專利名稱：接近式曝光裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種接近式曝光裝置，更具體而言，涉及適用于將掩模圖案曝光轉(zhuǎn)印在例如液晶顯示器或等離子顯示器等大型平板顯示器等的基板上的接近式曝光裝置。
背景技術(shù)：
接近式曝光是將表面涂敷有感光劑的透光性基板(被曝光件)保持在曝光裝置的工作臺(tái)(work stage)上，同時(shí)使該基板與保持在掩模裝載臺(tái)的掩模保持框中的掩模接近，使兩者的間隙為例如數(shù)十微米 數(shù)百微米，利用照射裝置，從掩模的與基板呈相反側(cè)的一偵U，向掩模照射曝光用光，由此將繪制在掩模上的圖案曝光轉(zhuǎn)印到基板上的技術(shù)。另一方面，盡管在接近式曝光中存在著使掩模與基板大小相同以集中進(jìn)行曝光的方式，但在這樣的方式中，在將掩模的圖案曝光轉(zhuǎn)印到大型基板上時(shí)，掩模大型化，將因掩 模的撓曲而對(duì)圖案的精度造成影響，或在成本等方面發(fā)生問題。鑒于該狀況，在現(xiàn)有技術(shù)中，當(dāng)在大型基板上進(jìn)行掩模圖案的曝光轉(zhuǎn)印時(shí)，有時(shí)會(huì)采用所謂步進(jìn)式的接近式曝光方式，即，采用比基板小的掩模，使工作臺(tái)相對(duì)于掩模步進(jìn)移動(dòng)，每移動(dòng)一步，就在掩模與基板接近配置的狀態(tài)下，照射圖案曝光用光，由此將繪制在掩模上的多個(gè)圖案曝光轉(zhuǎn)印到基板上的方式。用于保持基板的工作臺(tái)由電機(jī)驅(qū)動(dòng)，相對(duì)于掩模執(zhí)行相對(duì)步進(jìn)移動(dòng)?；宓钠毓饩仍谑芄ぷ髋_(tái)的移動(dòng)精度的影響的同時(shí)，也受到基板溫度的極大影響。作為使工作臺(tái)移動(dòng)的工件驅(qū)動(dòng)部，以往，有利用進(jìn)給絲杠機(jī)構(gòu)將DC伺服電機(jī)等的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)變換為直線運(yùn)動(dòng)的裝置，但也存在著因進(jìn)給絲杠的磨損或傳送不穩(wěn)等而達(dá)不到足夠的位置精度的情況，因此，為了因應(yīng)近年的進(jìn)一步高精度化，也有采用直線電動(dòng)機(jī)的方案。然而，在采用直線電動(dòng)機(jī)的情況下，來自直線電動(dòng)機(jī)的發(fā)熱將導(dǎo)致工作臺(tái)的溫度升高，由工作臺(tái)保持的基板的溫度也隨之升高。直線電動(dòng)機(jī)存在著運(yùn)行期間與停機(jī)期間之間的溫度差大，從工作臺(tái)傳來的熱量導(dǎo)致基板膨脹或收縮，或者產(chǎn)生局部溫度不均，對(duì)曝光的精度造成極大的影響等問題。為了解決這樣的熱性能問題，公開了一種精密移動(dòng)工作臺(tái)，其在設(shè)有用于冷卻直線電動(dòng)機(jī)的定子的冷卻裝置的同時(shí)，還在直線電動(dòng)機(jī)的轉(zhuǎn)子和基座上分別設(shè)置溫度傳感器，通過將基座和直線電動(dòng)機(jī)的溫度差控制為零，從而使得因直線電動(dòng)機(jī)的發(fā)熱而產(chǎn)生于基座上的溫度分布實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定化(例如，參照專利文獻(xiàn)I)。此外，已知還有如下的曝光裝置其在激光干涉儀的反射鏡及其支承部上設(shè)置通氣孔，利用通氣裝置使空氣流過通氣孔，以減少隨裝載臺(tái)的溫度上升而產(chǎn)生的激光干涉儀的位置測(cè)量誤差、和隨裝載臺(tái)的移動(dòng)而產(chǎn)生的因空氣擾動(dòng)而導(dǎo)致的位置測(cè)量誤差(例如，參照專利文獻(xiàn)2)。專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)I :日本特開平1-195389號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2 日本特開平5-6850號(hào)公報(bào)
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的課題然而，專利文獻(xiàn)I所公開的精密移動(dòng)工作臺(tái)盡管能夠消除基座與直線電動(dòng)機(jī)之間的溫度差，但是，當(dāng)致冷劑的溫度過高或過低時(shí)，存在著基板因該熱量而發(fā)生膨脹或收縮，從而影響基板的曝光精度的可能性。此外，專利文獻(xiàn)2的曝光裝置是通過使空氣流過通氣孔以抑制激光干涉儀的反射鏡的溫度的升高，從而實(shí)現(xiàn)位置測(cè)量誤差的降低的裝置，但由于未對(duì)工作臺(tái)的溫度進(jìn)行管理，因此有可能產(chǎn)生因基板的膨脹或收縮導(dǎo)致的曝光不均。本發(fā)明鑒于上述課題而做出，其目的在于，提供一種能夠?qū)χ吕鋭┑臏囟冗M(jìn)行管理，使得從直線電動(dòng)機(jī)傳遞到基板的熱量一定，并能夠抑制由于基板的膨脹、收縮引起的對(duì)曝光精度的影響的接近式曝光裝置。解決課題的手段本發(fā)明的上述目的通過下述結(jié)構(gòu)而得以實(shí)現(xiàn)。 (I) 一種接近式曝光裝置，其特征在于，具有掩模保持部，其保持具有需要曝光的圖案的掩模；工件保持部，其保持作為被曝光件的工件；工件驅(qū)動(dòng)部，其驅(qū)動(dòng)上述工件保持部；和借助上述掩模向上述工件照射圖案曝光用光的照射單元，在上述掩模和上述工件互相接近并以規(guī)定的曝光間隙對(duì)向配置的狀態(tài)下，將上述掩模的圖案曝光轉(zhuǎn)印到上述工件上，上述工件驅(qū)動(dòng)部是具有定子和與上述定子對(duì)向配置的轉(zhuǎn)子的直線電動(dòng)機(jī)，并具有沿上述轉(zhuǎn)子配置的轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路；向上述轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路循環(huán)供給致冷劑的轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置；和配置在上述轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路的入口和出口，用于檢測(cè)上述轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路的入口附近和出口附近的上述致冷劑的溫度的溫度傳感器，基于上述轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路的入口附近和出口附近的上述致冷劑的溫度執(zhí)行上述直線電動(dòng)機(jī)的溫度管理，使得從上述直線電動(dòng)機(jī)傳遞到上述工件的熱量一定。(2)根據(jù)(I)所述的接近式曝光裝置，其特征在于上述直線電動(dòng)機(jī)包括第一直線電動(dòng)機(jī)，其具有配設(shè)在固定于基臺(tái)的基座上的第一定子，和配設(shè)在能夠沿水平面內(nèi)的規(guī)定方向相對(duì)于上述基座移動(dòng)的第一裝載臺(tái)上，并與上述第一定子對(duì)向配置的第一轉(zhuǎn)子；和第二直線電動(dòng)機(jī)，其具有配設(shè)在上述第一裝載臺(tái)上的第二定子，和配設(shè)在能夠沿與上述規(guī)定方向垂直的垂直方向相對(duì)于上述第一裝載臺(tái)移動(dòng)的第二裝載臺(tái)上，并與上述第二定子對(duì)向配置的第二轉(zhuǎn)子，上述轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路具有沿上述第一轉(zhuǎn)子配設(shè)在上述第一裝載臺(tái)上的第一轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路；和沿上述第二轉(zhuǎn)子配設(shè)在上述第二裝載臺(tái)上的第二轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路。(3)根據(jù)(2)所述的接近式曝光裝置，其特征在于上述轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路還具有
沿上述第一轉(zhuǎn)子配設(shè)在上述第一裝載臺(tái)上的第三轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路；和沿上述第二轉(zhuǎn)子配設(shè)在上述第二裝載臺(tái)上的第四轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路。(4)根據(jù)(2)所述的接近式曝光裝置，其特征在于上述轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置具有用于向上述第一轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路循環(huán)供給上述致冷劑的第一轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置；和 獨(dú)立于上述第一轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置而配置，用于向上述第二轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路循環(huán)供給上述致冷劑的第二轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置。(5)根據(jù)(4)所述的接近式曝光裝置，其特征在于上述轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路還具有沿上述第一轉(zhuǎn)子配設(shè)在上述第一裝載臺(tái)上的第三轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路；和沿上述第二轉(zhuǎn)子配設(shè)在上述第二裝載臺(tái)上的第四轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路， 上述轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置還具有用于向上述第三轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路循環(huán)供給上述致冷劑的第三轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置；和獨(dú)立于上述第三轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置而配置，用于向上述第四轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路循環(huán)供給上述致冷劑的第四轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置。(6)根據(jù)(I)所述的接近式曝光裝置，其特征在于上述轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置與上述接近式曝光裝置隔開配置。(7)根據(jù)(I)所述的接近式曝光裝置，其特征在于，還具有沿上述定子配置的定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路；向上述定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路循環(huán)供給致冷劑的定子側(cè)致冷劑供給裝置；和配置在上述定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路的入口和出口，用于檢測(cè)上述定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路的入口附近和出口附近的上述致冷劑的溫度的溫度傳感器，基于上述定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路的入口附近和出口附近的上述致冷劑的溫度執(zhí)行上述直線電動(dòng)機(jī)的溫度管理，使得從上述直線電動(dòng)機(jī)傳遞到上述工件的熱量一定。(8)根據(jù)(7)所述的接近式曝光裝置，其特征在于上述直線電動(dòng)機(jī)包括第一直線電動(dòng)機(jī)，其具有配設(shè)在固定于基臺(tái)的基座上的第一定子，和配設(shè)在能夠沿水平面內(nèi)的規(guī)定方向相對(duì)于上述基座移動(dòng)的第一裝載臺(tái)上，并與上述第一定子對(duì)向配置的第一轉(zhuǎn)子；和第二直線電動(dòng)機(jī)，其具有配設(shè)在上述第一裝載臺(tái)上的第二定子，和配設(shè)在能夠沿與上述規(guī)定方向垂直的垂直方向相對(duì)于上述第一裝載臺(tái)移動(dòng)的第二裝載臺(tái)上，并與上述第二定子對(duì)向配置的第二轉(zhuǎn)子，上述定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路具有沿上述第一定子配設(shè)在上述基座上的第一定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路；和沿上述第二定子配設(shè)在上述第一裝載臺(tái)上的第二定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路。(9)根據(jù)(8)所述的接近式曝光裝置，其特征在于上述定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路還具有沿上述第一定子配設(shè)在上述基座上的第三定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路；和
沿上述第二定子配設(shè)在上述第一裝載臺(tái)上的第四定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路。(10)根據(jù)(8)所述的接近式曝光裝置，其特征在于上述定子側(cè)致冷劑供給裝置具有用于向上述第一定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路循環(huán)供給上述致冷劑的第一定子側(cè)致冷劑供給裝置；和獨(dú)立于上述第一定子側(cè)致冷劑供給裝置而配置，用于向上述第二定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路循環(huán)供給上述致冷劑的第二定子側(cè)致冷劑供給裝置。 (11)根據(jù)(10)所述的接近式曝光裝置，其特征在于上述定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路還具有沿上述第一定子配設(shè)在上述基座上的第三定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路；和沿上述第二定子配設(shè)在上述第一裝載臺(tái)上的第四定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路，上述定子側(cè)致冷劑供給裝置還具有用于向上述第三定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路循環(huán)供給上述致冷劑的第三定子側(cè)致冷劑供給裝置；和獨(dú)立于上述第三定子側(cè)致冷劑供給裝置而配置，用于向上述第四定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路循環(huán)供給上述致冷劑的第四定子側(cè)致冷劑供給裝置。(12)根據(jù)(7)所述的接近式曝光裝置，其特征在于上述定子側(cè)致冷劑供給裝置與上述接近式曝光裝置隔開配置。發(fā)明的效果依據(jù)本發(fā)明的接近式曝光裝置，工件驅(qū)動(dòng)部由具有定子和轉(zhuǎn)子的直線電動(dòng)機(jī)構(gòu)成，其具有沿轉(zhuǎn)子配置的轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路、用于向轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路循環(huán)供給致冷劑的轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置、和用于檢測(cè)致冷劑流入和流出轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路時(shí)的致冷劑的溫度的溫度傳感器，基于轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路的入口附近和出口附近的致冷劑的溫度，對(duì)直線電動(dòng)機(jī)的溫度進(jìn)行管理，使得從直線電動(dòng)機(jī)傳遞到工件的熱量一定，因此，直線電動(dòng)機(jī)的溫度能夠維持一定的溫度。由此，使得工作臺(tái)乃至基板的溫度都能夠維持為一定的溫度，能夠抑制因基板的溫度變化而導(dǎo)致的對(duì)曝光精度的影響，從而能夠?qū)崿F(xiàn)高精度的曝光。


圖I是用于說明本發(fā)明第一實(shí)施方式的步進(jìn)接近式曝光裝置的局部剖面主視圖。圖2是直線電動(dòng)機(jī)及其附近的剖視圖。圖3是圖2所示的直線電動(dòng)機(jī)的轉(zhuǎn)子、轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路以及溫度傳感器的立體示意圖。圖4是本發(fā)明第一實(shí)施方式的變形例的接近式曝光裝置的直線電動(dòng)機(jī)及其附近的剖視圖。圖5是本發(fā)明第一實(shí)施方式的變形例的接近式曝光裝置的直線電動(dòng)機(jī)的轉(zhuǎn)子、轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路以及溫度傳感器的立體示意圖。圖6是本發(fā)明第二實(shí)施方式的接近式曝光裝置的直線電動(dòng)機(jī)及其附近的剖視圖。圖7是本發(fā)明第二實(shí)施方式的接近式曝光裝置的直線電動(dòng)機(jī)的轉(zhuǎn)子、致冷劑循環(huán)通路以及溫度傳感器的立體示意圖。
圖8是本發(fā)明第二實(shí)施方式的變形例的接近式曝光裝置的直線電動(dòng)機(jī)及其附近的剖視圖。符號(hào)說明I :掩模裝載臺(tái)2:工作臺(tái)(工件保持部)3 :照射裝置4 :基座5a X軸輸送臺(tái)(第一裝載臺(tái))6a Y軸輸送臺(tái)(第二裝載臺(tái)) 26:凸緣(掩模保持部)30 :第一直線電動(dòng)機(jī)(工件驅(qū)動(dòng)部)31 :第一定子32:第一轉(zhuǎn)子35 :第一轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路(轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路)36a、36b、46a、46b、51a、51b、61a、61b、71a、71b、75a、75b、81a、81b、85a、85b 溫度
傳感器37 :第一轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置(轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置)40 :第二直線電動(dòng)機(jī)(工件驅(qū)動(dòng)部)41 :第二定子42 :第二轉(zhuǎn)子45 :第二轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路(轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路)47 :第二轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置(轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置)50 :第三轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路(轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路)60 :第四轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路(轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路)70 :第一定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路(定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路)73 :第一定子側(cè)致冷劑供給裝置(定子側(cè)致冷劑供給裝置)74 :第三定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路(定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路)80 :第二定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路(定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路)83 :第二定子側(cè)致冷劑供給裝置(定子側(cè)致冷劑供給裝置)84 :第四定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路(定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路)M:掩模PE :接近式曝光裝置W :基板(工件、被曝光件)
具體實(shí)施例方式第一實(shí)施方式以下，基于附圖對(duì)本發(fā)明的接近式曝光裝置的第一實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)說明。圖I是用于說明本發(fā)明第一實(shí)施方式的步進(jìn)接近式曝光裝置的局部剖面主視圖。如圖I所示，步進(jìn)接近式曝光裝置PE使用比作為被曝光件的基板W小的掩模M，用掩模裝載臺(tái)I保持掩模M，并用工作臺(tái)2保持基板W，在使得掩模M與基板W接近并以規(guī)定的曝光間隙對(duì)向配置的狀態(tài)下，通過從照射裝置3向掩模M照射圖案曝光用光，將掩模M的圖案曝光轉(zhuǎn)印在基板W上。此外，使工作臺(tái)2相對(duì)于掩模M沿X軸方向和Y軸方向的兩個(gè)軸向步進(jìn)移動(dòng)，每如進(jìn)一步就進(jìn)行曝光轉(zhuǎn)印。為使工作臺(tái)2沿X軸方向步進(jìn)移動(dòng)，在基座4上設(shè)有用于使作為第一裝載臺(tái)的X軸輸送臺(tái)5a沿X軸方向步進(jìn)移動(dòng)的X軸裝載臺(tái)輸送機(jī)構(gòu)5。為使工作臺(tái)2沿Y軸·方向步進(jìn)移動(dòng)，在X軸裝載臺(tái)輸送機(jī)構(gòu)5的X軸輸送臺(tái)5a上，設(shè)有用于使作為第二裝載臺(tái)的Y軸輸送臺(tái)6a沿Y軸方向步進(jìn)移動(dòng)的Y軸裝載臺(tái)輸送機(jī)構(gòu)6。在Y軸裝載臺(tái)輸送機(jī)構(gòu)6的Y軸輸送臺(tái)6a上，設(shè)有工作臺(tái)2。基板W通過工件卡盤等以真空吸附的狀態(tài)被保持在工作臺(tái)2的上表面。此外，在工作臺(tái)2的側(cè)部，配設(shè)有用于測(cè)量掩模M的下表面高度的基板側(cè)位移傳感器15。因此，基板側(cè)位移傳感器15能夠與工作臺(tái)2 —起沿X、Y軸方向移動(dòng)。在基座4上，沿X軸方向，配置有多條(圖中所示的實(shí)施方式中為4個(gè))X軸直線導(dǎo)引用導(dǎo)軌51,固定在X軸輸送臺(tái)5a下表面的滑塊52騎設(shè)在各導(dǎo)軌51上。由此，X軸輸送臺(tái)5a就能由后述第一直線電動(dòng)機(jī)30驅(qū)動(dòng)，沿導(dǎo)軌51在X軸方向上往復(fù)移動(dòng)。此外，在X軸輸送臺(tái)5a上，沿Y軸方向，配置有多條Y軸直線導(dǎo)引用導(dǎo)軌53，固定在Y軸輸送臺(tái)6a下表面的滑塊54騎設(shè)在各導(dǎo)軌53上。由此，Y軸輸送臺(tái)6a就能由后述第二直線電動(dòng)機(jī)40驅(qū)動(dòng)，沿導(dǎo)軌53在Y軸方向上往復(fù)移動(dòng)。同時(shí)參照?qǐng)D2和圖3，X軸裝載臺(tái)輸送機(jī)構(gòu)5具有穿設(shè)在基座4上表面并沿X軸方向延伸的X軸槽33 ;從作為第一裝載臺(tái)的X軸輸送臺(tái)5a的下表面突出，沿X軸方向延伸并插入X軸槽33，隔著微小間隙而對(duì)向配置的X軸突條34 ;和配置在X軸槽33與X軸突條34之間的第一直線電動(dòng)機(jī)30。第一直線電動(dòng)機(jī)30具有固定于X軸槽33的兩側(cè)面并沿X軸方向延伸的一對(duì)第一定子31、31，和與一對(duì)第一定子31、31相對(duì)并沿X軸突條34的兩側(cè)面設(shè)置的一對(duì)第一轉(zhuǎn)子32、32,第一轉(zhuǎn)子32、32由第一定子31、31的磁場(chǎng)沿X軸方向驅(qū)動(dòng)。在X軸突條34上，設(shè)有沿一對(duì)第一轉(zhuǎn)子32、32配設(shè)的大致呈U字形的第一轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路35，和與第一轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路35的入口 35a和出口 35b接近配置，并能檢測(cè)流入及流出第一轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路35的致冷劑的溫度的一對(duì)溫度傳感器36a、36b。第一轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路35的入口 35a和出口 35b通過配管38與向第一轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路35循環(huán)供給致冷劑的第一轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置37連接。盡管Y軸裝載臺(tái)輸送機(jī)構(gòu)6以配置方向呈與X軸裝載臺(tái)輸送機(jī)構(gòu)5垂直的方向(Y軸方向)的方式配置，但如圖2和圖3的參照所示，具有與X軸裝載臺(tái)輸送機(jī)構(gòu)5基本相同的結(jié)構(gòu)。即，Y軸裝載臺(tái)輸送機(jī)構(gòu)6具有沿Y軸方向延伸并穿設(shè)在作為第一裝載臺(tái)的X軸輸送臺(tái)5a的上表面Y軸槽43 ;從作為第二裝載臺(tái)的Y軸輸送臺(tái)6a的下表面突出，沿Y軸方向延伸并插入Y軸槽43，隔著微小的而對(duì)向配置的Y軸突條44 ;和配置在Y軸槽43與Y軸突條44之間的第二直線電動(dòng)機(jī)40。第二直線電動(dòng)機(jī)40具有固定于Y軸槽43的兩側(cè)面并沿Y軸方向延伸的一對(duì)第二定子41、41，和與一對(duì)第二定子41、41相對(duì)并沿Y軸突條44的兩側(cè)面設(shè)置的一對(duì)第二轉(zhuǎn)子42、42，第二轉(zhuǎn)子42、42由第二定子41、41的磁場(chǎng)沿Y軸方向驅(qū)動(dòng)。在Y軸突條44上，設(shè)有沿一對(duì)第二轉(zhuǎn)子42、42配設(shè)的大致呈U字形的第二轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路45，和與第二轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路45的入口 45a和出口 45b接近配置，并能檢測(cè)流入及流出第二轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路45的致冷劑的溫度的一對(duì)溫度傳感器46a、46b。第二轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路45的入口 45a和出口 45b通過配管48與向第二轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路45循環(huán)供給致冷劑的第二轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置47連接。第一轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置37和第二轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置47是互相獨(dú)立控制的兩臺(tái)致冷劑供給裝置，與步進(jìn)接近式曝光裝置PE隔開配置。第一轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置37和第二轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置47優(yōu)選為，配置有通過間壁等與設(shè)有步進(jìn)接近式曝光裝置PE的曝光室分離的單獨(dú)腔室。此時(shí)，由于將第一、第二轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置37、47與第一、第二轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路35、45連接的配管38、48增長(zhǎng)，因此，優(yōu)選以絕熱材料覆蓋配管38、48，以使得致冷劑的溫度不受外部環(huán)境溫度的影響。作為可適用的致冷劑，可舉出丁烷、氫、氦、氨、水、二氧化碳等。適用蒸發(fā)壓力不太低且冷凝壓力不太高的物質(zhì)。此外，由于期望其蒸發(fā)潛熱較大且導(dǎo)熱性能好、壓縮功小、穩(wěn)定且無毒，因此優(yōu)選為水。 此外，作為纖維類絕熱材料，有玻璃棉、石棉、羊毛絕熱材料、纖維素纖維、碳化軟木等。此外，作為發(fā)泡類絕熱材料，可使用聚氨酯泡沫、酚醛泡沫、聚苯乙烯泡沫、阻燃型EPS(發(fā)泡聚苯乙烯)、發(fā)泡橡膠(FEF)等?；氐綀D1，為了使工作臺(tái)2沿上下方向移動(dòng)，在Y軸裝載臺(tái)輸送機(jī)構(gòu)6和工作臺(tái)2之間，設(shè)有定位分辯能力較粗略、移動(dòng)沖程和移動(dòng)速度較大的上下粗調(diào)裝置7 ;和與上下粗調(diào)裝置7相比，能夠以較高的分辯能力進(jìn)行定位，使工作臺(tái)2沿上下方向細(xì)微移動(dòng)，對(duì)掩模M與基板W的相對(duì)表面之間的間隙微調(diào)為規(guī)定量的上下微調(diào)裝置8。上下粗調(diào)裝置7使得工作臺(tái)2能夠通過后述設(shè)在微調(diào)裝載臺(tái)6b上的適當(dāng)?shù)尿?qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)而相對(duì)于微調(diào)裝載臺(tái)6b上下運(yùn)動(dòng)。固定于工作臺(tái)2的底面的4個(gè)位置上的裝載臺(tái)粗調(diào)軸14與固定于微調(diào)裝載臺(tái)6b上的直動(dòng)軸承14a相配合，相對(duì)于微調(diào)裝載臺(tái)6b沿上下方向被引導(dǎo)。需要說明的是，即使上下粗調(diào)裝置7分辨能力低，仍期望其反復(fù)定位精度較高。上下微調(diào)裝置8具有固定在Y軸輸送臺(tái)6a上的固定臺(tái)9,和以內(nèi)端側(cè)向斜下方傾斜的狀態(tài)被安裝在固定臺(tái)9上的直線導(dǎo)引用導(dǎo)軌10，其借助騎設(shè)于該導(dǎo)軌10上的滑塊11，使得滾珠絲杠的螺母(未圖示)與沿導(dǎo)軌10往復(fù)移動(dòng)的滑動(dòng)體12連接，并使得滑動(dòng)體12的上端面能夠沿水平方向自由滑動(dòng)而與固定在微調(diào)裝載臺(tái)6b上的凸緣12a接觸。并且，當(dāng)利用安裝在固定臺(tái)9上的電動(dòng)機(jī)17驅(qū)動(dòng)滾珠絲杠的絲杠軸旋轉(zhuǎn)時(shí)，使得螺母、滑塊11和滑動(dòng)體12呈一體地沿導(dǎo)軌10斜向移動(dòng)，由此將凸緣12a上下微調(diào)。需要說明的是，除了由電動(dòng)機(jī)17和滾珠絲杠來驅(qū)動(dòng)滑動(dòng)體12之外，上下微調(diào)裝置8也可以采用由直線電動(dòng)機(jī)來驅(qū)動(dòng)滑動(dòng)體12。在Z軸輸送臺(tái)6a的Y軸方向的一端(圖I的左端)設(shè)有一臺(tái)、在另外一端設(shè)有兩臺(tái)、合計(jì)3臺(tái)的這樣的上下微調(diào)裝置8，其分別被獨(dú)立驅(qū)動(dòng)控制。由此，上下微調(diào)裝置8基于后述構(gòu)成掩模側(cè)位移傳感器27的間隙傳感器在多個(gè)位置的掩模M與基板W之間的間隙量的測(cè)量結(jié)果，對(duì)三個(gè)位置的凸緣12a的高度進(jìn)行獨(dú)立微調(diào)，并對(duì)工作臺(tái)2的高度和傾斜度進(jìn)行微調(diào)。還需要說明的是，在利用上下微調(diào)裝置8足以能夠調(diào)節(jié)工作臺(tái)2的高度時(shí)，也可省略上下粗調(diào)裝置7。
此外，在Y軸輸送臺(tái)6a上，設(shè)有與用于檢測(cè)工作臺(tái)2的Y方向位置的Y軸激光干涉儀18對(duì)向配置的條狀鏡(bar mirror);以及與用于檢測(cè)工作臺(tái)2的X軸方向位置的X軸激光干涉儀對(duì)向配置的條狀鏡(均未圖示)。與Y軸激光干涉儀18對(duì)向配置的條狀鏡19，在Y軸輸送臺(tái)6a的一側(cè)沿X軸方向配置，與X軸激光干涉儀對(duì)向配置條狀鏡在Y軸輸送臺(tái)6a的一端側(cè)沿Y軸方向配置。此外，圖I中，V表示激光。Y軸激光干涉儀18和X軸激光干涉儀，分別總是與對(duì)應(yīng)的條狀鏡對(duì)向配置，并被支承在裝置基座4上。需要說明的是，在X軸方向上，分開設(shè)置有兩臺(tái)Y軸激光干涉儀18。利用兩臺(tái)Y軸激光干涉儀18，對(duì)經(jīng)由條狀鏡19的Y軸輸送臺(tái)6a乃至工作臺(tái)2在Y軸方向上的位置誤差和偏擺誤差進(jìn)行檢測(cè)。此外，利用X軸激光干涉儀，對(duì)經(jīng)由對(duì)向 配置的條狀鏡的X軸輸送臺(tái)5a乃至工作臺(tái)2在X軸方向上的位置進(jìn)行檢測(cè)。掩模裝載臺(tái)I具有由大致長(zhǎng)方形的框體組成的掩?？?4 ;間隔有間隙地插入并支承在該掩模框24的中央部開口，并能夠沿X、Y、Θ方向(X、Y平面內(nèi))移動(dòng)的掩模保持框25。掩?？?4通過從裝置基座4突出設(shè)置的支柱4a被保持在工作臺(tái)2上方的固定位置。凸緣26作為向內(nèi)側(cè)伸出的掩模保持部，借助襯墊21沿中央部開口的整個(gè)周緣設(shè)置在掩模保持框25的中央部開口的下表面。在凸緣26上，開設(shè)有用于吸附未描繪掩模M的圖案的周緣部的多個(gè)吸附槽(未圖示)，其，掩模M借助吸附槽，通過未圖示的真空式吸附裝置保持在凸緣26上并能夠自由拆裝。此外,在凸緣26的上方,配置有能夠各自移動(dòng)的掩模側(cè)位移傳感器27和對(duì)準(zhǔn)相機(jī)28。掩模側(cè)位移傳感器27構(gòu)成間隙傳感器，其用于測(cè)量基板W的上表面的高度和掩模M與基板W的對(duì)置表面之間的間隙。對(duì)準(zhǔn)相機(jī)28是對(duì)掩模M的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記(未圖示)和對(duì)設(shè)在基板W側(cè)的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記(未圖示)或者設(shè)在工作臺(tái)2或掩?？?4上的基準(zhǔn)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記(未圖示)進(jìn)行拍攝的裝置。此外，蔽光孔(masking aperture)機(jī)構(gòu)29具有根據(jù)需要通過對(duì)保持于掩模保持框25的掩模M上的任意范圍的曝光用光進(jìn)行遮蔽來限制曝光范圍的遮光板(未圖示)。在這樣構(gòu)成的接近式曝光裝置PE中，使X軸裝載臺(tái)輸送機(jī)構(gòu)5和Y軸裝載臺(tái)輸送機(jī)構(gòu)6工作，以使保持基板W的工作臺(tái)2移動(dòng)到掩模M下方的曝光位置。并且，在通過上下粗調(diào)裝置7或者上下微調(diào)裝置8使工作臺(tái)2上升后，使用間隙傳感器(掩模側(cè)位移傳感器)27，測(cè)量掩模M和基板W之間的間隙g，通過上下微調(diào)裝置8將掩模M和基板W調(diào)節(jié)到規(guī)定的曝光間隙并對(duì)向配置。然后照射來自照射裝置3的圖案曝光用光，將掩模的圖案曝光轉(zhuǎn)印到基板W上。然后，使工作臺(tái)2下降以擴(kuò)大掩模M和基板W之間的間隙g，使X軸裝載臺(tái)輸送機(jī)構(gòu)5和Y軸裝載臺(tái)輸送機(jī)構(gòu)6步進(jìn)移動(dòng)到下一個(gè)曝光位置，重復(fù)上述的動(dòng)作，直至在一張基板W上完成全部拍攝。在此，X軸裝載臺(tái)輸送機(jī)構(gòu)5通過向第一直線電動(dòng)機(jī)30的第一定子31、31通電，在X軸方向上驅(qū)動(dòng)X軸輸送臺(tái)5a，Y軸裝載臺(tái)輸送機(jī)構(gòu)6通過向第二直線電動(dòng)機(jī)40的第二定子41、41通電，在Y軸方向上驅(qū)動(dòng)Y軸輸送臺(tái)6a。在驅(qū)動(dòng)這些輸送臺(tái)時(shí)，在第一直線電動(dòng)機(jī)30和第二直線電動(dòng)機(jī)40上，產(chǎn)生熱量。另一方面，第一直線電動(dòng)機(jī)30和第二直線電動(dòng)機(jī)40具有沿第一轉(zhuǎn)子32和第二轉(zhuǎn)子42配設(shè)的大致呈U形的第一轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路35和第二轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路45，通過使分別由第一轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置37和第二轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置47供給的致冷劑循環(huán)，對(duì)第一直線電動(dòng)機(jī)30和第二直線電動(dòng)機(jī)40進(jìn)行冷卻。具體而言，基于臨近第一和第二轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路35、45的入口 35a、45a以及出口 35b、45b配置的溫度傳感器36a、36b、46a、46b而檢測(cè)出的致冷劑的溫度，對(duì)直線電動(dòng)機(jī)30、40的溫度進(jìn)行管理，以使得從直線電動(dòng)機(jī)30、40傳遞到基板W的熱量大致一定。由此，就能將工作臺(tái)2的溫度甚而基板W的溫度盡可能維持一定，防止了由于基板W的膨脹、收縮引起的曝光精度的下降。為此，優(yōu)選為根據(jù)電動(dòng)機(jī)的負(fù)載對(duì)致冷劑的溫度進(jìn)行控制，以對(duì)直線電動(dòng)機(jī)30、40的溫度進(jìn)行管理，使其保持為一定的值。此外，致冷劑的流量可通過設(shè)置在致冷劑循環(huán)通路35、45上的閥進(jìn)行調(diào)節(jié)，由此，也能夠?qū)χ吕鋭┑臏囟冗M(jìn)行管理。此外，溫度傳感器36a、36b、46a、46b不僅可以管理水溫，還可以管理直線電動(dòng)機(jī)30、40周圍的溫度。第一和第二轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置37、47配設(shè)在與設(shè)有接近式曝光裝置PE的曝 光室相分離的單獨(dú)腔室，且互相獨(dú)立地對(duì)致冷劑的溫度進(jìn)行控制，因此不會(huì)受到外部的環(huán)境溫度或第一和第二直線電動(dòng)機(jī)30、40的運(yùn)轉(zhuǎn)率的影響，換言之，不會(huì)受到第一和第二直線電動(dòng)機(jī)30、40的發(fā)熱量等的影響，從而能夠?qū)Φ谝恢本€電動(dòng)機(jī)30和第二直線電動(dòng)機(jī)40的溫度單獨(dú)地進(jìn)行高精度的控制，以將其維持在一定的溫度。通過將第一和第二直線電動(dòng)機(jī)30、40的溫度維持為一定，能夠使基板W的溫度一定，防止因基板W的膨脹、收縮引起的曝光精度的下降。另外，為了使得保持在工作臺(tái)2上的基板W的對(duì)準(zhǔn)動(dòng)作容易進(jìn)行，優(yōu)選將第一和第二轉(zhuǎn)子32、42設(shè)置在分別配置于曝光裝置PE上側(cè)的可動(dòng)側(cè)部件上，即X軸輸送臺(tái)5a和Y軸輸送臺(tái)6a上。而且，第一和第二轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路35、45優(yōu)選為與配置在上側(cè)的第一和第二轉(zhuǎn)子32、42接近配置。S卩，冷卻循環(huán)通路35、45的數(shù)量受到限制時(shí)，冷卻循環(huán)通路35、45優(yōu)選配置在轉(zhuǎn)子側(cè)。這是因?yàn)?，如果將致冷劑循環(huán)通路35、45配置在下側(cè)，即定子側(cè)，則下側(cè)的工作臺(tái)重量，即X裝載臺(tái)輸送機(jī)構(gòu)5的重量將增加，直線電動(dòng)機(jī)的電容增大，發(fā)熱量增多。如上所述，依據(jù)本實(shí)施方式的接近式曝光裝置PE，工件驅(qū)動(dòng)部為具有定子31、41和轉(zhuǎn)子32、42的直線電動(dòng)機(jī)30、40，其具有沿轉(zhuǎn)子32、42配置的致冷劑循環(huán)通路35、45 ;向致冷劑循環(huán)通路35、45循環(huán)供給致冷劑的致冷劑供給裝置37、47 ;和用于檢測(cè)致冷劑向致冷劑循環(huán)通路35、45流入和流出時(shí)的溫度的溫度傳感器36a、36b、46a、46b，基于致冷劑循環(huán)通路35、45的入口 35a、45a附近和出口 35b、45b附近的致冷劑的溫度來進(jìn)行溫度管理，使得從直線電動(dòng)機(jī)30、40傳遞到基板W的熱量一定。由此，能夠?qū)⒐ぷ髋_(tái)2乃至基板W的溫度維持在一定值，抑制因基板W的溫度變化而引起的對(duì)曝光精度的影響，從而實(shí)現(xiàn)高精度曝光。此外，直線電動(dòng)機(jī)包括兩個(gè)直線電動(dòng)機(jī)具有配設(shè)在基座4上的第一定子31以及配設(shè)在X軸輸送臺(tái)(第一裝載臺(tái))5a上的第一轉(zhuǎn)子32的第一直線電動(dòng)機(jī)30 ;和具有配設(shè)在X軸輸送臺(tái)5a上的第二定子41以及配設(shè)在Y軸輸送臺(tái)(第二裝載臺(tái))6a上的第二轉(zhuǎn)子42的第二直線電動(dòng)機(jī)40，由于在第一轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路35沿第一轉(zhuǎn)子32配置的同時(shí)，第二轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路45沿第二轉(zhuǎn)子42配置，因此，能夠獨(dú)立地對(duì)第一和第二直線電動(dòng)機(jī)30、40 (X軸輸送臺(tái)5a及Y軸輸送臺(tái)6a)的溫度分別進(jìn)行控制。由此，即使第一和第二直線電動(dòng)機(jī)30、40的運(yùn)轉(zhuǎn)率等運(yùn)轉(zhuǎn)狀況不同，也能夠個(gè)別控制第一和第二直線電動(dòng)機(jī)30、40的溫度，將基板W溫度管理為一定值，從而實(shí)現(xiàn)高精度曝光。而且，由于致冷劑供給裝置37、47與接近式曝光裝置PE隔開配置，因此，由致冷劑供給裝置37、47供給的致冷劑的溫度不會(huì)受到接近式曝光裝置PE或其周邊設(shè)備的熱量的影響，致冷劑的溫度管理變得容易。此外，由于在致冷劑供給裝置中，用于向第一轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路35循環(huán)供給致冷劑的第一轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置37和用于向第二轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路45循環(huán)供給致冷劑的第二轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置47獨(dú)立配置，因此，能夠獨(dú)立地對(duì)第一直線電動(dòng)機(jī)30和第二直線電動(dòng)機(jī)40的溫度進(jìn)行個(gè)別控制。如圖4和圖5所示，在本發(fā)明的第一實(shí)施方式的變形例的接近式曝光裝置中，X軸輸送臺(tái)5a及Y軸輸送臺(tái)6a除了具有上述實(shí)施方式的第一和第二轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路35,45之外，還具有分別沿第一轉(zhuǎn)子32及第二轉(zhuǎn)子42配置的大致呈U形的第三和第四轉(zhuǎn) 子側(cè)致冷劑循環(huán)通路50、60。并且，第三和第四轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路50、60通過分別使得由第一和第二轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置37、47供給的致冷劑循環(huán)，來冷卻X軸輸送臺(tái)5a及Y軸輸送臺(tái)6a。具體而言，基于臨近第三和第四轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路50、60的入口 50a、60a以及出口 50b、60b配置的溫度傳感器5la、5lb、6la、6Ib而檢測(cè)出的致冷劑的溫度，對(duì)直線電動(dòng)機(jī)30、40的溫度進(jìn)行管理，以使得從直線電動(dòng)機(jī)30、40傳遞到基板W的熱量大致一定。由此，就能將工作臺(tái)2的溫度甚而基板W的溫度盡可能維持一定，防止了由于基板W的膨脹、收縮引起的曝光精度的下降。需要說明的是，雖然第三轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路50可以通過用于向第一轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路35循環(huán)供給致冷劑的第一轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置37實(shí)現(xiàn)致冷劑的循環(huán)供給，但也可以通過獨(dú)立于第一轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置37個(gè)別設(shè)置的第三轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置(未圖示)來循環(huán)供給致冷劑。此外，雖然第四轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路60可以通過用于向第二轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路45循環(huán)供給致冷劑的第二轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置47實(shí)現(xiàn)致冷劑的循環(huán)供給，但也可以通過獨(dú)立于第二轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置47個(gè)別設(shè)置的第四轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置(未圖示)來循環(huán)供給致冷劑。此外，例如，設(shè)置在下側(cè)的X裝載臺(tái)輸送機(jī)構(gòu)5與設(shè)置在上側(cè)的Y裝載臺(tái)輸送機(jī)構(gòu)6相比，裝載臺(tái)的重量變大。因此，在用于驅(qū)動(dòng)裝載臺(tái)的負(fù)載方面，X裝載臺(tái)輸送機(jī)構(gòu)5的負(fù)載較大，第一直線電動(dòng)機(jī)30的電容增大，來自X裝載臺(tái)的發(fā)熱量增多。因此，優(yōu)選為設(shè)置在X裝載臺(tái)輸送機(jī)構(gòu)5的X軸輸送臺(tái)5a上的轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路和溫度傳感器的數(shù)量多于設(shè)置在Y裝載臺(tái)輸送機(jī)構(gòu)6的Y軸輸送臺(tái)6a上的轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路和溫度傳感器的數(shù)量。即，也可以構(gòu)成為如圖4和圖5的變形例所示，在X裝載臺(tái)輸送機(jī)構(gòu)5的X軸輸送臺(tái)5a上設(shè)置第一和第三轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路37、50以及溫度傳感器35a、35b、5la、51b，如圖2所示，在Y裝載臺(tái)輸送機(jī)構(gòu)6的Y軸輸送臺(tái)6a上設(shè)置第二轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路45及溫度傳感器46a、46b。第二實(shí)施方式以下，參照?qǐng)D6和圖7來說明第二實(shí)施方式的接近式曝光裝置。在第一實(shí)施方式中，說明了致冷劑循環(huán)通路沿轉(zhuǎn)子進(jìn)行配置的結(jié)構(gòu)，本實(shí)施方式中，包括致冷劑循環(huán)通路沿定子進(jìn)行配置的結(jié)構(gòu)。S卩，如圖6和圖7所示，本發(fā)明的第二實(shí)施方式的接近式曝光裝置，除了具有上述實(shí)施方式中設(shè)置在X軸輸送臺(tái)5a和Y軸輸送臺(tái)6a上的第一和第二轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路35,45之外，還具有分別沿第一和第二定子31、41設(shè)置在基座4和X軸裝載臺(tái)輸送機(jī)構(gòu)5上的大致呈U形的第一和第二定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路70、80。具體而言，第一和第二定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路70、80以繞過X軸槽33和Y軸槽43的方式配置在第一和第二定子31、41的附近。并且，第一和第二定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路70、80通過使得由借助配管72、82連接的第一和第二定子側(cè)致冷劑供給裝置73、83供給的致冷劑循環(huán)，將基座4和X軸裝載臺(tái)輸送機(jī)構(gòu)5冷卻。具體而言，基于通過接近第一和第二定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路70、80的入口 70a、80a以及出口 70b、80b而配置的溫度傳感器7la、7lb、8la、8Ib檢測(cè)出的致冷劑的溫度，對(duì)直線電動(dòng)機(jī)30、40的溫度進(jìn)行管理，以使得從直線電動(dòng)機(jī)30、40傳遞到基板W的熱量大致一定。由此，就能將工作臺(tái)2的溫度甚而基板W的溫度盡可能維持一定，進(jìn)一步防止了由于基 板W的膨脹、收縮引起的曝光精度的下降。此外，該情況下，同樣由于第一和第二定子側(cè)致冷劑供給裝置73、83與接近式曝光裝置PE隔開配置，因此，由第一和第二定子側(cè)致冷劑供給裝置73、83供給的致冷劑的溫度不會(huì)受到接近式曝光裝置PE或其周邊設(shè)備的熱量的影響，致冷劑的溫度管理變得容易。關(guān)于其它結(jié)構(gòu)及其作用，與第一實(shí)施方式相同。需要說明的是，如本實(shí)施方式所示，在設(shè)有第一轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路35和第一定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路70，或者設(shè)有第二轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路45和第二定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路80的情況下，各循環(huán)通路優(yōu)選形成于使得高溫側(cè)和低溫側(cè)的循環(huán)通路的溫度平均的位置。由此，能夠使第一或第二直線電動(dòng)機(jī)30、40的定子31、41與轉(zhuǎn)子32、42的溫度一定。此外，在圖8所示的第二實(shí)施方式的變形例的接近式曝光裝置中，除了第一和第二定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路70、80，還設(shè)有沿第一和第二定子31、41分別配置的第三和第四定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路74、84。并且，基于臨近第三和第四定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路74、84的入口 74a、84a以及出口 74b、84b配置的溫度傳感器75a、75b、85a、85b檢測(cè)出的致冷劑的溫度，對(duì)直線電動(dòng)機(jī)30、40的溫度進(jìn)行管理，以使得從直線電動(dòng)機(jī)30、40傳遞到基板W的熱量大致一定。在該情況下同樣，雖然第三定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路74可以通過用于向第一定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路70循環(huán)供給致冷劑的第一定子側(cè)致冷劑供給裝置73實(shí)現(xiàn)致冷劑的循環(huán)供給，但也可以通過獨(dú)立于第一定子側(cè)致冷劑供給裝置73個(gè)別設(shè)置的第三定子側(cè)致冷劑供給裝置(未圖示)來循環(huán)供給致冷劑。在該情況下同樣，雖然第四定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路84可以通過用于向第二定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路80循環(huán)供給致冷劑的第二定子側(cè)致冷劑供給裝置83實(shí)現(xiàn)致冷劑的循環(huán)供給，但也可以通過獨(dú)立于第二定子側(cè)致冷劑供給裝置83個(gè)別設(shè)置的第四定子側(cè)致冷劑供給裝置(未圖示)來循環(huán)供給致冷劑。此外，轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置和定子側(cè)致冷劑供給裝置也可以共用。另外，本發(fā)明并非限于上述實(shí)施方式，可進(jìn)行適當(dāng)?shù)淖冃巍⒏倪M(jìn)等。
權(quán)利要求
1.一種接近式曝光裝置，其特征在于，具有 掩模保持部，其保持具有需要曝光的圖案的掩模； 工件保持部，其保持作為被曝光件的工件； 工件驅(qū)動(dòng)部，其驅(qū)動(dòng)所述工件保持部；和 照射單元，其借助所述掩模向所 述工件照射圖案曝光用光， 在所述掩模和所述工件互相接近并以規(guī)定的曝光間隙對(duì)向配置的狀態(tài)下，將所述掩模的圖案曝光轉(zhuǎn)印到所述工件上， 所述工件驅(qū)動(dòng)部為具有定子和與所述定子對(duì)向配置的轉(zhuǎn)子的直線電動(dòng)機(jī)，并具有 沿所述轉(zhuǎn)子配置的轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路； 向所述轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路循環(huán)供給致冷劑的轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置；和配置在所述轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路的入口和出口，用于檢測(cè)所述轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路的入口附近和出口附近的所述致冷劑的溫度的溫度傳感器， 基于所述轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路的入口附近和出口附近的所述致冷劑的溫度執(zhí)行所述直線電動(dòng)機(jī)的溫度管理，使得從所述直線電動(dòng)機(jī)傳遞到所述工件的熱量一定。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的接近式曝光裝置，其特征在于 所述直線電動(dòng)機(jī)包括 第一直線電動(dòng)機(jī)，其具有配設(shè)在固定在基臺(tái)上的基座上的第一定子，和配設(shè)在能夠沿水平面內(nèi)的規(guī)定方向相對(duì)于所述基座移動(dòng)的第一裝載臺(tái)上，并與所述第一定子對(duì)向配置的第一轉(zhuǎn)子；和 第二直線電動(dòng)機(jī)，其具有配設(shè)在所述第一裝載臺(tái)上的第二定子，和配設(shè)在能夠沿與所述規(guī)定方向垂直的垂直方向相對(duì)于所述第一裝載臺(tái)移動(dòng)的第二裝載臺(tái)上，并與所述第二定子對(duì)向配置的第二轉(zhuǎn)子， 所述轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路具有 沿所述第一轉(zhuǎn)子配設(shè)在所述第一裝載臺(tái)上的第一轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路；和 沿所述第二轉(zhuǎn)子配設(shè)在所述第二裝載臺(tái)上的第二轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的接近式曝光裝置，其特征在于 所述轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路還具有 沿所述第一轉(zhuǎn)子配設(shè)在所述第一裝載臺(tái)上的第三轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路；和 沿所述第二轉(zhuǎn)子配設(shè)在所述第二裝載臺(tái)上的第四轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的接近式曝光裝置，其特征在于 所述轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置具有 第一轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置，其用于向所述第一轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路循環(huán)供給所述致冷劑；和 第二轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置，其獨(dú)立于所述第一轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置而配置，用于向所述第二轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路循環(huán)供給所述致冷劑。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的接近式曝光裝置，其特征在于 所述轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路還具有 沿所述第一轉(zhuǎn)子配設(shè)在所述第一裝載臺(tái)上的第三轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路；和 沿所述第二轉(zhuǎn)子配設(shè)在所述第二裝載臺(tái)上的第四轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路，所述轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置還具有 第三轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置，其用于向所述第三轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路循環(huán)供給所述致冷劑；和 第四轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置，其獨(dú)立于所述第三轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置而配置，用于向所述第四轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑循環(huán)通路循環(huán)供給所述致冷劑。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的接近式曝光裝置，其特征在于 所述轉(zhuǎn)子側(cè)致冷劑供給裝置與所述接近式曝光裝置隔開配置。
7.根據(jù)權(quán)利要求I所述的接近式曝光裝置，其特征在于 還具有 沿所述定子配置的定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路； 向所述定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路循環(huán)供給致冷劑的定子側(cè)致冷劑供給裝置；和配置在所述定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路的入口和出口，用于檢測(cè)所述定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路的入口附近和出口附近的所述致冷劑的溫度的溫度傳感器， 基于所述定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路的入口附近和出口附近的所述致冷劑的溫度執(zhí)行所述直線電動(dòng)機(jī)的溫度管理，使得從所述直線電動(dòng)機(jī)傳遞到所述工件的熱量一定。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的接近式曝光裝置，其特征在于 所述直線電動(dòng)機(jī)包括 第一直線電動(dòng)機(jī)，其具有配設(shè)在固定在基臺(tái)上的基座上的第一定子，和配設(shè)在能夠沿水平面內(nèi)的規(guī)定方向相對(duì)于所述基座移動(dòng)的第一裝載臺(tái)上，并與所述第一定子對(duì)向配置的第一轉(zhuǎn)子；和 第二直線電動(dòng)機(jī)，其具有配設(shè)在所述第一裝載臺(tái)上的第二定子，和配設(shè)在能夠沿與所述規(guī)定方向垂直的垂直方向相對(duì)于所述第一裝載臺(tái)移動(dòng)第二裝載臺(tái)上，并與所述第二定子對(duì)向配置的第二轉(zhuǎn)子， 所述定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路具有 沿所述第一定子配設(shè)在所述基座上的第一定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路；和 沿所述第二定子配設(shè)在所述第一裝載臺(tái)上的第二定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的接近式曝光裝置，其特征在于 所述定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路還具有 沿所述第一定子配設(shè)在所述基座上的第三定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路；和 沿所述第二定子配設(shè)在所述第一裝載臺(tái)上的第四定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的接近式曝光裝置，其特征在于 所述定子側(cè)致冷劑供給裝置具有 第一定子側(cè)致冷劑供給裝置，其用于向所述第一定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路循環(huán)供給所述致冷劑；和 第二定子側(cè)致冷劑供給裝置，其獨(dú)立于所述第一定子側(cè)致冷劑供給裝置而配置，用于向所述第二定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路循環(huán)供給所述致冷劑。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的接近式曝光裝置，其特征在于 所述定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路還具有 沿所述第一定子配設(shè)在所述基座上的第三定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路；和沿所述第二定子配設(shè)在所述第一裝載臺(tái)上的第四定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路， 所述定子側(cè)致冷劑供給裝置還具有 第三定子側(cè)致冷劑供給裝置，其用于向所述第三定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路循環(huán)供給所述致冷劑；和 第四定子側(cè)致冷劑供給裝置，其獨(dú)立于所述第三定子側(cè)致冷劑供給裝置而配置，用于向所述第四定子側(cè)致冷劑循環(huán)通路循環(huán)供給所述致冷劑。
12.根據(jù)權(quán)利要求7所述的接近式曝光裝置，其特征在于所述定子側(cè)致冷劑供給裝置與所述接近式曝光裝置隔開配置。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種接近式曝光裝置(PE)，其具備由具有第一定子(31)及與其對(duì)置的第一轉(zhuǎn)子(32)的第一直線電動(dòng)機(jī)(30)、和具有第二定子(41)及與其對(duì)置的第二轉(zhuǎn)子(42)的第二直線電動(dòng)機(jī)(40)構(gòu)成的工件驅(qū)動(dòng)部；沿轉(zhuǎn)子(32、42)配設(shè)的致冷劑循環(huán)通路(35、45)；向致冷劑循環(huán)通路(35、45)循環(huán)供給致冷劑的致冷劑供給裝置(37、47)；和配置于致冷劑循環(huán)通路(35、45)的入口(35a、45a)和出口(35b、45b)附近，檢測(cè)致冷劑流入流出溫度的溫度傳感器(36、46)，基于溫度傳感器(36、46)的檢測(cè)值進(jìn)行溫度管理，以使從直線電動(dòng)機(jī)(30、40)傳遞到基板(W)的熱量一定。
文檔編號(hào)G03F7/20GK102854752SQ20121016911
公開日2013年1月2日 申請(qǐng)日期2012年5月28日 優(yōu)先權(quán)日2011年5月27日
發(fā)明者前田武文, 森本賀津美 申請(qǐng)人:恩斯克科技有限公司