專利名稱：一種雙面制程方法及曝光裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體和液晶顯示器領(lǐng)域，尤其涉及半導(dǎo)體和液晶顯示器制作過程中雙面制程方法及曝光裝置。
背景技術(shù)：
在現(xiàn)今的產(chǎn)品中，越來越多的會(huì)用到雙面制程工藝。如觸摸屏Touch，光柵等領(lǐng)域。隨著科技的發(fā)展，對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量的要求越來越高，尤其是精度的控制方面。 現(xiàn)有的雙面制程技術(shù)中，對(duì)于精度要求不高的Touch產(chǎn)品，往往采用雙面不進(jìn)行對(duì)位的處理方式。這樣的制程雖然簡(jiǎn)單，但是精度太低，后端的顯示會(huì)受到影響。對(duì)于精度要求較高的光柵產(chǎn)品，會(huì)先制得一面圖形，然后將反面的圖形與制得面進(jìn)行對(duì)位識(shí)別來實(shí)現(xiàn)位置的對(duì)正。這種方式雖然可以實(shí)現(xiàn)精確對(duì)位，但對(duì)位難度較大，產(chǎn)品的成品率較低。

發(fā)明內(nèi)容
(一)要解決的技術(shù)問題本發(fā)明的目的是提供一種雙面制程方法及曝光裝置，通過在曝光操作中對(duì)掩光板進(jìn)行的對(duì)位處理，簡(jiǎn)便地實(shí)現(xiàn)基板雙面圖形制作的精確對(duì)位，提高產(chǎn)品的質(zhì)量。(二)技術(shù)方案本發(fā)明是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的一種雙面制程方法，在曝光操作過程中，包括以下步驟SI :對(duì)曝光裝置內(nèi)兩張掩光板進(jìn)行對(duì)位處理；S2 :將基板運(yùn)送到曝光裝置的兩張掩光板之間；S3 :在所述基板上進(jìn)行雙面圖形的曝光操作。其中，步驟SI中，所述兩張掩光板根據(jù)該兩張掩光板上均設(shè)有的掩光板對(duì)位標(biāo)識(shí)進(jìn)行對(duì)位處理。此外，在步驟S3中，所述基板任一面進(jìn)行曝光操作時(shí)，均預(yù)先通過基板兩側(cè)和掩光板上均設(shè)有的基板對(duì)位標(biāo)識(shí)對(duì)該基板進(jìn)行對(duì)位操作。本發(fā)明還提供了一種雙面制程曝光裝置，包括兩張掩光板，需要加工的基板設(shè)置在所述兩張掩光板之間；所述兩張掩光板上分別設(shè)有掩光板對(duì)位標(biāo)識(shí)。其中，該曝光裝置采用雙光源，所述兩個(gè)光源分別在基板的兩側(cè)對(duì)應(yīng)設(shè)置，每個(gè)光源的出射光經(jīng)過掩光板對(duì)所述基板進(jìn)行曝光操作。此外，該曝光裝置采用單光源，該單光源的出射光具有雙向光路，其中，兩條單向光路分別設(shè)置在所述基板的兩側(cè)，每條單向光路經(jīng)掩光板對(duì)該基板進(jìn)行曝光操作。其中，所述曝光裝置中每個(gè)單向光路均采用單獨(dú)控制的方式。具體地，所述掩光板對(duì)位標(biāo)識(shí)的形狀為十字形。此外，所述基板的兩側(cè)面及掩光板上均設(shè)有基板對(duì)位標(biāo)識(shí)，所述基板對(duì)位標(biāo)識(shí)的形狀為X形。
(三)有益效果與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明有如下優(yōu)點(diǎn)I、本發(fā)明在基板圖案雙面制程時(shí)，對(duì)掩光板預(yù)先進(jìn)行對(duì)位操作，保證了基板雙面圖案的精確，保證了產(chǎn)品的質(zhì)量；2、本發(fā)明進(jìn)一步采用基板雙面的對(duì)位標(biāo)識(shí)進(jìn)行對(duì)位操作，保證了基板雙面圖案位置精確，保證了產(chǎn)品的質(zhì)量；3、本發(fā)明采用雙面同時(shí)曝光的方式，提高了曝光工藝的效率，并保證了雙面制程的精確定位。


圖I是本發(fā)明的雙面制程流程圖； 圖2是本發(fā)明的曝光裝置結(jié)構(gòu)示意圖；圖3是本發(fā)明的基板及其標(biāo)識(shí)結(jié)構(gòu)不意圖；圖4是本發(fā)明的采用雙向電源的曝光單元水平設(shè)置時(shí)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖5為本發(fā)明的基板對(duì)位標(biāo)識(shí)不意圖；圖6為本發(fā)明的掩光板對(duì)位標(biāo)識(shí)示意圖。在附圖中，各標(biāo)記所代表的組件列表如下 I-掩光板,2-掩光板對(duì)位標(biāo)識(shí)，3-基板,4-基板對(duì)位標(biāo)識(shí)，5-曝光光源。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施方式
做一個(gè)詳細(xì)的說明?，F(xiàn)有雙面制程中的基板對(duì)位標(biāo)識(shí)識(shí)別難度較大，成品的良率較低，故本發(fā)明為解決該問題進(jìn)行雙面制程曝光裝置的設(shè)計(jì)，主要是需要通過首先進(jìn)行掩光板之間的對(duì)位處理，然后分別進(jìn)行基板的雙面圖形制作。本實(shí)施例提供一種半導(dǎo)體和液晶顯示器制作過程中雙面制程方法及曝光裝置，在曝光操作過程中，如圖I和圖2所示，該雙面制程方法包括以下步驟SI :根據(jù)實(shí)際需要，對(duì)用于雙面制程的兩張掩光板I進(jìn)行對(duì)位處理。掩光板I的對(duì)位處理，可采用人工手動(dòng)調(diào)整的方式，也可以采用通過位置測(cè)量的方式。本實(shí)施例優(yōu)選的方式為在兩張掩光板I上分別設(shè)定掩光板對(duì)位標(biāo)識(shí)2,該掩光板對(duì)位標(biāo)識(shí)2可采用任何圖案標(biāo)記，如圖6所示，本實(shí)施例中掩光板對(duì)位標(biāo)識(shí)2采用了十字形狀。根據(jù)設(shè)定的掩光板對(duì)位標(biāo)識(shí)2，對(duì)兩張掩光板I進(jìn)行對(duì)位處理，完成位置的調(diào)整。曝光單元區(qū)域中的曝光方向可以為豎直方向也可以為水平方向；實(shí)際使用中，曝光裝置可以使用雙曝光光源。曝光裝置也可以在曝光單元原有結(jié)構(gòu)上使用單曝光光源。S2 :將基板3運(yùn)送到曝光裝置的兩張掩光板I之間；通常預(yù)先將需要進(jìn)行雙面制程的基板3進(jìn)行雙面涂布BM光刻膠的處理。S3 :進(jìn)行該基板3雙面圖形的制作。在S3步驟中，首先分別在基板3的雙面制作基板對(duì)位標(biāo)識(shí)4，如圖3和圖5所示，本實(shí)施例優(yōu)選在基板3的上表面和下表面分別對(duì)應(yīng)設(shè)置基板對(duì)位標(biāo)識(shí)4，該基板對(duì)位標(biāo)識(shí)的形狀可以為X形或任一圖形。同時(shí)，如圖6所不,在掩光板I表面也與基板3對(duì)應(yīng)設(shè)置相同的基板對(duì)位標(biāo)識(shí)4 ；制作完成后，進(jìn)行基板對(duì)位標(biāo)識(shí)4的對(duì)位操作。基板3按照正常的順序進(jìn)行雙面圖形的制作。基板3的對(duì)位操作，是通過將基板表面的基板對(duì)位標(biāo)識(shí)4與對(duì)應(yīng)設(shè)置在掩光板I上的基板對(duì)位標(biāo)識(shí)4相對(duì)位?；?雙面的圖形在制程時(shí)，都需要進(jìn)行基板對(duì)位標(biāo)識(shí)4的對(duì)位操作，從而保證基板3的雙面制程的精確性，滿足作為光柵產(chǎn)品或高精度Touch產(chǎn)品的性能要求。如圖4所示，本實(shí)施例提供的雙面制程曝光裝置，包括兩張掩光板1，需要加工的基板3設(shè)置在所述兩張掩光板I之間，該兩張掩光板I上分別設(shè)有掩光板對(duì)位標(biāo)識(shí)2，用于對(duì)掩光板I進(jìn)行對(duì)位處理。該掩光板對(duì)位標(biāo)識(shí)2可采用任何圖案標(biāo)記，本實(shí)施例中可以采用十字形狀或任一形狀的掩光板對(duì)位標(biāo)識(shí)2?；?的兩側(cè)面及掩光板I上均設(shè)有基板對(duì)位標(biāo)識(shí)4，用于在對(duì)基板曝光處理前進(jìn)行對(duì)位操作，本實(shí)施例中，基板對(duì)位標(biāo)識(shí)4的形狀可以為X形。 本曝光裝置在使用雙光源情況下，將兩個(gè)曝光光源5分別布置在將要進(jìn)行雙面制程的基板3兩側(cè)，并置于對(duì)應(yīng)的掩光板I外側(cè)。每條單向光路經(jīng)掩光板I對(duì)該基板3進(jìn)行曝光操作。如使用單曝光光源，該方式需要進(jìn)行原有光源的光路改造，將原有光源通過光路改造成雙向光路(水平或豎直皆可)，其中，兩條單向光路分別設(shè)置在所述基板3的兩側(cè)，每條單向光路經(jīng)掩光板I對(duì)該基板3進(jìn)行曝光操作。采用的改造方法可以通過鏡面反射、透鏡折射等光路調(diào)整方式完成，且在該單曝光光源的雙向光路中，單向光路可以采用單獨(dú)控制方式，單獨(dú)控制方式下的單向光路便于調(diào)整曝光光路，保證產(chǎn)品曝光工藝質(zhì)量。在掩光板制程過程中掩光板圖形精度可以達(dá)到I. Oum左右，在現(xiàn)有曝光設(shè)備中掩光板的對(duì)位標(biāo)識(shí)識(shí)別以及對(duì)位系統(tǒng)對(duì)位精度可以在I. 0-2. Oum左右，最終形成的基板對(duì)位標(biāo)識(shí)的精度可以控制在3. Oum以內(nèi)。而現(xiàn)有使用的不經(jīng)過對(duì)位的雙面制程工作對(duì)位精度可以控制在30um左右，故與現(xiàn)有技術(shù)相比，該技術(shù)可以大大提升雙面制程的對(duì)位精度。以上實(shí)施方式僅用于說明本發(fā)明，而并非對(duì)本發(fā)明的限制，有關(guān)技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的情況下，還可以做出各種變化和變型，因此所有等同的技術(shù)方案也屬于本發(fā)明的范疇，本發(fā)明的專利保護(hù)范圍應(yīng)由權(quán)利要求限定。
權(quán)利要求
1.一種雙面制程方法，其特征在于，在曝光操作過程中，包括以下步驟 51:對(duì)曝光裝置內(nèi)兩張掩光板進(jìn)行對(duì)位處理； 52:將基板運(yùn)送到曝光裝置的兩張掩光板之間； 53:在所述基板上進(jìn)行雙面圖形的曝光操作。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的雙面制程方法，其特征在于，步驟SI中，所述兩張掩光板根據(jù)該兩張掩光板上分別設(shè)有的掩光板對(duì)位標(biāo)識(shí)進(jìn)行對(duì)位處理。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的雙面制程方法，其特征在于，步驟S3中，所述基板任一面進(jìn)行曝光操作時(shí)，均預(yù)先通過基板兩側(cè)和掩光板上分別設(shè)有的基板對(duì)位標(biāo)識(shí)對(duì)該基板進(jìn)行對(duì)位操作。
4.一種雙面制程曝光裝置，其特征在于，包括兩張掩光板，需要加工的基板設(shè)置在所述兩張掩光板之間；所述兩張掩光板上分別設(shè)有掩光板對(duì)位標(biāo)識(shí)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的雙面制程曝光裝置，其特征在于，該曝光裝置采用雙光源，所述兩個(gè)光源分別在所述基板的兩側(cè)對(duì)應(yīng)設(shè)置，每個(gè)光源的出射光經(jīng)過掩光板對(duì)所述基板進(jìn)行曝光操作。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的雙面制程曝光裝置，其特征在于，該曝光裝置采用單光源，該單光源的出射光具有雙向光路，其中，兩條單向光路分別設(shè)置在所述基板的兩側(cè)，每條單向光路經(jīng)掩光板對(duì)該基板進(jìn)行曝光操作。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的雙面制程曝光裝置，其特征在于，所述曝光裝置中每個(gè)單向光路均采用單獨(dú)控制的方式。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的雙面制程曝光裝置，其特征在于，所述掩光板對(duì)位標(biāo)識(shí)的形狀為十字形。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的雙面制程曝光裝置，其特征在于，所述基板的兩側(cè)面及掩光板上均設(shè)有基板對(duì)位標(biāo)識(shí)，所述基板對(duì)位標(biāo)識(shí)的形狀為X形。
全文摘要
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體和液晶顯示器領(lǐng)域，尤其涉及半導(dǎo)體和液晶顯示器制作過程中雙面制程方法及曝光裝置，即在曝光操作過程中，首先對(duì)曝光機(jī)內(nèi)兩張光掩模進(jìn)行設(shè)備內(nèi)的對(duì)位處理，再將基板運(yùn)送到曝光裝置的兩張光掩模之間，然后進(jìn)行該基板雙面圖形的制作。該曝光裝置包括兩張掩光板，需要加工的基板設(shè)置在所述兩張掩光板之間；所述兩張掩光板上分別設(shè)有掩光板對(duì)位標(biāo)識(shí)。本發(fā)明在基板圖案雙面制程時(shí)，對(duì)掩光板預(yù)先進(jìn)行對(duì)位操作，保證了基板雙面圖案的精確，保證了產(chǎn)品的質(zhì)量。
文檔編號(hào)G03F9/00GK102968000SQ20121047774
公開日2013年3月13日 申請(qǐng)日期2012年11月21日 優(yōu)先權(quán)日2012年11月21日
發(fā)明者王燦, 何璇 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司