掃描基板，以在基板上繪制圖案，此曝光裝置的檢查方法中，在夾盤上設(shè)置第I圖像獲取裝置，在光束照射裝置的頭部與第I圖像獲取裝置之間，配置設(shè)有檢查用圖案的標(biāo)線片，將檢查用的繪制數(shù)據(jù)供給至光束照射裝置的驅(qū)動(dòng)電路，通過(guò)第I圖像獲取裝置，獲取標(biāo)線片的檢查用圖案的圖像及從光束照射裝置照射的光束的像，從由第I圖像獲取裝置所獲取的標(biāo)線片的檢查用圖案的圖像及光束的像中，檢測(cè)光束的位置偏移，以檢測(cè)光束的變形。無(wú)須實(shí)際上進(jìn)行基板的曝光，而可容易地檢測(cè)從光束照射裝置照射的光束的變形。而且，由于從標(biāo)線片的檢查用圖案的圖像及光束的像中檢測(cè)光束的位置偏移，因此可使用高精度的標(biāo)線片的檢查用圖案來(lái)精度良好地檢測(cè)光束的位置偏移，從而精度良好地檢測(cè)光束的變形。進(jìn)而，本發(fā)明的曝光裝置的檢查方法中，在標(biāo)線片上設(shè)置多個(gè)位置確認(rèn)用圖案，且設(shè)置多個(gè)第2圖像獲取裝置，所述多個(gè)第2圖像獲取裝置獲取標(biāo)線片的多個(gè)位置確認(rèn)用圖案的圖像，從由多個(gè)第2圖像獲取裝置所獲取的標(biāo)線片的多個(gè)位置確認(rèn)用圖案的圖像中，檢測(cè)標(biāo)線片的位置偏移，以對(duì)光束的位置偏移的檢測(cè)結(jié)果進(jìn)行修正。由于對(duì)標(biāo)線片的位置偏移進(jìn)行檢測(cè)，并以對(duì)光束的位置偏移的檢測(cè)結(jié)果進(jìn)行修正，因此光束的位置偏移的檢測(cè)結(jié)果的精度提聞，可進(jìn)一步精度良好地檢測(cè)光束的變形。(發(fā)明的效果)根據(jù)本發(fā)明的曝光裝置及曝光方法，在夾盤上設(shè)置第I圖像獲取裝置，在光束照射裝置的頭部與第I圖像獲取裝置之間，配置設(shè)有檢查用圖案的標(biāo)線片，將檢查用的繪制數(shù)據(jù)供給至光束照射裝置的驅(qū)動(dòng)電路，通過(guò)第I圖像獲取裝置，獲取標(biāo)線片的檢查用圖案的圖像及從光束照射裝置照射的光束的像，從由第I圖像獲取裝置所獲取的標(biāo)線片的檢查用圖案的圖像及光束的像中，檢測(cè)光束的位置偏移，以檢測(cè)光束的變形，由此，無(wú)須實(shí)際上進(jìn)行基板的曝光，而可容易地檢測(cè)從光束照射裝置照射的光束的變形。而且，由于從標(biāo)線片的檢查用圖案的圖像及光束的像中檢測(cè)光束的位置偏移，由此可使用高精度的標(biāo)線片的檢查用圖案來(lái)精度良好地檢測(cè)光束的位置偏移，從而可精度良好地檢測(cè)光束的變形。并且，基于光束變形的檢測(cè)結(jié)果來(lái)對(duì)曝光用的繪制數(shù)據(jù)的坐標(biāo)進(jìn)行修正，并供給至光束照射裝置的驅(qū)動(dòng)電路，由此可抑制從光束照射裝置照射的光束的變形，以提高繪制精度。進(jìn)而，根據(jù)本發(fā)明的曝光裝置及曝光方法，對(duì)標(biāo)線片的位置偏移進(jìn)行檢測(cè)，以對(duì)光束的位置偏移的檢測(cè)結(jié)果進(jìn)行修正，從而可提高光束的位置偏移的檢測(cè)結(jié)果的精度，以進(jìn)一步精度良好地檢測(cè)光束的變形。根據(jù)本發(fā)明的顯示用面板基板的制造方法，可抑制從光束照射裝置照射的光束的變形，以提聞繪制精度，因此可制造聞品質(zhì)的顯不用面板基板。根據(jù)本發(fā)明的曝光裝置的檢查方法，無(wú)須實(shí)際上進(jìn)行基板的曝光，而可容易地檢測(cè)從光束照射裝置照射的光束的變形。而且，由于從標(biāo)線片的檢查用圖案的圖像及光束的像中檢測(cè)光束的位置偏移，由此可使用高精度的標(biāo)線片的檢查用圖案來(lái)精度良好地檢測(cè)光束的位置偏移，從而可精度良好地檢測(cè)光束的變形。 進(jìn)而，根據(jù)本發(fā)明的曝光裝置方法，對(duì)標(biāo)線片的位置偏移進(jìn)行檢測(cè)，以對(duì)光束的位置偏移的檢測(cè)結(jié)果進(jìn)行修正，從而可提高光束的位置偏移的檢測(cè)結(jié)果的精度，以進(jìn)一步精度良好地檢測(cè)光束的變形。


圖I是表示本發(fā)明的一實(shí)施方式的曝光裝置的概略結(jié)構(gòu)的圖。圖2是本發(fā)明的一實(shí)施方式的曝光裝置的側(cè)視圖。圖3是本發(fā)明的一實(shí)施方式的曝光裝置的正視圖。圖4是表示光束照射裝置的概略結(jié)構(gòu)的圖。圖5是表示DMD的反射鏡部的一例的圖。圖6是說(shuō)明激光測(cè)長(zhǎng)系統(tǒng)的動(dòng)作的圖。圖7是表示繪制控制部的概略結(jié)構(gòu)的圖。圖8是說(shuō)明本發(fā)明的一實(shí)施方式的曝光方法的圖。圖9是說(shuō)明本發(fā)明的一實(shí)施方式的曝光方法的圖。圖10是說(shuō)明本發(fā)明的一實(shí)施方式的曝光方法的圖。圖11(a)是標(biāo)線片的底視圖，圖11(b)是檢查用圖案群的一例的放大圖，圖11(c)是表示檢查用圖案的圖像與光束的像的一例的圖。圖12是說(shuō)明通過(guò)光束來(lái)掃描基板的圖。圖13是說(shuō)明通過(guò)光束來(lái)掃描基板的圖。圖14是說(shuō)明通過(guò)光束來(lái)掃描基板的圖。圖15是說(shuō)明通過(guò)光束來(lái)掃描基板的圖。圖16是表示液晶顯示器裝置的TFT基板的制造工序的一例的流程圖。圖17是表示液晶顯示器裝置的彩色濾光器基板的制造工序的一例的流程圖。[符號(hào)的說(shuō)明]I :基板2 :標(biāo)線片
2aG:檢查用圖案群2a:檢查用圖案2b:位置確認(rèn)用圖案2c:光束的像3 :底座4 X導(dǎo)軌5:X平臺(tái)6:Y導(dǎo)軌7:Y平臺(tái)8:0平臺(tái)10:夾盤IOa:切口部
11 :門閘 20 :光束照射裝置20a :頭部21 :激光光源單元22 :光纖23 :透鏡·24、25a:反射鏡25 :DMD26:投影透鏡26a:大四角27:DMD驅(qū)動(dòng)電路31、33 :線性標(biāo)尺32、34:編碼器40 :激光測(cè)長(zhǎng)系統(tǒng)控制裝置41 :激光光源42、44 :激光干涉儀43、45 :條狀反射鏡50 :圖像處理裝置51、52:CCD 相機(jī)51a :小四角53:標(biāo)線片架60:平臺(tái)驅(qū)動(dòng)電路70 :主控制裝置71 :繪制控制部72,76 :存儲(chǔ)器73 :帶寬設(shè)定部74:中心點(diǎn)坐標(biāo)決定部 75:坐標(biāo)決定部77 :繪制數(shù)據(jù)制作部78 :坐標(biāo)運(yùn)算部dX、dY:位置偏移量W:帶寬X、Y、Z、9 :方向
具體實(shí)施例方式圖I是表示本發(fā)明的一實(shí)施方式的曝光裝置的概略結(jié)構(gòu)的圖。而且，圖2是本發(fā)明的一實(shí)施方式的曝光裝置的側(cè)視圖，圖3是本發(fā)明的一實(shí)施方式的曝光裝置的正視圖。曝光裝置是包含底座(base) 3、X導(dǎo)軌(guide) 4、X平臺(tái)(stage) 5、Y導(dǎo)軌6、Y平臺(tái)7、0平臺(tái)8、夾盤10、門閘(gate) 11、光束照射裝置20、線性標(biāo)尺(linear scale) 31、33、編碼器(encoder) 32、34、激光測(cè)長(zhǎng)系統(tǒng)、激光測(cè)長(zhǎng)系統(tǒng)控制裝置40、圖像處理裝置50、電荷耦合器件(Charge Coupled Device, CO))相機(jī)(camera) 51、52、平臺(tái)驅(qū)動(dòng)電路60及主控制裝置70而構(gòu)成。另外，在圖2及圖3中，省略了激光測(cè)長(zhǎng)系統(tǒng)的激光光源41、激光測(cè)長(zhǎng)系統(tǒng)控制裝置40、圖像處理裝置50、平臺(tái)驅(qū)動(dòng)電路60及主控制裝置70。除了這些以外，曝光裝置還具備基板搬送機(jī)器人(robot)、溫度控制單元(unit)等，所述基板搬送機(jī)器人將基板I搬入至夾盤10且從夾盤10搬出基板1，所述溫度控制單元進(jìn)行裝置內(nèi)的溫度管理。另外，以下說(shuō)明的實(shí)施方式中的XY方向?yàn)槔?，也可將X方向與Y方向調(diào)換。在圖I及圖2中，夾盤10位于進(jìn)行基板I的交接的交接位置。在交接位置，由未圖示的基板搬送機(jī)器人將基板I搬入至夾盤10，而且，由未圖示的基板搬送機(jī)器人從夾盤10搬出基板I。夾盤10通過(guò)真空吸附而支撐基板I的背面。在基板I的表面，涂布有光致抗蝕劑。在進(jìn)行基板I的曝光的曝光位置的上空，設(shè)有跨越底座3的門閘11。在門閘11上搭載有多個(gè)光束照射裝置20。另外，本實(shí)施方式雖示出了使用8個(gè)光束照射裝置20的曝光裝置的例子，但光束照射裝置的數(shù)量并不限于此，本發(fā)明適用于使用I個(gè)或2個(gè)以上的光束照射裝置的曝光裝置。圖4是表示光束照射裝置的概略結(jié)構(gòu)的圖。光束照射裝置20是包含光纖(fiber) 22、透鏡 23、反射鏡 24、DMD (Digital Micromirror Device) 25、投影透鏡 26 及 DMD驅(qū)動(dòng)電路27而構(gòu)成。光纖22將從激光光源單元21產(chǎn)生的紫外光的光束導(dǎo)入光束照射裝置20內(nèi)。從光纖22射出的光束經(jīng)由透鏡23及反射鏡24而照射至DMD25。DMD25是將反射光束的多個(gè)微小的反射鏡沿正交的兩方向排列而構(gòu)成的空間光調(diào)制器，變更各反射鏡的角度來(lái)調(diào)制光束。經(jīng)DMD25調(diào)制后的光束從照射光學(xué)系統(tǒng)的頭部20a進(jìn)行照射，所述頭部20a包含投影透鏡26。DMD驅(qū)動(dòng)電路27基于從主控制裝置70供給的繪制數(shù)據(jù)來(lái)變更DMD25的各反射鏡的角度。 在圖2及圖3中，夾盤10搭載于0平臺(tái)8上，在0平臺(tái)8之下設(shè)有Y平臺(tái)7及X平臺(tái)5。X平臺(tái)5被搭載于底座3上所設(shè)的X導(dǎo)軌4上，沿著X導(dǎo)軌4朝X方向移動(dòng)。Y平臺(tái)7被搭載于X平臺(tái)5上所設(shè)的Y導(dǎo)軌6上，沿著Y導(dǎo)軌6朝Y方向移動(dòng)。0平臺(tái)8被搭載于Y平臺(tái)7上，朝0方向旋轉(zhuǎn)。在X平臺(tái)5、Y平臺(tái)7及0平臺(tái)8上，設(shè)有滾珠螺桿及馬達(dá)(motor)或線性馬達(dá)(linear motor)等未圖示的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),各驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)由圖I的平臺(tái)驅(qū)動(dòng)電路60來(lái)驅(qū)動(dòng)。通過(guò)0平臺(tái)8朝向0方向的旋轉(zhuǎn)，搭載于夾盤10上的基板I以正交的兩邊朝向X方向及Y方向的方式而旋轉(zhuǎn)。通過(guò)X平臺(tái)5朝向X方向的移動(dòng)，夾盤10在交接位置與曝光位置之間移動(dòng)。在曝光位置處，通過(guò)X平臺(tái)5朝向X方向的移動(dòng)，從各光束照射裝置20的頭部20a照射的光束朝X方向來(lái)掃描基板I。而且，通過(guò)Y平臺(tái)7朝向Y方向的移動(dòng)，從各光束照射裝置20的頭部20a照射的光束對(duì)基板I的掃描區(qū)域朝Y方向移動(dòng)。在圖I中，主控制裝置70控制平臺(tái)驅(qū)動(dòng)電路60來(lái)進(jìn)行0平臺(tái)8朝向0方向的旋轉(zhuǎn)、X平臺(tái)5朝向X方向的移動(dòng)及Y平臺(tái)7朝向Y方向的移動(dòng)。圖5是表示DMD的反射鏡部的一例的圖。光束照射裝置20的DMD25相對(duì)于來(lái)自光束照射裝置20的光束對(duì)基板I的掃描方向(X方向)僅傾斜規(guī)定的角度0而配置。當(dāng)使DMD25相對(duì)于掃描方向而傾斜地配置時(shí)，沿正交的兩方向排列的多個(gè)反射鏡25a中的任一者將覆蓋(cover)對(duì)應(yīng)鄰接的反射鏡25a間的間隙的部位，因此能夠無(wú)間隙地進(jìn)行圖案的繪制。另外，本實(shí)施方式中，通過(guò)X平臺(tái)5使夾盤10朝X方向移動(dòng)，從而進(jìn)行來(lái)自光束照射裝置20的光束對(duì)基板I的掃描，但也可通過(guò)移動(dòng)光束照射裝置20來(lái)進(jìn)行來(lái)自光束照射裝置20的光束對(duì)基板I的掃描。而且，本實(shí)施方式中，通過(guò)Y平臺(tái)7使夾盤10朝Y方向移動(dòng)，由此來(lái)變更來(lái)自光束照射裝置20的光束對(duì)基板I的掃描區(qū)域，但也可通過(guò)移動(dòng)光束照射裝置20來(lái)變更來(lái)自光束照射裝置20的光束對(duì)基板I的掃描區(qū)域。在圖I及圖2中，在底座3上，設(shè)置有朝X方向延伸的線性標(biāo)尺31。在線性標(biāo)尺31上標(biāo)注有刻度，所述刻度用于檢測(cè)X平臺(tái)5朝向X方向的移動(dòng)量。而且，在X平臺(tái)5上，設(shè)置有朝Y方向延伸的線性標(biāo)尺33。在線性標(biāo)尺33上標(biāo)注有刻度，所述刻度用于檢測(cè)Y平臺(tái)7朝向Y方向的移動(dòng)量。在圖I及圖3中，在X平臺(tái)5的一側(cè)面，與線性標(biāo)尺31相向地安裝著編碼器32。編碼器32檢測(cè)線性標(biāo)尺31的刻度并將脈沖(pulse)信號(hào)輸出至主控制裝置70。而且，在圖I及圖2中，在Y平臺(tái)7的一側(cè)面，與線性標(biāo)尺33相向地安裝著編碼器34。編碼器34檢測(cè)線性標(biāo)尺33的刻度并將脈沖信號(hào)輸出至主控制裝置70。主控制裝置70對(duì)編碼器32的脈沖信號(hào)進(jìn)行計(jì)數(shù)(count)，以檢測(cè)X平臺(tái)5朝向X方向的移動(dòng)量，并對(duì)編碼器34的脈沖信號(hào)進(jìn)行計(jì)數(shù)，以檢測(cè)Y平臺(tái)7朝向Y方向的移動(dòng)量。圖6是說(shuō)明激光測(cè)長(zhǎng)系統(tǒng)的動(dòng)作的圖。另外，在圖6中，省略了圖I所示的門閘11、光束照射裝置20及圖像處理裝置50。激光測(cè)長(zhǎng)系統(tǒng)是公知的激光干涉式的測(cè)長(zhǎng)系統(tǒng)，是包含激光光源41、激光干涉儀42、44及條狀反射鏡(bar mirror) 43、45而構(gòu)成。條狀反射鏡43安裝于夾盤10的朝Y方向延伸的一側(cè)面。而且，條狀反射鏡45安裝于夾盤10的
朝X方向延伸的一側(cè)面。激光干涉儀42將來(lái)自激光光源41的激光照射至條狀反射鏡43，并接收被條狀反射鏡43反射后的激光，以對(duì)來(lái)自激光光源41的激光與被條狀反射鏡43反射后的激光的干涉進(jìn)行測(cè)定。該測(cè)定是在Y方向的兩處部位進(jìn)行。激光測(cè)長(zhǎng)系統(tǒng)控制裝置40通過(guò)主控制裝置70的控制，由激光干涉儀42的測(cè)定結(jié)果來(lái)檢測(cè)夾盤10在X方向上的位置及旋轉(zhuǎn)。
另一方面，激光干涉儀44將來(lái)自激光光源41的激光照射至條狀反射鏡45，并接收被條狀反射鏡45反射后的激光，以對(duì)來(lái)自激光光源41的激光與被條狀反射鏡45反射后的激光的干涉進(jìn)行測(cè)定。激光測(cè)長(zhǎng)系統(tǒng)控制裝置40通過(guò)主控制裝置70的控制，由激光干涉儀44的測(cè)定結(jié)果來(lái)檢測(cè)夾盤10在Y方向上的位置。在圖4中，主控制裝置70具有繪制控制部，所述繪制控制部向光束照射裝置20的DMD驅(qū)動(dòng)電路27供給繪制數(shù)據(jù)。圖7是表示繪制控制部的概略結(jié)構(gòu)的圖。繪制控制部71是包含存儲(chǔ)器(memory) 72、76、帶寬設(shè)定部73、中心點(diǎn)坐標(biāo)決定部74、坐標(biāo)決定部75、繪制數(shù)據(jù)制作部77及坐標(biāo)運(yùn)算部78而構(gòu)成。在存儲(chǔ)器76中保存有設(shè)計(jì)值映射圖(map)。在設(shè)計(jì)值映射圖中，以XY坐標(biāo)示出繪制數(shù)據(jù)。繪制數(shù)據(jù)制作部77由保存在存儲(chǔ)器76中的設(shè)計(jì)值映射圖，來(lái)制作曝光用的繪制數(shù)據(jù)，所述曝光用的繪制數(shù)據(jù)被供給至各光束照射裝置20的DMD驅(qū)動(dòng)電路27。存儲(chǔ)器72對(duì)于繪制數(shù)據(jù)制作部77所制作的曝光用的繪制數(shù)據(jù)，將其XY坐標(biāo)作為地址(address)來(lái)加以存儲(chǔ)。而且，存儲(chǔ)器72保存有檢查用的繪制數(shù)據(jù)，所述檢查用的繪制數(shù)據(jù)用于檢測(cè)后述的光束的變形。帶寬設(shè)定部73通過(guò)決定從存儲(chǔ)器72讀出的繪制數(shù)據(jù)的Y坐標(biāo)的范圍，從而對(duì)從光束照射裝置20的頭部20a照射的光束的Y方向的帶寬進(jìn)行設(shè)定。激光測(cè)長(zhǎng)系統(tǒng)控制裝置40對(duì)在曝光位置處的基板I開始曝光之前的夾盤10在XY方向上的位置進(jìn)行檢測(cè)。中心點(diǎn)坐標(biāo)決定部74由激光測(cè)長(zhǎng)系統(tǒng)控制裝置40所檢測(cè)出的夾盤10在XY方向上的位置，決定開始基板I的曝光之前的夾盤10的中心點(diǎn)的XY坐標(biāo)。在圖I中，當(dāng)通過(guò)來(lái)自光束照射裝置20的光束來(lái)進(jìn)行基板I的掃描時(shí)，主控制裝置70控制平臺(tái)驅(qū)動(dòng)電路60，通過(guò)X平臺(tái)5使夾盤10朝X方向移動(dòng)。當(dāng)使基板I的掃描區(qū)域移動(dòng)時(shí)，主控制裝置70控制平臺(tái)驅(qū)動(dòng)電路60，通過(guò)Y平臺(tái)7使夾盤10朝Y方向移動(dòng)。在圖7中，中心點(diǎn)坐標(biāo)決定部74對(duì)來(lái)自編碼器32、34的脈沖信號(hào)進(jìn)行計(jì)數(shù)，以對(duì)X平臺(tái)5朝向X方向的移動(dòng)量及Y平臺(tái)7朝向Y方向的移動(dòng)量進(jìn)行檢測(cè)，從而決定夾盤10的中心點(diǎn)的XY坐標(biāo)。坐標(biāo)決定部75基于中心點(diǎn)坐標(biāo)決定部74所決定的夾盤10的中心點(diǎn)的XY坐標(biāo)，來(lái)決定曝光用的繪制數(shù)據(jù)的XY坐標(biāo)，所述曝光用的繪制數(shù)據(jù)被供給至各光束照射裝置20的DMD驅(qū)動(dòng)電路27。存儲(chǔ)器72輸入坐標(biāo)決定部75所決定的XY坐標(biāo)作為地址，將所輸入的XY坐標(biāo)的地址上存儲(chǔ)的曝光用的繪制數(shù)據(jù)輸出至各光束照射裝置20的DMD驅(qū)動(dòng)電路27。以下，對(duì)本發(fā)明的一實(shí)施方式的曝光方法進(jìn)行說(shuō)明。圖8 圖10是說(shuō)明本發(fā)明的一實(shí)施方式的曝光方法的圖。另外，圖9是圖8所示的夾盤的放大圖，在圖8及圖9中，省略了圖I所示的門閘11、光束照射裝置20及C⑶相機(jī)52，并以虛線示出光束照射裝置20的頭部20a。而且，圖10是門閘的局部剖面?zhèn)纫晥D。在圖9及圖10中，在夾盤10上設(shè)有切口部10a，在切口部IOa處設(shè)置有2個(gè)CXD相機(jī)51。各光束照射裝置20的頭部20a是沿Y方向等間隔地配置，2個(gè)CXD相機(jī)51以各光束照射裝置20的頭部20a的間隔的整數(shù)倍的間隔而設(shè)在夾盤10上。各CXD相機(jī)51的 焦點(diǎn)與夾盤10上搭載的基板的表面的高度一致。另外，本實(shí)施方式中，在夾盤10中設(shè)有2個(gè)CXD相機(jī)51，但也可在夾盤10上設(shè)置3個(gè)以上的CXD相機(jī)51。本實(shí)施方式中，在開始基板的曝光之前，使用夾盤10上所設(shè)的CCD相機(jī)51，獲取后述的標(biāo)線片2的檢查用圖案的圖像及從各光束照射裝置20照射的光束的像，并從所獲取的標(biāo)線片2的檢查用圖案的圖像及光束的像中，預(yù)先檢測(cè)從各光束照射裝置20照射的光束的變形。在圖10中，在門閘11的內(nèi)部設(shè)置有2個(gè)CXD相機(jī)52。當(dāng)對(duì)從各光束照射裝置20照射的光束的變形進(jìn)行檢測(cè)時(shí)，在門閘11的下側(cè)安裝標(biāo)線片架(holder) 53，在標(biāo)線片架53上安裝標(biāo)線片2。標(biāo)線片2以下表面的聞度與搭載于夾盤10上的基板的表面的聞度相同的方式而設(shè)置。圖11(a)是標(biāo)線片的底視圖。在標(biāo)線片2的下表面，設(shè)有與光束照射裝置20的數(shù)量對(duì)應(yīng)的數(shù)量的檢查用圖案群2aG和2個(gè)位置確認(rèn)用圖案2b。各檢查用圖案群2aG以與各光束照射裝置20的頭部20a的間隔相同的間隔而設(shè)。2個(gè)位置確認(rèn)用圖案2b以與門閘11的內(nèi)部所設(shè)的2個(gè)CCD相機(jī)52的間隔相同的間隔而設(shè)。在圖10中，各CXD相機(jī)52的焦點(diǎn)與標(biāo)線片2的下表面的高度一致。各CXD相機(jī)52獲取標(biāo)線片2的下表面的各位置確認(rèn)用圖案2b的圖像。標(biāo)線片2是基于2個(gè)CCD相機(jī)52所獲取的2個(gè)位置確認(rèn)用圖案2b的圖像，以各檢查用圖案群2aG的中心與各光束照射裝置20的頭部20a的中心一致的方式而定位。圖11(b)是檢查用圖案群的一例的放大圖。圖11(b)示出了在I個(gè)檢查用圖案群2aG中設(shè)有9個(gè)檢查用圖案2a的例子。本例的各檢查用圖案2a呈正方形的框形。在圖11(b)中，以虛線表示的大四角26a表示經(jīng)DMD25調(diào)制后從投影透鏡26照射的光束的照射區(qū)域。而且，以虛線表示的小四角51a表示CCD相機(jī)51的視野的大小。在圖8中，主控制裝置70在夾盤10上未搭載基板的狀態(tài)下，基于激光測(cè)長(zhǎng)系統(tǒng)控制裝置40的檢測(cè)結(jié)果來(lái)控制平臺(tái)驅(qū)動(dòng)電路60，通過(guò)X平臺(tái)5及Y平臺(tái)7使夾盤10移動(dòng)，使安裝在夾盤10上的CCD相機(jī)51位于對(duì)光束的變形進(jìn)行檢測(cè)的光束照射裝置20的頭部20a的正下方。圖8 圖10表示CXD相機(jī)51位于對(duì)光束的變形進(jìn)行檢測(cè)的光束照射裝置20的頭部20a的正下方的狀態(tài)。
在此狀態(tài)下，主控制裝置70從繪制控制部71將檢查用的繪制數(shù)據(jù)供給至對(duì)光束的變形進(jìn)行檢測(cè)的光束照射裝置20的DMD驅(qū)動(dòng)電路27。被供給檢查用的繪制數(shù)據(jù)的光束照射裝置20從其頭部20a照射檢查用的光束。基于檢查用的繪制數(shù)據(jù)而經(jīng)DMD25調(diào)制后的檢查用的光束在無(wú)變形時(shí)，分別照射至圖11(b)所示的各檢查用圖案2a的中心。接下來(lái)，主控制裝置70基于激光測(cè)長(zhǎng)系統(tǒng)控制裝置40的檢測(cè)結(jié)果來(lái)控制平臺(tái)驅(qū)動(dòng)電路60，通過(guò)X平臺(tái)5及Y平臺(tái)7使夾盤10移動(dòng)，使C⑶相機(jī)51移動(dòng)到檢查用圖案群2aG中的I個(gè)檢查用圖案2a的正下方。C⑶相機(jī)51使焦點(diǎn)與標(biāo)線片2的下表面的高度一致，獲取標(biāo)線片2的檢查用圖案2a的圖像及從光束照射裝置20照射的光束的像。圖11(c)是表示檢查用圖案的圖像與光束的像的一例的圖。當(dāng)從光束照射裝置20照射的光束無(wú)變形時(shí)，光束的像2c出現(xiàn)在檢查用圖案2a的中心。當(dāng)光束存在變形時(shí)，光束的像2c如圖11(c)所示，偏離檢查用圖案2a的中心。在圖11(c)所示的例子中，檢查用圖案2a與光束的像2c的位置偏移量為dX、dY。在圖I中，圖像處理裝置50對(duì)CXD相機(jī)51的圖像信號(hào)進(jìn)行處理，以檢測(cè)檢查用圖案2a與光束的像2c的位置偏移量。
當(dāng)僅從光束的像2c中檢測(cè)光束的位置偏移時(shí)，必須使用激光測(cè)長(zhǎng)系統(tǒng)等來(lái)另行測(cè)定CCD相機(jī)51的位置，但在本實(shí)施方式中，從標(biāo)線片2的檢查用圖案2a的圖像及光束的像2c中檢測(cè)光束的位置偏移，因此可使用高精度的標(biāo)線片2的檢查用圖案2a來(lái)精度良好地檢測(cè)光束的位置偏移。然后，圖像處理裝置50對(duì)2個(gè)CXD相機(jī)52所獲取的標(biāo)線片2的2個(gè)位置確認(rèn)用圖案的圖像的圖像信號(hào)進(jìn)行處理，以檢測(cè)標(biāo)線片2的位置偏移量，并對(duì)光束的位置偏移量進(jìn)行修正。由于對(duì)標(biāo)線片2的位置偏移進(jìn)行檢測(cè)，并對(duì)光束的位置偏移的檢測(cè)結(jié)果進(jìn)行修正，因此光束的位置偏移的檢測(cè)結(jié)果的精度提高。同樣地，主控制裝置70基于激光測(cè)長(zhǎng)系統(tǒng)控制裝置40的檢測(cè)結(jié)果來(lái)控制平臺(tái)驅(qū)動(dòng)電路60，通過(guò)X平臺(tái)5及Y平臺(tái)7使夾盤10移動(dòng)，使CXD相機(jī)51依序移動(dòng)到檢查用圖案群2aG中的其他檢查用圖案2a的正下方。CCD相機(jī)51使焦點(diǎn)與標(biāo)線片2的下表面的高度一致，分別獲取各檢查用圖案2a的圖像及各光束的像2c。圖像處理裝置50對(duì)CXD相機(jī)51的圖像信號(hào)進(jìn)行處理，分別檢測(cè)各檢查用圖案2a與各光束的像2c的位置偏移量。然后，圖像處理裝置50對(duì)2個(gè)CXD相機(jī)52所獲取的標(biāo)線片2的2個(gè)位置確認(rèn)用圖案的圖像的圖像信號(hào)進(jìn)行處理，以檢測(cè)標(biāo)線片2的位置偏移量，并分別對(duì)各檢測(cè)部位的光束的位置偏移量進(jìn)行修正。在圖7中，繪制控制部71的坐標(biāo)運(yùn)算部78通過(guò)圖像處理裝置50檢測(cè)出的9個(gè)檢測(cè)部位的各檢查用圖案2a與各光束的像2c的位置偏移量，來(lái)檢測(cè)從光束照射裝置20照射的光束的變形。由于在夾盤10上設(shè)置CXD相機(jī)51，在光束照射裝置20的頭部20a與CXD相機(jī)51之間配置設(shè)有檢查用圖案2a的標(biāo)線片2，將檢查用的繪制數(shù)據(jù)供給至光束照射裝置20的DMD驅(qū)動(dòng)電路27，通過(guò)CXD相機(jī)51來(lái)獲取標(biāo)線片2的檢查用圖案2a的圖像及從光束照射裝置照射的光束的像2c，從由CXD相機(jī)51所獲取的標(biāo)線片2的檢查用圖案2a的圖像及光束的像2c中，檢測(cè)光束的位置偏移，以檢測(cè)光束的變形，因此無(wú)須實(shí)際上進(jìn)行基板的曝光，可容易地檢測(cè)從光束照射裝置20照射的光束的變形。同樣地，主控制裝置70使CXD相機(jī)51依序位于各光束照射裝置20的頭部20a的正下方，將檢查用的繪制數(shù)據(jù)依序供給至各光束照射裝置20的DMD驅(qū)動(dòng)電路27，以檢測(cè)從各光束照射裝置20照射的光束的變形。當(dāng)對(duì)所有光束照射裝置20檢測(cè)完光束的變形后，從門閘11的下表面拆除標(biāo)線片2及標(biāo)線片架53。在圖7中，繪制控制部71的繪制數(shù)據(jù)制作部77基于坐標(biāo)運(yùn)算部78對(duì)光束變形的檢測(cè)結(jié)果，對(duì)存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器72中的曝光用的繪制數(shù)據(jù)的XY坐標(biāo)進(jìn)行修正。在進(jìn)行基板I的曝光時(shí)，繪制控制部71將修正了坐標(biāo)的曝光用的繪制數(shù)據(jù)供給至各光束照射裝置20的DMD驅(qū)動(dòng)電路27?；趶母鞴馐丈溲b置20照射的光束的變形的檢測(cè)結(jié)果，對(duì)曝光用的繪制數(shù)據(jù)的坐標(biāo)進(jìn)行修正，并供給至各光束照射裝置20的DMD驅(qū)動(dòng)電路27，因此可抑制從各光束照射裝置20照射的光束的變形，提高繪制精度。另外，在以上說(shuō)明的實(shí)施方式中，在光束的照射區(qū)域26a內(nèi)的9處部位檢測(cè)光束的位置偏移，但本發(fā)明并不限于此，也可在光束的照射區(qū)域26a的其他多個(gè)部位檢測(cè)光束的位置偏移量，以檢測(cè)從光束照射裝置20照射的光束的變形。圖12 圖15是說(shuō)明通過(guò)光束來(lái)掃描基板的圖。圖12 圖15表示了通過(guò)來(lái)自8 個(gè)光束照射裝置20的8個(gè)光束來(lái)進(jìn)行4次基板I的X方向的掃描，以掃描整個(gè)基板I的例子。在圖12 圖15中，以虛線示出了各光束照射裝置20的頭部20a。從各光束照射裝置20的頭部20a照射的光束在Y方向上具有帶寬W，通過(guò)X平臺(tái)5朝向X方向的移動(dòng)，朝箭頭所示的方向來(lái)掃描基板I。圖12表示第I次掃描，通過(guò)朝向X方向的第I次掃描，在圖12中以灰色表示的掃描區(qū)域中進(jìn)行圖案的繪制。當(dāng)?shù)贗次掃描結(jié)束時(shí)，通過(guò)Y平臺(tái)7朝向Y方向的移動(dòng)，基板I朝Y方向僅移動(dòng)與帶寬W相同的距離。圖13表示第2次掃描，通過(guò)朝向X方向的第2次掃描，在圖13中以灰色表示的掃描區(qū)域中進(jìn)行圖案的繪制。當(dāng)?shù)?次掃描結(jié)束時(shí)，通過(guò)Y平臺(tái)7朝向Y方向的移動(dòng)，基板I朝Y方向僅移動(dòng)與帶寬W相同的距離。圖14表示第3次掃描，通過(guò)朝向X方向的第3次掃描，在圖14中以灰色表示的掃描區(qū)域中進(jìn)行圖案的繪制。當(dāng)?shù)?次掃描結(jié)束時(shí)，通過(guò)Y平臺(tái)7朝向Y方向的移動(dòng)，基板I朝Y方向僅移動(dòng)與帶寬W相同的距離。圖15表不第4次掃描,通過(guò)朝向X方向的4次掃描,在圖15中以灰色表不的掃描區(qū)域中進(jìn)行圖案的繪制，整體基板I的掃描結(jié)束。通過(guò)利用來(lái)自多個(gè)光束照射裝置20的多個(gè)光束來(lái)同時(shí)進(jìn)行基板I的掃描，能夠縮短整個(gè)基板I的掃描所耗的時(shí)間，從而能夠縮短作業(yè)時(shí)間(tact time)。另外，圖12 圖15中，表示了進(jìn)行4次基板I的X方向的掃描以掃描整個(gè)基板I的例子，但掃描的次數(shù)并不限于此，也可以進(jìn)行3次以下或5次以上基板I的X方向的掃描以掃描整個(gè)基板I。根據(jù)以上說(shuō)明的實(shí)施方式，由于在夾盤10上設(shè)置C⑶相機(jī)51，在光束照射裝置20的頭部20a與CCD相機(jī)51之間配置設(shè)有檢查用圖案2a的標(biāo)線片2，將檢查用的繪制數(shù)據(jù)供給至光束照射裝置20的DMD驅(qū)動(dòng)電路27，通過(guò)CCD相機(jī)51來(lái)獲取標(biāo)線片2的檢查用圖案2a的圖像及從光束照射裝置照射的光束的像2c，從由CXD相機(jī)51所獲取的標(biāo)線片2的檢查用圖案2a的圖像及光束的像2c中，檢測(cè)光束的位置偏移，以檢測(cè)光束的變形，由此，無(wú)須實(shí)際上進(jìn)行基板的曝光，可容易地檢測(cè)從光束照射裝置20照射的光束的變形。而且，通過(guò)從標(biāo)線片2的檢查用圖案2a的圖像及光束的像2c中檢測(cè)光束的位置偏移，能夠使用高精度的標(biāo)線片2的檢查用圖案2a來(lái)精度良好地檢測(cè)光束的位置偏移，從而能夠精度良好地檢測(cè)光束的變形。并且，基于光束變形的檢測(cè)結(jié)果，對(duì)曝光用的繪制數(shù)據(jù)的坐標(biāo)進(jìn)行修正，并供給至光束照射裝置20的DMD驅(qū)動(dòng)電路27，由此，能夠抑制從光束照射裝置20照射的光束的變形，從而能夠提高繪制精度。進(jìn)而，對(duì)標(biāo)線片2的位置偏移進(jìn)行檢測(cè)，并對(duì)光束的位置偏移的檢測(cè)結(jié)果進(jìn)行修正，由此能夠提高光束的位置偏移的檢測(cè)結(jié)果的精度，從而能夠進(jìn)一步精度良好地檢測(cè)光束的變形。通過(guò)使用本發(fā)明的曝光裝置或曝光方法來(lái)進(jìn)行基板的曝光，能夠抑制從光束照射裝置照射的光束的變形，從而能夠提高繪制精度，因此能夠制造高品質(zhì)的顯示用面板基板。例如，圖16是表示液晶顯示器裝置的TFT基板的制造工序的一例的流程圖。在薄膜形成工序(步驟101)中，借由派鍍(sputter)法或等離子體化學(xué)氣相沉積(ChemicalVapor Deposition, CVD)法等,在基板上形成作為液晶驅(qū)動(dòng)用的透明電極的導(dǎo)電體膜或絕緣體膜等的薄膜。在抗蝕劑涂布工序(步驟102)中，借由滾涂法等來(lái)涂布光致抗蝕劑，在薄 膜形成工序(步驟101)中所形成的薄膜上形成光致抗蝕劑膜。在曝光工序(步驟103)中，使用曝光裝置，在光致抗蝕劑膜上形成圖案。在顯影工序(步驟104)中，借由噴淋(shower)顯影法等來(lái)將顯影液供給到光致抗蝕劑膜上，以去除光致抗蝕劑膜的多余部分。在蝕刻工序(步驟105)中，借由濕式蝕刻(wet etching)來(lái)將在薄膜形成工序(步驟101)中形成的薄膜中的未被光致抗蝕劑膜遮擋的部分予以去除。在剝離工序(步驟106)中，借由剝離液來(lái)將在蝕刻工序(步驟105)中完成了光掩膜作用的光致抗蝕劑膜予以剝離。在所述各工序之前或之后，根據(jù)需要來(lái)實(shí)施基板的清洗/干燥工序。將這些工序重復(fù)多次，在基板上形成TFT陣列(array)。而且，圖17是表示液晶顯示器裝置的彩色濾光器基板的制造工序的一例的流程圖。在黑矩陣(black matrix)形成工序(步驟201)中，借由抗蝕劑涂布、曝光、顯影、蝕刻、剝離等的處理來(lái)在基板上形成黑矩陣。在著色圖案形成工序(步驟202)中，借由染色法或顏料分散法等來(lái)在基板上形成著色圖案。針對(duì)R、G、B的著色圖案而重復(fù)該工序。在保護(hù)膜形成工序(步驟203)中，在著色圖案上形成保護(hù)膜，在透明電極膜形成工序(步驟204)中，在保護(hù)膜上形成透明電極膜。在所述各工序之前、中途或之后，根據(jù)需要來(lái)實(shí)施基板的清洗/干燥工序。在圖16所示的TFT基板的制造工序中，可將本發(fā)明的曝光裝置或曝光方法適用于曝光工序(步驟103);在圖17所示的彩色濾光器基板的制造工序中，可將本發(fā)明的曝光裝置或曝光方法適用于黑矩陣形成工序(步驟201)及著色圖案形成工序(步驟202)的曝光處理。本發(fā)明的曝光裝置的檢查方法是利用夾盤來(lái)支撐涂布有光致抗蝕劑的基板，使夾盤與光束照射裝置相對(duì)移動(dòng)，光束照射裝置具有空間光調(diào)制器、驅(qū)動(dòng)電路以及包含照射光學(xué)系統(tǒng)的頭部，所述空間光調(diào)制器對(duì)光束進(jìn)行調(diào)制，所述驅(qū)動(dòng)電路基于繪制數(shù)據(jù)來(lái)驅(qū)動(dòng)空間光調(diào)制器，所述照射光學(xué)系統(tǒng)照射經(jīng)空間光調(diào)制器調(diào)制后的光束，通過(guò)來(lái)自光束照射裝置的光束掃描基板，以在基板上繪制圖案，此曝光裝置的檢查方法中，在夾盤上設(shè)置第I圖像獲取裝置，在光束照射裝置的頭部與第I圖像獲取裝置之間，配置設(shè)有檢查用圖案的標(biāo)線片，將檢查用的繪制數(shù)據(jù)供給至光束照射裝置的驅(qū)動(dòng)電路，通過(guò)第I圖像獲取裝置，獲取標(biāo)線片的檢查用圖案的圖像及從光束照射裝置照射的光束的像，從由第I圖像獲取裝置所獲取的標(biāo)線片的檢查用圖案的圖像及光束的像中，檢測(cè)光束的位置偏移。無(wú)須實(shí)際上進(jìn)行基板的曝光，而可容易地檢測(cè)從光束照射裝置照射的光束的變形。而且，通過(guò)從標(biāo)線片的檢查用圖案的圖像及光束的像中檢測(cè)光束的位置偏移，可使用高精度的標(biāo)線片的檢查用圖案來(lái)精度良好地檢測(cè)光束的位置偏移，從而可精度良好地檢測(cè)光束的變形。進(jìn)而，本發(fā)明的曝光裝置的檢查方法中，在標(biāo)線片上設(shè)置多個(gè)位置確認(rèn)用圖案，且設(shè)置多個(gè)第2圖像獲取裝置，所述多個(gè)第2圖像獲取裝置獲取標(biāo)線片的多個(gè)位置確認(rèn)用圖案的圖像，從由多個(gè)第2圖像獲取裝置所獲取的標(biāo)線片的多個(gè)位置確認(rèn)用圖案的圖像中， 檢測(cè)標(biāo)線片的位置偏移，以對(duì)光束的位置偏移的檢測(cè)結(jié)果進(jìn)行修正。通過(guò)對(duì)標(biāo)線片的位置偏移進(jìn)行檢測(cè)，以對(duì)光束的位置偏移的檢測(cè)結(jié)果進(jìn)行修正，從而能夠提高光束的位置偏移的檢測(cè)結(jié)果的精度，從而能夠進(jìn)一步精度良好地檢測(cè)光束的變形。
權(quán)利要求
1.一種曝光裝置，包括 夾盤，支撐涂布有光致抗蝕劑的基板； 光束照射裝置，具有空間光調(diào)制器、驅(qū)動(dòng)電路以及包含照射光學(xué)系統(tǒng)的頭部，所述空間光調(diào)制器對(duì)光束進(jìn)行調(diào)制，所述驅(qū)動(dòng)電路基于繪制數(shù)據(jù)來(lái)驅(qū)動(dòng)所述空間光調(diào)制器，所述照射光學(xué)系統(tǒng)照射經(jīng)所述空間光調(diào)制器調(diào)制后的光束；以及移動(dòng)機(jī)構(gòu)，使所述夾盤與所述光束照射裝置相對(duì)移動(dòng)， 通過(guò)所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)使所述夾盤與所述光束照射裝置相對(duì)移動(dòng)，通過(guò)來(lái)自所述光束照射裝置的光束來(lái)掃描所述基板，以在所述基板上繪制圖案，所述曝光裝置的特征在于包括繪制控制機(jī)構(gòu)，將檢查用的繪制數(shù)據(jù)及曝光用的繪制數(shù)據(jù)供給至所述光束照射裝置的所述驅(qū)動(dòng)電路； 第I圖像獲取裝置，設(shè)在所述夾盤上； 標(biāo)線片，配置在所述光束照射裝置的頭部與所述第I圖像獲取裝置之間，且設(shè)有檢查用圖案；以及 圖像處理裝置，從所述第I圖像獲取裝置所獲取的所述標(biāo)線片的所述檢查用圖案的圖像及所述光束照射裝置照射的光束的像中，檢測(cè)光束的位置偏移， 所述繪制控制機(jī)構(gòu)將所述檢查用的繪制數(shù)據(jù)供給至所述光束照射裝置的所述驅(qū)動(dòng)電路，并基于由所述圖像處理裝置檢測(cè)出的光束的位置偏移來(lái)檢測(cè)光束的變形，以對(duì)所述曝光用的繪制數(shù)據(jù)的坐標(biāo)進(jìn)行修正。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的曝光裝置，其特征在于， 所述標(biāo)線片具有多個(gè)位置確認(rèn)用圖案， 所述曝光裝置具備多個(gè)第2圖像獲取裝置，所述多個(gè)第2圖像獲取裝置獲取所述標(biāo)線片的所述多個(gè)位置確認(rèn)用圖案的圖像， 所述圖像處理裝置從所述多個(gè)第2圖像獲取裝置所獲取的所述標(biāo)線片的所述多個(gè)位置確認(rèn)用圖案的圖像中，檢測(cè)所述標(biāo)線片的位置偏移，以對(duì)光束的位置偏移的檢測(cè)結(jié)果進(jìn)行修正。
3.—種曝光方法，利用夾盤來(lái)支撐涂布有光致抗蝕劑的基板， 使所述夾盤與光束照射裝置相對(duì)移動(dòng)，所述光束照射裝置具有空間光調(diào)制器、驅(qū)動(dòng)電路以及包含照射光學(xué)系統(tǒng)的頭部，所述空間光調(diào)制器對(duì)光束進(jìn)行調(diào)制，所述驅(qū)動(dòng)電路基于繪制數(shù)據(jù)來(lái)驅(qū)動(dòng)所述空間光調(diào)制器，所述照射光學(xué)系統(tǒng)照射經(jīng)所述空間光調(diào)制器調(diào)制后的光束， 通過(guò)來(lái)自所述光束照射裝置的光束掃描所述基板，以在所述基板上繪制圖案，所述曝光方法的特征在于， 在所述夾盤上設(shè)置第I圖像獲取裝置， 在所述光束照射裝置的頭部與所述第I圖像獲取裝置之間，配置設(shè)有檢查用圖案的標(biāo)線片， 將檢查用的繪制數(shù)據(jù)供給至所述光束照射裝置的所述驅(qū)動(dòng)電路， 通過(guò)所述第I圖像獲取裝置，獲取所述標(biāo)線片的所述檢查用圖案的圖像及從所述光束照射裝置照射的光束的像， 從由所述第I圖像獲取裝置所獲取的所述標(biāo)線片的所述檢查用圖案的圖像及光束的像中，檢測(cè)光束的位置偏移，以檢測(cè)光束的變形， 基于光束變形的檢測(cè)結(jié)果，對(duì)曝光用的繪制數(shù)據(jù)的坐標(biāo)進(jìn)行修正，并供給至所述光束照射裝置的所述驅(qū)動(dòng)電路。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的曝光方法，其特征在于， 在所述標(biāo)線片上設(shè)置多個(gè)位置確認(rèn)用圖案， 設(shè)置多個(gè)第2圖像獲取裝置，所述多個(gè)第2圖像獲取裝置獲取所述標(biāo)線片的所述多個(gè)位置確認(rèn)用圖案的圖像， 從由所述多個(gè)第2圖像獲取裝置所獲取的所述標(biāo)線片的所述多個(gè)位置確認(rèn)用圖案的圖像中，檢測(cè)所述標(biāo)線片的位置偏移，以對(duì)光束的位置偏移的檢測(cè)結(jié)果進(jìn)行修正。
5.一種顯示用面板基板的制造方法，其特征在于， 使用權(quán)利要求I或2所述的曝光裝置來(lái)進(jìn)行所述基板的曝光。
6.一種顯示用面板基板的制造方法，其特征在于， 使用權(quán)利要求3或4所述的曝光方法來(lái)進(jìn)行所述基板的曝光。
7.—種曝光裝置的檢查方法，利用夾盤來(lái)支撐涂布有光致抗蝕劑的基板， 使所述夾盤與光束照射裝置相對(duì)移動(dòng)，所述光束照射裝置具有空間光調(diào)制器、驅(qū)動(dòng)電路以及包含照射光學(xué)系統(tǒng)的頭部，所述空間光調(diào)制器對(duì)光束進(jìn)行調(diào)制，所述驅(qū)動(dòng)電路基于繪制數(shù)據(jù)來(lái)驅(qū)動(dòng)所述空間光調(diào)制器，所述照射光學(xué)系統(tǒng)照射經(jīng)所述空間光調(diào)制器調(diào)制后的光束， 通過(guò)來(lái)自所述光束照射裝置的光束掃描所述基板，以在所述基板上繪制圖案，所述曝光裝置的檢查方法的特征在于， 在所述夾盤上設(shè)置第I圖像獲取裝置， 在所述光束照射裝置的頭部與所述第I圖像獲取裝置之間，配置設(shè)有檢查用圖案的標(biāo)線片， 將檢查用的繪制數(shù)據(jù)供給至所述光束照射裝置的所述驅(qū)動(dòng)電路， 通過(guò)所述第I圖像獲取裝置，獲取所述標(biāo)線片的所述檢查用圖案的圖像及從所述光束照射裝置照射的光束的像， 從由所述第I圖像獲取裝置所獲取的所述標(biāo)線片的所述檢查用圖案的圖像及光束的像中，檢測(cè)光束的位置偏移，以檢測(cè)光束的變形。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的曝光裝置的檢查方法，其特征在于， 在所述標(biāo)線片上設(shè)置多個(gè)位置確認(rèn)用圖案， 設(shè)置多個(gè)第2圖像獲取裝置，所述多個(gè)第2圖像獲取裝置獲取所述標(biāo)線片的所述多個(gè)位置確認(rèn)用圖案的圖像， 從由所述多個(gè)第2圖像獲取裝置所獲取的所述標(biāo)線片的所述多個(gè)位置確認(rèn)用圖案的圖像中，檢測(cè)所述標(biāo)線片的位置偏移，以對(duì)光束的位置偏移的檢測(cè)結(jié)果進(jìn)行修正。
全文摘要
一種曝光裝置及其曝光、檢查方法及顯示用面板基板的制造方法，本發(fā)明抑制從光束照射裝置照射的光束的變形以提高繪制精度。在夾盤上設(shè)置第1圖像獲取裝置(CCD相機(jī)(51))，在光束照射裝置的頭部與第1圖像獲取裝置之間配置設(shè)有檢查用圖案的標(biāo)線片。將檢查用的繪制數(shù)據(jù)供給至光束照射裝置的驅(qū)動(dòng)電路，通過(guò)第1圖像獲取裝置來(lái)獲取標(biāo)線片的檢查用圖案(2a)的圖像及從光束照射裝置照射的光束的像(2c)。從由第1圖像獲取裝置所獲取的標(biāo)線片的檢查用圖案(2a)的圖像及光束的像(2c)中，檢測(cè)光束的位置偏移，以檢測(cè)光束的變形?；诠馐冃蔚臋z測(cè)結(jié)果，對(duì)曝光用的繪制數(shù)據(jù)的坐標(biāo)進(jìn)行修正，并供給至光束照射裝置的驅(qū)動(dòng)電路。
文檔編號(hào)G03F7/20GK102799073SQ201210159670
公開日2012年11月28日 申請(qǐng)日期2012年5月17日 優(yōu)先權(quán)日2011年5月20日
發(fā)明者林知明, 吉田稔, 本田英之 申請(qǐng)人:株式會(huì)社日立高科技