一種具有固定輔助邊的掩模板及其制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種具有固定輔助邊的掩模板，包括掩模板主體、輔助邊及半刻線區(qū)，其特征在于，所述輔助邊設置在所述掩模板主體外側通過所述半刻線區(qū)與所述掩模板主體連接；本發(fā)明還公開了相應的制作方法。本發(fā)明公開的具有固定輔助邊的掩模板可以方便省力的將輔助邊切除，并大大降低了傳統(tǒng)工藝剪切過程中對原有掩模板上絲網(wǎng)的影響，也避免了傳統(tǒng)工藝中的掩模板邊緣曲翹甚至使得裁剪區(qū)域附近固定點脫落，大大提高了生產效率。
【專利說明】一種具有固定輔助邊的掩模板及其制作方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及一種掩模板，具體涉及一種具有固定輔助邊的掩模板及其制作方法，屬于OLED掩模板制造領域。
[0002]
【背景技術】
[0003]OLED顯示屏作為繼CRT、IXD之后最具有發(fā)展?jié)摿Φ牡谌@示技術，其發(fā)展日益受到人們的關注，目前，制備高質量OLED屏的一種核心技術是采用高精密OLED掩模板在ITO玻璃基板上蒸鍍R、G、B三原色制得。作為掩模介質的OLED掩模板的精度會直接影響到最終OLED屏的質量，因此業(yè)內非常重視OLED掩模板制作的每個環(huán)節(jié)。一個完整OLED掩模板制造過程包括:具有開口圖案掩模板的制作一掩模板的固定一掩模板的包裝。其中掩模板的固定環(huán)節(jié)具體是將掩模板繃拉平整后通過激光焊接或者其他連接方式固定在一個外框上，為了便于繃拉，掩模板的外圍會留有一個用于繃拉的區(qū)域，掩模板固定好后，用于繃拉的區(qū)域需要裁除，通常裁除手段是通過機械裁剪等方法，如此會引起掩模板邊緣曲翹甚至使得裁剪區(qū)域附近固定點脫落，影響最終產品質量。因此，業(yè)界亟需一種能夠在OLED掩模板制造過程中解決此種缺陷的方法。
[0004]
【發(fā)明內容】

[0005]有鑒于此，需要克服現(xiàn)有技術中的上述缺陷中的至少一個。本發(fā)明提供了一種具有固定輔助邊的掩模板及其制作方法
所述具有固定輔助邊的掩模板，包括掩模板主體、輔助邊及半刻線區(qū)，所述輔助邊設置在所述掩模板主體外側通過所述半刻線區(qū)與所述掩模板主體連接。
[0006]根據(jù)本專利【背景技術】中對現(xiàn)有技術所述，目前工藝中掩模板的固定環(huán)節(jié)具體是將掩模板繃拉平整后通過激光焊接或者其他連接方式固定在一個外框上，為了便于繃拉，掩模板的外圍會留有一個用于繃拉的區(qū)域，掩模板固定好后，用于繃拉的區(qū)域需要裁除，通常裁除手段是通過機械裁剪等方法，如此會引起掩模板邊緣曲翹甚至使得裁剪區(qū)域附近固定點脫落，影響最終產品質量；而本發(fā)明提供的所述具有固定輔助邊的掩模板具有與傳統(tǒng)工藝中功能類似的輔助邊，所述具有固定輔助邊的掩模板在連接并固定在外框上后由于所述半刻線區(qū)的存在，可以很方便省力的將輔助邊切除，并大大降低了傳統(tǒng)工藝剪切過程中對原有掩模板上絲網(wǎng)的影響，也避免了傳統(tǒng)工藝中的掩模板邊緣曲翹甚至使得裁剪區(qū)域附近固定點脫落，大大提聞了生廣效率。
[0007]另外，根據(jù)本發(fā)明公開的具有固定輔助邊的掩模板還具有如下附加技術特征: 可選地，所述輔助邊設置在掩模板主體的四周形成封閉外框且通過所述半刻線區(qū)與所
述掩模板主體連接。
[0008]可選地，所述輔助邊設置在掩模板主體的兩對邊形成開放外框且通過所述半刻線區(qū)與所述掩模板主體連接。
[0009]通常情況下，所述掩模板主體為四邊形的絲網(wǎng)，所述輔助邊可以在所述掩模板主體的四個周邊設置形成一個四邊形的封閉的外圍邊框，并通過所述半刻線與所述掩模板主體聯(lián)接；但在某些情況下，所述輔助邊只是在所述掩模板主體的兩個對邊設置形成一個平行的開放的外圍邊框，即僅有兩個對邊的外圍邊框，同時通過所述半刻線與所述掩模板主體聯(lián)接。
[0010]進一步地，所述半刻線區(qū)為厚度小于所述掩模板主體厚度且小于所述輔助邊厚度的狹長區(qū)域。
[0011]優(yōu)選地，所述半刻線與固定掩模板主體的外框形狀尺寸相適應，即半刻線區(qū)形成的外邊形狀與外框形狀保持一致或基本一致，在去除輔助邊后，掩模板主體外邊能與外框邊緣吻合。
[0012]所述輔助邊及所述半刻線區(qū)的存在是為了在所述掩模板連接并固定在外框進行裁切后降低裁切過程中對掩模板的影響，因此連接所述掩模板主體和所述輔助邊的半刻線區(qū)為所述掩模板主體厚度且小于所述輔助邊厚度的狹長區(qū)域，這樣一方面能將固定連接邊緣限制在所述半刻線區(qū)內，避免裁切過程中對所述半刻線區(qū)內的所述掩模板主體的影響，同時，大大降低了裁切力，節(jié)能且高效。
[0013]在實際應用中，所述半刻線區(qū)的厚度設置應由以下原則確定:半刻線區(qū)13能夠承受外界將掩模板拉緊繃平的水平拉力(相對圖中所示方位)而不斷裂，同時也能在相對較小的剪切力(垂直于掩模板板面)下斷開。
[0014]進一步地，所述半刻線區(qū)設置有通孔。
[0015]優(yōu)選地，所述通孔均勻分布。
[0016]所述通孔的設置進一步降低了裁切力，而均勻分布的通孔則可以使裁切力更加均勻，形成良好的切口斷面。
[0017]可選地，所述半刻線區(qū)邊緣設置有大開口。
[0018]優(yōu)選地，所述大開口對稱分布在所述半刻線邊緣。
[0019]所述大開口的設置可以更好地提供裁切的起始位置，使起始的裁切力更小，
本發(fā)明還提供了相應的掩模板的制作方法，其特征包括:
Si，壓貼感光干膜:在所述掩模板上待制半刻線區(qū)以及其兩側均壓貼感光干膜；
S2，曝光:按照設計圖形通過曝光機對所述感光干膜進行曝光，使得非蝕刻區(qū)域曝光； S3，去除未曝光干膜:將曝光后的掩模板通過顯影去除未曝光干膜區(qū)；
S4，蝕刻:將顯影后的所述掩模板蝕刻后，即可形成所述半刻線區(qū)。
[0020]褪膜后的掩模板經(jīng)過清潔處理后，需通過機械繃緊拉平固定在外框上，在繃拉過程中，機械繃拉裝置可通過固定孔16進行繃拉，亦可以通過直接夾持掩模板輔助邊進行繃拉?？嚲o拉平后的掩模板通過激光焊接或者是膠粘劑粘接的方式將掩模板主體部分固定在外框上，固定好后通過手工或者是機械手提供給半刻線區(qū)一個垂直于掩模板的剪切力，使得輔助邊與掩模板主體在半刻線處斷裂開，即將輔助邊與掩模板主體分離。掩模板固定后去除輔助邊的結構示意圖如圖7所示，掩模板主體外形與外框外形相適應。
[0021]本發(fā)明具有以下優(yōu)勢:通過所述半刻線區(qū)的設計，可以比較輕易的將非掩模板主體區(qū)域(即本發(fā)明的輔助邊)裁除，可將所述掩模板主體和外框連接固定區(qū)域限制在所述半刻線區(qū)形成的邊框內側，而不會引起掩模板主體部分邊緣的曲翹，也可以避免傳統(tǒng)機械裁剪所引起的焊點松弛脫落等現(xiàn)象。
[0022]本發(fā)明附加的方面和優(yōu)點將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本發(fā)明的實踐了解到。
[0023]【專利附圖】

【附圖說明】
[0024]本發(fā)明的上述和/或附加的方面和優(yōu)點從下面結合附圖對實施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中:
圖1所示為本發(fā)明一種掩模板示意圖；
圖2所示為本發(fā)明掩模板另一種結構示意圖；
圖3為圖1中15部分的一種結構放大示意圖；
圖4所示為圖3中沿A-A方向的一種橫截面示意圖；
圖5所示為圖3中沿A-A方向的另一種橫截面示意圖 圖6所示為為圖1中15部分的另一種結構放大示意圖 圖7所示為將掩模板主體固定在外框上后去除輔助邊的平面示意圖 圖8為掩模板兩面貼感光干膜示意圖 圖9為曝光過程結構示意圖；
圖10為去除未曝光干膜過程結構示意圖；
圖11為蝕刻過程結構示意圖；
圖1中，11為掩模板主體，12為封閉輔助邊，13為連接掩模板主體11與輔助邊12的封閉半刻線區(qū)，14為大開口，15為待放大區(qū)域，16為掩模板繃拉的固定孔；
圖2中，22為開放輔助邊，23為連接掩模板主體11與輔助邊22的開放半刻線區(qū)；
圖3中，A-A為待視方向；
圖6中60為構成半刻線的通孔，61為構成半刻線的減薄塊；
圖7中71為固定掩模板主體，72為固定掩模板主體的外框；
圖8中80為掩模板、81、82為感光干膜；
圖9中90為未曝光干I吳區(qū)；
【具體實施方式】
[0025]下面詳細描述本發(fā)明的實施例，所述實施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標號表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實施例是示例性的，僅用于解釋本發(fā)明，而不能解釋為對本發(fā)明的限制。
[0026]在本發(fā)明的描述中，需要理解的是，術語“上”、“下”、“底”、“頂”、“前”、“后”、“內”、“外”、“橫”、“豎”等指示的方位或位置關系為基于附圖所示的方位或位置關系，僅是為了便于描述本發(fā)明和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構造和操作，因此不能理解為對本發(fā)明的限制。
[0027]在本發(fā)明的描述中，需要說明的是，除非另有明確的規(guī)定和限定，術語“聯(lián)接”、“連通”、“相連”、“連接”、“配合”應做廣義理解，例如，可以是固定連接，一體地連接，也可以是可拆卸連接；可以是兩個元件內部的連通；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連；“配合”可以是面與面的配合，也可以是點與面或線與面的配合，也包括孔軸的配合，對于本領域的普通技術人員而言，可以具體情況理解上述術語在本發(fā)明中的具體含義。
[0028]本發(fā)明的發(fā)明構思如下，在傳統(tǒng)工藝中，將掩模板與外框進行連接固定并將掩模板與外框固定區(qū)域外圍部分裁切后，容易產生掩模板主體部分邊緣的曲翹及傳統(tǒng)機械裁剪所引起的焊點松弛脫落等現(xiàn)象；而本發(fā)明提供的具有固定輔助邊的掩模板可以將傳統(tǒng)的連接固定區(qū)域通過半刻線區(qū)與裁切區(qū)域(及輔助邊)分割開來，截斷了裁切過程中由于機械裁切對掩模板主體造成的不良影響，從而大大提高了生產效率降低了成本。
[0029]下面將參照附圖來描述本發(fā)明的粘鋼片的對位裝置，其中圖1所示為本發(fā)明一種掩模板示意圖；圖2所示為本發(fā)明掩模板另一種結構示意圖；圖7所示為將掩模板主體固定在外框上后去除輔助邊的平面示意圖；圖8為掩模板兩面貼感光干膜示意圖；圖9為曝光過程結構示意圖；圖10為去除未曝光干膜過程結構示意圖；圖11為蝕刻過程結構示意圖。
[0030]
根據(jù)本發(fā)明的實施例，一種具有固定輔助邊的掩模板，包括掩模板主體11、輔助邊12、22及半刻線區(qū)13、23，其特征在于，所述輔助邊12、22設置在所述掩模板主體11外側通過所述半刻線區(qū)13、23與所述掩模板主體11連接，如圖1、2所示。
[0031]根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述輔助邊12設置在掩模板主體11的四周形成封閉外框且通過所述半刻線區(qū)13與所述掩模板主體11連接，如圖1所示。
[0032]根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述輔助邊22設置在掩模板主體11的兩對邊形成開放外框且通過所述半刻線區(qū)23與所述掩模板主體11連接，如圖2所示。
[0033]根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述半刻線區(qū)13、23為厚度小于所述掩模板主體11厚度且小于所述輔助邊12、22厚度的狹長區(qū)域，如圖3、4、5、6所示。
[0034]根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述半刻線區(qū)13、23是單邊凹槽形成的減薄區(qū)域，如圖4所示。
[0035]根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述半刻線區(qū)13、23是雙邊凹槽形成的減薄區(qū)域，如圖5所示。
[0036]根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述半刻線區(qū)13、23設置有通孔60，如圖6所示，即半刻線區(qū)13、23由通孔60和減薄塊61交錯排布構成。
[0037]優(yōu)選地，所述通孔60均勻分布，如圖6所示。
[0038]根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述半刻線區(qū)13、23邊緣設置有大開口 14，如圖1所
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[0039]優(yōu)選地，所述大開口 14對稱分布在所述半刻線邊緣，如圖1所示。
[0040]其可以作為后續(xù)將輔助邊12從掩模主體11上去除的處理區(qū)(即可以通過此處作為起始點將掩模主體11與輔助邊12分離)，其中，作為一種比較合理的設計，大開口 14的位置及大小尺寸與固定掩模板的外框外形相適應；另外，在掩模板輔助邊12上設置有固定孔16，固定孔16可作為后續(xù)將掩模板繃緊拉平的外接口。在圖2所示的掩模板輔助邊22上未設置固定孔，其拉緊繃平過程是可通過外界夾頭直接夾持掩模板的輔助邊22即可實現(xiàn)。
[0041]根據(jù)本發(fā)明的實施例，一種具有固定輔助邊的掩模板的制作方法，包括: SI，壓貼感光干膜:在所述掩模板上待制半刻線區(qū)以及其兩側均壓貼感光干膜，如圖8所示，圖8為圖4所示區(qū)域截面圖，即在掩模板80兩面壓貼有感光干膜81、82 ；
S2，曝光:按照設計圖形通過曝光機對所述感光干膜進行曝光，使得非蝕刻區(qū)域曝光，圖9中除90部分，其它部分均為曝光區(qū)域；
S3，去除未曝光干膜:將曝光后的掩模板通過顯影去除未曝光干膜區(qū)，使得待制半刻線區(qū)的掩模板表面裸露，如圖10所；
S4，蝕刻:將顯影后的所述掩模板蝕刻后，即可形成所述半刻線區(qū)，將顯影后的掩模板通過蝕刻液蝕刻即可在90區(qū)域形成圖11所示凹槽結構，在蝕刻過程中，通過控制蝕刻液的溶液配比、蝕刻時對掩模板的壓力、蝕刻的時間等參數(shù)來控制掩模板的蝕刻厚度。
[0042]蝕刻后的掩模板通過褪膜將之前曝光區(qū)域的干膜去除，即可得到圖4所示掩模板結構。
[0043]作為本發(fā)明的另一種實施例，在對壓貼有感光干膜的掩模板進行曝光的過程中，可以針對不同類型的半刻線區(qū)結構(如圖5、圖6所示等)進行曝光圖案設計。
[0044]任何提及“ 一個實施例”、“實施例”、“示意性實施例”等意指結合該實施例描述的具體構件、結構或者特點包含于本發(fā)明的至少一個實施例中。在本說明書各處的該示意性表述不一定指的是相同的實施例。而且，當結合任何實施例描述具體構件、結構或者特點時，所主張的是，結合其他的實施例實現(xiàn)這樣的構件、結構或者特點均落在本領域技術人員的范圍之內。
[0045]盡管參照本發(fā)明的多個示意性實施例對本發(fā)明的【具體實施方式】進行了詳細的描述，但是必須理解，本領域技術人員可以設計出多種其他的改進和實施例，這些改進和實施例將落在本發(fā)明原理的精神和范圍之內。具體而言，在前述公開、附圖以及權利要求的范圍之內，可以在零部件和/或者從屬組合布局的布置方面作出合理的變型和改進，而不會脫離本發(fā)明的精神。除了零部件和/或布局方面的變型和改進，其范圍由所附權利要求及其等同物限定。
【權利要求】
1.一種具有固定輔助邊的掩模板，，包括掩模板主體、輔助邊及半刻線區(qū)，其特征在于，所述輔助邊設置在所述掩模板主體外側通過所述半刻線區(qū)與所述掩模板主體連接。
2.根據(jù)權利要求1所述的具有固定輔助邊的掩模板，其特征在于，所述輔助邊設置在掩模板主體的四周形成封閉外框且通過所述半刻線區(qū)與所述掩模板主體連接。
3.根據(jù)權利要求1所述的具有固定輔助邊的掩模板，其特征在于，所述輔助邊設置在掩模板主體的兩對邊形成開放外框且通過所述半刻線區(qū)與所述掩模板主體連接。
4.根據(jù)權利要求1所述的具有固定輔助邊的掩模板，其特征在于，所述半刻線區(qū)為厚度小于所述掩模板主體厚度且小于所述輔助邊厚度的狹長區(qū)域。
5.根據(jù)權利要求1所述的具有固定輔助邊的掩模板，其特征在于，所述半刻線區(qū)設置有通孔。
6.根據(jù)權利要求5所述的具有固定輔助邊的掩模板，其特征在于，所述通孔均勻分布。
7.根據(jù)權利要求1所述的具有固定輔助邊的掩模板，其特征在于，所述半刻線區(qū)邊緣設置有大開口。
8.根據(jù)權利要求7所述的具有固定輔助邊的掩模板，其特征在于，所述大開口對稱分布在所述半刻線邊緣。
9.一種具有固定輔助邊的掩模板的制作方法，其特征在于，包括: SI，壓貼感光干膜:在所述掩模板上待制半刻線區(qū)以及其兩側均壓貼感光干膜； S2，曝光:按照設計圖形通過曝光機對所述感光干膜進行曝光，使得非蝕刻區(qū)域曝光； S3，去除未曝光干膜:將曝光后的掩模板通過顯影去除未曝光干膜區(qū)； S4，蝕刻:將顯影后的所述掩模板蝕刻后，即可形成所述半刻線區(qū)。
【文檔編號】G03F1/38GK103869601SQ201210524484
【公開日】2014年6月18日 申請日期:2012年12月10日 優(yōu)先權日:2012年12月10日
【發(fā)明者】魏志凌 申請人:昆山允升吉光電科技有限公司