專利名稱：一種彩膜基板、制作方法及液晶觸摸顯示裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及液晶顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別是指一種彩膜基板、制作方法及液晶觸摸顯示裝置。
背景技術(shù)：
目前觸摸屏使用十分廣闊，盒內(nèi)(incell)方式的觸摸屏由于減少了一玻璃罩使結(jié)構(gòu)更加輕薄，且減少了成本，是發(fā)展的趨勢(shì)。一般in cell方式的觸摸屏觸摸感應(yīng)電路位于陣列基板上，減少了開ロ率。且觸摸圖形通常會(huì)對(duì)液晶的顯示造成一定的影響。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種彩膜基板、制作方法及液晶觸摸顯示裝置， 減少了觸摸圖形對(duì)面板的開ロ率的影響。為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明的實(shí)施例提供一種彩膜基板，包括基板；形成在所述基板上的黑矩陣；形成在所述基板上的所述黑矩陣限定的像素區(qū)域內(nèi)的彩色樹脂層；以及位于所述基板和所述黑矩陣所在層之間的觸摸圖形。其中，所述觸摸圖形是位于所述黑矩陣正下方，且形狀與所述黑矩陣圖形的形狀相同的觸摸圖形。其中，所述觸摸圖形為鏤空觸摸圖形。其中，所述鏤空觸摸圖形為中間鏤空觸摸圖形。本發(fā)明的實(shí)施例還提供一種彩膜基板的制作方法，包括提供一基板；在所述基板上形成觸摸圖形；在所述觸摸圖形上形成黑矩陣圖形。其中，在形成黑矩陣圖形時(shí)，還包括形成所述黑矩陣限定的像素區(qū)域內(nèi)的彩色樹脂層。其中，在所述基板上形成由導(dǎo)電材料形成的觸摸圖形的步驟包括在所述基板上進(jìn)行透明金屬層沉積；使用掩膜版對(duì)該金屬層曝光刻蝕得到第一層圖案；在所述第一層圖案上進(jìn)行絕緣層沉積并刻蝕得到絕緣層；在所述絕緣層上進(jìn)行金屬沉積并刻蝕，形成相隔圖案的連接橋，從而得到觸摸圖形。本發(fā)明的實(shí)施例還提供ー種液晶觸摸顯示裝置，包括陣列基板；與所述陣列基板對(duì)盒設(shè)置的彩膜基板；
位于所述陣列基板與所述彩膜基板之間的液晶層；所述彩膜基板為如上所述的彩膜基板。其中，該裝置還包括位于所述陣列基板下方的第一偏光片。其中，該裝置還包括位于所述彩膜基板上方的第二偏光片。本發(fā)明的上述技術(shù)方案的有益效果如下上述方案中，通過將觸摸圖案制作在彩膜基板的黑矩陣的下面，減小了常見觸摸方式對(duì)開ロ率的影響，并且減小了觸摸圖形對(duì)液晶顯示的影響。


圖I為本發(fā)明的彩膜基板的第一實(shí)施例的截面圖；圖2為彩膜基板的觸摸圖形的俯視圖；圖3A為基板上沉積金屬層并刻蝕第一層圖案的不意圖；圖3B為在第一層圖案上進(jìn)行絕緣層沉積并刻蝕得到絕緣層的示意圖；圖3C為形成相隔圖案的連接橋303,從而最終形成觸摸圖形的不意圖；圖4為本發(fā)明的觸摸裝置的截面圖。[主要元件符號(hào)說(shuō)明]301觸摸圖案302絕緣層303連接橋200 基板201黑矩陣202像素區(qū)域203觸摸圖形101第一偏光片102陣列基板103液晶層104彩膜基板105第二偏光片
具體實(shí)施例方式為使本發(fā)明要解決的技術(shù)問題、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合附圖及具體實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)描述。如圖I所示，本發(fā)明的實(shí)施例彩膜基板包括基板200，該基板優(yōu)選可以是玻璃基板或者石英基板等；形成在所述基板200上的黑矩陣201 ;以及形成在所述基板200上的所述黑矩陣201限定的像素區(qū)域202內(nèi)的彩色樹脂層；該彩膜基板還包括位于所述基板200和所述黑矩陣201所在層之間的由導(dǎo)電材料形成的觸摸圖形203。其中，黑矩陣201為擋光層；像素區(qū)域202包括R(紅)、G (緑)、B (藍(lán))三原色像素區(qū)域。
所述觸摸圖形203是位于所述黑矩陣201正下方的觸摸圖形；通過將觸摸圖形設(shè)計(jì)到黑矩陣下方，減小了對(duì)面板的開ロ率的影響，進(jìn)一歩地，所述觸摸圖形203為鏤空觸摸圖形，優(yōu)選為中間鏤空觸摸圖形，更進(jìn)ー步減小了對(duì)面板的透過率的影響。圖2為彩膜基板的觸摸圖形的俯視圖；圖3為觸摸圖形在彩膜基板上的分布示意圖。本發(fā)明的上述實(shí)施例通過將觸摸圖形制作在彩膜基板的黑矩陣的下面，減小了常見觸摸方式對(duì)開ロ率的影響，并且減小了觸摸圖形對(duì)液晶顯示的影響。如圖4所示，本發(fā)明的實(shí)施例還提供ー種液晶觸摸顯示裝置，包括陣列基板102 ；與所述陣列基板102對(duì)盒設(shè)置的彩膜基板104 ;位于所述陣列基板102與所述彩膜基板104之間的液晶層103 ;其中，所述彩膜基板為如上述圖I ー圖3所示的實(shí)施例中的彩膜基板。其中，該液晶觸摸顯示裝置還可以包括位于所述陣列基板102下方的第一偏光片 101。 其中，該液晶觸摸顯示裝置還可以包括位于所述彩膜基板104上方的第二偏光片 105。該液晶觸摸顯示裝置同樣通過將觸摸圖形制作在彩膜基板的黑矩陣的下面，減小了常見觸摸方式對(duì)開ロ率的影響，并且減小了觸摸圖形對(duì)液晶顯示的影響。本發(fā)明的實(shí)施例還提供一種彩膜基板的制作方法，包括提供一基板；在所述基板上形成觸摸圖形；在所述觸摸圖形上形成黑矩陣圖形。其中，在形成黑矩陣圖形時(shí)，還包括形成所述黑矩陣限定的像素區(qū)域內(nèi)的彩色樹脂層。如圖3A —圖3C所示，在所述基板上形成由導(dǎo)電材料形成的觸摸圖形的步驟包括a.在玻璃基板上進(jìn)行透明金屬層沉積；b.使用掩膜版對(duì)該金屬層曝光刻蝕得到第一層圖案301 (301中間鏤空設(shè)計(jì)如圖I中的203所示)；c.在所述第一層圖案上進(jìn)行絕緣層沉積并刻蝕得到絕緣層302 ；d.進(jìn)行金屬沉積并刻蝕，形成相隔圖案的連接橋303，從而最終形成觸摸圖形。黑矩陣涂覆在觸摸圖形203上面，因?yàn)樵谕腹鈪^(qū)沒有觸摸圖案，所以増加了透光區(qū)的透過率。以上所述是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本發(fā)明所述原理的前提下，還可以作出若干改進(jìn)和潤(rùn)飾，這些改進(jìn)和潤(rùn)飾也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種彩膜基板,包括 基板； 形成在所述基板上的黑矩陣；以及 形成在所述基板上的所述黑矩陣限定的像素區(qū)域內(nèi)的彩色樹脂層； 其特征在于，還包括 位于所述基板和所述黑矩陣所在層之間的由導(dǎo)電材料形成的觸摸圖形。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的彩膜基板，其特征在于，所述觸摸圖形是位于所述黑矩陣正下方的觸摸圖形。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的彩膜基板，其特征在于，所述觸摸圖形為鏤空觸摸圖形。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，所述鏤空觸摸圖形為中間鏤空觸摸圖形。
5.一種彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括 提供一基板； 在所述基板上形成觸摸圖形； 在所述觸摸圖形上形成的黑矩陣圖形。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，在形成黑矩陣圖形時(shí)，還包括 形成所述黑矩陣限定的像素區(qū)域內(nèi)的彩色樹脂層。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，在所述基板上形成由導(dǎo)電材料形成的觸摸圖形的步驟包括 在所述基板上進(jìn)行透明金屬層沉積； 使用掩膜版對(duì)該金屬層曝光刻蝕得到第一層圖案； 在所述第一層圖案上進(jìn)行絕緣層沉積并刻蝕得到絕緣層； 在所述絕緣層上進(jìn)行金屬沉積并刻蝕，形成相隔觸摸圖案的連接橋，從而得到觸摸圖形。
8.一種液晶觸摸顯示裝置，包括 陣列基板； 與所述陣列基板對(duì)盒設(shè)置的彩膜基板； 位于所述陣列基板與所述彩膜基板之間的液晶層；其特征在于， 所述彩膜基板為如權(quán)利要求I一 4任一項(xiàng)所述的彩膜基板。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的液晶觸摸顯示裝置，其特征在于，還包括 位于所述陣列基板下方的第一偏光片。
10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的液晶觸摸顯示裝置，其特征在于，還包括 位于所述彩膜基板上方的第二偏光片。
全文摘要
本發(fā)明提供一種彩膜基板、制作方法及液晶觸摸顯示裝置，其中彩膜基板包括基板；形成在所述基板上的黑矩陣；以及形成在所述基板上的所述黑矩陣限定的像素區(qū)域內(nèi)的彩色樹脂層；位于所述基板和所述黑矩陣所在層之間的由導(dǎo)電材料形成的觸摸圖形。本發(fā)明的方案可以減少觸摸圖形對(duì)面板的開口率的影響。
文檔編號(hào)G02F1/1335GK102955288SQ201210422158
公開日2013年3月6日 申請(qǐng)日期2012年10月29日 優(yōu)先權(quán)日2012年10月29日
發(fā)明者徐智強(qiáng), 崔賢植, 嚴(yán)允晟, 李會(huì) 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司