專利名稱：投影機的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及投影機。
背景技術(shù)：
在對從光源射出的光束相應于圖像信息進行調(diào)制而投影的投影機中，例如已知如公開于下述專利文獻的采用反射型成像光學系統(tǒng)的投影機。專利文獻I :日本特開2011—002650號公報在專利文獻I記載的投影機中，以非球面鏡進行了反射的投影光在投影機的外裝殼體具有的開ロ部附近會聚。若該開ロ部以容易吸收光的異物覆蓋，則例如投影機的溫度有可能上升。其結(jié)果，投影機的可靠性有可能下降。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的方式目的在于提供能夠?qū)煽啃缘南陆颠M行抑制的投影機。按照本發(fā)明的ー個方式，可提供如下的投影機具備外裝殼體、投影光學系統(tǒng)和檢測裝置，所述外裝殼體具有光可以通過的開ロ部；所述投影光學系統(tǒng)配置于所述外裝殼體的內(nèi)部空間，且包括具有對來自光源裝置的光束進行反射并將其導向所述開ロ部的反射面的反射構(gòu)件，介由所述開ロ部向所述外裝殼體的外部射出所述光束；所述檢測裝置對所述開ロ部的射出側(cè)的所述光束的光路上的異物進行檢測。根據(jù)本發(fā)明的ー個方式，因為在以投影光學系統(tǒng)的反射構(gòu)件進行反射井介由外裝殼體的開ロ部向外裝殼體的外部射出光束的構(gòu)成的投影機中，設置有對該開ロ部的射出側(cè)的光束的光路上的異物進行檢測的檢測裝置，所以能夠?qū)υ诠饴肥欠翊嬖诋愇镞M行把握。因此，在基于檢測裝置的檢測結(jié)果，判斷為在光路存在異物的情況下，能夠采取用于對投影機的溫度上升進行抑制的適當?shù)拇胧?。從而，能夠?qū)ν队皺C的可靠性的下降進行抑制。所述檢測裝置也可以構(gòu)成為，包括射出檢測光的發(fā)光部和可以對所述檢測光進行受光的受光部。由此，能夠以非接觸方式對異物的存在與否進行檢測。并且，通過以光學性方式對異物進行檢測，在光路存在異物的情況下，能夠?qū)υ摦愇锼矔r性地進行檢測。所述檢測裝置也可以構(gòu)成為，配置于所述開ロ部的周圍的至少一部分。由此，能夠?qū)﹂_ロ部的射出側(cè)的異物良好地進行檢測。所述檢測裝置也可以構(gòu)成為，包括相對于所述開ロ部的中心配置于一方側(cè)的第I檢測裝置和配置于另一方側(cè)的第2檢測裝置。由此，能夠利用至少2個檢測裝置而擴大檢測區(qū)域，能夠?qū)Ξ愇锪己玫剡M行檢測。所述檢測裝置也可以構(gòu)成為，沿所述開ロ部的尺寸較短方向而配置。由此，能夠縮短成為無法對異物進行檢測的范圍的各檢測裝置之間的距離，能夠?qū)Ξ愇锪己玫剡M行檢測。所述檢測裝置也可以構(gòu)成為，配置于所述內(nèi)部空間。由此，由于從配置于內(nèi)部空間的投影部照射的檢測光擴展，能夠擴大可以對異物進行檢測的檢測區(qū)域。并且，因為檢測裝置配置于投影機的內(nèi)部，所以難以受到塵埃等的影響。


圖I是表示投影機的設置例的圖。圖2是表示第I實施方式涉及的投影機的一例的立體圖。圖3是表示第I實施方式涉及的投影機的一部分的圖。圖4是表示第I實施方式涉及的檢測裝置的一例的圖。圖5是表示第I實施方式涉及的投影機的工作的一例的圖。圖6是表示第2實施方式涉及的投影機的一部分的圖。 圖7是表示投影機的設置例的圖。符號的說明I···投影機,2···外裝殼體,4···開口部,5···透射構(gòu)件,7···投影光學系統(tǒng),9···反射構(gòu)
件，40···檢測裝置，41···投影部，42···受光部，SP…內(nèi)部空間。
具體實施例方式(第I實施方式)以下，關(guān)于本發(fā)明的第I實施方式基于附圖進行說明。圖I及圖2是表示本實施方式涉及的投影機I的一例的圖。在圖I及圖2中，投影機I具備構(gòu)成該投影機I的外裝的外裝殼體2。外裝殼體2例如為合成樹脂制。外裝殼體2具有頂面部2A、底面部2B、側(cè)面部2C和側(cè)面部2D。投影機I將頂面部2A朝向上下左右都可以進行投影。在本實施方式中，以投影機I使頂面部2A朝向上方而設置的狀態(tài)為例進行說明。投影機I向屏幕SC照射投影光PL，將圖像投影到該屏幕SC。頂面部2A具有第I傾斜面2A1及第2傾斜面2A2。在第I傾斜面2A1，形成凹部3。外裝殼體2在頂面部2A具有光可以通過的矩形的開口部4及投影開口部30。開口部4形成于凹部3的上端，投影開口部30形成于凹部3的底部。在本實施方式中，在投影開口部30，配置光可以通過的透射構(gòu)件5。在開口部4，雖然未配置透射構(gòu)件，但是也可以配置。側(cè)面部2C具有縫隙狀的吸氣開口部2C1。在吸氣開口部2C1的內(nèi)側(cè)，設置空氣過濾器及吸氣風扇。吸氣風扇介由吸氣開口部2C1及空氣過濾器，向外裝殼體2的內(nèi)部空間SP,導入用于對裝置主體進行冷卻的冷卻空氣。投影機I具有配置于外裝殼體2的內(nèi)部空間SP的光學單兀6。光學單兀6包括光源裝置、包括對從光源裝置射出的光束PL進行調(diào)制的液晶面板等的光調(diào)制裝置61及對來自光調(diào)制裝置61的光束PL進行投影的投影光學系統(tǒng)7等。再有，光學單元6的投影光學系統(tǒng)7以外的構(gòu)成因為可在各種一般性的投影機中使用所以將具體性的說明進行省略，并在以下，關(guān)于投影光學系統(tǒng)7進行說明。圖3是示意性地表示投影光學系統(tǒng)7的一部分的剖視圖。投影光學系統(tǒng)7具有介由光調(diào)制裝置61的來自光源裝置的光束PL所入射的多個透鏡8、具有對來自透鏡8的光束PL進行反射的反射面9A的反射構(gòu)件9和對透鏡8及反射構(gòu)件9進行收置的收置構(gòu)件10。
在本實施方式中，反射面9A包括凹面，反射構(gòu)件9為非球面鏡。在以下的說明中，將反射構(gòu)件9適當?shù)胤Q為非球面鏡9。反射面9A為非旋轉(zhuǎn)對稱的自由曲面形狀的反射面。在本實施方式中，非球面鏡9在投影光學系統(tǒng)7中的光路最下游配置為，反射面9A朝向斜上方。非球面鏡9對通過多個透鏡8導引的光束PL進行反射，使其折返到斜上方側(cè)并廣角化。投影開ロ部30及開ロ部4能夠使以非球面鏡9進行了反射的光PL通過。投影開ロ部30及開ロ部4配置于收置構(gòu)件10的上方側(cè)。投影光學系統(tǒng)7以如下方式設置于外裝殼體2的內(nèi)部空間SP :使得以非球面鏡9進行了反射的光PL在收置構(gòu)件10的上方側(cè)能夠通過投影開ロ部30及開ロ部4。非球面鏡9 (反射面9A)對來自透鏡8的光束PL進行反射，將其導向投影開ロ部30及開ロ部4。來自反射構(gòu)件9的光束PL在通過投影開ロ部30之后，通過開ロ部4。來自反射構(gòu)件9的光束PL介由投影開ロ部30及開ロ部4，射出到外裝殼體2的外部空間。投影開ロ部30形成于以非球面鏡9的反射面9A進行了反射的光束PL會聚的聚 光點P的附近。通過將投影開ロ部30設置于聚光點P的附近，能夠減小投影開ロ部30的面積。在本實施方式中，投影機I具備對介由投影開ロ部30 (透射構(gòu)件5)及開ロ部4射出到外裝殼體2的外部空間的光束(投影光)PL的光路上的異物進行檢測的檢測裝置40。檢測裝置40對開ロ部4的射出側(cè)的光束PL的光路上的異物進行檢測。在本實施方式中，檢測裝置40配置于外裝殼體2。檢測裝置40包括沿開ロ部4的尺寸較短方向相對于開ロ部4的中心配置于斜面2A2側(cè)(一方側(cè))的第I檢測裝置40A和配置于斜面2A1側(cè)(另一方側(cè))的第2檢測裝置40B。檢測裝置40 (40A、40B)在開ロ部4的射出側(cè)，配置于光束PL的光路的外側(cè)。在本實施方式中，檢測裝置40A與檢測裝置40B為相同規(guī)格的裝置。在本實施方式中，檢測裝置40射出檢測光SL。檢測裝置40利用檢測光SL，對異物光學性地進行檢測。第I檢測裝置40A向外部空間中的光束(投影光)PL的光路照射檢測光SL，對該光束PL的光路上的異物進行檢測。第2檢測裝置40B對斜面2A1上的異物進行檢測。還有，第2檢測裝置40B既可以將檢測光SL照射到光束PL的光路，也可以不照射。作為異物，例如可例示紙、片材等。如此的異物假定為相對于開ロ部4為長條狀。如此的異物如示于圖3地，可考慮在斜面2A1與斜面2A2之間橫向配置的情況。通過將檢測裝置40B配置于斜面2A1上，也可以進行橫向配置于斜面2A1與斜面2A2之間的異物的檢測。圖4是表示檢測裝置40的一例的圖。檢測裝置40具有射出檢測光SL的發(fā)光部41和可以對檢測光SL進行受光的受光部42。發(fā)光部41與受光部42并排地配置。在本實施方式中，檢測裝置40為紅外線反射型的光學傳感器。檢測裝置40作為檢測光SL射出紅外光。在檢測光SL的光路存在異物的情況下，從發(fā)光部41射出的檢測光SL照射到異物。照射到異物的檢測光SL的至少一部分以該異物進行反射。以該異物進行了反射的檢測光SL的至少一部分入射到受光部42。受光部42對來自該異物的檢測光SL進行受光。另一方面，在檢測光SL的光路不存在異物的情況下,從發(fā)光部41射出的檢測光SL不被受光部42受光。如此地，檢測裝置40根據(jù)從發(fā)光部41射出的檢測光SL是否被受光部42受光，能夠?qū)υ诠釶L的光路是否存在異物進行檢測。還有，在本實施方式中，檢測裝置40不僅能夠?qū)Ξ愇锏拇嬖谂c否而且還能夠?qū)κ芄獠?2與異物的距離進行檢測。檢測裝置40基于檢測光SL相對于受光部42的入射位置，對受光部42與異物的距離進行檢測。例如，如示于圖4地，在受光部42與異物的距離為第I距離LI的情況下，從發(fā)光部41射出而以異物進行了反射的檢測光SL入射到受光部42的第I位置P1。在受光部42與異物的距離為比第I距離LI長的第2距離L2的情況下，從發(fā)光部41射出而以異物進行了反射的檢測光SL入射到與第I位置Pl不同的受光部42的第2位置P2。還有，檢測裝置40也可以基于照射到該受光部42的檢測光SL的照度分布，對受光部42與異物的距離進行檢測。 如上述地，紙、片材等異物覆蓋開口部4地置于頂面部2A的可能性高。在如此的狀態(tài)下，在投影光PL從開口部4射出的情況下，例如異物與外裝殼體2的外表面(頂面部2A)之間的空間的溫度有可能上升。其結(jié)果，例如投影機I的溫度上升，投影機I的可靠性有可能下降。根據(jù)本實施方式，因為設置有對從開口部4射出的投影光PL的光路上的異物進行檢測的檢測裝置40，所以能夠?qū)υ谠摴饴肥欠翊嬖诋愇镞M行把握。因此，在基于檢測裝置40的檢測結(jié)果而判斷為在光路存在異物的情況下，能夠采取用于對投影機I的溫度上升進行抑制的適當?shù)拇胧?。例如，在投影機I中能夠采取進行告警顯示等的措施。從而，能夠?qū)ν队皺CI的可靠性的下降進行抑制。在本實施方式中，檢測裝置40以光學性方式(非接觸方式)，對異物的存在與否進行檢測。因此，在異物存在于投影光PL的光路的情況下，能夠?qū)υ摦愇锼矔r性地進行檢測。從而，例如即使在光路存在異物，也能夠在投影機I的溫度過度上升之前，對該異物快速地進行檢測。并且，在本實施方式中，圖3中，來自透鏡8的光束(投影光)PL在XZ平面內(nèi)行進。并且，來自發(fā)光部41的檢測光SL也在XZ平面內(nèi)行進。由此，檢測裝置40能夠?qū)釶L的光路上的異物的存在與否高精度地進行檢測。接下來，關(guān)于以檢測裝置40檢測到異物的情況下的投影機I的工作的一例進行說明。如示于圖5地，在投影機I以高亮度模式射出投影光PL的情況下，在通過檢測裝置40檢測到異物的情況下(步驟SI )，使光源裝置的亮度(光源裝置的輸出、光強度)降低，從高亮度模式變更為低亮度模式(步驟S2)。接下來，投影機I使顯示成為黑色畫面(步驟S3)。并且，投影機I與使顯示成為黑色畫面的工作同時地，發(fā)出告警(步驟S4)。作為告警，例如，也可以在成為黑色畫面的屏幕上進行告警顯示。并且，在投影機I具有警報裝置(蜂鳴器等)的情況下，也可以使該警報裝置工作。并且，在投影機I具有發(fā)光裝置(LED等)的情況下，也可以使該發(fā)光裝置工作。通過發(fā)出告警，投影機I的使用者能夠知曉異物存在。因此，通過取走異物，能夠避免投影機I溫度上升。在從發(fā)出告警起經(jīng)過預定時間之后，投影機I利用檢測裝置40對是否去除異物進行檢測(步驟S5)。例如在通過上述的告警而去除異物的情況下，投影機I解除告警(步驟S6)。并且，在去除異物的情況下，投影機I解除黒色畫面顯示，并返回到高亮度模式。另ー方面，在盡管發(fā)出告警卻未去除異物的情況下，在從發(fā)出告警起經(jīng)過預定時間之后，投影機I停止光源裝置的工作(步驟S7)。還有，雖然在本實施方式中，在開ロ部4的周圍配置2個檢測裝置40A、40B，但是檢測裝置40也可以為I個。例如，也可以配置第I檢測裝置40A而省略第2檢測裝置40B。還有，在檢測裝置40為I個的情況下，也可以在開ロ部4的周圍的至少一部分(任意的位置)，配置該檢測裝置40。并且，也可以在開ロ部4的周圍配置多個檢測裝置40。例如，也可以在開ロ部4的周圍配置3個以上的檢測裝置40。在檢測裝置40為多個的情況下，只要至少ー個檢測裝置40將檢測光SL照射到光束PL的光路即可，其他檢測裝置40也可以對開ロ部4的周圍的異物進行檢測。
并且，第I檢測裝置40A與第2檢測裝置40B雖然沿投影開ロ部30的尺寸較短方向而配置，但是也可以沿尺寸較長方向而配置。(第2實施方式)接下來，關(guān)于第2實施方式進行說明。在以下的說明中，關(guān)于與上述的實施方式相同或等同的構(gòu)成部分附加相同的符號，并將其說明進行簡化或者省略。圖6表示第2實施方式涉及的投影機I的一例。在本實施方式中，檢測裝置40配置于內(nèi)部空間SP內(nèi)的投影光學系統(tǒng)7。檢測裝置40在內(nèi)部空間SP中，配置于光束PL的光路的外側(cè)。在本實施方式中，檢測裝置40配置為，面向透鏡8與非球面鏡9之間的光束PL的光路。在本實施方式中，檢測裝置40介由投影開ロ部30 (透射構(gòu)件5)，向開ロ部4的射出側(cè)的光束(投影光)PL的光路照射檢測光SL，對該光PL的光路上的異物進行檢測。在異物存在于光束PL的光路上的情況下，從發(fā)光部41射出的檢測光SL介由投影開ロ部30 (透射構(gòu)件5)照射到異物。照射到異物的檢測光SL的至少一部分以該異物進行反射。以異物進行了反射的檢測光SL的至少一部分介由投影開ロ部30 (透射構(gòu)件5)入射到受光部42。受光部42對來自該異物的檢測光SL進行受光。在異物不存在于光束PL的光路的情況下，從發(fā)光部41射出的檢測光SL介由投影開ロ部30 (透射構(gòu)件5)射出到外部空間。該檢測光SL不被受光部42受光。在本實施方式中，檢測裝置40配置于離開開ロ部4的內(nèi)部空間SP內(nèi)的投影光學系統(tǒng)7。因為能夠確保開ロ部4與檢測裝置40的距離，所以來自檢測裝置40的檢測光SL朝向開ロ部4擴展地行迸，能夠以ー個檢測裝置40進行寬的范圍的檢測。并且，因為檢測裝置40配置于投影機I的內(nèi)部，所以難以受到塵埃等的影響。在本實施方式中，來自發(fā)光部41的檢測光SL的射出方向相對于設置面基本垂直。還有，來自發(fā)光部41的檢測光SL的射出方向也可以在相對于設置面的法線為±45度以內(nèi)的范圍而確定。并且，在本實施方式中，圖6中，來自透鏡8的光束(投影光)PL也在XZ平面內(nèi)行進。并且，來自發(fā)光部41的檢測光SL也在XZ平面內(nèi)行進。由此，檢測裝置40能夠?qū)釶L的光路上的異物的存在與否高精度地進行檢測。
還有，雖然在上述的第I、第2實施方式中，投影機I在使頂面部2A (投影開口部30)朝向上方的狀態(tài)下使用，但是也可以如示于圖7地，在朝向下方的狀態(tài)下使用。在圖7中，投影機I通過支持機構(gòu)50支持為，頂面部2A (開口部4)朝向下方。并且，雖然在上述的第I、第2實施方式中，檢測裝置40利用射出的檢測光SLJi異物光學性地進行檢測，但是，既可以采用通過超聲波對異物進行檢測的檢測裝置，也可以采用通過拍攝的圖像對異物進行檢測的 檢測裝置。
權(quán)利要求
1.一種投影機，其特征在于，具備 外裝殼體，其具有光可以通過的開口部； 投影光學系統(tǒng)，其配置于所述外裝殼體的內(nèi)部空間，包括具有反射面的反射構(gòu)件，所述反射面對來自光源裝置的光束進行反射并將其導向所述開口部，所述投影光學系統(tǒng)介由所述開口部向所述外裝殼體的外部射出所述光束；和 檢測裝置，其對所述開口部的射出側(cè)的所述光束的光路上的異物進行檢測。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的投影機，其特征在于 所述檢測裝置包括射出檢測光的發(fā)光部和可以對所述檢測光進行受光的受光部。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的投影機，其特征在于 所述檢測裝置配置于所述開口部的周圍的至少一部分。
4.根據(jù)權(quán)利要求Γ3中任一項所述的投影機，其特征在于 所述檢測裝置包括相對于所述開口部的中心配置于一方側(cè)的第I檢測裝置和配置于另一方側(cè)的第2檢測裝置。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的投影機，其特征在于 所述檢測裝置沿所述開口部的尺寸較短方向而配置。
6.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的投影機，其特征在于 所述檢測裝置配置于所述內(nèi)部空間。
全文摘要
本發(fā)明涉及投影機。提供能夠?qū)煽啃缘南陆颠M行抑制的投影機。投影機具備外裝殼體、投影光學系統(tǒng)和檢測裝置，所述外裝殼體具有光可以通過的開口部；所述投影光學系統(tǒng)配置于外裝殼體的內(nèi)部空間且包括具有對來自光源裝置的光束進行反射并將其導向開口部的反射面的反射構(gòu)件，介由開口部向外裝殼體的外部射出光束；所述檢測裝置對開口部的射出側(cè)的光束的光路上的異物進行檢測。
文檔編號G03B21/00GK102819173SQ20121016893
公開日2012年12月12日 申請日期2012年5月28日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月6日
發(fā)明者小山美佳, 小林靖幸, 大月伸行, 白倉清政 申請人:精工愛普生株式會社