專利名稱：陣列基板及其制作方法、液晶面板和顯示裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及液晶顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種半透半反式的像素陣列基板及其制作方法、以及采用這種半透半反式像素陣列的液晶面板和顯示裝置。
背景技術(shù)：
液晶顯示器分為透射式顯示器、反射式顯示器和半透半反式顯示器。透射式顯示器屏幕背面沒有反光鏡，靠背光提供光源，在弱光或無光下表現(xiàn)優(yōu)秀。但是在戶外陽光下或強(qiáng)光環(huán)境下背光亮度嚴(yán)重不足，且單純依靠提高背光亮度，會急速損失電量，而且效果也非常不理想。反射式顯示器屏幕背面有反光鏡，依賴外部光源達(dá)到顯示效果，因此在戶外及強(qiáng)光下反而會呈現(xiàn)更佳的效果及對比，但是反射式顯示器較難在高分辨率下達(dá)到高對比及高 彩色品質(zhì)的影像，尤其是全彩化的要求。而且當(dāng)環(huán)境光源不足時，反射式顯示器的對比與亮度會大受折扣。半透半反式顯示器同時采用了透射式和反射式的設(shè)計，同時具備背光源和反射層，因此在使用時既可以使用自身的背光源也可以利用外在的光源，從面無論在強(qiáng)光下或是昏暗處都能向使用者提供良好的觀看品質(zhì)。現(xiàn)有技術(shù)的半透半反顯示器設(shè)計中的像素結(jié)構(gòu)，如圖I所示，由于在透射區(qū)100和反射區(qū)101存在高度差(透射區(qū)高于反射區(qū))，因此，在摩擦方向1001上進(jìn)行摩擦取向操作后，在透射區(qū)和反射區(qū)邊界處存在摩擦陰影102，造成此處的液晶取向不正常，從而導(dǎo)致漏光嚴(yán)重，對比度非常低；且透射區(qū)100和反射區(qū)101的邊界過長，會造成像素的有效利用區(qū)減少，還會降低顯示器的對比度。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種半透半反式的像素陣列基板及其制作方法、液晶面板和顯示裝置，以解決現(xiàn)有技術(shù)中，由于對像素摩擦?xí)r透射區(qū)和反射區(qū)邊界形成摩擦陰影后該區(qū)域液晶取向異常，從而顯示器漏光嚴(yán)重；以及透射區(qū)和反射區(qū)的邊界過長，導(dǎo)致顯示器對比度低的問題。本發(fā)明的目的是通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)的本發(fā)明實施例還提供一種半透半反式的像素陣列基板，包括基板和所述基板上的多個像素，所述像素圖形包含透射區(qū)圖形和反射區(qū)圖形，所述像素具有一個摩擦方向，在每個所述像素的所述透射區(qū)與所述反射區(qū)的任一邊界處，所述摩擦方向平行于所述邊界；或者，沿著所述像素的摩擦方向看，從所述透射區(qū)向所述反射區(qū)為上升沿。較佳的一實施例中，所述透射區(qū)與所述反射區(qū)的邊界為一條直線或兩條平行的直線。較佳的一實施例中，所述反射區(qū)為一個等腰直角三角形、一個非等腰直角三角形、一個矩形、一個直角梯形、兩個等腰直角三角形其中一種。
較佳的一實施例中，所述摩擦方向為45°、135°、225°或315°。本發(fā)明實施例還提供一種液晶面板，所述液晶面板包括如上所述的像素陣列基板。本發(fā)明實施例還提供一種顯示裝置，所述液晶面板包括如上所述的液晶面板。本發(fā)明實施例提供一種半透半反式的像素陣列基板的制作方法，步驟如下提供一基板，在所述基板上規(guī)劃像素的分布及像素圖形，所述像素圖形包含透射區(qū)圖形和反射區(qū)圖形；在所述像素上形成與所述透射區(qū)圖形和所述反射區(qū)圖形對應(yīng)的透射區(qū)和反射區(qū)；在每個所述像素的所述透射區(qū)與反射區(qū)的任一邊界處，選擇平行于所述邊界的方·向為摩擦方向；或者，選擇沿著所述像素的摩擦方向看，從所述透射區(qū)向所述反射區(qū)為上升沿的方向為摩擦方向，對所述像素的所述透射區(qū)和所述反射區(qū)進(jìn)行摩擦使所述像素具有摩擦取向。較佳的一實施例中，所述透射區(qū)與所述反射區(qū)的邊界為一條直線或兩條平行的直線。較佳的一實施例中，選擇平行于所述邊界的方向為摩擦方向；或者，選擇沿著所述像素的摩擦方向看，從所述透射區(qū)向所述反射區(qū)為上升沿的方向為摩擦方向，包括若所述透射區(qū)為一個等腰直角三角形，選擇平行于所述透射區(qū)與所述反射區(qū)的邊界的摩擦方向，或選擇由所述透射區(qū)向所述反射區(qū)為上升沿的摩擦方向；若所述透射區(qū)為一個非等腰直角三角形、一個矩形或一個直角梯形，選擇由所述透射區(qū)向所述反射區(qū)為上升沿的摩擦方向；若所述透射區(qū)為兩個等腰直角三角形，選擇平行于所述透射區(qū)與所述反射區(qū)的邊界的摩擦方向。較佳的一實施例中，所述摩擦方向為45°、135°、225°或315°。本發(fā)明實施例具有如下有益效果通過規(guī)劃像素的透射區(qū)圖形和反射區(qū)圖形，并選擇適當(dāng)?shù)哪Σ练较?，實現(xiàn)像素摩擦取向過程中，透射區(qū)和反射區(qū)的邊界處不會出現(xiàn)摩擦陰影，從而確保透射區(qū)和反射區(qū)的邊界處的液晶取向正常，克服漏光及對比度低的缺陷。


圖I為現(xiàn)有技術(shù)中像素的透射區(qū)和反射區(qū)結(jié)構(gòu)以及摩擦角度示意圖；圖2為本發(fā)明實施例一種半透半反式的像素陣列基板的制作方法的流程圖；圖3為本發(fā)明實施例一種半透半反式的像素陣列基板的制作方法的具體流程圖；圖4A至圖4J為本發(fā)明實施例中部分像素的透射區(qū)和反射區(qū)結(jié)構(gòu)以及摩擦角度示意圖。
具體實施例方式下面根據(jù)說明書附圖對本發(fā)明的實現(xiàn)過程作詳細(xì)說明。本發(fā)明實施例一，提供一種半透半反式的像素的制作方法，如圖2所示，步驟如下
步驟S101，提供一基板，在基板上規(guī)劃像素的分布及像素圖形，像素圖形包含透射區(qū)圖形和反射區(qū)圖形。步驟S102，在像素上形成與透射區(qū)圖形和反射區(qū)圖形對應(yīng)的透射區(qū)和反射區(qū)。步驟S103，在每個像素的透射區(qū)與反射區(qū)的任一邊界處，選擇平行于邊界的方向為摩擦方向；或者，選擇沿著所述像素的摩擦方向看，由透射區(qū)向反射區(qū)為上升沿的方向為摩擦方向，對像素的透射區(qū)和反射區(qū)進(jìn)行摩擦使所述像素具有摩擦取向。本發(fā)明實施例二，提供一種半透半反式的像素的制作方法，如圖3所示，步驟如下步驟S201，提供一基板，在基板上規(guī)劃像素的分布及像素圖形，像素圖形包含透射區(qū)圖形和反射區(qū)圖形，且反射區(qū)圖形的至少兩個相鄰邊與像素圖形的兩個相鄰邊線的部分 或全部邊線重合。步驟S202，根據(jù)像素的分布及像素圖形，制作透射區(qū)掩模板和反射區(qū)掩模所板。步驟S203，利用透射區(qū)掩模板對基板上的涂層進(jìn)行曝光，形成像素的透射區(qū)。步驟S204，對曝光后的基板進(jìn)行刻蝕后，對基板上除透射區(qū)以外的區(qū)域進(jìn)行金屬濺射。步驟S205，利用反射區(qū)掩模板對金屬濺射后的基板進(jìn)行曝光和刻蝕，形成像素的反射區(qū)。步驟S206，選擇平行于透射區(qū)與反射區(qū)的邊界的方向為摩擦方向，或選擇沿著所述像素的摩擦方向看，由透射區(qū)向反射區(qū)為上升沿的方向為摩擦方向，對像素的透射區(qū)和反射區(qū)進(jìn)行摩擦使所述像素具有摩擦取向。需要注意的是，對于顯示器像素透射區(qū)圖形和反射區(qū)圖形的設(shè)計，可以采用各種形狀，從而形成的透射區(qū)和反射區(qū)的邊界也可以為直線、曲線、折線或波浪線等任意的曲線。但是，考慮到顯示器像素本身的尺寸有限，而且邊界并不能很好的利用，在這種情況下，如果透射區(qū)和反射區(qū)的邊界為曲線，會造成像素的可利用面積減少，因此，在本發(fā)明較佳的一實施例中透射區(qū)與反射區(qū)的邊界為一條直線或兩條平行的直線。較佳的一實施例中，形成的像素的反射區(qū)為一個等腰直角三角形、一個非等腰直角三角形、一個矩形、一個直角梯形、兩個等腰直角三角形其中一種，但本發(fā)明不限于此，其他可以實現(xiàn)依次對透射區(qū)和反射區(qū)進(jìn)行摩擦取向的圖形設(shè)計，也應(yīng)當(dāng)在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。較佳的一實施例中，選擇平行于透射區(qū)與反射區(qū)的邊界的摩擦方向，或選擇由透射區(qū)向反射區(qū)為上升沿的摩擦方向，包括若透射區(qū)為等腰直角三角形，選擇平行于透射區(qū)與反射區(qū)的邊界的摩擦方向，或選擇由透射區(qū)向反射區(qū)為上升沿的摩擦方向；若透射區(qū)為非等腰直角三角形、矩形或直角梯形，選擇由透射區(qū)向反射區(qū)為上升沿的摩擦方向；若透射區(qū)為兩個等腰直角三角形，選擇平行于透射區(qū)與反射區(qū)的邊界的摩擦方向。較佳的一實施例中，摩擦方向角為45°、135°、225°或315°，通常在對像素進(jìn)行一定摩擦方向進(jìn)行摩擦?xí)r，會出現(xiàn)上下左右四個方向上的視角較差，而采用摩擦方向為45°、135°、225°或315°進(jìn)行摩擦?xí)r可以解決該問題，使液晶顯示器視角較佳。下面結(jié)合說明書附圖4A至附圖4J對本發(fā)明實施例的優(yōu)選方案一一進(jìn)行詳細(xì)說明。較佳的一實施例，如圖4A所示，像素300包括透射區(qū)301和反射區(qū)302，其中反射區(qū)302為一個等腰直角三角形，反射區(qū)302兩個相鄰邊與像素300兩條相鄰邊線的部分邊線重合，透射區(qū)301和反射區(qū)302的邊界為一直線；根據(jù)透射區(qū)301和反射區(qū)302的位置及圖形，選擇摩擦方向3001、3002或3003，其中，摩擦方向3001為45°，摩擦方向3002為225°，摩擦方向3003為135°，以上述選擇的摩擦方向中的任意一種摩擦方向?qū)ν干鋮^(qū)301和反射區(qū)302進(jìn)行摩擦。根據(jù)上述摩擦方向摩擦?xí)r，在透射區(qū)301和反射區(qū)302的邊界不會產(chǎn)生摩擦陰影。
較佳的一實施例，如圖4B所示，像素400包括透射區(qū)401和反射區(qū)402，其中反射區(qū)402為等腰直角三角形，反射區(qū)402兩個相鄰邊與像素400兩條相鄰邊線的部分邊線重合，透射區(qū)401和反射區(qū)402的邊界為一直線；根據(jù)透射區(qū)401和反射區(qū)402的位置及圖形，選擇摩擦方向4001、4002或4003，其中，摩擦方向4001為45°，摩擦方向4002為225°，摩擦方向4003為315°，以上述選擇的摩擦方向中的任意一種摩擦方向?qū)ν干鋮^(qū)401和反射區(qū)402進(jìn)行摩擦。根據(jù)上述摩擦方向摩擦?xí)r，在透射區(qū)401和反射區(qū)402的邊界不會產(chǎn)生摩擦陰影。較佳的一實施例，如圖4C所示，像素500包括透射區(qū)501和反射區(qū)502，其中反射區(qū)502為一個等腰直角三角形，反射區(qū)502兩個相鄰邊與像素500兩條相鄰邊線的部分邊線重合，透射區(qū)501和反射區(qū)502的邊界為一直線；根據(jù)透射區(qū)501和反射區(qū)502的位置及圖形，選擇摩擦方向5001、5002或5003，其中，摩擦方向5001為135°，摩擦方向5002為215°，摩擦方向5005為45°，以上述選擇的摩擦方向中的任意一種摩擦方向?qū)ν干鋮^(qū)501和反射區(qū)502進(jìn)行摩擦。根據(jù)上述摩擦方向摩擦?xí)r，在透射區(qū)501和反射區(qū)502的邊界不會產(chǎn)生摩擦陰影。較佳的一實施例，如圖4D所示，像素600包括透射區(qū)601和反射區(qū)602，其中反射區(qū)602為一個等腰直角三角形，反射區(qū)602兩個相鄰邊與像素600兩條相鄰邊線的部分邊線重合，透射區(qū)601和反射區(qū)602的邊界為一直線；根據(jù)透射區(qū)601和反射區(qū)602的位置及圖形，選擇摩擦方向6001、6002或6003，其中，摩擦方向6001為135°，摩擦方向6002為315°，摩擦方向6003為225°，以上述選擇的摩擦方向中的任意一種摩擦方向?qū)ν干鋮^(qū)601和反射區(qū)602進(jìn)行摩擦。根據(jù)上述摩擦方向摩擦?xí)r，在透射區(qū)601和反射區(qū)602的邊界不會產(chǎn)生摩擦陰影。較佳的一實施例，如圖4E所示，像素700包括透射區(qū)701和反射區(qū)702，其中反射區(qū)702為兩個等腰直角三角形，反射區(qū)702的兩個等腰直角三角形中每個三角形的兩個相鄰邊與像素700兩條相鄰邊線的部分邊線重合，透射區(qū)701和反射區(qū)702的邊界為兩條平行的直線；根據(jù)透射區(qū)701和反射區(qū)702的位置及圖形，選擇摩擦方向7001或7002，其中，摩擦方向7001為45°，摩擦方向7002為225°，以上述選擇的摩擦方向中的任意一種摩擦方向?qū)ν干鋮^(qū)701和反射區(qū)702進(jìn)行摩擦。根據(jù)上述摩擦方向摩擦?xí)r，在透射區(qū)701和反射區(qū)702的邊界不會產(chǎn)生摩擦陰影。
較佳的一實施例，如圖4F所示，像素800包括透射區(qū)801和反射區(qū)802，其中反射區(qū)802為兩個等腰直角三角形，反射區(qū)802的兩個等腰直角三角形中每個三角形的兩個相鄰邊與像素800兩條相鄰邊線的部分邊線重合，透射區(qū)801和反射區(qū)802的邊界為兩條平行的直線；根據(jù)透射區(qū)801和反射區(qū)802的位置及圖形，選擇摩擦方向8001或8002，其中，摩擦方向8001為315°，摩擦方向8002為135°，以上述選擇的摩擦方向中的任意一種摩擦方向?qū)ν干鋮^(qū)801和反射區(qū)802進(jìn)行摩擦。根據(jù)上述摩擦方向摩擦?xí)r，在透射區(qū)801和反射區(qū)802的邊界不會產(chǎn)生摩擦陰影。較佳的一實施例，如圖4G所示，像素900包括透射區(qū)901和反射區(qū)902，其中反射區(qū)902為一矩形，反射區(qū)902三個相鄰邊與像素900三條相鄰邊線的部分邊線重合，透射區(qū)901和反射區(qū)902的邊界為一條直線；根據(jù)透射區(qū)901和反射區(qū)902的位置及圖形，選擇摩擦方向9001或9002，其中，摩 擦方向9001為45°，摩擦方向9002為135°，以上述選擇的摩擦方向中的任意一種摩擦方向?qū)ν干鋮^(qū)901和反射區(qū)902進(jìn)行摩擦。根據(jù)上述摩擦方向摩擦?xí)r，在透射區(qū)901和反射區(qū)902的邊界不會產(chǎn)生摩擦陰影。較佳的一實施例，如圖4H所示，像素110包括透射區(qū)111和反射區(qū)112，其中反射區(qū)112為一矩形，反射區(qū)112三個相鄰邊與像素110三條相鄰邊線的部分邊線重合，透射區(qū)111和反射區(qū)112的邊界為一條直線；根據(jù)透射區(qū)111和反射區(qū)112的位置及圖形，選擇摩擦方向1101或1102，其中，摩擦方向1101為225°，摩擦方向1102為315°，以上述選擇的摩擦方向中的任意一種摩擦方向?qū)ν干鋮^(qū)111和反射區(qū)112進(jìn)行摩擦。根據(jù)上述摩擦方向摩擦?xí)r，在透射區(qū)111和反射區(qū)112的邊界不會產(chǎn)生摩擦陰影。較佳的一實施例，如圖41所示，像素120包括透射區(qū)121和反射區(qū)122，其中反射區(qū)122為一直角三角形，反射區(qū)122兩個相鄰邊與像素120兩條相鄰邊線的部分邊線重合，透射區(qū)121和反射區(qū)122的邊界為一條直線；根據(jù)透射區(qū)121和反射區(qū)122的位置及圖形，選擇摩擦方向1201或1202，其中，摩擦方向1201為135°，摩擦方向1202為225°，以上述選擇的摩擦方向中的任意一種摩擦方向?qū)ν干鋮^(qū)121和反射區(qū)122進(jìn)行摩擦。根據(jù)上述摩擦方向摩擦?xí)r，在透射區(qū)121和反射區(qū)122的邊界不會產(chǎn)生摩擦陰影。與反射區(qū)為等腰直角三角形時選擇摩擦方向類似，反射區(qū)122位于像素的不同的位置時，也需要選擇不同的摩擦方向，該摩擦方向由透射區(qū)121向反射區(qū)122，且在此摩擦方向上透射區(qū)121與反射區(qū)122為上升沿摩擦，在此不在一一贅述。較佳的一實施例，如圖4J所示，像素130包括透射區(qū)131和反射區(qū)132，其中反射區(qū)132為一直角梯形，反射區(qū)132三個相鄰邊與像素130三條相鄰邊線的部分邊線重合，透射區(qū)131和反射區(qū)132的邊界為一條直線；根據(jù)透射區(qū)131和反射區(qū)132的位置及圖形，選擇摩擦方向1301或1302，其中，摩擦方向1301為45°，摩擦方向1302為135°，以上述選擇的摩擦方向中的任意一種摩擦方向?qū)ν干鋮^(qū)131和反射區(qū)132進(jìn)行摩擦。根據(jù)上述摩擦方向摩擦?xí)r，在透射區(qū)131和反射區(qū)132的邊界不會產(chǎn)生摩擦陰影。
與反射區(qū)為等腰直角三角形時選擇摩擦方向類似，反射區(qū)132位于像素的不同的位置時，也需要選擇不同的摩擦方向，該摩擦方向由透射區(qū)131向反射區(qū)132，且在此摩擦方向上透射區(qū)131與反射區(qū)132為上升沿摩擦，在此不在一一贅述。以上優(yōu)選實施例中，根據(jù)透射區(qū)和反射區(qū)的規(guī)劃及組合，并選擇適當(dāng)?shù)哪Σ练较?，實現(xiàn)像素摩擦取向過程中，透射區(qū)和反射區(qū)之間不會出現(xiàn)摩擦陰影，從而確保液晶取向正常，克服漏光及對比度低的缺陷。本發(fā)明實施例三，提供另一種半透半反式的像素陣列基板，包括基板和基板上的多個像素，像素具有一個摩擦方向，在每個像素的透射區(qū)與反射區(qū)的任一邊界處，摩擦方向平行于邊界；或者，沿著像素的摩擦方向看，透射區(qū)向 反射區(qū)為上升沿。較佳的一實施例中，透射區(qū)與反射區(qū)的邊界為一條直線或兩條平行的直線。較佳的一實施例中，反射區(qū)為一個等腰直角三角形、一個非等腰直角三角形、一個矩形、一個直角梯形、兩個等腰直角三角形其中一種。較佳的一實施例中，摩擦方向與像素排列的行方向的夾角為45°、135°、225°或315。。本發(fā)明實施例四，提供一種半透半反式的像素陣列基板，包括基板和基板上的多個像素，像素包含透射區(qū)和反射區(qū)，且反射區(qū)的至少兩個相鄰邊與像素的至少兩個相鄰邊線的部分或全部邊線重合。本發(fā)明實施例五，提供一種液晶面板，液晶面板包括如上述的像素陣列基板。本發(fā)明實施例六，提供一種顯示器，液晶面板包括如上述的液晶面板。顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明進(jìn)行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種半透半反式的像素陣列基板，包括基板和所述基板上的多個像素，所述像素包含透射區(qū)和反射區(qū)，所述像素具有一個摩擦方向，其特征在于，在每個所述像素的所述透射區(qū)與所述反射區(qū)的任一邊界處，所述摩擦方向平行于所述邊界；或者，沿著所述像素的摩擦方向看，從所述透射區(qū)向所述反射區(qū)為上升沿。
2.如權(quán)利要求I所述的半透半反式的像素陣列基板，其特征在于，所述透射區(qū)與所述反射區(qū)的邊界為一條直線或兩條平行的直線。
3.如權(quán)利要求I所述的半透半反式的像素陣列基板，其特征在于，所述反射區(qū)為一個等腰直角三角形、一個非等腰直角三角形、一個矩形、一個直角梯形、兩個等腰直角三角形其中一種。
4.如權(quán)利要求I所述的半透半反式的像素陣列基板，其特征在于，所述摩擦方向與像素排列的行方向的夾角為45°、135°、225°或315°。
5.一種液晶面板，其特征在于，所述液晶面板包括如權(quán)利要求I至4任一項所述的像素陣列基板。
6.一種顯示裝置，其特征在于，所述液晶面板包括如權(quán)利要求5所述的液晶面板。
7.—種半透半反式的像素陣列基板的制作方法，其特征在于，包括如下步驟 提供一基板，在所述基板上規(guī)劃像素的分布及像素圖形，所述像素圖形包含透射區(qū)圖形和反射區(qū)圖形； 在所述像素上形成與所述透射區(qū)圖形和所述反射區(qū)圖形對應(yīng)的透射區(qū)和反射區(qū)； 在每個所述像素的所述透射區(qū)與反射區(qū)的任一邊界處，選擇平行于所述邊界的方向為摩擦方向；或者，選擇沿著所述像素的摩擦方向看，從所述透射區(qū)向所述反射區(qū)為上升沿的方向為摩擦方向，對所述像素的所述透射區(qū)和所述反射區(qū)進(jìn)行摩擦使所述像素具有摩擦取向。
8.如權(quán)利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述透射區(qū)與所述反射區(qū)的邊界為一條直線或兩條平行的直線。
9.如權(quán)利要求7所述的制作方法，其特征在于，選擇平行于所述邊界的方向為摩擦方向；或者，沿著所述像素的摩擦方向看，選擇從所述透射區(qū)向所述反射區(qū)為上升沿的方向為摩擦方向，包括 若所述透射區(qū)為一個等腰直角三角形，選擇平行于所述透射區(qū)與所述反射區(qū)的邊界的摩擦方向，或選擇由所述透射區(qū)向所述反射區(qū)為上升沿的摩擦方向； 若所述透射區(qū)為一個非等腰直角三角形、一個矩形或一個直角梯形，選擇由所述透射區(qū)向所述反射區(qū)為上升沿的摩擦方向； 若所述透射區(qū)為兩個等腰直角三角形，選擇平行于所述透射區(qū)與所述反射區(qū)的邊界的摩擦方向。
10.如權(quán)利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述所述摩擦方向與像素排列的行方向的夾角為45°、135。、225?；?15。。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種陣列基板及其制作方法、液晶面板和顯示裝置，方法步驟如下提供一基板，在所述基板上規(guī)劃像素的分布及像素圖形，所述像素圖形包含透射區(qū)圖形和反射區(qū)圖形；在所述像素上形成與透射區(qū)圖形和反射區(qū)圖形對應(yīng)的透射區(qū)和反射區(qū)；在每個所述像素的所述透射區(qū)與反射區(qū)的任一邊界處，選擇平行于所述邊界的方向為摩擦方向；或者，選擇沿著所述像素的摩擦方向看，從所述透射區(qū)向所述反射區(qū)為上升沿的方向為摩擦方向，對所述像素的所述透射區(qū)和所述反射區(qū)進(jìn)行摩擦使像素具有摩擦取向。通過本發(fā)明實現(xiàn)像素摩擦?xí)r透射區(qū)和反射區(qū)之間沒有摩擦陰影，減少漏光。
文檔編號G02F1/1337GK102879953SQ201210365899
公開日2013年1月16日 申請日期2012年9月27日 優(yōu)先權(quán)日2012年9月27日
發(fā)明者秦廣奎, 鈴木照晃 申請人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司