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一種彩色濾光片及其制作方法、液晶面板和液晶顯示裝置的制作方法

文檔序號(hào):2687379閱讀:137來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:一種彩色濾光片及其制作方法、液晶面板和液晶顯示裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及液晶顯示領(lǐng)域,尤其涉及一種彩色濾光片及其制作方法以及相應(yīng)的液晶面板和液晶顯不裝置。
背景技術(shù)
液晶顯示器(Liquid Crystal Display,簡(jiǎn)稱LCD)已經(jīng)成為選擇平板顯示器件的優(yōu)先選擇,需求日益增加。而且對(duì)液晶顯示器的要求也越來(lái)越高。彩色濾光片主要用于實(shí)現(xiàn)液晶顯示器的彩色顯示,是液晶顯示器的重要組成部分,同時(shí)彩色濾光片占液晶顯示器的成本份額比較大。因此如何在不提高成本的情況下,通過(guò)提高彩色濾光片精度來(lái)改進(jìn)液晶顯示器的性能成為液晶顯示器制造廠商重點(diǎn)要解決的 問(wèn)題。目前,彩色濾光片制備所采用的曝光技術(shù),一般彩用傳統(tǒng)的鉻膜掩模板MASK結(jié)合接近式曝光機(jī)進(jìn)行制備,由于傳統(tǒng)接近式曝光機(jī)的設(shè)備能力的局限和傳統(tǒng)鉻膜掩模板MASK的缺陷,生的彩色濾光片線寬精度不盡人意。主要原因有兩個(gè)方面在制作過(guò)程,雖然可以進(jìn)行雜峰過(guò)濾,但是當(dāng)光線透過(guò)鉻膜MASK時(shí)不可避免的產(chǎn)生光衍射,造成生成的圖形的關(guān)鍵尺寸(critical dimension,⑶)不夠精確;同時(shí)光刻膠對(duì)光線反應(yīng)的效率不高,也會(huì)造成生成的圖形的關(guān)鍵尺寸不精確。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種彩色濾光片的制作方法,有效提高彩色濾光片的精度。本發(fā)明的目的是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn),包括如下步驟將制作彩色濾光片的掩模板MASK上的透光區(qū)域交錯(cuò)劃分為第一相位移區(qū)和第二相位移區(qū);在所述MASK的所述第二相位移區(qū)上涂敷一干涉層;使用一基板,在所述基板上涂敷光刻膠形成一光刻膠層,所述光刻膠中添加有對(duì)單波長(zhǎng)光源反應(yīng)的自由基光引發(fā)劑;將所述MASK覆蓋于所述基板的所述光刻膠層上,通過(guò)構(gòu)圖工藝處理所述光刻膠層形成所述彩色濾光片的彩色膜層。本發(fā)明實(shí)施例還提供一種彩色濾光片、液晶面板及液晶顯裝置。本發(fā)明實(shí)施例取得如下有益效果減小彩色濾光片制作過(guò)程中光通過(guò)掩模板透光區(qū)時(shí)光衍射,并通過(guò)光刻膠中的光引發(fā)劑對(duì)單波光源進(jìn)行反應(yīng),提高彩色濾光片的精度。


圖I本發(fā)明實(shí)施例一種彩色濾光片的制作方法流程圖;圖2本發(fā)明另一實(shí)施例是掩模板MASK相位移區(qū)縱向劃分不意圖;圖3本發(fā)明實(shí)施例中掩模板MASK涂敷干涉層后的示意圖4本發(fā)明另一實(shí)施例是掩模板MASK相位移區(qū)橫向劃分不意圖;圖5本發(fā)明一實(shí)施例是掩模板MASK相位移區(qū)棋盤狀分布不意圖。
具體實(shí)施例方式本發(fā)明第一實(shí)施例提供了一種彩色濾光片的制作方法,如圖I所示,步驟如下步驟S101,將制作彩色濾光片的掩模板MASK上的透光區(qū)域交錯(cuò)劃分為第一相位移區(qū)和第二相位移區(qū)。步驟S102,在所述MASK的所述第二相位移區(qū)上涂敷一干涉層。步驟S103,使用一基板,在所述基板上涂敷光刻膠形成一光刻膠層,所述光刻膠中添加有對(duì)單波長(zhǎng)光源反應(yīng)的自由基光引發(fā)劑。

步驟S104,將所述MASK覆蓋于所述基板的所述光刻膠層上,通過(guò)構(gòu)圖工藝處理所述光刻膠層形成所述彩色濾光片的彩色膜層。本發(fā)明實(shí)施例取得如下有益效果減小彩色濾光片制作過(guò)程中光通過(guò)掩模板透光區(qū)時(shí)光衍射,并通過(guò)光刻膠中的光引發(fā)劑對(duì)單波光源進(jìn)行反應(yīng),提高彩色濾光片的精度。本發(fā)明第二實(shí)施例提供了一種彩色濾光片的制作方法,基于第一實(shí)施例的步驟,為了減少設(shè)備改造及節(jié)約成本考慮,采用普通的鉻膜掩模板MASK。步驟一、將制作彩色濾光片的掩模板MASK上的透光區(qū)域交錯(cuò)劃分為第一相位移區(qū)201和第二相位移區(qū)202,如圖2所示,第一相位移區(qū)201和第二相位移區(qū)202均為縱向,其中的多個(gè)小方框表不MASK上的透光區(qū)域,由左第1、3和5列表不第一相位移區(qū)201,第2和4列表示第二相位移區(qū)202。步驟二、如圖3所示,在鉻膜MASK的第二相位移區(qū)上涂敷一干涉層203,干涉層203可以使光204發(fā)生180度相位移,從而使光相消干涉,減少光透過(guò)透光區(qū)201后造成的光衍射。圖3是圖2的局部正截面圖,在此,圖3不單獨(dú)示出第二相位移區(qū)。需要注意的是,在涂敷干涉層前,第一相位移區(qū)和第二相位移區(qū)的對(duì)光產(chǎn)生相位移的相位是相同的,而涂敷可以使光發(fā)生180度相位移的干涉層后,通過(guò)第二相位移區(qū)的光線的相位改變了 180度。步驟三、使用一基板,在所述基板上涂敷光刻膠形成一光刻膠層,所述光刻膠中添加有對(duì)單波長(zhǎng)光源反應(yīng)的自由基光引發(fā)劑。步驟四、將所述MASK覆蓋于所述基板的所述光刻膠層上,通過(guò)構(gòu)圖工藝處理所述光刻膠層形成所述彩色濾光片的彩色膜層。第一相位移區(qū)和第二相位移區(qū)分布形式有多種,如圖2所述第一相位移區(qū)和所述第二相位移區(qū)縱向交錯(cuò);如圖4所示,第一相位移區(qū)和第二相位移區(qū)橫向交錯(cuò),第1、3和5行為第一相位移區(qū)201,第2和4行為第二相位移區(qū)202 ;如圖5所示,第一相位移區(qū)201和第二相位移區(qū)202呈棋盤狀分布,為了便于說(shuō)明,第二相位移區(qū)202以深色塊表示。需要注意是,以上示意圖僅是一種陣列圖案下的示意,在實(shí)際生產(chǎn)中,可以按照需求對(duì)第一相位移區(qū)和第二相位移區(qū)組成的陣列圖案進(jìn)行相應(yīng)的變化,以適應(yīng)生產(chǎn)的需求,以上變化仍然在發(fā)明保護(hù)范圍內(nèi)。
優(yōu)選的,在所述第二相位區(qū)涂敷一使光相位移180度的干涉層,所述干涉層的材料可以是 Al2O2N'Al202R、CrN、Cr202、Fe304、Mo、Mo02、MoN、MoSi、Nb205、NbN、Si02、Si2N4'TaSi2、TiSi2, Ti、Ta、TiN、TiO2, TaN、Ta2O5, SiO2, Si2N4中的一種或任意組合,所述干涉層通過(guò)化學(xué)氣相沉積、物理氣相沉積、原子層沉積和/或電鍍形成。由于通常選用的曝光燈是高壓Hg汞燈,Hg燈主要波長(zhǎng)Hg的三個(gè)特征峰I365nm、H405nm和G436nm,在本實(shí)施例中,優(yōu)選的,對(duì)單波長(zhǎng)光源反應(yīng)的自由基光引發(fā)劑是對(duì)所述單波光源的I線反應(yīng)的自由基光引發(fā)劑。同時(shí)根據(jù)實(shí)際生產(chǎn)的情況,所述自由基光引發(fā)劑占所述光刻膠重量的10%至20%?!N較佳實(shí)施方式中,所述自由基光引發(fā)劑為Irgacure 369。本發(fā)明實(shí)施例取得如下有益效果減小彩色濾光片制作過(guò)程中光通過(guò)掩模板透光 區(qū)時(shí)光衍射,并通過(guò)光刻膠中的光引發(fā)劑對(duì)單波光源進(jìn)行反應(yīng),提高彩色濾光片的精度。本發(fā)明第三實(shí)施例提供了一種彩色濾光片,所述彩色濾光片通過(guò)上述實(shí)施例的方法制作。本發(fā)明第四實(shí)施例提供了一種液晶面板,所述液晶面板包括如第三實(shí)施例所述的彩色濾光片。本發(fā)明第五實(shí)施例提供了一種液晶顯示裝置,所述液晶顯示裝置包括如第四實(shí)施所述的液晶面板。本發(fā)明實(shí)施例取得如下有益效果減小彩色濾光片制作過(guò)程中光通過(guò)掩模板透光區(qū)時(shí)光衍射,并通過(guò)光刻膠中的光引發(fā)劑對(duì)單波光源進(jìn)行反應(yīng),提高彩色濾光片的精度。顯然,本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣,倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi),則本發(fā)明也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。
權(quán)利要求
1.ー種彩色濾光片的制作方法,其特征在于,包括如下步驟 將制作彩色濾光片的掩模板MASK上的透光區(qū)域交錯(cuò)劃分為第一相位移區(qū)和第二相位移區(qū); 在所述MASK的所述第二相位移區(qū)上涂敷ー干涉層; 使用一基板,在所述基板上涂敷光刻膠形成一光刻膠層,所述光刻膠中添加有對(duì)單波長(zhǎng)光源反應(yīng)的自由基光引發(fā)劑; 將所述MASK覆蓋于所述基板的所述光刻膠層上,通過(guò)構(gòu)圖エ藝處理所述光刻膠層形成所述彩色濾光片的彩色膜層。
2.如權(quán)利要求I所述的方法,其特征在于,所述MASK為鉻膜MASK。
3.如權(quán)利要求I所述的方法,其特征在于,所述第一相位移區(qū)和所述第二相位移區(qū)橫向交錯(cuò);或 所述第一相位移區(qū)和所述第二相位移區(qū)縱向交錯(cuò);或 所述第一相位移區(qū)和所述第二相位移區(qū)呈棋盤狀分布。
4.如權(quán)利要求I所述的方法,其特征在于,所述在所述第二相位移區(qū)涂敷ー干涉層,具體為 在所述第二相位區(qū)涂敷ー使光相位移180度的干涉層。
5.如權(quán)利要求I所述的方法,其特征在于,所述對(duì)單波長(zhǎng)光源反應(yīng)的自由基光引發(fā)劑,具體為 對(duì)所述單波光源的I線反應(yīng)的自由基光引發(fā)劑。
6.如權(quán)利要求I所述的方法,其特征在于,所述自由基光引發(fā)劑占所述光刻膠重量的10% 至 20%o
7.如權(quán)利要求5或6所述的方法,其特征在于,包括所述自由基光引發(fā)劑為Irgacure369。
8.ー種彩色濾光片,其特征在于,所述彩色濾光片根據(jù)如權(quán)利要求1-7任一所述的方法制作。
9.ー種液晶面板,其特征在于,所述液晶面板包括如權(quán)利要求8所述的彩色濾光片。
10.ー種液晶顯示裝置,其特征在于,所述液晶顯示裝置包括如權(quán)利要求9所述的液晶面板。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種彩色濾光片及其制作方法、液晶面板和液晶顯示裝置,該方法包括如下步驟將制作彩色濾光片的掩模板MASK上的透光區(qū)域交錯(cuò)劃分為第一相位移區(qū)和第二相位移區(qū);在所述MASK的所述第二相位移區(qū)上涂敷一干涉層;使用一基板,在所述基板上涂敷光刻膠形成一光刻膠層,所述光刻膠中添加有對(duì)單波長(zhǎng)光源反應(yīng)的自由基光引發(fā)劑;將所述MASK覆蓋于所述基板的所述光刻膠層上,通過(guò)構(gòu)圖工藝處理所述光刻膠層形成所述彩色濾光片的彩色膜層。通過(guò)本發(fā)明,減小彩色濾光片制作過(guò)程中光通過(guò)掩模板透光區(qū)時(shí)光衍射,并通過(guò)光刻膠中的光引發(fā)劑對(duì)單波光源進(jìn)行反應(yīng),提高彩色濾光片的精度。
文檔編號(hào)G02F1/1335GK102819056SQ20121026671
公開(kāi)日2012年12月12日 申請(qǐng)日期2012年7月30日 優(yōu)先權(quán)日2012年7月30日
發(fā)明者金楻, 靳福江 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 成都京東方光電科技有限公司
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