專利名稱：光敏ctp印版新型制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光敏CTP印版制作技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種光敏CTP印版新型制作方法。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有技術(shù)的印版曝光方法包括利用激光束曝光、預(yù)加熱、顯影成像、涂膠保護(hù)等工序。這種方法的缺陷是，光敏CTP版藥膜面光敏材料曝光反應(yīng)是一種光能量的積累，曝光時(shí)間越長(zhǎng)印版上化學(xué)物質(zhì)反應(yīng)越充分，造成網(wǎng)點(diǎn)邊緣模糊，不銳利，網(wǎng)點(diǎn)越大，反應(yīng)到印刷品 上就是制版精度低。由于激光頭到印刷版的距離較長(zhǎng)，激光點(diǎn)發(fā)生變形，能量分布不均，造成曝光分辨率下降，陰線或字糊版。而要提高光敏CTP版的耐印率，必須增強(qiáng)版材藥膜面中單體或齊聚物的聚合交聯(lián)合反應(yīng)，需要增加曝光時(shí)間和激光器的功率，但是這樣就會(huì)影響制版精度，造成小字或細(xì)陰線糊版。為了提高制版精度，就要降低激光器曝光能量，減少曝光時(shí)間，但是會(huì)降低印版耐印率，增加生產(chǎn)成本，印版圖文的穩(wěn)定性降低。為解決提高制版精度和提高印版耐印率，降低印刷成本之間的矛盾，而進(jìn)行本發(fā)明。通過此項(xiàng)發(fā)明技術(shù)的應(yīng)用，一方面可以提聞制版精度，制版精度由15μηι提聞到了 10 μ m,同時(shí)印版的耐率提聞了80%，達(dá)到20萬(wàn)印。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的就是為了解決現(xiàn)有技術(shù)存在的上述問題和不足；提供一種光敏CTP印版制作方法；通過增加印版二次光聚合反應(yīng)工序，能夠降低曝光工序的激光束功率，能夠輸出< IOym的細(xì)線；分辨率高，清晰度高，提高了制版精度，提高了產(chǎn)品質(zhì)量和印版耐印率，同時(shí)降低印刷成本。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案一種光敏CTP印版新型制作方法，包括以下步驟I)將印版放置到曝光機(jī)，受控激光光束將激光照射到需要曝光的版面位置上進(jìn)行曝光；2)印版曝光完畢后，先對(duì)印版預(yù)加熱；3)印版顯影，顯影后將空白部分沖洗掉，上膠保護(hù)；4)印版二次光聚合反應(yīng)將印版送入LED UV曝光單元，連續(xù)曝光；5)取出印版，集版器把板放置好。所述步驟I)受控激光光束功率為15mw。受控光束概率從原來的25mw降為15mw，一方面節(jié)約了電能，更重要的是提高了印版分辨率，避免了陰線或字糊版。所述步驟2)印版預(yù)加熱的溫度為110° 115°。所述步驟4)印版在曝光單元內(nèi)連續(xù)曝光時(shí)間3min。本發(fā)明的有益效果1.通過印版二次光聚合反應(yīng)進(jìn)行連續(xù)曝光，不用通過加大曝光量來增強(qiáng)單體或齊聚物的聚合交聯(lián)反應(yīng)，從而導(dǎo)致材料的物理性能發(fā)生有意義的變化，提高了光敏CTP印版的耐印率。2.解決了光敏技術(shù)存在的光衍射造成的不能生成< 15μπι細(xì)線或0.6磅字的問題；LED UV壽命長(zhǎng)，可靠性高，連續(xù)曝光時(shí)間長(zhǎng)，能夠輸出< IOym的細(xì)線；分辨率高，清晰度高，提高了產(chǎn)品質(zhì)量和耐印率，同時(shí)降低印刷成本。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合實(shí)施例對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步說明。一種光敏CTP印版新型制作方法 ，包括以下步驟I)將印版放置到曝光機(jī)，受控激光光束將激光照射到需要曝光的版面位置上進(jìn)行曝光；2)印版曝光完畢后，先對(duì)印版預(yù)加熱；3)印版顯影，顯影后將空白部分沖洗掉，上膠保護(hù)；4)印版二次光聚合反應(yīng)將印版送入LED UV曝光單元，連續(xù)曝光；5)取出印版，集版器把板放置好。所述步驟I)受控激光光束功率為15mw。受控光束概率從原來的25mw降為15mw，一方面節(jié)約了電能，更重要的是提高了印版分辨率，避免了陰線或字糊版。所述步驟2)印版預(yù)加熱的溫度為110° 115°。所述步驟4)印版在曝光單元內(nèi)連續(xù)曝光時(shí)間3min。上述雖然對(duì)發(fā)明的具體實(shí)施方式
進(jìn)行了描述，但并非對(duì)本發(fā)明保護(hù)范圍的限制，所屬領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該明白，在本發(fā)明的技術(shù)方案的基礎(chǔ)上，本領(lǐng)域技術(shù)人員不需要付出創(chuàng)造性勞動(dòng)即可做出的各種修改或變形仍在本發(fā)明的保護(hù)范圍以內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種光敏CTP印版新型制作方法，其特征是，包括以下步驟1)將印版放置到曝光機(jī)，受控激光光束將激光照射到需要曝光的版面位置上進(jìn)行曝光;2)印版曝光完畢后，對(duì)印版預(yù)加熱；3)印版顯影，顯影后將空白部分沖洗掉，上膠保護(hù)；4)印版二次光聚合反應(yīng)將印版送入LEDUV曝光單元連續(xù)曝光；5)取出印版，集版器把板放置好。
2.如權(quán)利要求1所述的光敏CTP印版新型制作方法，其特征是，所述步驟I)受控激光光束功率為15mw。
3.如權(quán)利要求1所述的光敏CTP印版新型制作方法，其特征是，所述步驟2)印版預(yù)加熱的溫度為110° 115°。
4.如權(quán)利要求1所述的光敏CTP印版新型制作方法，其特征是，所述步驟4)印版在曝光單元內(nèi)連續(xù)曝光時(shí)間3min。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種光敏CTP印版新型制作方法，包括以下步驟1)將印版放置到曝光機(jī)，受控激光光束將激光照射到需要曝光的版面位置上進(jìn)行曝光；2)印版曝光完畢后，先對(duì)印版預(yù)加熱；3)印版顯影，顯影后將空白部分沖洗掉，上膠保護(hù)；4)印版二次光聚合反應(yīng)將印版送入LED UV曝光單元，連續(xù)曝光3min；5)取出印版，集版器把板放置好。所述步驟1)受控激光光束功率為15mw，所述步驟2)印版預(yù)加熱的溫度為110℃～115℃，所述步驟4)印版在曝光單元內(nèi)連續(xù)曝光時(shí)間3min。通過增加印版二次光聚合反應(yīng)工序，能夠降低曝光工序的激光束功率，能夠輸出≤10μm的細(xì)線；分辨率高，清晰度高，提高了產(chǎn)品質(zhì)量和耐印率。
文檔編號(hào)G03F7/20GK102998911SQ20121051601
公開日2013年3月27日 申請(qǐng)日期2012年12月5日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月5日
發(fā)明者朱立和, 王治國(guó), 趙公文, 竇運(yùn)玉 申請(qǐng)人:山東魯信天一印務(wù)有限公司