專利名稱：激光輔助輥壓印制造機床用反射型長光柵工藝方法
技術領域：
本發(fā)明屬于機床用長光柵的制造技術領域，特別涉及一種機床用反射型長光柵的激光輔助棍壓印制造工藝方法。
背景技術：
光柵尺有著安裝簡便，精度高的技術優(yōu)點，適用于機械加工過程中刀具和工件直線位置的實時檢測，因此光柵尺作為進給系統(tǒng)反饋元件在數(shù)控機床上得到了廣泛應用。目前主流的光柵尺制造方法是通過光刻制造高精度的母光柵，再以其為母版進行光刻或翻模復制，工藝步驟繁復，精度損失大，而且受制于光刻技術限制，難于實現(xiàn)大尺度超長的母光柵制造，在超大行程的位置檢測中只能夠采用多柵尺拼接的方式，增加了的安裝與調(diào)試難度。輥壓印工藝是納米壓印光刻技術的一種，利用輥壓印模具上連續(xù)無接縫的光柵線紋圖形，可連續(xù)輥壓復制光柵，能夠實現(xiàn)超長光柵的制備，具備連續(xù)生產(chǎn)，高產(chǎn)能，低成本的技術優(yōu)勢。限于納米壓印工藝依靠機械力實現(xiàn)微結構復型的技術原理，傳統(tǒng)的輥壓印技術是以極大的壓印力來實現(xiàn)壓印材料向模具上微結構凹腔中的填充，從而完成微結構圖形的復型，尤其對于反射型光柵尺的制造，壓印材料為金屬，致使其發(fā)生塑性變形向模具上微結構凹腔中填充，所需要的壓印力極其巨大，會導致壓印機構的極大的變形，影響壓印設備的運行精度；同時固體金屬材料的流動性極其有限，在發(fā)明者的前期工藝實驗中發(fā)現(xiàn)，即便極大的壓印力也無法完成金屬材料在模具微結構凹腔中超過80%的填充率，這種不完整的填充，造成光柵尺線紋槽形的不可控，從而導致后續(xù)的反射式光柵尺讀數(shù)系統(tǒng)中，光路信號的不穩(wěn)定。因此，這種傳統(tǒng)的輥壓印方式在面對高精度等級(優(yōu)于±lum)的光柵尺輥壓印制造，存在較大的技術障礙。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種激光輔助輥壓印制造機床用反射型長光柵的工藝方法，以解決上述技術問題。本發(fā)明方法利用光束整形和聚焦光學系統(tǒng)，將脈沖激光的出射光束調(diào)制成光強均勻分布的線光束(寬度方向幾十微米，長度方向十幾毫米)；再將之引入表面具有光柵線紋特征的圓柱型石英輥壓印模具的空心型腔中，在輥壓印模具繞其軸心旋轉的輥壓印制備機床用反射型長光柵過程中，使光束始終定向照射于輥壓印模具與光柵尺胚接觸的壓印區(qū)域，其輻照寬度為壓印區(qū)域中的幾個柵距(幾十至lOOym);利用脈沖激光的極高的瞬時功率，使壓印區(qū)域光柵尺胚上表面的金屬材料在壓印的瞬間被加熱至其熔點附近的溫度，從而使該區(qū)域的金屬具備一定的流動性，能夠在較小的壓印力下，完成向石英輥壓印模具上光柵微結構槽形凹腔中填充，隨著輥壓印模具的轉動及光柵尺胚的水平前行，被加熱區(qū)域脫離激光輻照區(qū)域，上一壓印區(qū)域的金屬材料瞬時冷卻固化使光柵線紋微結構保型，完成光柵線紋從輥壓印模具到光柵尺胚上的高精度復型。
為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用如下技術方案激光輔助輥壓印制造機床用反射型長光柵工藝方法，包括以下步驟(I)石英輥壓印模具加工使用金剛石刀具車削加工中空的石英模具胚材，形成輥壓印模具基體，基體包括凸出的中間部分和位于中間部分兩側的軸肩；(2)石英輥壓印模具光柵線紋圖形制造使用旋轉曝光方法結合濕法腐蝕工藝，在基體的中間部分制造光柵線紋圖形；(3)光柵尺胚制造所述光柵尺胚為表面設有金屬膜層的硬質玻璃或柔性金屬帶材；(4)準分子激光光束整形采用光束整形光學系統(tǒng)對準分子激光器的輸出光束進行整形；
(5)準分子激光光束聚焦經(jīng)整形后的準分子激光束在短軸方向使用一石英材質的柱面聚焦透鏡進行進一步的聚焦，使其成為寬度限定在IOOym以內(nèi)量級的線狀光束；(6)準分子激光光束引入經(jīng)過整形與聚焦的準分子激光束通過若干組反射鏡進行變向，引入石英輥壓印模具的中心空腔，使其定向輻照于壓印區(qū)域，其中，反射出輻照于壓印區(qū)域的激光束的反射鏡安裝于石英輥壓印模具的中心空腔內(nèi)，在石英輥壓印模具繞其軸心線旋轉時，此反射鏡隨機架固定；(7)連續(xù)輥壓印制造反射型長光柵將光柵尺胚放置于石英輥壓印模具與支承輥之間，當石英輥壓印模具接觸光柵尺胚后，石英輥壓印模具繞軸心旋轉，同時作為主動輥驅動光柵尺胚向前平動；在壓印過程中，激光光束始終定向照射于石英輥壓印模具與光柵尺胚接觸的壓印區(qū)域。本發(fā)明進一步的改進在于步驟(I)中石英輥壓印模具的材料為UV級熔融石英；石英輥壓印模具的中間部分外徑為100-300mm，中心空腔直徑80_140mm，加工后，表面粗糙度<50nm，圓柱度及同心度〈I U m。本發(fā)明進一步的改進在于步驟(2)中旋轉曝光工藝中光刻膠的涂鋪方法為提拉法，提拉速度為1-lOmm/s，膠層厚度為5-10iim;步驟(2)中旋轉曝光工藝中光刻膠為瑞虹系列光刻膠或永光系列光刻膠；步驟(2)中旋轉曝光工藝中石英輥壓印模具濕法刻蝕工藝所使用的腐蝕液為氫氟酸基的腐蝕液，使用氟化銨、氟化鉀作為緩沖劑，工藝溫度為40-70。。。本發(fā)明進一步的改進在于步驟(3)中，所述金屬膜層的厚度為5-20 的Al、Cu、Cr或者不銹鋼膜層，其通過蒸鍍或濺射的方法設置于硬質玻璃上；所述柔性金屬帶材為表面拋光成鏡面的Al、Cu或不銹鋼帶。本發(fā)明進一步的改進在于步驟(4)中所使用的準分子激光器為波長193nm的ArF、波長222nm的KrCI、波長248nm的KrF、波長253nm的XeI、波長308nm的XeCI或者波長351nm的XeF準分子光源，單脈沖能量處于500mri. 5J，脈寬幾十納秒量級，重復頻率10 1000Hz。本發(fā)明進一步的改進在于步驟(4)中所使用的光束整形光學系統(tǒng)由光束擴展器、均化器組成，經(jīng)整形的光束長軸方向為10-15mm,短軸方向為5-8_。本發(fā)明進一步的改進在于步驟(5)中聚焦透鏡為UV級熔融石英材質，經(jīng)過聚焦后，使其光束的長軸方向尺寸不變，將短軸方向寬度尺寸限定在10至100 i! m量級的線狀光束，長度為整個線紋帶的寬度。本發(fā)明進一步的改進在于步驟￠)中，經(jīng)過整形與聚焦的準分子激光束通過兩組反射鏡進行變向，其中第一個反射鏡將激光束引入石英輥壓印模具的中心空腔，第二個反射鏡使其定向輻照于壓印區(qū)域，第二個反射鏡通過支架安裝于石英輥壓印模具的中心空腔內(nèi)，在石英輥壓印模具繞其軸心線旋轉時，此反射鏡固定。本發(fā)明進一步的改進在于1步驟(6)中的反射鏡為UV級熔融石英材質，表面為低損耗介電鍍膜，損傷閾值大于5J/cm2,設計入射角為45°、適用于波長為193nm、222nm、248nm、253nm、308nm 和 35 Inm 的激光器。本發(fā)明進一步的改進在于步驟(6)中的壓印過程，激光光束始終定向照射于輥壓印模具與光柵尺胚接觸的壓印區(qū)域，其輻照寬度為10至100 i! m ;利用脈沖激光的極高的瞬時功率，使壓印區(qū)域光柵尺胚上表面的金屬材料在壓印的瞬間被加熱至具備流動性，在壓印力下，完成向石英輥壓印模具上光柵微結構槽形凹腔中填充，隨著輥壓印模具的轉動 及光柵尺胚的水平前行，被加熱區(qū)域脫離激光輻照區(qū)域，上一壓印區(qū)域的金屬材料瞬時冷卻固化使光柵線紋微結構保型，完成光柵線紋從輥壓印模具到光柵尺胚上的高精度復型。壓印模具為空心的石英材質圓柱，其柱狀表面存在著經(jīng)過圓柱旋轉曝光和濕法刻蝕成型的無接縫光柵線紋圖形；所使用的脈沖激光為短波長，高能量的準分子激光，經(jīng)過光束整形，將之調(diào)制成線狀光束，引入到透明石英輥壓印模具的中心空腔中，使其定向輻照于壓印區(qū)域(模具與光柵尺胚表面壓印印的接觸區(qū)域，其寬度為幾個光柵柵距)；利用準分子激光的高能量脈沖，將壓印區(qū)域的金屬材料瞬間被加熱至接近于金屬材料的熔點溫度，使其具有一定的流動性，能夠在極小的壓印力下完成向輥壓印石英模具光柵線紋。相對于現(xiàn)有技術，本發(fā)明具有以下優(yōu)點本發(fā)明方法通過將脈沖激光，引入到透明石英輥壓印模具的中心空腔中，使其定向輻照于壓印區(qū)域(模具與光柵尺胚表面壓印印的接觸區(qū)域，其寬度為幾個光柵柵距)；利用準分子激光的高能量脈沖，將壓印區(qū)域的金屬材料瞬間被加熱至接近于金屬材料的熔點溫度，使其具有一定的流動性，能夠在極小的壓印力下完成向輥壓印石英模具光柵線紋；減小了壓印力，金屬材料在模具微結構凹腔中填充率高，光柵尺線紋槽形的可控；本發(fā)明所公開的脈沖激光輔助輥壓印制造反射型長光柵的工藝方法適用于反射型長光柵(一米以上)，及至超長光柵(幾米及至幾十、上百米的柔性金屬帶材)的高精度、低成本的批量制造，極具推廣價值與應用前景。


下面結合附圖和具體實施方式
對本發(fā)明做進一步的詳細說明。圖IA是石英輥壓印模具三維結構示意圖。圖IB是石英輥壓印模具光柵柵線圖形帶剖面示意圖。圖2是激光輔助輥壓印機構示意圖。圖3A是準分子激光激光器的輸出光束短軸光強分布示意圖。圖3B是準分子激光激光器的輸出光束長軸光強分布示意圖。圖4是激光輔助輥壓印原理示意圖。圖中1為準分子激光器；2為出射光束；3為光束整形光學系統(tǒng)；4為整形后的激光束；5為聚焦透鏡；6為聚焦光束；7為反射鏡I ;8為反射光束I ;9為反射鏡2 ；10為反射光束2 ;11為Al層；12為光柵尺胚支撐輥；13為基體；14為金屬熔化區(qū)；15為光柵柵線圖形區(qū)域；16為玻璃基底。
具體實施例方式下面通過附圖及具體實施實例詳細介紹本發(fā)明。但以下實施實例僅限于解釋本發(fā)明，本發(fā)明的保護范圍就包括權利要求的全部內(nèi)容。本發(fā)明的激光輔助輥壓印制造機床用反射型長光柵工藝方法的一種具體實施方式
是通過下述步驟實現(xiàn)的。該方法包括以下步驟(I)石英輥壓印模具加工使用單點金剛石刀具超精密車削工藝，加工中空的石英模具胚材，形成輥壓印模具基體13，基體13的外形如圖IA所示，其包括凸出的中間部分 130和位于中間部分兩側的軸肩131。本實施例所用的輥壓印模具材料UV級熔融石英，石英輥壓印模具基體13的外徑D=200mm,中心空腔直徑d=140mm，中間部分130的寬度=40mm，兩側軸肩131寬度為20mm，力口工方式為金剛石刀具超精密車削，加工完成后，外圓面表面粗糙度<50nm，圓柱度及同心度〈I u m0(2)石英輥壓印模具光柵線紋圖形制造使用旋轉曝光方法結合濕法腐蝕工藝，在基體的中間部分制造光柵線紋圖形，光柵線紋如圖IB所示。本實施實例光刻操作中所用的光刻膠為永光正性光刻膠，粘度為30cp，光刻膠涂布方式為提拉法，提拉速度為5mm/s,膠層厚度為6iim。本實施實例光刻操作中所要制作的光柵尺柵距為20 ym，線紋長度即光柵柵線圖形區(qū)域15的寬度為10_，曝光采用柱面旋轉曝光方式，顯影后使用濕法刻蝕工藝對石英材料進行光柵線紋圖形的制造。本實施實例操作中石英輥壓印模具濕法刻蝕工藝所使用的腐蝕液為氫氟酸(HF)基的化學液體，使用氟化銨(NH4F)、氟化鉀(KF)作為緩沖劑，工藝溫度為50°C。(3)光柵尺胚加工光柵尺胚基底加工及其表面金屬層的沉積。本發(fā)明專利中所涉及的光柵尺胚的基底材料可以是硬質玻璃，也可以是能夠盤繞成卷的柔性金屬帶材，對于硬質玻璃，需要對玻璃表面通過蒸鍍或濺射上一層金屬材料，如Al、Cu或者Cr，厚度為5-20 iim，對于柔性金屬帶材，可以經(jīng)過表面鏡面拋光的Al、Cu或不銹鋼帶；本實施實例所用的光柵尺胚為玻璃基底16表面蒸鍍Al層11，玻璃基底16經(jīng)過剪切，拋光，加工尺寸為寬度20mm，厚度4mm，長度1_3. 3m。加工完成，經(jīng)清洗、烘干后在玻璃表面蒸鍍一層15 ii m厚Al層11。(4)準分子激光光束整形如附圖2光路圖所示，準分子激光器I的出射光束2是準矩形光束，在短軸方向，呈近高斯分布，在長軸方向，呈超級高斯分布(截面的光束強度在當中有一個較大的平臺，近邊緣處，開始下降)，如圖3A及3B所示。為將這種非均勻光強分布的光束轉換成均勻分布，需要進行光束整形處理。針對準分子激光的光束整形光學系統(tǒng)已經(jīng)相當成熟，一般由光束擴展器、均化器組成，經(jīng)整形的光束尺寸由光束整形光學系統(tǒng)出口的幾何尺寸決定，根據(jù)光柵尺上線紋區(qū)域的寬度要求，長軸方向一般為10-15mm，短軸方向根據(jù)下一處理單元一聚焦透鏡的參數(shù)進行決定，一般為5-8_ ；
本實施實例所用準分子激光器I參數(shù)為波長為308nm，脈寬為30ns，最大重復頻率為10Hz，最大脈沖能量為500mJ/pulSe。輸出光束大小為8 X 24mm2。本實施實例所用光束整形光學系統(tǒng)3由擴束器、均化器組成,整形后的激光束4尺寸在長軸方向為IOmm,短軸方向 Smnin(5)準分子激光光束聚焦經(jīng)整形后的準分子激光束4需要在短軸方向使用一石英材質的柱面聚焦透鏡5進行進 一步的聚焦，以保證在引入石英輥壓印模具的空腔進行定向輻照時，瞬間熔化金屬的寬度僅為光柵尺的幾個柵距。在本實施實例中，需要將光束在短軸方向上聚焦為100 iim，以保證僅在壓印區(qū)域的金屬得到瞬間熔化。(6)準分子激光光束引入經(jīng)過聚焦透鏡5聚焦的聚焦光束6經(jīng)過兩組反射鏡(7及9)進行傳輸方向的改變，引入石英輥壓印模具基體13的中心空腔，使其定向輻照于壓印區(qū)域。其中，反射鏡9通過一固定安裝座固定于中心空腔中，在石英輥壓印模具繞其軸心線旋轉時，反射鏡9隨機架固定，保證激光束10的定向輻照。在激光束10的作用下，光柵尺胚16上表面的Al層11被瞬間加熱600°C (Al熔點附近)熔化。(7)連續(xù)輥壓印制造反射型長光柵如圖4所示，在輥壓印工藝過程中，壓印力依靠基體13下壓進行施加，光柵尺胚放置于支撐輥12之上，當石英輥壓印模具接觸光柵尺胚表面Al層11后，石英輥壓印模具繞軸心旋轉，同時作為主動輥驅動光柵尺胚向前平動。在壓印過程中，使激光光束10始終定向照射于石英輥壓印模具與光柵尺胚接觸的壓印區(qū)域，其輻照寬度為壓印區(qū)域中的100 u m ;利用脈沖激光10極高的瞬時功率，使壓印區(qū)域光柵尺胚上表面的Al層11在壓印的瞬間被加熱至其熔點附近￠00)的溫度，從而使該區(qū)域的金屬具備一定的流動性，形成金屬熔化區(qū)14。能夠在較小的壓印力下，完成向石英輥壓印模具上的光柵微結構槽形凹腔中填充，隨著石英輥壓印模具的轉動及光柵尺胚的水平前行，金屬熔化區(qū)14脫離激光輻照區(qū)域，此區(qū)域的金屬材料瞬時冷卻固化使光柵線紋微結構保型，完成光柵線紋從輥壓印模具到光柵尺胚上的高精度復型。本發(fā)明所公開的脈沖激光輔助輥壓印制造反射型長光柵的工藝方法適用于反射型長光柵(一米以上)，及至超長光柵(幾米及至幾十、上百米的柔性金屬帶柵)的高精度、低成本的批量制造，極具推廣價值與應用前景。
權利要求
1.激光輔助輥壓印制造機床用反射型長光柵工藝方法，其特征在于，包括以下步驟 (1)石英輥壓印模具加工使用金剛石刀具車削加工中空的石英模具胚材，形成輥壓印模具基體，基體包括凸出的中間部分和位于中間部分兩側的軸肩； (2)石英輥壓印模具光柵線紋圖形制造使用旋轉曝光方法結合濕法腐蝕工藝，在基體的中間部分制造光柵線紋圖形； (3)光柵尺胚制造所述光柵尺胚為表面設有金屬膜層的硬質玻璃或柔性金屬帶材； (4)準分子激光光束整形采用光束整形光學系統(tǒng)對準分子激光器的輸出光束進行整形； (5)準分子激光光束聚焦經(jīng)整形后的準分子激光束在短軸方向使用一石英材質的柱面聚焦透鏡進行進一步的聚焦，使其成為寬度限定在IOOym以內(nèi)量級的線狀光束； (6)準分子激光光束引入經(jīng)過整形與聚焦的準分子激光束通過若干組反射鏡進行變向，引入石英輥壓印模具的中心空腔，使其定向輻照于壓印區(qū)域，其中，反射出輻照于壓印區(qū)域的激光束的反射鏡安裝于石英輥壓印模具的中心空腔內(nèi)，在石英輥壓印模具繞其軸心線旋轉時，此反射鏡隨機架固定； (7)連續(xù)輥壓印制造反射型長光柵將光柵尺胚放置于石英輥壓印模具與支承輥之間，當石英輥壓印模具接觸光柵尺胚后，石英輥壓印模具繞軸心旋轉，同時作為主動輥驅動光柵尺胚向前平動；在壓印過程中，激光光束始終定向照射于石英輥壓印模具與光柵尺胚接觸的壓印區(qū)域。
2.按照權利要求I所述的激光輔助輥壓印制造機床用反射型長光柵工藝方法，其特征在于步驟(I)中石英輥壓印模具的材料為UV級熔融石英；石英輥壓印模具的中間部分外徑為100-300mm，中心空腔直徑80_140mm，加工后，表面粗糙度<50nm，圓柱度及同心度〈I u m0
3.按照權利要求I所述的激光輔助輥壓印制造機床用反射型長光柵工藝方法，其特征在于步驟(2)中旋轉曝光工藝中光刻膠的涂鋪方法為提拉法，提拉速度為1-lOmm/s，膠層厚度為5-10 u m ;步驟(2)中旋轉曝光工藝中光刻膠為瑞虹系列光刻膠或永光系列光刻膠；步驟(2)中旋轉曝光工藝中石英輥壓印模具濕法刻蝕工藝所使用的腐蝕液為氫氟酸基的腐蝕液，使用氟化銨、氟化鉀作為緩沖劑，工藝溫度為40-70°C。
4.按照權利要求I所述的激光輔助輥壓印制造機床用反射型長光柵工藝方法，其特征在于步驟(3)中，所述金屬膜層的厚度為5-20i!m的Al、Cu、Cr或者不銹鋼膜層，其通過蒸鍍或濺射的方法設置于硬質玻璃上；所述柔性金屬帶材為表面拋光成鏡面的Al、Cu或不銹鋼帶。
5.按照權利要求I所述的激光輔助輥壓印制造機床用反射型長光柵工藝方法，其特征在于步驟⑷中所使用的準分子激光器為波長193nm的ArF、波長222nm的KrCI、波長248nm的KrF、波長253nm的XeI、波長308nm的XeCI或者波長351nm的XeF準分子光源，單脈沖能量處于500mri. 5J，脈寬幾十納秒量級，重復頻率1(T1000Hz。
6.按照權利要求I所述的激光輔助輥壓印制造機床用反射型長光柵工藝方法，其特征在于步驟(4)中所使用的光束整形光學系統(tǒng)由光束擴展器、均化器組成，經(jīng)整形的光束長軸方向為10_15mm,短軸方向為5_8mm。
7.按照權利要求I所述的激光輔助輥壓印制造機床用反射型長光柵工藝方法，其特征在于步驟(5)中聚焦透鏡為UV級熔融石英材質，經(jīng)過聚焦后，使其光束的長軸方向尺寸不變，將短軸方向寬度尺寸限定在10至IOOiim量級的線狀光束，長度為整個線紋帶的寬度。
8.按照權利要求I所述的單激光輔助輥壓印制造機床用反射型長光柵工藝方法，其特征在于步驟￠)中，經(jīng)過整形與聚焦的準分子激光束通過兩組反射鏡進行變向，其中第一個反射鏡將激光束引入石英輥壓印模具的中心空腔，第二個反射鏡使其定向輻照于壓印區(qū)域，第二個反射鏡通過支架安裝于石英輥壓印模具的中心空腔內(nèi)，在石英輥壓印模具繞其軸心線旋轉時，此反射鏡固定。
9.按照權利要求I所述的激光輔助輥壓印制造機床用反射型長光柵工藝方法，其特征在于1步驟(6)中的反射鏡為UV級熔融石英材質，表面為低損耗介電鍍膜，損傷閾值大于5J/cm2,設計入射角為45。、適用于波長為193nm、222nm、248nm、253nm、308nm和351nm的激光器。
10.按照權利要求I所述的激光輔助輥壓印制造機床用反射型長光柵工藝方法，其特征在于步驟￠)中的壓印過程，激光光束始終定向照射于輥壓印模具與光柵尺胚接觸的壓印區(qū)域，其輻照寬度為10至IOOiim;利用脈沖激光的極高的瞬時功率，使壓印區(qū)域光柵尺胚上表面的金屬材料在壓印的瞬間被加熱至具備流動性，在壓印力下，完成向石英輥壓印模具上光柵微結構槽形凹腔中填充，隨著輥壓印模具的轉動及光柵尺胚的水平前行，被加熱區(qū)域脫離激光輻照區(qū)域，上一壓印區(qū)域的金屬材料瞬時冷卻固化使光柵線紋微結構保型，完成光柵線紋從輥壓印模具到光柵尺胚上的高精度復型。
全文摘要
本發(fā)明公開一種激光輔助輥壓印制造機床用反射型長光柵的工藝方法將準分子激光的出射光束調(diào)制成光強均勻分布的線狀光束；再將之始終定向照射于壓印區(qū)域；使壓印區(qū)域光柵尺胚上表面的金屬材料在壓印的瞬間被加熱至其熔點附近的溫度，從而使該區(qū)域的金屬具備一定的流動性，能夠在較小的壓印力下，完成向石英輥壓印模具上光柵微結構槽形凹腔中填充，被加熱區(qū)域脫離激光輻照區(qū)域后金屬材料瞬時冷卻固化使光柵線紋微結構保型，完成光柵線紋從輥壓印模具到光柵尺胚上的高精度復型。本發(fā)明方法適用于反射型長光柵(一米以上)，及至超長光柵(幾米及至幾十、上百米的柔性金屬帶材)的高精度、低成本的批量制造，極具推廣價值與應用前景。
文檔編號G02B27/09GK102759856SQ20121024746
公開日2012年10月31日 申請日期2012年7月17日 優(yōu)先權日2012年7月17日
發(fā)明者馮龍, 劉紅忠, 盧秉恒, 史永勝, 尹磊, 范禪金, 蔣維濤 申請人:西安交通大學, 西安瑞特快速制造工程研究有限公司