具有光學(xué)隔離的通道孔與鄰近修正特征的掩模及制造方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種具有光學(xué)隔離的通道孔與鄰近修正特征的掩模及其制造方法，該光刻掩模包括定義通道孔的通道孔特征的通道孔圖案是以行與列的形式被安置在掩模上，在掩模上的每個(gè)行與列之間具有一列及一行間距。通道孔圖案是被安置成使位于鄰近行中的通道孔特征是被在它們之間的至少一中介列所隔離。通道孔圖案亦可被安置成使位于鄰近列中的通道孔圖案是被在它們之間的至少一中介行所隔離。因此，各通道孔圖案的通道孔特征以及被安置在各通道孔特征周?chē)南嚓P(guān)的光學(xué)鄰近效應(yīng)修正特征并未與圍繞通道孔圖案的光學(xué)鄰近效應(yīng)修正特征與通道孔特征重疊。
【專(zhuān)利說(shuō)明】具有光學(xué)隔離的通道孔與鄰近修正特征的掩模及制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明是有關(guān)于光刻技術(shù)與光刻掩模以及用于制造這種掩模的方法。
【背景技術(shù)】
[0002]集成電路的尺寸持續(xù)變得更小，以便將更多電路裝配在一既定區(qū)域中。必須持續(xù)縮小的集成電路的特征包括圖案化的導(dǎo)體層，于其中為集成電路的部分形成「互聯(lián)機(jī)」。因?yàn)榧呻娐飞系目s小的節(jié)點(diǎn)尺寸的結(jié)果，亦已減少在這些層的圖案化的導(dǎo)體中的導(dǎo)體之間的距離。一通道孔為經(jīng)由一集成電路中的材料的一層或多層的一開(kāi)孔，其一般以一導(dǎo)體(有時(shí)被稱(chēng)為一插塞)填滿，此導(dǎo)體可提供在這些層的圖案化的導(dǎo)體之間的一層間連接器。因此，因?yàn)橐褱p少在圖案化的導(dǎo)體之間的距離，所以對(duì)于以越來(lái)越小的間距完成通道孔存在有增加的壓力。
[0003]通道孔可經(jīng)由光刻技術(shù)而被建立，于其中一掩模上的一群組的通道孔特征定義到達(dá)一晶片上的光學(xué)投影，其被使用于依據(jù)掩模中的圖案來(lái)在晶片上形成通道孔的工藝。有關(guān)減少的通道孔尺寸，光學(xué)鄰近效應(yīng)修正(optical proximity correction, 0PC)特征包括有掩模中的通道孔特征。
[0004]一掩模上的一通道孔圖案因此可包括通道孔特征以及與這種通道孔特征相關(guān)的任何0PC特征兩者。雖然0PC特征的使用減少失真，但這種使用亦增加掩模上的每個(gè)通道孔圖案的面積。每個(gè)通道孔圖案的這種增加的面積與在被制造的電路上的通道孔之間的減少的間距不兼容。
[0005]因此，期望提供不管在通道孔之間的減少的間距如何，但還是支持0PC特征的使用的技術(shù)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明提供一種光刻方法及掩模設(shè)計(jì)，其中通道孔特征及相關(guān)的0PC特征被彼此光學(xué)地隔離。通道孔特征及相關(guān)的0PC特征在掩模中形成一通道孔圖案。這種通道孔圖案是被安置在一掩模中，以使0PC特征不重疊。
[0007]—個(gè)具有通道孔圖案的一掩模的區(qū)域具有鄰近行位置及鄰近列位置，于此可能設(shè)置一通道孔圖案。通道孔圖案的位置是由鄰近行位置與鄰近列位置的特定交點(diǎn)所決定。掩模上的行位置及列位置可對(duì)應(yīng)至一層間連接器可被形成于一通道孔中的位置，藉以完成在集成電路的部分的圖案化的導(dǎo)體層的數(shù)層之間的連接。這些行及列具有一行間距及一列間距。通道孔圖案包括通道孔特征以及關(guān)于這種通道孔特征的相關(guān)的0PC特征。一通道孔圖案具有大于掩模上的鄰近行位置的行間距的長(zhǎng)度及大于掩模上的鄰近列位置的列間距的寬度。通道孔圖案可被安置在掩模上，以使鄰近行中的通道孔圖案具有在列之間的至少一中介列，這種通道孔圖案是被安置在這些列中?；蛘撸ǖ揽讏D案可被安置在掩模上，以使鄰近列中的通道孔圖案具有在行之間的至少一中介行，這種通道孔圖案是被安置在這些行中。[0008]在一個(gè)實(shí)施例中，通道孔圖案可被安置成能存在有一整數(shù)差異D，其為在第一通道孔圖案的一列位置的一第一列數(shù)目與第二通道孔圖案的一列位置的一第二列數(shù)目之間的差異的大小，其中這種差異等于R列的通道孔列間距整數(shù)。鄰近行位置中的通道孔圖案可被安置成能在第一與第二通道孔圖案之間存在有至少一中介列。或者，通道孔圖案可被安置成能存在有一整數(shù)差異D，其為在第一通道孔圖案的一行位置的一第一行數(shù)目與第二通道孔圖案的一行位置的一第二行數(shù)目之間的差異的大小，其中這種差異等于C行的通道孔行間距整數(shù)。鄰近列位置中的通道孔圖案可被安置成能在第一與第二通道孔圖案之間存在有至少一中介行。
[0009]多重通道孔圖案可被定義在掩模上的一單元胞(unit cell)中，其可被重復(fù)以在掩模中構(gòu)建多個(gè)通道孔圖案。每個(gè)單元胞包括一些N個(gè)通道孔圖案。通道孔圖案是被安置在掩模中，以使當(dāng)通道孔圖案數(shù)N除以以前說(shuō)明的差異D(亦即，R列的列間距整數(shù)或C行的行間距整數(shù))時(shí)，存在有一非零余數(shù)。非零余數(shù)表示橫越過(guò)單元胞的多重副本的通道孔圖案具有鄰近通道孔圖案之間的一中介列及一中介行的至少一者或兩者。
[0010]在一個(gè)實(shí)施例中，每個(gè)通道孔圖案定義掩模的一平面上的一區(qū)域。通道孔圖案可以是屬于能使此區(qū)域的一長(zhǎng)度等于在單元胞之內(nèi)的N個(gè)通道孔特征及對(duì)應(yīng)的通道孔圖案的數(shù)目的平方根的相鄰的整數(shù)與在單元胞之內(nèi)的行或列的行間距或列間距的乘積的尺寸。相鄰的整數(shù)等于通道孔列間距整數(shù)與行間距整數(shù)的至少一個(gè)。在另一個(gè)實(shí)施例中，0PC特征包括散射條。在另一個(gè)實(shí)施例中，當(dāng)掩模被照射時(shí)，掩模上的通道孔圖案的其中一個(gè)定義一個(gè)以上的對(duì)應(yīng)的通道孔。
[0011]本發(fā)明的其他實(shí)施例及優(yōu)點(diǎn)，可在檢閱圖式、詳細(xì)說(shuō)明與隨附的權(quán)利要求范圍時(shí)被看到。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0012]圖1顯示關(guān)于一陣列的存儲(chǔ)器單元的通道孔相對(duì)于圖案化的導(dǎo)體層的多層的標(biāo)準(zhǔn)配置。
[0013]圖2A顯示單一通道孔特征及相關(guān)的0PC特征，其結(jié)合以形成作成一掩模上的多個(gè)通道孔圖案的單一通道孔圖案。
[0014]圖2B顯示關(guān)于安置掩模中的通道孔圖案以構(gòu)建圖1所顯示的通道孔配置的問(wèn)題。
[0015]圖3顯示關(guān)于一陣列的存儲(chǔ)器單元的通道孔相對(duì)于圖案化的導(dǎo)體層的多層的配置，以使在用于構(gòu)建這種通道孔配置的掩模上存在有非干擾通道孔圖案。
[0016]圖4顯示用于構(gòu)建圖3所顯示的通道孔配置的掩模的一部分。
[0017]圖5顯示關(guān)于一陣列的存儲(chǔ)器單元的通道孔相對(duì)于圖案化的導(dǎo)體層的配置，藉以用于構(gòu)建這種配置的掩模包括一通道孔圖案，其并未與一鄰近的單元胞的一通道孔圖案光學(xué)地隔尚。
[0018]圖6顯示一掩模上的多個(gè)通道孔圖案以構(gòu)建圖5所顯示的通道孔配置。
[0019]圖7A及圖7B顯示用于建立掩模的一計(jì)算機(jī)系統(tǒng)及一存儲(chǔ)器，掩模構(gòu)建具有圖案化的導(dǎo)體層(具有小間距(顯示于圖7C中))的一集成電路中的通道孔的配置，以使在掩模上存在有不重疊的通道孔圖案(顯示于圖7D中)。
[0020]圖8為一集成電路的簡(jiǎn)化方塊圖，其包括一存儲(chǔ)器陣列的存儲(chǔ)器單元以及在圖案化的導(dǎo)體層之間的通道孔，圖案化的導(dǎo)體層具有在導(dǎo)體之間的小間距。
[0021]【主要元件符號(hào)說(shuō)明】
[0022]100:導(dǎo)體
[0023]102:導(dǎo)體
[0024]112:通道孔
[0025]200:通道孔特征
[0026]202:0PC 特征
[0027]204:長(zhǎng)度
[0028]206:寬度
[0029]208:行位置
[0030]210:行間距
[0031]212:列位置
[0032]214:列間距
[0033]302:通道孔
[0034]304:圖案化的導(dǎo)體
[0035]306:圖案化的導(dǎo)體
[0036]402:0PC 特征
[0037]404:通道孔特征
[0038]406:面積a/區(qū)域
[0039]408:單元胞
[0040]410:側(cè)長(zhǎng)度L/側(cè)邊
[0041]420:列整數(shù)差異D
[0042]422:第一通道孔特征
[0043]424:第一列
[0044]426:第一行
[0045]428:第二通道孔特征
[0046]430:鄰近行
[0047]432:第四列
[0048]434:行整數(shù)差異D
[0049]436:第二通道孔特征
[0050]438:鄰近列
[0051]440:行
[0052]502:通道孔
[0053]504:圖案化的導(dǎo)體
[0054]506:圖案化的導(dǎo)體
[0055]508:區(qū)域
[0056]600:單元胞
[0057]602:列位置
[0058]604:行位置[0059]606:通道孔特征
[0060]608:列整數(shù)差異D
[0061]610:第一行位置
[0062]612:第一列位置
[0063]614:第二行
[0064]616:第三列位置
[0065]618:單元胞
[0066]620:第一通道孔特征
[0067]622:第二通道孔特征
[0068]624:行
[0069]626:列
[0070]628:通道孔特征
[0071]630:通道孔特征
[0072]632:行
[0073]634:列
[0074]636:面積
[0075]700:計(jì)算機(jī)系統(tǒng)
[0076]702:處理器
[0077]704:總線子系統(tǒng)
[0078]706:儲(chǔ)存子系統(tǒng)
[0079]708:存儲(chǔ)器子系統(tǒng)
[0080]710:檔案儲(chǔ)存子系統(tǒng)
[0081]712:用戶接口輸入設(shè)備
[0082]714:用戶接口輸出裝置
[0083]716:網(wǎng)絡(luò)接口子系統(tǒng)
[0084]718:通訊網(wǎng)絡(luò)
[0085]720:主要隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(RAM)
[0086]722:只讀存儲(chǔ)器(ROM)
[0087]724:存儲(chǔ)器
[0088]726:電路設(shè)計(jì)
[0089]728:集成電路
[0090]730:掩模
[0091]800:集成電路
[0092]802:存儲(chǔ)器陣列
[0093]804:字線譯碼器及驅(qū)動(dòng)器
[0094]806:字線
[0095]808:位線(行)譯碼器
[0096]810:位線
[0097]812:總線[0098]814:感測(cè)放大器及數(shù)據(jù)輸入結(jié)構(gòu)
[0099]816:數(shù)據(jù)總線
[0100]818:數(shù)據(jù)輸入線
[0101]820:電路
[0102]822:數(shù)據(jù)輸出線
[0103]824:控制器
[0104]826:偏壓電路電壓及電流源
【具體實(shí)施方式】
[0105]參考圖1至圖8提供本發(fā)明的實(shí)施例的詳細(xì)說(shuō)明。
[0106]圖1顯示關(guān)于一陣列的存儲(chǔ)器單元的通道孔相對(duì)于圖案化的導(dǎo)體層的多層的標(biāo)準(zhǔn)配置。第一層的圖案化的導(dǎo)體包括多個(gè)用于作為互聯(lián)機(jī)的平行導(dǎo)體100。導(dǎo)體100為一導(dǎo)電材料(例如金屬或摻雜半導(dǎo)體)的線。第二層的圖案化的導(dǎo)體包括多個(gè)平行導(dǎo)體102。導(dǎo)體102為一導(dǎo)電材料(例如金屬或摻雜半導(dǎo)體)的線。在圖1中，第一層的平行導(dǎo)體100為比第二層的平行導(dǎo)體102更低的層。在另一實(shí)施例中，第一層的平行導(dǎo)體100為比第二層的平行導(dǎo)體102更高的層。
[0107]通道孔配置包括多個(gè)通道孔112。通道孔112為延伸通過(guò)形成一集成電路的一部分的多層的圖案化的導(dǎo)體的開(kāi)孔。通道孔是以一插塞填滿，插塞作為連接這些層的圖案化的導(dǎo)體的一層間連接器。通過(guò)這樣的連接，完成在不同層的圖案化的導(dǎo)體(例如不同層的平行導(dǎo)體)之間的電性接觸。通過(guò)被填滿在通道孔中的一插塞而連接的圖案化的導(dǎo)體層的數(shù)目可以是兩個(gè)以上。圖案化的導(dǎo)體層可以是被單一層的介電或多層(例如介電及/或互聯(lián)機(jī)的層)隔開(kāi)的鄰近的層。通道孔可以形成于圖案化的導(dǎo)體層的不同層的圖案化的導(dǎo)體的交點(diǎn)。舉例而言，當(dāng)如在圖1中從上或下來(lái)看時(shí)，一通道孔被形成于一第一層的圖案化的導(dǎo)體及一第二層的圖案化的導(dǎo)體的交點(diǎn)。通道孔可以是適合用于形成可以利用一插塞填滿的一開(kāi)孔的任何形狀。
[0108]圖2A顯示單一通道孔特征200及相關(guān)的0PC特征202，其一起從一掩模中的多個(gè)通道孔圖案當(dāng)中形成單一通道孔圖案，并用于構(gòu)建至少一通道孔。通道孔圖案可被使用以光刻地形成譬如一個(gè)具有正或負(fù)光刻膠的通道孔。舉例而言，通道孔圖案的通道孔特征200露出一光刻膠層的一部分，其在后續(xù)程序中產(chǎn)生作用來(lái)定義通過(guò)刻蝕被移除以構(gòu)建通道孔的一層間介電材料中的一部分。在顯示的實(shí)施例中，一通道孔圖案定義晶片上的單一通道孔；在其他實(shí)施例中，一通道孔圖案定義晶片上的多重通道孔。0PC特征202是與一通道孔特征相關(guān)，以形成通道孔圖案。0PC特征202減少由繞射及干擾所導(dǎo)致的失真。因此，不管照亮掩模的電磁輻射的縮小的波長(zhǎng)如何，0PC特征還是會(huì)減少通道孔特征的失真。0PC特征為次分辨率，其乃因?yàn)樗鼈冃∮谄毓庠O(shè)備的臨界尺寸，以使0PC特征它們自己并未在光刻膠層中被顯影。0PC特征可以是屬于減少失真的任何形狀。0PC特征可以是安置在通道孔特征的側(cè)邊周?chē)亩鄠€(gè)散射條。
[0109]圖2B顯示構(gòu)建圖1所顯示的通道孔配置的一掩模上的多個(gè)通道孔圖案。掩模包括鄰近行位置208，于此一通道孔圖案可被安置于掩模上。這樣的行位置208可對(duì)應(yīng)至這些層的圖案化的導(dǎo)體中的導(dǎo)體的位置。鄰近行具有一行間距210。行間距210可以是如圖2B所顯示的，為在一第一行的中心軸線與一第二鄰近行的中心軸線之間的距離的大小?；蛘?，行間距可以是在鄰近行的對(duì)應(yīng)側(cè)(譬如，鄰近行的右側(cè)或鄰近行的左側(cè))之間的距離的大小。在關(guān)于為了掩模上的多個(gè)通道孔圖案中的一組鄰近行位置而改變的一行間距的一實(shí)施例中，存在有一行間距。在另一種實(shí)施例中，行間距可以與掩模上的多個(gè)通道孔圖案中的一組鄰近行位置的行間距相同。
[0110]掩模包括鄰近列位置212，于此一通道孔圖案可被安置于掩模上。這樣的列位置212可對(duì)應(yīng)至這些層的圖案化的導(dǎo)體中的圖案化的導(dǎo)體的位置。鄰近列是被一列間距214所隔開(kāi)。列的配置定義一列間距214。列間距214可以是如圖2B所顯示的，為在一第一列的中心軸線與一第二列的中心軸線之間的距離的大小。或者，列間距可以是在鄰近列的對(duì)應(yīng)側(cè)(譬如，列的上側(cè)與列的下側(cè))之間的距離的大小。在關(guān)于為了掩模上的多個(gè)通道孔圖案中的一組鄰近列位置而改變的一列間距的一實(shí)施例中，存在有一列間距。在另一種實(shí)施例中，列間距可以與掩模上的多個(gè)通道孔圖案中的一組鄰近列位置的列間距相同。
[0111]如圖2A所示，包括通道孔特征200及0PC特征202的通道孔圖案具有一長(zhǎng)度204及一寬度206。具有改變橫越過(guò)多個(gè)通道孔圖案的長(zhǎng)度的多個(gè)通道孔圖案可具有一最大長(zhǎng)度，而具有改變橫越過(guò)多個(gè)通道孔圖案的寬度的多個(gè)通道孔圖案可具有一最大寬度。在另一實(shí)施例中，最大長(zhǎng)度可以與一組通道孔圖案的最大長(zhǎng)度及最大寬度相同。因?yàn)檠谀Ｖ械耐ǖ揽讏D案被緊密地安置在一起，所以掩模中的列位置及行位置亦緊密地安置在一起。因此，通道孔圖案的長(zhǎng)度204大于行間距210。同樣地，通道孔圖案的寬度206大于列間距214。
[0112]圖2B亦顯示關(guān)于將通道孔圖案安置在一掩模上以構(gòu)建圖1所顯示的通道孔配置的一項(xiàng)問(wèn)題。如以前所說(shuō)明的，平行互聯(lián)機(jī)與通道孔是彼此緊密安置，以使包括一通道孔特征及相關(guān)的0PC特征的一通道孔圖案具有大于掩模上的鄰近列位置及鄰近行位置的行間距及列間距的長(zhǎng)度及寬度。因此，當(dāng)一通道孔圖案被安置靠近另一個(gè)通道孔圖案以便構(gòu)建圖1所顯示的通道孔配置時(shí)，0PC特征將重疊，如顯示于圖2B中。0PC特征的重疊對(duì)于光刻膠層上的取像的通道孔圖案會(huì)有負(fù)面后果。0PC特征的重疊可導(dǎo)致0PC特征不能適當(dāng)?shù)匕l(fā)生效用，以使它們并未減少被取像進(jìn)入光刻膠層的通道孔的失真。
[0113]圖3顯示關(guān)于一陣列的存儲(chǔ)器單元的通道孔相對(duì)于圖案化的導(dǎo)體層的多層的配置，以使用來(lái)構(gòu)建這種通道孔配置的掩模上存在有非干擾通道孔圖案。通道孔配置包括通道孔302，其延伸至一第一層的圖案化的導(dǎo)體304及一第二層的圖案化的導(dǎo)體306。通道孔302可被安置于定義通道孔的掩模上，以使一通道孔圖案的0PC特征并未與另一個(gè)通道孔圖案的0PC特征重疊。因此，每個(gè)具有其通道孔特征及對(duì)應(yīng)的0PC特征的通道孔圖案并未與其他具有它們的通道孔特征及對(duì)應(yīng)的0PC特征的通道孔圖案重疊。
[0114]圖4顯示用于構(gòu)建圖3所顯示的通道孔配置的掩模的一部分，其中通道孔圖案被隔開(kāi)，以使組成一通道孔圖案的每個(gè)通道孔特征404及對(duì)應(yīng)的0PC特征402并未與其他通道孔特征及對(duì)應(yīng)的0PC特征重疊。掩模包括多個(gè)通道孔圖案，其構(gòu)建圖3所顯示的通道孔配置。多個(gè)通道孔圖案可以由重復(fù)的單元胞408所組成。單元胞408為掩模的一部分上的通道孔圖案，其包括最小數(shù)目的掩模中的通道孔圖案及對(duì)應(yīng)的通道孔特征(其可被重復(fù)以形成掩模上的多個(gè)通道孔圖案)，或大于這個(gè)最小數(shù)目的某些數(shù)目的通道孔圖案。單元胞可被重復(fù)，以使一第一列的一第一副本的單元胞鄰接于最終列的一第二副本的單元胞，或使第一行的一第一副本的單元胞鄰接于最終行的一第二副本的單元胞。
[0115]再次參見(jiàn)圖4，行位置及列位置的交點(diǎn)決定由通道孔特征404及對(duì)應(yīng)的0PC特征所組成的掩模上的通道孔圖案的可能的位置。通道孔圖案可被安置于鄰近行中，以使在其中安置鄰近行中的通道孔圖案的列之間存在有至少一中介列。鄰近行中的通道孔圖案是基于一列整數(shù)差異D420而被安置在不同的列位置中。差異D420等于在鄰近行位置中的通道孔圖案之間的R列的通道孔列間距整數(shù)。如方程式(1)所示的D420可以是在一第一通道孔圖案的列位置數(shù)目與一鄰近行中的一第二通道孔圖案的列位置數(shù)目之間的差異的大小。
[0116]D=(第一通道孔圖案的列#)_(第二通道孔圖案的列#) | (1)
[0117]列數(shù)及行數(shù)是基于單元胞之內(nèi)的行與列的順序而被定義成一數(shù)值整數(shù)。通道孔圖案是被安置在掩模上，以使位于一鄰近行中的通道孔圖案并非位于一鄰近列中。因此，D為大于零的整數(shù)。舉例而言，如圖4所示，第一通道孔圖案的第一通道孔特征422位于具有一列數(shù)1的第一列424與具有一第一行數(shù)1的第一行426中。第二通道孔圖案的第二通道孔特征428位于具有一行數(shù)2的鄰近行430與具有一列數(shù)4的第四列432中。如此，D為3，因?yàn)樵诘谝煌ǖ揽讏D案列數(shù)(為1)及第二通道孔圖案列數(shù)(為4)之間的差異的大小為3。
[0118]或者，通道孔圖案可被安置在鄰近列中，以使在其中安置通道孔圖案的行之間存在有至少一中介行。鄰近列中的通道孔圖案可基于一行整數(shù)差異D 434而被安置在不同行中。差異D 434等于被安置在鄰近列中的通道孔圖案之間的C行的通道孔行間距整數(shù)。如方程式(2)所示的D 434可以是在一第一通道孔圖案的行位置數(shù)目與一鄰近列中的第二通道孔圖案的行位置數(shù)目之間的差異的大小。
[0119]D= | (第一通道孔圖案的行#)_(第二通道孔圖案的行#) | (2)
[0120]列數(shù)及行數(shù)是基于單元胞之內(nèi)的行與列的順序而被定義成一數(shù)值整數(shù)。通道孔圖案可被安置成使位在相對(duì)于另一個(gè)通道孔圖案的一鄰近列中的一通道孔圖案并非位于相對(duì)于另一個(gè)通道孔圖案的一鄰近行中。舉例而言，如圖4所示，第一通道孔圖案的第一通道孔特征422位于具有一列數(shù)1的一第一列424與具有一行數(shù)1的一第一行426中。用于方程式(2)的第二通道孔圖案的第二通道孔特征436位于具有一列數(shù)2的一鄰近列438與具有一行數(shù)4的一行440中。如此，D為3，因?yàn)樵诘谝煌ǖ揽讏D案行數(shù)(為1)及第二通道孔圖案行數(shù)(為4)之間的差異的大小為3。
[0121]在掩模上形成多個(gè)通道孔圖案的每個(gè)單元胞408包括在掩模上的N個(gè)通道孔圖案。為了將通道孔圖案安置在掩模上以在多重單元胞被結(jié)合以形成多個(gè)通道孔圖案(如圖4所顯示)時(shí)，能使形成每個(gè)通道孔圖案的通道孔特征及相對(duì)應(yīng)的0PC特征并未在掩模上重疊，如以前所說(shuō)明的，單元胞內(nèi)的N個(gè)通道孔圖案的數(shù)目除以行或列整數(shù)差異D可構(gòu)建一非零余數(shù)，如方程式(3)所顯示的。具體言之，N除以D產(chǎn)生一商數(shù)Q及一余數(shù)R，其中R為一非零整數(shù)。當(dāng)R為一非零整數(shù)時(shí)，通道孔特征并不會(huì)太靠近，以使與每個(gè)通道孔特征相關(guān)的0PC特征并未重疊。
[0122]N/D = Q+R，其中 R 關(guān) 0 (3)
[0123]確保掩模上的通道孔特征及0PC特征沒(méi)有重疊，會(huì)構(gòu)建在掩模上的多個(gè)通道孔圖案，其中每個(gè)通道孔特征及對(duì)應(yīng)的0PC特征是與其他通道孔特征及對(duì)應(yīng)的0PC特征光學(xué)地隔離。具體言之，如由圖4中的掩模所顯示的，在一單元胞中的N個(gè)通道孔圖案的總數(shù)為8。如前所述，在鄰近行中的通道孔圖案之間的列整數(shù)差異D為3。8除以3產(chǎn)生2的余數(shù)，其為非零余數(shù)。因此，如圖4所示，在形成掩模中的通道孔圖案的通道孔特征與OPC特征的任何一個(gè)之間沒(méi)有重疊，且正因?yàn)槿绱思词巩?dāng)此組通道孔圖案的一單元胞被重復(fù)時(shí)，通道孔圖案亦彼此光學(xué)地隔離。
[0124]此外，雖然多個(gè)通道孔圖案的某些通道孔圖案可被安置成使一列或行整數(shù)差異存在于依據(jù)先前說(shuō)明而安置有這種通道孔圖案的列或行之間，但多個(gè)通道孔圖案的某些通道孔圖案可被安置在行與列中，以使在定義在這種通道孔圖案之間的一列或行整數(shù)差異的鄰近圖案之間的列或行的數(shù)目能小于依據(jù)先前說(shuō)明而被安置的通道孔圖案的列或行整數(shù)差異。具體言之，某些通道孔圖案可被安置成在多個(gè)通道孔圖案的通道孔圖案數(shù)N除以這種通道孔圖案的對(duì)應(yīng)的列或行整數(shù)差異時(shí)，能構(gòu)建零余數(shù)。這種零余數(shù)表示某些通道孔圖案是被安置在鄰近行或列中或被安置在鄰近行及列兩者中。
[0125]圖5顯示關(guān)于一陣列的存儲(chǔ)器單元的通道孔相對(duì)于圖案化的導(dǎo)體層的配置，藉此用于構(gòu)建這種配置的掩模包括一通道孔圖案，其并未與一鄰近的單元胞的一通道孔圖案光學(xué)地隔離。圖6顯示用于構(gòu)建圖5所顯示的通道孔配置的掩模中的多個(gè)通道孔圖案。為了簡(jiǎn)化起見(jiàn)，在顯示圖6的掩模方面，雖然實(shí)際上包括這種0PC特征，但并未顯示多個(gè)通道孔圖案的0PC特征。當(dāng)一列整數(shù)差異D如以前所定義的被分為每單元胞數(shù)目N的通道孔圖案(如方程式(3)所顯示的)以及零的余數(shù)存在時(shí)，則在并未光學(xué)地隔離的掩模上的多個(gè)通道孔圖案中存在有通道孔特征及相關(guān)的0PC特征，以使在掩模上存在有重疊通道孔圖案。
[0126]具體言之，圖5所顯示的通道孔配置包括通道孔502。這些通道孔502延伸至一第一層的圖案化的導(dǎo)體504及一第二層的圖案化的導(dǎo)體506。通道孔的配置的部分包括一區(qū)域508，其是在建立圖5所顯示的通道孔的配置的部分中被重復(fù)四次。這種區(qū)域508是對(duì)應(yīng)至圖6所顯示的掩模上的多個(gè)通道孔圖案的單元胞。
[0127]在圖6中，掩模包括定義晶片上的通道孔的通道孔圖案。每個(gè)通道孔特征606與相關(guān)的0PC特征(未顯示在圖6中)結(jié)合以形成一通道孔圖案。掩模亦包括一單元胞600，其是被重復(fù)以形成掩模上的多個(gè)通道孔圖案。與先前例子一樣，每個(gè)單元胞600為在掩模上的一區(qū)域中的最小數(shù)目的通道孔圖案，其可被重復(fù)以形成掩模中的多個(gè)通道孔圖案。再者，與先前例子一樣，通道孔圖案的定位，會(huì)定義在掩模之內(nèi)的列位置602及行位置604。
[0128]鄰近行中的通道孔圖案是被一列整數(shù)差異D608所隔開(kāi)。如以前所說(shuō)明的，列整數(shù)差異D608為在單元胞600之內(nèi)的一鄰近行中的一第一通道孔圖案的一第一通道孔特征620的列位置數(shù)目與一第二通道孔圖案的一第二通道孔特征622的列位置的數(shù)目之間的差異的大小。這種行與列位置數(shù)目是由對(duì)應(yīng)至單元胞600之內(nèi)的行與列的順序配置的數(shù)值整數(shù)所定義。在圖6所顯示的單元胞中，第一通道孔圖案的第一通道孔特征620位于單元胞的第一行位置610與第一列位置612中。第二通道孔圖案的第二通道孔特征622位于鄰近的第二行614與第三列位置616中?；谟?jì)算D的方法，如方程式(1)所顯示的作為列位置數(shù)目的差異的大小，第一通道孔圖案及第二通道孔圖案的列位置數(shù)目的差異的大小為3減1，其等于2。
[0129]因此，當(dāng)單元胞中的N個(gè)通道孔圖案的總數(shù)(為8)除以2的數(shù)值D時(shí)，存在有零的余數(shù)。如此，在鄰近的單元胞之間存在有通道孔圖案的重疊。這種重疊是在位于掩模上的面積636中的0PC特征之間。面積636包括在第一單元胞中的一通道孔圖案的一通道孔特征628，其位于具有一行數(shù)8的行624與具有一列數(shù)8的列626中。[0130]面積636亦包括一通道孔圖案的一通道孔特征630，其位于第四重復(fù)的單元胞618中。第四重復(fù)的單元胞中的通道孔圖案的這種通道孔特征630位于具有1的行數(shù)的第四重復(fù)的單元胞618的行632中。第四重復(fù)的單元胞中的通道孔圖案的這種通道孔特征630位于具有1的列數(shù)的第四重復(fù)的單元胞的列634。具有第四單元胞中的1的行數(shù)的行632是鄰接于具有第一單元胞600中的8的行數(shù)的行624。具有第四重復(fù)的單元胞中的1的列數(shù)的列634是鄰接于具有第一單元胞600中的8的列數(shù)的列626。因此，在掩模上的多個(gè)通道孔圖案中，具有通道孔特征630的通道孔圖案是鄰接于具有通道孔特征628的通道孔圖案。因此，在具有通道孔特征628及630的通道孔圖案的0PC特征之間存在有重疊。因此，光學(xué)隔離并不存在于掩模的面積636中的通道孔圖案之間。當(dāng)通過(guò)使用掩模上的特征而形成于晶片上的特征并未因?yàn)橥ㄟ^(guò)掩模上的一個(gè)特征的照射而構(gòu)建的電磁輻射圖案與通過(guò)掩模上的另一個(gè)特征的照射而構(gòu)建的電磁輻射圖案的交互作用的結(jié)果而顯著地被扭曲時(shí)，光學(xué)隔離為了本申請(qǐng)案的目的而達(dá)成。如此，光學(xué)隔離并不是為了用于構(gòu)建圖5所顯示的通道孔配置的每個(gè)通道孔圖案而構(gòu)建在掩模上。
[0131]再次參見(jiàn)圖4，具有通道孔特征及0PC特征的掩模的一部分構(gòu)建圖3所顯示的通道孔配置。每個(gè)通道孔特征及相關(guān)的0PC特征形成定義掩模上的一區(qū)域406 (其為正方形)的一通道孔圖案。如以前所討論的，單元胞408包括在由可在掩模上被重復(fù)的單元胞所定義的區(qū)域內(nèi)的最小數(shù)目的N個(gè)通道孔圖案，以便構(gòu)建圖3所顯示的通道孔配置。每個(gè)單元胞可以是具有一側(cè)長(zhǎng)度L 410的正方形。單元胞中的通道孔圖案數(shù)N為由在形成通道孔時(shí)的通道孔圖案的定位所定義的掩模上的行的數(shù)目。如方程式(4)所示，單元胞的側(cè)長(zhǎng)度L410為在單元胞之內(nèi)的通道孔圖案數(shù)N乘以行間距或列間距p。
[0132]L = Np (4)
[0133]因?yàn)閱卧赡苁钦叫危詥卧目偯娣eA為側(cè)長(zhǎng)度L的平方。因?yàn)閭?cè)長(zhǎng)度等于單元胞中的通道孔圖案數(shù)N及列或行間距p的乘積，所以如方程式(5)所示，單元胞的總面積A為通道孔圖案數(shù)N的平方乘以列或行間距p的平方。
[0134]A = L2 = N2p2 (5)
[0135]由通道孔圖案所定義的每個(gè)面積a 406為正方形，這種面積a 406可被表示成單元胞的總面積除以在單元胞之內(nèi)的通道孔圖案數(shù)N。因?yàn)閱卧目偯娣e為通道孔圖案數(shù)N的平方乘以列或行間距的平方，所以單元胞的總面積除以通道孔圖案數(shù)N剩下通道孔圖案的總數(shù)N乘以列間距或行間距p平方。因此，如方程式(6)所示，一通道孔圖案的面積a406為在單元胞之內(nèi)的通道孔圖案及相關(guān)的通道孔圖案的數(shù)目N與列間距或行間距p的平方的乘積。
A N—fy 。
[0136]a 二 — =-= /V/廠(6)
N N r
[0137]各面積a 406為具有側(cè)長(zhǎng)度1 410的正方形。因?yàn)檫@種面積為正方形，所以這種面積a的側(cè)長(zhǎng)度1 410如方程式(7)所顯示的)為面積的平方根。因?yàn)槊娣ea為單元胞中的通道孔圖案數(shù)N與列間距或行間距p的平方的乘積，所以這種面積的平方根為單元胞中的N個(gè)通道孔圖案的平方根乘以列間距或行間距p。因此，由通道孔圖案(其是由一通道孔特征及相關(guān)的0PC特征所組成)所定義的面積a的側(cè)邊410的長(zhǎng)度1，為單元胞中的N個(gè)通道孔圖案的平方根與列間距或行間距P的乘積。[0138]
【權(quán)利要求】
1.一種光刻掩模，包括:多個(gè)通道孔圖案，位于一掩模上，該掩模界定一晶片上的多個(gè)通道孔，該多個(gè)通道孔圖案在該掩模上具有位于在該掩模上的具有一列間距的一組鄰近的通道孔列位置，以及在該掩模上具有一行間距的一組鄰近的通道孔行位置的特定交點(diǎn)的多個(gè)通道孔位置，該多個(gè)通道孔圖案中的多個(gè)通道孔圖案包括多個(gè)通道孔特征及關(guān)于該多個(gè)通道孔特征的多個(gè)光學(xué)鄰近效應(yīng)修正特征的組合，該多個(gè)組合具有在該掩模上大于該行間距的一長(zhǎng)度，以及在該掩模上大于該列間距的一寬度，且該多個(gè)通道孔圖案中的該多個(gè)通道孔圖案是與該多個(gè)通道孔圖案中的其他通道孔圖案不重疊。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模，其中在該組鄰近的通道孔行位置的鄰近行中的該多個(gè)通道孔位置的列之間的一第一整數(shù)差異等于R列的一通道孔列間距整數(shù)，而在該組鄰近的通道孔列位置的鄰近列中的該多個(gè)通道孔位置的行之間的一第二整數(shù)差異等于C行的一通道孔行間距整數(shù)，其中一整數(shù)D等于下述的其中一個(gè):(i)該多個(gè)通道孔圖案的數(shù)目的一整數(shù)N的一平方根，補(bǔ)足尾數(shù)至一最靠近的較高整數(shù)；以及(?)該多個(gè)通道孔圖案的數(shù)目的該整數(shù)N的該平方根，舍去尾數(shù)至一最靠近的較低整數(shù)，且該整數(shù)D等于R列的該通道孔列間距整數(shù)與C行的該通道孔行間距整數(shù)的至少一個(gè)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模，其中在該組鄰近的通道孔行位置的鄰近行中的該多個(gè)通道孔位置的列之間的一第一整數(shù)差異等于R列的一通道孔列間距整數(shù)，而在該組鄰近的通道孔列位置的鄰近列中的該多個(gè)通道孔位置的行之間的一第二整數(shù)差異等于C行的一通道孔行間距整數(shù)，而其中在該多個(gè)鄰近行中的多個(gè)通道孔位置包括位于一第一列的一第一通道孔位置以及位于一第二列的一第二通道孔位置，并因應(yīng)于少于安置在該第一列與該組鄰近的通道孔列位置的一第一端之間的R列的該通道孔列間距整數(shù)，以及少于安置在該第二列與該組鄰近的通道孔列位置的一第二端之間的R列的該通道孔列間距整數(shù)，R列的該通道孔間距整數(shù)是從該第一列至該組鄰近的通道孔列位置的該第一端以及從該第二列至該組鄰近的通道孔列位置的該第二端被計(jì)數(shù)出。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模，其中一單元胞包括具有一組相對(duì)于彼此的相對(duì)位置的該多個(gè)通道孔單元，且該掩模更包括額外多個(gè)通道孔圖案，其被包括在該單元胞的一副本中，該額外多個(gè)通道孔圖案具有由該單元胞的該副本的安置所決定的多個(gè)額外通道孔位置，其中一零余數(shù)起因于下述的至少一者:(i)該多個(gè)通道孔圖案的數(shù)目的一整數(shù)N除以R列的該通道孔列間距整數(shù)，以及(ii)該多個(gè)通道孔圖案的數(shù)目的該整數(shù)N除以C行的該行間距整數(shù)，且因應(yīng)于該單元胞與具有鄰近位置的該單元胞的該副本,該零余數(shù)表示該單元胞中的該多個(gè)通道孔位置的一第一通道孔位置以及該單元胞的該副本中的該多個(gè)額外通道孔位置的一第二通道孔位置位于該組鄰近的通道孔列位置的鄰近列以及該組鄰近的通道孔行位置的鄰近行中。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模，其中一單元胞包括具有一組相對(duì)于彼此的相對(duì)位置的該多個(gè)通道孔單元，且該掩模更包括額外多個(gè)通道孔圖案，其被包括在該單元胞的一副本中，該額外多個(gè)通道孔圖案具有由該單元胞的該副本的安置所決定的多個(gè)額外通道孔位置，其中一非零余數(shù)起因于下述的至少一者:(i)該多個(gè)通道孔圖案的數(shù)目的一整數(shù)N除以R列的該通道孔列間距整數(shù)，以及(ii)該多個(gè)通道孔圖案的數(shù)目的該整數(shù)N除以C行的該行間距整數(shù)，且因應(yīng)于該單元胞與具有鄰近位置的該單元胞的該副本,該非零余數(shù)表示在該單元胞中的該多個(gè)通道孔位置與在該單元胞的該副本中的該多個(gè)額外通道孔位置是被下述的一個(gè)或多個(gè)隔開(kāi):(i)該組鄰近的通道孔列位置的至少一中介列，以及(ii)該組鄰近的通道孔行位置的至少一中介行。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模，其中該多個(gè)光學(xué)鄰近效應(yīng)修正特征包括多個(gè)散射條。
7.一種集成電路布局的制造方法，包括:利用一計(jì)算機(jī)系統(tǒng)將多個(gè)通道孔圖案安置在定義一晶片上的多個(gè)通道孔的一掩模的一設(shè)計(jì)上，該多個(gè)通道孔圖案在該掩模上具有位于在該掩模上的具有一列間距的一組鄰近的通道孔列位置以及在該掩模上具有一行間距的一組鄰近的通道孔行位置的特定交點(diǎn)的多個(gè)通道孔位置，該多個(gè)通道孔圖案中的多個(gè)通道孔圖案包括多個(gè)通道孔特征以及關(guān)于該多個(gè)通道孔特征的多個(gè)光學(xué)鄰近效應(yīng)修正特征的組合，該多個(gè)組合具有大于該行間距的一長(zhǎng)度及大于該列間距的一寬度，且該多個(gè)通道孔圖案中的該多個(gè)通道孔圖案是與該多個(gè)通道孔圖案中的其他通道孔圖案不重疊。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中在該組鄰近的通道孔行位置的鄰近行中的該多個(gè)通道孔位置的列之間的一第一整數(shù)差異等于R列的一通道孔列間距整數(shù)，而在該組鄰近的通道孔列位置的鄰近列中的該多個(gè)通道孔位置的行之間的一第二整數(shù)差異等于C行的一通道孔行間距整數(shù)，其中一整數(shù)D等`于下述的其中一個(gè):(i)該多個(gè)通道孔圖案的數(shù)目的一整數(shù)N的一平方根，補(bǔ)足尾數(shù)至一最靠近的較高整數(shù)；以及(ii)該多個(gè)通道孔圖案的數(shù)目的該整數(shù)N的該平方根，舍去尾數(shù)至一最靠近的較低整數(shù)，且該整數(shù)D等于R列的該通道孔列間距整數(shù)與C行的該通道孔行間距整數(shù)的至少一個(gè)。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中在該組鄰近的通道孔行位置的鄰近行中的該多個(gè)通道孔位置的列之間的一第一整數(shù)差異等于R列的一通道孔列間距整數(shù)，而在該組鄰近的通道孔列位置的鄰近列中的該多個(gè)通道孔位置的行之間的一第二整數(shù)差異等于C行的一通道孔行間距整數(shù)，而其中在該多個(gè)鄰近行中的多個(gè)通道孔位置包括位于一第一列的一第一通道孔位置與位于一第二列的一第二通道孔位置，并因應(yīng)于少于安置在該第一列與該組鄰近的通道孔列位置的一第一端之間的R列的該通道孔列間距整數(shù)，以及少于安置在該第二列與該組鄰近的通道孔列位置的一第二端之間的R列的該通道孔列間距整數(shù)，R列的該通道孔間距整數(shù)是從該第一列至該組鄰近的通道孔列位置的該第一端以及從該第二列至該組鄰近的通道孔列位置的該第二端被計(jì)數(shù)出。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中一單元胞包括具有一組相對(duì)于彼此的相對(duì)位置的該多個(gè)通道孔單元，且該方法更包括額外多個(gè)通道孔圖案，其被包括在該單元胞的一副本中，該額外多個(gè)通道孔圖案具有由該單元胞的該副本的安置所決定的多個(gè)額外通道孔位置，其中一零余數(shù)起因于下述的至少一者:(i)該多個(gè)通道孔圖案的數(shù)目的一整數(shù)N除以R列的該通道孔列間距整數(shù)，以及(ii)該多個(gè)通道孔圖案的數(shù)目的該整數(shù)N除以C行的該行間距整數(shù)，且因應(yīng)于該單元胞與具有鄰近位置的該單元胞的該副本,該零余數(shù)表示該單元胞中的該多個(gè)通道孔位置的一第一通道孔位置以及該單元胞的該副本中的該多個(gè)額外通道孔位置的一第二通道孔位置位于該組鄰近的通道孔列位置的鄰近列以及該組鄰近的通道孔行位置的鄰近行中。
11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中一單元胞包括具有一組相對(duì)于彼此的相對(duì)位置的該多個(gè)通道孔單元，且該方法更包括額外多個(gè)通道孔圖案，其被包括在該單元胞的一副本中，該額外多個(gè)通道孔圖案具有由該單元胞的該副本的安置所決定的多個(gè)額外通道孔位置， 其中一非零余數(shù)起因于下述的至少一者:(i)該多個(gè)通道孔圖案的數(shù)目的一整數(shù)N除以R列的該通道孔列間距整數(shù)，以及(ii)該多個(gè)通道孔圖案的數(shù)目的該整數(shù)N除以C行的該行間距整數(shù)，且因應(yīng)于該單元胞與具有鄰近位置的該單元胞的該副本,該非零余數(shù)表示在該單元胞中的該多個(gè)通道孔位置與在該單元胞的該副本中的該多個(gè)額外通道孔位置是被下述的一個(gè)或多個(gè)隔開(kāi):(i)該組鄰近的通道孔列位置的至少一中介列，以及(ii)該組鄰近的通道孔行位置的至少一中介行。
12.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中該多個(gè)光學(xué)鄰近效應(yīng)修正特征包括多個(gè)散射條。
13.一種非暫時(shí)性計(jì)算機(jī)可讀媒體，具有儲(chǔ)存于其上的軟件用于將通道孔安置在一集成電路布局之內(nèi)，包括:多個(gè)指令，用于將多個(gè)通道孔圖案安置在定義一晶片上的多個(gè)通道孔的一掩模的一設(shè)計(jì)上，該多個(gè)通道孔圖案在該掩模上具有位于在該掩模上的具有一列間距的一組鄰近的通道孔列位置與在該掩模上具有一行間距的一組鄰近的通道孔行位置的特定交點(diǎn)的多個(gè)通道孔位置，該多個(gè)通道孔圖案中的多個(gè)通道孔圖案包括多個(gè)通道孔特征及關(guān)于該多個(gè)通道孔特征的多個(gè)光學(xué)鄰近效應(yīng)修正特征的組合，該多個(gè)組合具有大于該行間距的一長(zhǎng)度及大于該列間距的一寬度，且該多個(gè)通道孔圖案中的該多個(gè)通道孔圖案是與該多個(gè)通道孔圖案中的其他通道孔圖案不重疊。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的媒體，其中在該組鄰近的通道孔行位置的鄰近行中的該多個(gè)通道孔位置的列之間的一第一整數(shù)差異等于R列的一通道孔列間距整數(shù)，而在該組鄰近的通道孔列位置的鄰近列中的該多個(gè)通道孔位置的行之間的一第二整數(shù)差異等于C行的一通道孔行間距整數(shù)，其中一整數(shù)D等于下述的其中一個(gè):(i)該多個(gè)通道孔圖案的數(shù)目的一整數(shù)N的一平方根，補(bǔ)足尾數(shù)至一最靠近的較高整數(shù)；以及(ii)該多個(gè)通道孔圖案的數(shù)目的該整數(shù)N的該平方根，舍去尾數(shù)至一最靠近的較低整數(shù)；且該整數(shù)D等于R列的該通道孔列間距整數(shù)與C行的該通道孔行間距整數(shù)的至少一個(gè)。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的媒體，其中在該組鄰近的通道孔行位置的鄰近行中的該多個(gè)通道孔位置的列之間的一第一整數(shù)差異等于R列的一通道孔列間距整數(shù)，而在該組鄰近的通道孔列位置的鄰近列中的該多個(gè)通道孔位置的行之間的一第二整數(shù)差異等于C行的一通道孔行間距整數(shù)，且其中在該多個(gè)鄰近行中的多個(gè)通道孔位置包括位于一第一列的一第一通道孔位置與位于一第二列的一第二通道孔位置，并因應(yīng)于少于安置在該第一列與該組鄰近的通道孔列位置的一第一端之間的R列的該通道孔列間距整數(shù)，及少于安置在該第二列與該組鄰近的通道孔列位置的一第二端之間的R列的該通道孔列間距整數(shù)，R列的該通道孔間距整數(shù)是從該第一列至該組鄰近的通道孔列位置的該第一端以及從該第二列至該組鄰近的通道孔列位置的該第二端被計(jì)數(shù)出。
16.根據(jù)權(quán)利要求13所述的媒體，其中一單元胞包括一組相對(duì)于彼此的相對(duì)位置的該多個(gè)通道孔單元，且該媒體更包括額外多個(gè)通道孔圖案，其被包括在該單元胞的一副本中，該額外多個(gè)通道孔圖案具有由該單元胞的該副本的安置所決定的多個(gè)額外通道孔位置，其中一零余數(shù)起因于下述的至少一者:(i)該多個(gè)通道孔圖案的數(shù)目的一整數(shù)N除以R列的該通道孔列間距整數(shù)，以及(ii)該多個(gè)通道孔圖案的數(shù)目的該整數(shù)N除以C行的該行間距整數(shù)，且因應(yīng)于該單元胞與具有鄰近位置的該單元胞的該副本,該零余數(shù)表示該單元胞中的該多個(gè)通道孔位置的一第一通道孔位置以及該單元胞的該副本中的該多個(gè)額外通道孔位置的一第二通道孔位置位于該組鄰近的通道孔列位置的鄰近列以及該組鄰近的通道孔行位置的鄰近行中。
17.根據(jù)權(quán)利要求13所述的媒體，其中一單元胞包括具有一組相對(duì)于彼此的相對(duì)位置的該多個(gè)通道孔單元，且該媒`體更包括額外多個(gè)通道孔圖案，其被包括在該單元胞的一副本中，該額外多個(gè)通道孔圖案具有由該單元胞的該副本的安置所決定的多個(gè)額外通道孔位置，其中一非零余數(shù)起因于下述的至少一者:(i)該多個(gè)通道孔圖案的數(shù)目的一整數(shù)N除以R列的該通道孔列間距整數(shù)，以及(ii)該多個(gè)通道孔圖案的數(shù)目的該整數(shù)N除以C行的該行間距整數(shù)，且因應(yīng)于該單元胞與具有鄰近位置的該單元胞的該副本,該非零余數(shù)表示在該單元胞中的該多個(gè)通道孔位置與在該單元胞的該副本中的該多個(gè)額外通道孔位置是被下述的一個(gè)或多個(gè)隔開(kāi):(i)該組鄰近的通道孔列位置的至少一中介列，以及(ii)該組鄰近的通道孔行位置的至少一中介行。
18.根據(jù)權(quán)利要求13所述的媒體，其中該多個(gè)光學(xué)鄰近效應(yīng)修正特征包括多個(gè)散射條。
19.一種集成電路，供一陣列的存儲(chǔ)器單元用，該集成電路包括:一陣列的存儲(chǔ)器單元；至少一層的互聯(lián)機(jī)；以及多個(gè)N個(gè)層間連接器，該多個(gè)N個(gè)層間連接器形成至該至少一層的互聯(lián)機(jī)上的多條互聯(lián)機(jī)的連接，該多個(gè)層間連接器是被排列成R列及C行，在鄰近行中的多個(gè)層間連接器的列之間的一第一整數(shù)差異等于R列的一通道孔列整數(shù)差異，而在鄰近列中的多個(gè)層間連接器的行之間的一第二整數(shù)差異等于C行的一通道孔行整數(shù)差異，其中一整數(shù)D等于下述的其中一個(gè):(i)層間連接器的數(shù)目的一整數(shù)N的一平方根，補(bǔ)足尾數(shù)至一最靠近的較高整數(shù)；以及(ii)該多個(gè)層間連接器的數(shù)目的該整數(shù)N的該平方根，舍去尾數(shù)至一最靠近的較低整數(shù)；且該整數(shù)D亦等于R列的該列整數(shù)差異`與C行的該行整數(shù)差異的至少一個(gè)。
【文檔編號(hào)】G03F1/36GK103728828SQ201210388759
【公開(kāi)日】2014年4月16日 申請(qǐng)日期:2012年10月15日 優(yōu)先權(quán)日:2012年10月15日
【發(fā)明者】謝志昌, 陳士弘, 呂函庭 申請(qǐng)人:旺宏電子股份有限公司