專利名稱：掩模板、曝光系統(tǒng)和曝光方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種掩模板、曝光系統(tǒng)和曝光方法。
背景技術(shù)：
薄膜晶體管液晶顯不器(ThinFilm Transistor Liquid Crystal Display,TFT-LCD)在當(dāng)前的顯示領(lǐng)域中占據(jù)了主導(dǎo)地位，其產(chǎn)品具有體積小、功耗低、無輻射、分辨率高等優(yōu)點(diǎn)，已經(jīng)被廣泛應(yīng)用于現(xiàn)代數(shù)字信息化設(shè)備中。TFT-1XD是由陣列基板和彩膜基板對(duì)盒而成，在陣列基板上形成有相互交叉定義出像素區(qū)域的柵線和數(shù)據(jù)線，在各種像素區(qū)域中形成有像素電極和薄膜晶體管；在彩膜基板上形成有黑矩陣和彩色濾光層。在陣列基板和彩膜基板之間的液晶在不同電場(chǎng)強(qiáng)度的作用下產(chǎn)生不同的轉(zhuǎn)動(dòng)來達(dá)到顯示的明暗，配合彩膜基板的彩色濾光層，就可達(dá)到彩色圖像顯示效果。在陣列基板形成工藝中，柵極及其柵線、柵絕緣層、半導(dǎo)體層、源漏電極層以及數(shù)據(jù)線、鈍化保護(hù)層、像素電極的形成可以通過光刻工藝實(shí)現(xiàn)。在光刻工藝中，涂覆光刻膠，通過掩模板對(duì)光刻膠層進(jìn)行曝光、顯影，后經(jīng)刻蝕、剝離處理，得到圖案化膜層。彩膜基板的彩色濾光層部分也可以通過光刻工藝形成。在實(shí)現(xiàn)上述利用掩模板對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光的過程中，對(duì)具有不同構(gòu)案的基板，需要用不同的掩膜板對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光；并且每次曝光過程中，照射在掩模板不透光區(qū)域的曝光光線都被吸收消耗，浪費(fèi)掉，由此增加了制造成本，也降低了生產(chǎn)效率。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種掩模板、曝光系統(tǒng)和曝光方法，能夠解決對(duì)具有不同構(gòu)案的基板，需要用不同的掩膜板對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光；并且每次曝光過程中，照射在掩模板不透光區(qū)域的曝光光線沒有被利用的問題。為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明的實(shí)施例提供技術(shù)方案如下—方面，提供一種掩模板，所述掩膜板包括透光區(qū)域和不透光區(qū)域，所述透光區(qū)域的圖形與第一基板的待曝光區(qū)域的圖形相對(duì)應(yīng)，所述不透光區(qū)域上設(shè)置有用于反射曝光光線的反射區(qū)域，所述反射區(qū)域的圖形與第二基板的待曝光區(qū)域的圖形相對(duì)應(yīng)。進(jìn)一步地，所述反射區(qū)域位于所述掩膜板遠(yuǎn)離第一基板方向的一側(cè)。本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種曝光系統(tǒng)，包括掩膜板和設(shè)置在所述掩膜板上方的主反射結(jié)構(gòu)，所述掩膜板包括透光區(qū)域和不透光區(qū)域，所述透光區(qū)域的圖形與第一基板的待曝光區(qū)域的圖形相對(duì)應(yīng)，所述不透光區(qū)域上設(shè)置有用于反射曝光光線的反射區(qū)域，所述反射區(qū)域的圖形與第二基板的待曝光區(qū)域的圖形相對(duì)應(yīng)；在曝光光線照射所述掩膜板，穿過掩膜板的透光區(qū)域?qū)Φ谝换暹M(jìn)行曝光時(shí)，所述掩膜板的反射區(qū)域反射曝光光線至所述主反射結(jié)構(gòu)，所述主反射結(jié)構(gòu)將所述反射區(qū)域反射來的光線再反射至第二基板的待曝光區(qū)域?qū)Φ诙暹M(jìn)行曝光。
進(jìn)一步地，所述系統(tǒng)還包括從反射結(jié)構(gòu)，用于接收主反射結(jié)構(gòu)反射的光線，并反射至所述第二基板的待曝光區(qū)域。進(jìn)一步地，所述系統(tǒng)還包括主基臺(tái)，用于承載第一基板；光源，用于提供曝光光線；從基臺(tái)，用于承載第二基板。進(jìn)一步地，所述經(jīng)從反射結(jié)構(gòu)反射后照射到第二基板的待曝光區(qū)域上的曝光光線為垂直入射。進(jìn)一步地，所述主反射結(jié)構(gòu)的反射面與所述從反射結(jié)構(gòu)的反射面相垂直。進(jìn)一步地，所述主基臺(tái)與所述主反射結(jié)構(gòu)的反射面之間的夾角Y為45°。進(jìn)一步地,所述系統(tǒng)還包括設(shè)置在所述從反射結(jié)構(gòu)和所述第二基板之間的UM透鏡系統(tǒng)。進(jìn)一步地，所述系統(tǒng)還包括設(shè)置在所述第一基板和所述掩膜板之間的UM透鏡系統(tǒng)。進(jìn)一步地，所述主反射結(jié)構(gòu)包括透射板和形成在所述透射板上的反射膜層，所述反射膜層用于反射掩膜板反射區(qū)域反射來的光線。本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種曝光方法，利用如上所述的曝光系統(tǒng)對(duì)基板進(jìn)行曝光，所述曝光方法包括在利用所述掩膜板對(duì)第一基板曝光的同時(shí)，利用所述掩膜板的反射區(qū)域反射的曝光光線對(duì)第二基板進(jìn)行曝光。本發(fā)明的實(shí)施例具有以下有益效果上述方案中，第一基板和第二基板可以利用同一張掩膜板進(jìn)行曝光，不需要更換掩模板，且可以利用第一基板曝光時(shí)不用的曝光光線進(jìn)行第二基板的曝光，既節(jié)約了掩模板的購(gòu)買和維護(hù)，又避免了曝光光線的浪費(fèi)，降低了液晶顯示面板的生產(chǎn)成本，又節(jié)約了生廣時(shí)間，提聞了生廣效率。


圖1為現(xiàn)有曝光技術(shù)中曝光系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)不意圖；圖2本發(fā)明實(shí)施例的曝光系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3A為本發(fā)明實(shí)施例一的掩模板的仰視圖；圖3B為本發(fā)明實(shí)施例一的掩模板的俯視圖；圖4A為本發(fā)明實(shí)施例二的掩模板的仰視圖；圖4B為本發(fā)明實(shí)施例二的掩模板的俯視圖；圖5為本發(fā)明實(shí)施例的曝光方法的流程示意圖；圖6為UM (ultra mirror)光學(xué)透鏡系統(tǒng)結(jié)構(gòu)不意圖。附圖標(biāo)記Ia主基臺(tái)Ib從基臺(tái)
2a第一基板2b第二基板3掩模板4掩膜板中的反射區(qū)域5a反射裝置中的反射結(jié)構(gòu)一5b反射裝置中的反射結(jié)構(gòu)二6掩模板中的透光區(qū)域7掩模板中的不透光區(qū)域
具體實(shí)施例方式為使本發(fā)明的實(shí)施例要解決的技術(shù)問題、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合附圖及具體實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)描述。圖1為現(xiàn)有技術(shù)中曝光系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)不意圖，如圖1所不，曝光系統(tǒng)包括承放基板2a的基臺(tái)la，基板2a上涂覆有光刻膠，該基臺(tái)Ia的上方設(shè)置有與基臺(tái)Ia平行的掩模板3。此夕卜，該曝光系統(tǒng)還包括曝光光源(圖中未表不)。曝光光源發(fā)出的曝光光線垂直照射在掩模板3上表面，照射在掩模板3上表面透光區(qū)域的曝光光線，穿過掩模板3，對(duì)放置在基臺(tái)Ia上的基板2a進(jìn)行曝光。在利用掩模板3對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光的過程中，在完成一次構(gòu)圖工藝，進(jìn)行下一次曝光時(shí)，都需要更換對(duì)應(yīng)的掩模板；并且每次曝光過程中，照射在掩模板不透光區(qū)域的曝光光線都被吸收消耗，浪費(fèi)掉，由此增加了液晶顯示面板的制造成本，也降低了生產(chǎn)效率。為了解決上述問題，本發(fā)明的實(shí)施例提供一種掩模板、曝光系統(tǒng)和曝光方法，能夠解決對(duì)具有不同構(gòu)案的基板，需要用不同的掩膜板對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光；并且每次曝光過程中，照射在掩模板不透光區(qū)域的曝光光線沒有被利用的問題。本發(fā)明實(shí)施例提供了一種掩模板，所述掩膜板包括透光區(qū)域和不透光區(qū)域，所述透光區(qū)域的圖形與第一基板的待曝光區(qū)域的圖形相對(duì)應(yīng)，所述不透光區(qū)域上設(shè)置有用于反射曝光光線的反射區(qū)域，所述反射區(qū)域的圖形與第二基板的待曝光區(qū)域的圖形相對(duì)應(yīng)。進(jìn)一步地，所述反射區(qū)域位于所述掩膜板遠(yuǎn)離第一基板方向的一側(cè)。利用該掩膜板可以在對(duì)第一基板進(jìn)行曝光的同時(shí)，對(duì)第二基板也進(jìn)行曝光，利用同一張掩膜板可以同時(shí)完成對(duì)多個(gè)基板的曝光，減少液晶顯示面板的制造成本，提高生產(chǎn)效率。本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種曝光系統(tǒng)，包括掩膜板和設(shè)置在所述掩膜板上方的主反射結(jié)構(gòu)，所述掩膜板包括透光區(qū)域和不透光區(qū)域，所述透光區(qū)域的圖形與第一基板的待曝光區(qū)域的圖形相對(duì)應(yīng)，所述不透光區(qū)域上設(shè)置有用于反射曝光光線的反射區(qū)域，所述反射區(qū)域的圖形與第二基板的待曝光區(qū)域的圖形相對(duì)應(yīng)；在曝光光線照射所述掩膜板，穿過掩膜板的透光區(qū)域?qū)Φ谝换暹M(jìn)行曝光時(shí)，所述掩膜板的反射區(qū)域反射曝光光線至所述主反射結(jié)構(gòu)，所述主反射結(jié)構(gòu)將所述反射區(qū)域反射來的光線再反射至第二基板的待曝光區(qū)域?qū)Φ诙暹M(jìn)行曝光。進(jìn)一步地，所述系統(tǒng)還包括從反射結(jié)構(gòu)，用于接收主反射結(jié)構(gòu)反射的光線，并反射至所述第二基板的待曝光區(qū)域。進(jìn)一步地，所述系統(tǒng)還包括主基臺(tái)，用于承載第一基板；光源，用于提供曝光光線；從基臺(tái)，用于承載第二基板。進(jìn)一步地，所述經(jīng)從反射結(jié)構(gòu)反射后照射到第二基板的待曝光區(qū)域上的曝光光線為垂直入射。進(jìn)一步地，所述主反射結(jié)構(gòu)的反射面與所述從反射結(jié)構(gòu)的反射面相垂直。進(jìn)一步地，所述主基臺(tái)與所述主反射結(jié)構(gòu)的反射面之間的夾角Y為45°。進(jìn)一步地,所述系統(tǒng)還包括設(shè)置在所述從反射結(jié)構(gòu)和所述第二基板之間的UM透鏡系統(tǒng)。進(jìn)一步地，所述系統(tǒng)還包括設(shè)置在所述第一基板和所述掩膜板之間的UM透鏡系統(tǒng)。進(jìn)一步地，所述主反射結(jié)構(gòu)包括透射板和形成在所述透射板上的反射膜層，所述反射膜層用于反射掩膜板反射區(qū)域反射來的光線。利用本發(fā)明實(shí)施例的曝光系統(tǒng)，在對(duì)主基臺(tái)上的第一基板進(jìn)行曝光時(shí)，同時(shí)對(duì)從基臺(tái)上的第二基板進(jìn)行曝光，第一基板和第二基板可以利用同一張掩膜板進(jìn)行曝光，不需要更換掩模板，且可以利用第一基板曝光時(shí)不用的曝光光線進(jìn)行第二基板的曝光，既節(jié)約了掩模板的購(gòu)買和維護(hù)，又避免了曝光光線的浪費(fèi)，降低了液晶顯示面板的生產(chǎn)成本，又節(jié)約了生產(chǎn)時(shí)間，提高了生產(chǎn)效率。本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種曝光方法，用于利用如上所述的曝光系統(tǒng)對(duì)基板進(jìn)行曝光，所述曝光方法包括在利用所述掩膜板對(duì)第一基板曝光的同時(shí)，利用所述掩膜板的反射區(qū)域反射的曝光光線對(duì)第二基板進(jìn)行曝光。利用本發(fā)明實(shí)施例的曝光方法，在對(duì)主基臺(tái)上的第一基板進(jìn)行曝光時(shí)，同時(shí)對(duì)從基臺(tái)上的第二基板進(jìn)行曝光，第一基板和第二基板可以利用同一張掩膜板進(jìn)行曝光，不需要更換掩模板，且可以利用第一基板曝光時(shí)不用的曝光光線進(jìn)行第二基板的曝光，既節(jié)約了掩模板的購(gòu)買和維護(hù)，又避免了曝光光線的浪費(fèi)，降低了液晶顯示面板的生產(chǎn)成本，又節(jié)約了生產(chǎn)時(shí)間，提高了生產(chǎn)效率。下面結(jié)合具體地實(shí)施例以及附圖對(duì)本發(fā)明的模板、曝光系統(tǒng)和曝光方法進(jìn)行詳細(xì)介紹實(shí)施例1 :圖2為本實(shí)施例的曝光系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖，該曝光系統(tǒng)包括兩個(gè)曝光裝置。如圖2所示，主曝光裝置包括主基臺(tái)la，用于放置第一基板2a，放置在主基臺(tái)Ia上方、與主基臺(tái)Ia平行的掩膜板3，掩膜板3包括透光區(qū)域和不透光區(qū)域，在不透光區(qū)域上(此圖中未示出)設(shè)置有反射區(qū)域4 (此圖中未示出)，其中，透光區(qū)域的圖形與第一基板2a的待曝光區(qū)域的圖形相對(duì)應(yīng)。從曝光裝置包括從基臺(tái)lb，用于放置第二基板2b，其中，反射區(qū)域4的圖形與第二基板2b的待曝光區(qū)域的圖形相對(duì)應(yīng)。曝光系統(tǒng)包括反射結(jié)構(gòu)一 5a (即主反射結(jié)構(gòu))和反射結(jié)構(gòu)二 5b (即從反射結(jié)構(gòu))，為了保證經(jīng)從反射結(jié)構(gòu)反射后照射到第二基板的待曝光區(qū)域上的曝光光線為垂直入射，反射結(jié)構(gòu)一 5a的反射面和反射結(jié)構(gòu)二 5b的反射面相垂直，曝光光源(此圖中未不出)位于反射結(jié)構(gòu)一 5a上方。圖5為采用本實(shí)施例的曝光系統(tǒng)進(jìn)行曝光的方法流程示意圖，如圖5所示，該曝光方法包括步驟501 :將涂覆有光刻膠的第一基板放置在主基臺(tái)上，將涂覆有光刻膠的第二基板放置在從基臺(tái)上；步驟502 :開啟曝光光源，曝光光線照射在掩模板上，經(jīng)掩模板的透光區(qū)域照射到第一基板的待曝光區(qū)域上；照射在掩模板上反射區(qū)域的曝光光線，被反射到主反射結(jié)構(gòu)，經(jīng)主反射結(jié)構(gòu)反射到從反射結(jié)構(gòu)，經(jīng)從反射結(jié)構(gòu)反射后照射到第二基板的待曝光區(qū)域上。在待曝光的第一基板2a進(jìn)行曝光時(shí)，打開曝光光源，曝光光線垂直照射下來到達(dá)反射結(jié)構(gòu)一 5a，入射角為a，可以看出，a由Y決定，與Y的值相等，Y為主基臺(tái)與主反射結(jié)構(gòu)的反射面之間的夾角。反射結(jié)構(gòu)一 5a由透射板和形成在透射板上的反射膜層組成，反射膜層用來反射掩膜板反射區(qū)域反射來的光線，因此，曝光光線可以透過反射結(jié)構(gòu)一 5a。假設(shè)反射結(jié)構(gòu)一 5a的折射率是n,曝光光線折射后的出射角0 =arc sin (sin a/n),出射光線到達(dá)反射結(jié)構(gòu)一 5a的下表面時(shí)，入射角仍為P，出射角則為a。則透過反射結(jié)構(gòu)一 5a的曝光光線垂直照射在掩模板3上，經(jīng)過掩膜板3上的透光區(qū)域垂直照射在第一基板2a的待曝光區(qū)域上。透過反射結(jié)構(gòu)一 5a的曝光光線垂直照射在掩模板3上的反射區(qū)域4時(shí)，經(jīng)其垂直反射后到達(dá)反射結(jié)構(gòu)一5a表面，此時(shí)的入射角為a，由反射結(jié)構(gòu)一 5a反射后照射到反射結(jié)構(gòu)二 5b，由于反射結(jié)構(gòu)一 5a和反射結(jié)構(gòu)二 5b為相垂直的，因此經(jīng)反射結(jié)構(gòu)二 5b反射后曝光光線垂直照射到第二基板2b上的待曝光區(qū)域上。優(yōu)選地，可以將Y設(shè)為45°，這樣可以保證曝光光線經(jīng)反射結(jié)構(gòu)一 5a的反射后為水平方向，經(jīng)反射區(qū)域4反射后照射到第二基板2b的待曝光區(qū)域上的曝光光線不發(fā)生變形。本實(shí)施例的曝光系統(tǒng)可以用于對(duì)處于同一工序的兩個(gè)基板進(jìn)行同時(shí)曝光，還可以對(duì)處于不同工序的兩個(gè)基板進(jìn)行同時(shí)曝光，只需要第二基板2b的待曝光區(qū)域包含在掩膜板3的不透光區(qū)域內(nèi)即可，即第二基板2b的待曝光區(qū)域的位置和尺寸不超出掩膜板3的不透光區(qū)域。具體地，本實(shí)施例中，主曝光裝置可以用于制作源漏電極和數(shù)據(jù)線，從曝光裝置可以用于制作連接漏電極金屬層和像素電極的過孔，此時(shí)掩膜板3上的圖形如圖3A和圖3B所示，圖3A為從掩模板3的下表面向上的仰視圖，該掩模板3包括透光區(qū)域6和不透光區(qū)域7，從掩膜板3的下表面向上看，只能區(qū)分透光區(qū)域6和不透光區(qū)域7。當(dāng)曝光光線照射在掩模板3上，曝光光線可以穿過透光區(qū)域6照射在第一基板2a上曝出圖形，但不能透過不透光區(qū)域7 ;圖3B為掩模板3的上表面向下的俯視圖，在不透光區(qū)域7上設(shè)置有反射區(qū)域4，從掩膜板3的上表面向下看，能看到透光區(qū)域6、不透光區(qū)域7和反射區(qū)域4。反射區(qū)域4的圖形的位置和尺寸與待形成過孔的位置和尺寸相對(duì)應(yīng)，如此可以不用使用單獨(dú)的過孔掩模板，當(dāng)曝光光線照射在不透光區(qū)域7時(shí)，照在不透光區(qū)域的反射區(qū)域4的曝光光線被反射，經(jīng)過上述主反射結(jié)構(gòu)和從反射結(jié)構(gòu)的照射在從基臺(tái)Ib上放置的第二基板2b上，曝光出所需圖形。進(jìn)一步地，為了優(yōu)化曝光效果，可以調(diào)節(jié)曝光光線到達(dá)第一基板2a和曝光光線到達(dá)第二基板2b的路程，使得到達(dá)第一基板2a的曝光光線的光強(qiáng)與到達(dá)第二基板2b的曝光光線的光強(qiáng)一致。具體地，可以通過調(diào)整掩膜板3與主基臺(tái)之間的距離，和/或調(diào)整反射結(jié)構(gòu)二 5b與從基臺(tái)之間的距離實(shí)現(xiàn)對(duì)光強(qiáng)的調(diào)整。進(jìn)一步地，由于陣列基板曝光的精度要求比較高，而光源方向性較差，再加上光的衍射作用，導(dǎo)致平行光投射出來以后，經(jīng)過長(zhǎng)距離的傳播后且經(jīng)過掩模板的透射后，無法形成清晰的圖案，這就需要將光重新進(jìn)行會(huì)聚，提高精度和光強(qiáng)度。因此可以在掩膜板3與第一基板2a之間設(shè)置UM透鏡系統(tǒng)，和/或在反射結(jié)構(gòu)二 5b與第二基板2b之間設(shè)置UM透鏡系統(tǒng)，通過調(diào)整UM透鏡系統(tǒng)使到達(dá)第一基板2a的光強(qiáng)、精度和到達(dá)第二基板2b的光強(qiáng)、精度能夠同時(shí)滿足要求。其中,UM (ultra mirror)透鏡系統(tǒng)主要包括等腰梯形棱鏡、凹透鏡、凸透鏡等。應(yīng)用本實(shí)施例的曝光系統(tǒng)，在對(duì)主曝光裝置的基板進(jìn)行曝光時(shí)，同時(shí)對(duì)從曝光裝置的基板進(jìn)行曝光，不需要更換掩模板，且可以同時(shí)進(jìn)行，既節(jié)約了掩模板的購(gòu)買和維護(hù)，又避免了曝光光線的浪費(fèi)，降低了液晶顯示面板的生產(chǎn)成本，又節(jié)約了生產(chǎn)時(shí)間，提高了生
產(chǎn)效率。實(shí)施例2 圖2為本實(shí)施例的曝光系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖，該曝光系統(tǒng)包括兩個(gè)曝光裝置。如圖2所示，主曝光裝置包括主基臺(tái)la，用于放置第一基板2a，放置在主基臺(tái)Ia上方、與主基臺(tái)Ia平行的掩膜板3，掩膜板3包括透光區(qū)域和不透光區(qū)域，在不透光區(qū)域上(此圖中未示出)設(shè)置有反射區(qū)域4 (此圖中未示出)，其中，透光區(qū)域的圖形與第一基板2a的待曝光區(qū)域的圖形相對(duì)應(yīng)。從曝光裝置包括從基臺(tái)lb，用于放置第二基板2b，其中，反射區(qū)域4的圖形與第二基板2b的待曝光區(qū)域的圖形相對(duì)應(yīng)。在掩模板3的上方設(shè)置有反射結(jié)構(gòu)一 5a (即主反射結(jié)構(gòu))和反射結(jié)構(gòu)二 5b (即從反射結(jié)構(gòu))，為了保證經(jīng)從反射結(jié)構(gòu)反射后照射到第二基板的待曝光區(qū)域上的曝光光線為垂直入射，反射結(jié)構(gòu)一 5a的反射面和反射結(jié)構(gòu)二 5b的反射面相垂直，曝光光源(此圖中未不出)位于反射結(jié)構(gòu)一 5a上方。圖5為采用本實(shí)施例的曝光系統(tǒng)進(jìn)行曝光的方法流程示意圖，如圖5所示，該曝光方法包括步驟501 :將涂覆有光刻膠的第一基板放置在主基臺(tái)上，將涂覆有光刻膠的第二基板放置在從基臺(tái)上；步驟502 :開啟曝光光源，曝光光線照射在掩模板上，經(jīng)所述掩模板的透光區(qū)域照射到第一基板的待曝光區(qū)域上；照射在所述掩模板上反射區(qū)域的曝光光線，被反射到主反射結(jié)構(gòu)，經(jīng)主反射結(jié)構(gòu)反射到從反射結(jié)構(gòu)，經(jīng)從反射結(jié)構(gòu)反射后照射到第二基板的待曝光區(qū)域上。在待曝光的第一基板2a進(jìn)行曝光時(shí)，打開曝光光源，曝光光線垂直照射下來到達(dá)反射結(jié)構(gòu)一 5a，入射角為a，可以看出，a由Y決定，與Y的值相等，Y為主基臺(tái)與主反射結(jié)構(gòu)的反射面之間的夾角。反射結(jié)構(gòu)一 5a由透射板和形成在透射板上的反射膜層組成，反射膜層用來反射掩膜板反射區(qū)域反射來的光線，因此，曝光光線可以透過反射結(jié)構(gòu)一 5a。假設(shè)反射結(jié)構(gòu)一 5a的折射率是n,曝光光線折射后的出射角0 =arc sin (sin a/n),出射光線到達(dá)反射結(jié)構(gòu)一 5a的下表面時(shí)，入射角仍為P，出射角則為a。則透過反射結(jié)構(gòu)一 5a的曝光光線垂直照射在掩模板3上，經(jīng)過掩膜板3上的透光區(qū)域垂直照射在第一基板2a的待曝光區(qū)域上。透過反射結(jié)構(gòu)一 5a的曝光光線垂直照射在掩模板3上的反射區(qū)域4時(shí)，經(jīng)其垂直反射后到達(dá)反射結(jié)構(gòu)一5a表面，此時(shí)的入射角為a，由反射結(jié)構(gòu)一 5a反射后照射到反射結(jié)構(gòu)二 5b，由于反射結(jié)構(gòu)一 5a和反射結(jié)構(gòu)二 5b為相垂直的，因此經(jīng)反射結(jié)構(gòu)二 5b反射后曝光光線垂直照射到第二基板2b上的待曝光區(qū)域上。優(yōu)選地，可以將Y設(shè)為45°，這樣可以保證曝光光線經(jīng)反射結(jié)構(gòu)一 5a的反射后為水平方向，經(jīng)反射區(qū)域4反射后照射到第二基板2b的待曝光區(qū)域上的曝光光線不發(fā)生變形。本實(shí)施例的曝光系統(tǒng)可以用于對(duì)處于同一工序的兩個(gè)基板進(jìn)行同時(shí)曝光，還可以對(duì)處于不同工序的兩個(gè)基板進(jìn)行同時(shí)曝光，只需要第二基板2b的待曝光區(qū)域包含在掩膜板3的不透光區(qū)域內(nèi)即可，即第二基板2b的待曝光區(qū)域的位置和尺寸不超出掩膜板3的不透光區(qū)域。具體地，本實(shí)施例可以應(yīng)用于彩膜基板中制作紅色彩膜區(qū)域，綠色彩膜區(qū)域和藍(lán)色彩膜區(qū)域，假設(shè)彩膜基板的制作順序?yàn)榧t色彩膜區(qū)域，綠色彩膜區(qū)域，藍(lán)色彩膜區(qū)域，則在主基臺(tái)Ia上放置涂覆有紅色光刻膠的第一基板lb，進(jìn)行紅色光刻膠的曝光，同時(shí)，在從基臺(tái)2a上放置完成了紅色光刻膠的光刻后，涂覆有綠色光刻膠的第二基板2b，進(jìn)行綠色光刻膠的曝光。此時(shí)掩膜板3上的圖形如圖4A和圖4B所不，圖4A為從掩模板3的下表面向上的仰視圖，該掩模板3包括透光區(qū)域6和不透光區(qū)域7，從掩膜板3的下表面向上看，只能區(qū)分透光區(qū)域6和不透光區(qū)域7。當(dāng)曝光光線照射在掩模板3上，曝光光線可以穿過透光區(qū)域6照射在第一基板2a上曝出圖形，但不能透過不透光區(qū)域7 ;圖4B為掩模板3的上表面向下的俯視圖，在不透光區(qū)域7上設(shè)置有反射區(qū)域4，從掩膜板3的上表面向下看，能看到透光區(qū)域6、不透光區(qū)域7和反射區(qū)域4。反射區(qū)域4的圖形的位置和尺寸與綠色彩膜區(qū)域的位置和尺寸相對(duì)應(yīng)，如此可以不用更換掩膜板，當(dāng)曝光光線照射在不透光區(qū)域7時(shí)，照在不透光區(qū)域的反射區(qū)域4的曝光光線被反射，經(jīng)過上述主反射結(jié)構(gòu)和從反射結(jié)構(gòu)的照射在從基臺(tái)Ib上放置的第二基板2b上，曝光出所需圖形。進(jìn)一步地，如果彩膜基板的制作順序發(fā)生變化，還可以根據(jù)彩膜基板的制作順序調(diào)整主基臺(tái)和從基臺(tái)上放置的基板。進(jìn)一步地，為了優(yōu)化曝光效果，可以調(diào)節(jié)曝光光線到達(dá)第一基板2a和曝光光線到達(dá)第二基板2b的路程，使得到達(dá)第一基板2a的曝光光線的光強(qiáng)與到達(dá)第二基板2b的曝光光線的光強(qiáng)一致。具體地，可以通過調(diào)整掩膜板3與主基臺(tái)之間的距離，和/或調(diào)整反射結(jié)構(gòu)二 5b與從基臺(tái)之間的距離實(shí)現(xiàn)對(duì)光強(qiáng)的調(diào)整。進(jìn)一步地，由于光源的方向性較差，再加上光的衍射作用，導(dǎo)致平行光投射出來以后，經(jīng)過長(zhǎng)距離的傳播后且經(jīng)過掩模板投射后，無法形成清晰的圖案，這就需要將光重新進(jìn)行會(huì)聚，提高精度和光強(qiáng)度?？梢栽谘谀ぐ?與第一基板2a之間設(shè)置UM透鏡系統(tǒng)，和/或在反射結(jié)構(gòu)二 5b與第二基板2b之間設(shè)置UM透鏡系統(tǒng)，通過調(diào)整UM透鏡系統(tǒng)使到達(dá)第一基板2a的光強(qiáng)和到達(dá)第二基板2b的光強(qiáng)能夠同時(shí)滿足要求。其中，UM透鏡系統(tǒng)主要包括等腰梯形棱鏡、凹透鏡、凸透鏡等。應(yīng)用本實(shí)施例的曝光系統(tǒng)，可以同時(shí)對(duì)不同構(gòu)案的多個(gè)基板進(jìn)行曝光，既節(jié)約了掩模板的購(gòu)買和維護(hù)，又避免了曝光光線的浪費(fèi)，降低了液晶顯示面板的生產(chǎn)成本，又節(jié)約了生產(chǎn)時(shí)間，提高了生產(chǎn)效率。
上述實(shí)施例1和2以曝光系統(tǒng)包括兩個(gè)曝光裝置為例進(jìn)行了說明，在實(shí)際應(yīng)用中，本發(fā)明的曝光系統(tǒng)還可以包括三個(gè)以上的曝光裝置。在曝光系統(tǒng)包括三個(gè)曝光裝置時(shí)，可以對(duì)主曝光裝置的第一基板、從曝光裝置的第二基板和另一從曝光裝置的第三基板進(jìn)行同時(shí)曝光。曝光系統(tǒng)包括設(shè)置于第一基板上方的第一掩膜板和第一主反射結(jié)構(gòu)，設(shè)置于第二基板上方的第二掩模板、第二主反射結(jié)構(gòu)和第一從反射結(jié)構(gòu)，設(shè)置于第三基板上方的第二從反射結(jié)構(gòu)。第一掩膜板上的透光區(qū)域?qū)?yīng)第一基板的待曝光區(qū)域，在第一掩膜板上的不透光區(qū)域設(shè)置對(duì)應(yīng)第二基板的待曝光區(qū)域的第一反射區(qū)域和對(duì)應(yīng)第三基板的待曝光區(qū)域的第二反射區(qū)域。在曝光過程中，曝光光線透過第一主反射結(jié)構(gòu)照射在第一掩模板上，經(jīng)第一掩模板的透光區(qū)域照射到第一基板的待曝光區(qū)域上；照射在第一掩模板上第一反射區(qū)域的曝光光線，被反射到第一主反射結(jié)構(gòu)，經(jīng)第一主反射結(jié)構(gòu)反射到第二基板對(duì)應(yīng)的第一從反射結(jié)構(gòu)，經(jīng)第一從反射結(jié)構(gòu)反射后照射到第二基板上設(shè)置的第二掩模板的透光區(qū)域，透過第二掩模板照射在第二基板的待曝光區(qū)域上；照射在第一掩模板上第二反射區(qū)域的曝光光線，被反射到第一主反射結(jié)構(gòu)，經(jīng)第一主反射結(jié)構(gòu)反射到第一從反射結(jié)構(gòu)，經(jīng)第一從反射結(jié)構(gòu)反射后照射到第二基板上設(shè)置的第二掩模板的反射區(qū)域，經(jīng)反射區(qū)域反射到設(shè)置于第二基板之上的第二主反射結(jié)構(gòu)，經(jīng)第二主反射結(jié)構(gòu)反射到第三基板對(duì)應(yīng)的第二從反射結(jié)構(gòu)，經(jīng)第二從反射結(jié)構(gòu)反射后照射到第三基板的待曝光區(qū)域上。其中，在從曝光裝置的基板的待曝光區(qū)域包含在掩膜板的不透光區(qū)域內(nèi)，能夠應(yīng)用本發(fā)明的技術(shù)方案在對(duì)主曝光裝置的基板進(jìn)行曝光時(shí)，同時(shí)對(duì)從曝光裝置的基板進(jìn)行曝光；進(jìn)一步地，在從曝光裝置的基板的待曝光區(qū)域未包含在掩膜板的不透光區(qū)域內(nèi)時(shí)，可以通過將基臺(tái)平移，使不透光區(qū)域與待曝光區(qū)域向?qū)?yīng)，還可以通過改變基臺(tái)與光線的角度，將反射的光線的照射面積擴(kuò)大，或者改變光路，在對(duì)主曝光裝置的基板進(jìn)行曝光時(shí)，同時(shí)對(duì)從曝光裝置的基板進(jìn)行曝光。本發(fā)明的技術(shù)方案既節(jié)約了掩模板的購(gòu)買和維護(hù)，又避免了曝光光線的浪費(fèi)，降低了液晶顯示面板的生產(chǎn)成本，又節(jié)約了生產(chǎn)時(shí)間，提高了生產(chǎn)效率。以上所述是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明所述原理的前提下，還可以作出若干改進(jìn)和潤(rùn)飾，這些改進(jìn)和潤(rùn)飾也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種掩模板，所述掩膜板包括透光區(qū)域和不透光區(qū)域，其特征在于，所述透光區(qū)域的圖形與第一基板的待曝光區(qū)域的圖形相對(duì)應(yīng)，所述不透光區(qū)域上設(shè)置有用于反射曝光光線的反射區(qū)域，所述反射區(qū)域的圖形與第二基板的待曝光區(qū)域的圖形相對(duì)應(yīng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述反射區(qū)域位于所述掩膜板遠(yuǎn)離第一基板方向的一側(cè)。
3.—種曝光系統(tǒng)，其特征在于，包括掩膜板和設(shè)置在所述掩膜板上方的主反射結(jié)構(gòu)，所述掩膜板包括透光區(qū)域和不透光區(qū)域，所述透光區(qū)域的圖形與第一基板的待曝光區(qū)域的圖形相對(duì)應(yīng)，所述不透光區(qū)域上設(shè)置有用于反射曝光光線的反射區(qū)域，所述反射區(qū)域的圖形與第二基板的待曝光區(qū)域的圖形相對(duì)應(yīng)； 在曝光光線照射所述掩膜板，穿過掩膜板的透光區(qū)域?qū)Φ谝换暹M(jìn)行曝光時(shí)，所述掩膜板的反射區(qū)域反射曝光光線至所述主反射結(jié)構(gòu)，所述主反射結(jié)構(gòu)將所述反射區(qū)域反射來的光線再反射至第二基板的待曝光區(qū)域?qū)Φ诙暹M(jìn)行曝光。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)還包括 從反射結(jié)構(gòu)，用于接收主反射結(jié)構(gòu)反射的光線，并反射至所述第二基板的待曝光區(qū)域。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)還包括 主基臺(tái)，用于承載第一基板； 光源，用于提供曝光光線； 從基臺(tái)，用于承載第二基板。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述經(jīng)從反射結(jié)構(gòu)反射后照射到第二基板的待曝光區(qū)域上的曝光光線為垂直入射。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述主反射結(jié)構(gòu)的反射面與所述從反射結(jié)構(gòu)的反射面相垂直。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述主基臺(tái)與所述主反射結(jié)構(gòu)的反射面之間的夾角Y為45°。
9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)還包括 設(shè)置在所述從反射結(jié)構(gòu)和所述第二基板之間的UM透鏡系統(tǒng)。
10.根據(jù)權(quán)利要求3所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)還包括 設(shè)置在所述第一基板和所述掩膜板之間的UM透鏡系統(tǒng)。
11.根據(jù)權(quán)利要求3所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述主反射結(jié)構(gòu)包括透射板和形成在所述透射板上的反射膜層，所述反射膜層用于反射掩膜板反射區(qū)域反射來的光線。
12.—種曝光方法，其特征在于，利用如權(quán)利要求3至11任一所述的曝光系統(tǒng)對(duì)基板進(jìn)行曝光，所述曝光方法包括 在利用所述掩膜板對(duì)第一基板曝光的同時(shí)，利用所述掩膜板的反射區(qū)域反射的曝光光線對(duì)第二基板進(jìn)行曝光。
全文摘要
本發(fā)明提供一種掩模板、曝光系統(tǒng)和曝光方法，屬于顯示技術(shù)領(lǐng)域。曝光系統(tǒng)包括掩膜板和主反射結(jié)構(gòu)，掩膜板包括透光區(qū)域和不透光區(qū)域，透光區(qū)域的圖形與第一基板的待曝光區(qū)域的圖形相對(duì)應(yīng)，不透光區(qū)域上設(shè)置有用于反射曝光光線的反射區(qū)域，反射區(qū)域的圖形與第二基板的待曝光區(qū)域的圖形相對(duì)應(yīng)；在曝光光線照射掩膜板，穿過掩膜板的透光區(qū)域?qū)Φ谝换暹M(jìn)行曝光時(shí)，掩膜板的反射區(qū)域反射曝光光線至主反射結(jié)構(gòu)，主反射結(jié)構(gòu)將反射區(qū)域反射來的光線再反射至第二基板的待曝光區(qū)域?qū)Φ诙暹M(jìn)行曝光。本發(fā)明能夠解決對(duì)具有不同構(gòu)案的基板，需要用不同的掩膜板進(jìn)行曝光；并且每次曝光過程中，照射在掩模板不透光區(qū)域的曝光光線沒有被利用的問題。
文檔編號(hào)G03F1/52GK103034046SQ201210537158
公開日2013年4月10日 申請(qǐng)日期2012年12月12日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月12日
發(fā)明者陳珍霞, 李凡, 姜妮 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 成都京東方光電科技有限公司