專利名稱：等離子顯示屏剝離液及其制備方法與應(yīng)用的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種等離子顯示屏剝離液及其制備方法與應(yīng)用。
背景技術(shù)：
在等離子基板的生 產(chǎn)的光刻技術(shù)中通常包括在玻璃基片上依次進(jìn)行設(shè)置金屬或金屬氧化物層的金屬配線形成工序；設(shè)置光致抗蝕劑層的工序；在光致抗蝕劑上轉(zhuǎn)寫掩模圖形的曝光工序；按照?qǐng)D形對(duì)模進(jìn)行蝕刻的蝕刻工序；以及除去光致抗蝕劑的剝離工序。在通常的制造工藝中光刻工序會(huì)多達(dá)十多次。一般的剝離液可以列舉出無(wú)機(jī)酸、有機(jī)酸、無(wú)機(jī)堿或者有機(jī)溶劑，可是，作為剝離劑的有效成分，當(dāng)使用無(wú)機(jī)酸或者無(wú)機(jī)堿時(shí)，或使下部金屬膜腐蝕，或伴隨有害于人體的缺點(diǎn)等操作上的困難性。因此通常使用有機(jī)溶劑。目前PDP面板制造中使用的光致抗蝕劑用剝離液主要是含有有機(jī)極性溶劑、胺類及水的體系的剝離液。然而這些現(xiàn)有的剝離液存在以下問(wèn)題1、生產(chǎn)工藝復(fù)雜。在進(jìn)行剝離處理過(guò)程中，在剝離掉光致抗蝕劑后需要用有機(jī)溶劑和水分別漂洗，增加清洗工序時(shí)間，產(chǎn)生大量廢液廢水；2、剝離性能弱，對(duì)布線腐蝕影響大；3、清洗后殘留金屬離子的數(shù)量超出標(biāo)準(zhǔn)要求，容易引起表面金屬離子污染。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種等離子顯示屏剝離液及其制備方法與應(yīng)用。本發(fā)明提供的剝離液，包括式I所示季銨氫氧化物、式II所示酰胺化合物、有機(jī)溶
齊U、防腐劑和水，
_I +
R2-N--/^ OH
^ I式I
O
V ο
H式II所述式I中，Rp R2和R3均選自C1-C5的烷基和C1-C5的羥烷基中的任意一種；
所述式11中，R1和R2均選自H、CH3和C2H5中的任意一種。所述剝離液也可只由上述組分組成。所述式I所示季銨氫氧化物選自氫氧化三甲基烯丙基銨、氫氧化(I-羥基乙基)二甲基烯丙基銨、氫氧化(1，2-二羥基乙基)一甲基烯丙基銨、氫氧化三乙基烯丙基銨、氫氧化一甲基二乙基烯丙基銨、氫氧化二甲基一乙基烯丙基銨、氫氧化(I-羥基乙基)二乙基烯丙基銨、氫氧化(1，2- 二羥基乙基)一乙基烯丙基銨、氫氧化(I-羥基丙基)二乙基烯丙基銨、氫氧化三丙基烯丙基銨、氫氧化一甲基二丙基烯丙基銨、氫氧化二甲基一丙基烯丙基銨、氫氧化(I-羥基乙基)二丙基烯丙基銨、氫氧化(1，2- 二羥基乙基)一丙基烯丙基銨、氫氧化一甲基一乙基一丙基烯丙基銨、氫氧化(I-羥基丙基)二丙基烯丙基銨、氫氧化(1，2-二羥基丙基)一丙基烯丙基銨和氫氧化三丁基烯丙基銨中的至少一種；所述式II所示酰胺化合物選自6-氟-3-氧代-3，4- 二氫吡嗪_2_甲酰胺、6-氟-N-甲基-3-氧代-3，4- 二氫吡嗪-2-甲酰胺、6-氟-N-乙基-3-氧代-3，4- 二氫吡嗪-2-甲酰胺、6-氟-N，N-甲基-3-氧代-3，4- 二氫吡嗪-2-甲酰胺和6-氟-N，N-乙甲基-3-氧代_3，4- 二氫吡嗪-2-甲酰胺中的至少一種；所述有機(jī)溶劑為二元醇類水溶性有機(jī)溶劑，具體選自乙二醇、一縮二乙二醇和丙二醇中的至少一種； 所述防腐劑選自果糖、葡萄糖、木糖醇、山梨糖醇、I-硫甘油、2-巰基乙醇、鄰苯二酚、沒(méi)食子酸、蘋果酸和苯并三唑中的至少一種；所述水為去離子水，具體為電子級(jí)去離子水，在25°C的電阻率至少為18兆歐，總金屬離子濃度不大于5000ug/L,具體為500ug/L,更具體為50ug/L。所述剝離液中，各組分所占質(zhì)量百分比分別為所述式I所示季銨氫氧化物1_15%，具體為2-10%，更具體為3%、5%或8% ;該組分占剝離液總重的百分比若低于前述范圍，則剝離液的剝離效果不好，光刻膠還會(huì)出現(xiàn)不溶解的現(xiàn)象，帶來(lái)大量殘留，若高于前述范圍，會(huì)是剝離液PH偏高，對(duì)金屬布線有侵蝕的副作用；所述式II所示酰胺化合物1-10%,具體為2-5%，具體為3% ;本發(fā)明所選擇的酰胺類化合物較為特殊，其能夠有效的調(diào)節(jié)PH于合適范圍，在剝離光刻膠的同時(shí)，能避免剝離液對(duì)金屬布線的侵蝕，提高產(chǎn)品的精細(xì)度。該組分占剝離液總重的百分比若不在上述范圍，會(huì)降低剝離的良率；所述有機(jī)溶劑5_25%，具體為5-10%，更具體為8%或15% ;該組分占剝離液總重的百分比若低于前述范圍，則剝離后的溶劑效果不好，帶來(lái)大量殘留，若高于前述范圍，會(huì)提高剝離液的成本，而且不利于環(huán)保；所述防腐劑0. 01-2%，具體為O. 5%，更具體為O. 1%或1%。防腐劑在剝離液中所占的百分比若低于前述范圍，則不能有效的防止基材金屬或布線被侵蝕，若高于上述范圍，則會(huì)影響到剝離速度；所述去離子水為余量。本發(fā)明還提供了一種制備前述剝離液的方法，包括如下步驟將前述各組分混勻，得到所述剝離液。上述本發(fā)明提供的剝離液在剝離光致抗蝕劑中的應(yīng)用，也屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。該剝離光致抗蝕劑的步驟具體可在等離子顯示屏生產(chǎn)過(guò)程中。所述剝離步驟中，剝離方法為浸潰法或噴淋法，溫度為20-80°C，具體為40_60°C，時(shí)間為I分鐘-20分鐘，具體為3分鐘-15分鐘。該剝離方法具體可為在基板上形成光致抗蝕劑圖案，把該光致抗蝕劑圖案作為掩模，將基板蝕刻后，用上述本發(fā)明提供的剝離液將光致抗蝕劑圖案從基板上剝離下來(lái)；或者，在基板上形成光致抗蝕劑圖案，把該光致抗蝕劑圖案作為掩模，將基板蝕亥IJ，接著對(duì)光致抗蝕劑圖案進(jìn)行等離子體灰化處理后，用上述本發(fā)明提供的剝離液將等離子體灰化后的殘?jiān)飶幕迳蟿冸x下來(lái)。本發(fā)明提供的剝離液，能夠迅速，完全的剝離光致抗蝕劑，而且對(duì)布線材料等的腐蝕作用較少。即使在剝離光致抗蝕劑的處理后用水進(jìn)行漂洗，也不會(huì)導(dǎo)致不溶物的沉淀，并且對(duì)環(huán)境和人體具有高度安全性。該剝離液對(duì)蝕刻工序中發(fā)生變質(zhì)的光致抗蝕劑可以有效地剝離除去光致抗蝕劑圖案，對(duì)于像構(gòu)成等離子面板的金屬膜、氧化膜的無(wú)機(jī)材料物質(zhì)具有極低腐蝕性，具有重要的應(yīng)用價(jià)值。


圖I為剝離效果圖。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步闡述，但本發(fā)明并不限于以下實(shí)施例。所述方法如無(wú)特別說(shuō)明均為常規(guī)方法。所述材料如無(wú)特別說(shuō)明均能從公開商業(yè)途徑而得。本發(fā)明中，式I所示季銨氫氧化物是按照如下方法制備而得將式III結(jié)構(gòu)通式所
示的季銨鹽的有機(jī)溶液與無(wú)機(jī)堿進(jìn)行反應(yīng)，得到所述季胺堿；
權(quán)利要求
1.一種剝離液，包括式I所示季銨氫氧化物、式II所示酰胺化合物、有機(jī)溶劑、防腐劑和水， 、丄0 R2 式II 所述式I中，も、R2和R3均選自C1-C5的烷基和C1-C5的羥烷基中的任意ー種； 所述式II中，R1和R2均選自H、CH3和C2H5中的任意ー種。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的剝離液，其特征在于所述剝離液由式I所示季銨氫氧化物、式II所示酰胺化合物、有機(jī)溶劑、防腐劑和水組成。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的剝離液，其特征在于所述式I所示季銨氫氧化物選自氫氧化三甲基烯丙基銨、氫氧化(I-羥基こ基)ニ甲基烯丙基銨、氫氧化(1，2-ニ羥基こ基)一甲基烯丙基銨、氫氧化三こ基烯丙基銨、氫氧化一甲基ニこ基烯丙基銨、氫氧化ニ甲基一こ基烯丙基銨、氫氧化(I-羥基こ基)ニこ基烯丙基銨、氫氧化(1，2-ニ羥基こ基)一こ基烯丙基銨、氫氧化(I-羥基丙基)ニこ基烯丙基銨、氫氧化三丙基烯丙基銨、氫氧化一甲基ニ丙基烯丙基銨、氫氧化ニ甲基一丙基烯丙基銨、氫氧化(I-羥基こ基)ニ丙基烯丙基銨、氫氧化(1,2- ニ羥基こ基)一丙基烯丙基銨、氫氧化一甲基一こ基一丙基烯丙基銨、氫氧化(I-羥基丙基)ニ丙基烯丙基銨、氫氧化(1，2_羥基丙基)一丙基烯丙基銨和氫氧化三丁基烯丙基銨中的至少ー種； 所述式II所示酰胺化合物選自6-氟-3-氧代-3，4- ニ氫吡嗪-2-甲酰胺、6-氟-N-甲基-3-氧代_3，4- ニ氫吡嗪-2-甲酰胺、6-氟-N-こ基-3-氧代-3，4- ニ氫吡嗪-2-甲酰胺、6-氟-N，N-甲基-3-氧代-3，4- ニ氫吡嗪-2-甲酰胺和6-氟-N，N-こ甲基-3-氧代-3，4- ニ氫吡嗪-2-甲酰胺中的至少ー種； 所述有機(jī)溶劑為ニ元醇類水溶性有機(jī)溶劑，具體選自こニ醇、一縮ニこニ醇和丙ニ醇中的至少ー種； 所述防腐劑選自果糖、葡萄糖、木糖醇、山梨糖醇、I-硫甘油、2-巰基こ醇、鄰苯ニ酚、沒(méi)食子酸、蘋果酸和苯并三唑中的至少ー種； 所述水為去離子水，具體為為電子級(jí)去離子水，在25°C的電阻率至少為18兆歐，總金屬離子濃度不大于5000ug/L,具體為500ug/L,更具體為50ug/L。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一所述的剝離液，其特征在于所述剝離液中，各組分所占質(zhì)量百分比分別為 所述式I所示季銨氫氧化物1-15%,具體為2-10% ； 所述式II所示酰胺化合物1_10%，具體為2-5% ；所述有機(jī)溶劑5-25%，具體為5-10% ； 所述防腐劑0. 01-2%，具體為O. 5% ； 所述去離子水為余量。
5.ー種制備權(quán)利要求1-4任一所述剝離液的方法，包括如下步驟將權(quán)利要求1-4任一所述各組分混勻，得到所述剝離液。
6.權(quán)利要求1-4任一所述剝離液在剝離光致抗蝕劑中的應(yīng)用。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的應(yīng)用，其特征在于所述剝離步驟中，剝離方法為浸潰法或噴淋法，溫度為20-80°C，具體為40-60°C，時(shí)間為I分鐘_20分鐘，具體為3分鐘-15分鐘。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種等離子顯示屏剝離液及其制備方法與應(yīng)用。該剝離液包括季銨氫氧化物、酰胺化合物、二元醇類溶劑、防腐劑和去離子水。該剝離液能夠迅速、完全的剝離光致抗蝕劑，而且對(duì)布線材料等的腐蝕作用較少。即使在剝離光致抗蝕劑的處理后用水進(jìn)行漂洗，也不會(huì)導(dǎo)致不溶物的沉淀，并且對(duì)環(huán)境和人體具有高度安全性。該剝離液對(duì)濕蝕刻工序中發(fā)生變質(zhì)的光致抗蝕劑可以有效地剝離除去光致抗蝕劑圖案，對(duì)于像構(gòu)成等離子面板的金屬膜、氧化膜的無(wú)機(jī)材料物質(zhì)具有極低腐蝕性，具有重要的應(yīng)用價(jià)值。
文檔編號(hào)G03F7/42GK102866601SQ20121038103
公開日2013年1月9日 申請(qǐng)日期2012年10月10日 優(yōu)先權(quán)日2012年10月10日
發(fā)明者馮衛(wèi)文 申請(qǐng)人:綿陽(yáng)艾薩斯電子材料有限公司