專利名稱：電子照相感光體、處理盒以及電子照相感光體制備方法
技術領域：
本發(fā)明涉及電子照片感光體、處理盒以及電子照相感光體制備方法(下文中有時簡稱為“感光體”和“制備方法”)，本發(fā)明具體涉及電子照相感光體和用于各種電子照相器件中，例如復印機和打印機中的處理盒，本發(fā)明還涉及一種用于制備電子照相感光體的方法。2.
背景技術：
近年來，在支撐上設置有機材料功能層的有機電子照相感光體(有機感光體)成為主流的電子照相感光體。這是因為對于有機半導體的材料設計的多樣性，導致開發(fā)優(yōu)異的電荷產生材料、電荷輸送材料和粘合劑樹脂，使得可生產低成本、高性能的商用感光體產品。這些有機感光體通?？梢苑譃楣δ芊珠_型半導體和單層感光體，所述功能分開型半導體包含堆疊了電荷輸送層的電荷產生層，所述單層感光體包含分散在單層中的電荷產生材料以及電荷輸送材料。在成像過程中，電子照相感光體經過充電、曝光、顯影、轉印、清潔以及電荷中和的重復循環(huán)。該成像過程包含一系列過程，特別是對感光體的表面充電，通過曝光在感光體的表面上形成靜電潛在圖像，用調色劑使得該靜電潛在圖像顯影，將形成的調色劑圖像轉印到轉印介質上，用清潔刮板去除感光體表面上殘留的調色劑，并中和感光體表面上的電荷。轉印步驟之后的從感光體表面去除殘留調色劑的清潔步驟對于得到清晰的圖像特別重要。用于該過程的一種清潔方法是通過將彈性清潔刮板按壓抵靠住感光體表面，刮掉殘留的調色劑。但是，問題在于因為在彈性刮板和感光體表面之間通常具有大摩擦力，彈性刮板有可能向回卷曲，特別是在開始使用時，這時感光體和彈性刮板還沒有相互調節(jié)好。通常，已經提出了一種用于解決該問題的方法，該方法使得感光體表面變粗糙到合適的程度以減少感光體表面和彈性刮板之間的接觸面積，從而減小摩擦力。因為彈性刮板和感光體之間的摩擦問題通常遠大于感光體表面的機械強度，并且感光體的外部更耐磨損，使得感光體表面變粗糙是一種極其有效的方法來減緩當通過改善構成了感光體表面層的樹脂時強化了感光體表面時產生的問題。使得感光體表面變粗糙的具體方法如下所述。例如，JP-A-H4-281461 (權利要求書等)揭示了一種技術，該技術使用分散在粘合劑樹脂中的金屬或金屬氧化物精細粉末層作為電子照相感光體的表面保護層。JP-A-S57-094772 (權利要求書等)揭示了一種對有機電子照相感光體進行拋光的方法，其中用特定的金屬絲或者纖維刷對感光體表面進行拋光，從而在感光體的表面上形成細小凸起和壓痕。JP-A-H2-139566 (權利要求書等)揭示了一種技術，該技術通過使用膜研磨劑對感光體在至少兩個與母線方向不同角度的方向進行研磨使得有機電子照相感光體的表面變粗糙。這些常規(guī)技術被認為是有些效果的，因為它們在一定程度上使得感光體表面變粗糙。但是，對于所述建立用于對感光體表面形式進行摩擦的技術要求更精細和更精密的控制，從而提升感光體的性能和產率。對于控制感光體的表面形式還提出了更具體的分析和研究，例如W02005/093518(權利要求書等)提出設置在具有多個波紋形凹陷的圓周上的電子照相感光體，以便解決清潔特性、摩擦記憶等問題。但是，認為在該技術的情況下需要提高耐久性以延長感光體的壽命OJP-A-2001-066814 (權利要求書等)揭示了一種技術，該技術通過使用具有表面凸起和壓痕的接觸輥對感光體的最外表面進行模塑，在電子照相感光體的最外表面上形成特定的凸起和壓痕。但是，在該技術情況下，認為隨著不斷使用不能維持最初形成的凸起和壓痕，因為感光體的表面層是由熱塑性樹脂構成的。此外，JP-A-H6-282089 (權利要求書等)揭示了一種包含特定寬度和深度的凹槽的感光體，所述凹槽平行于圓柱基體表面上的圓周方向，其中，每一個凹槽的截面在寬度方向上具有規(guī)則形狀，從而使得涂層的膜厚度發(fā)生規(guī)則變化。JP-A-2000-227671 (權利要求書等)揭示了一種包含表面粗糙波形的有機感光體，所述表面粗糙波形規(guī)則地形成于基材表面上，并在這些規(guī)則表面粗糙波形的每個波形中具有特定高度的細小凸起和壓痕。JP-A-H8-123058 (權利要求書等)揭示了一種包含具有表面形狀的導電基材的電子照相感光體，其中由其濾波形曲線得到的耐久性圖案中峰高度與谷深度之比大于或等于特定值，相鄰峰之間的距離以及相鄰峰和谷之間的水平差在特定范圍內。如上所討論，已經提出了各種用于改進感光體表面形狀的方案，以便防止刮板卷曲，但是這些常規(guī)技術在生產成本方面都不令人滿意，因為它們需要在形成感光體之后進行后加工或者采用專門設備中。

發(fā)明內容
因此，本發(fā)明的目的是解決這些問題并提供一種用于改進感光體表面形狀的技術，以便容易并廉價地防止發(fā)生彈性刮板卷曲，該卷曲是在成像過程中發(fā)生的嚴重問題。在此情況下，由于發(fā)現可以通過在感光體表面上提供特定槽紋來解決該問題之后，發(fā)明人進行周密的研究完成了本發(fā)明。也就是說，本發(fā)明的特征是一種電子照相感光體，其在圓柱形基材上至少包含光敏層，并具有在感光體軸向的間距(L)為0.4至0.6mm且深度(d)為3.0至5.0 μ m的表面槽紋。在本發(fā)明的感光體中，圓柱形基材優(yōu)選具有在感光體軸向的間距(Ltl)為0.4至
0.6mm且深度(Cltl)為3.2至5.0 μ m的表面槽紋。此外，本發(fā)明的感光體適用于在清潔過程中使用彈性刮板的成像設備，并且制造成使得當感光體與彈性刮板表面滑動接觸時不會引起彈性刮板的卷曲。另外，在本發(fā)明的感光體中，可以通過將形成光敏層的涂料液體浸涂到前述具有表面槽紋的圓柱形基材上來形成光敏層，所述圓柱形基材的提升速度范圍是2至3mm/s。本發(fā)明的處理盒的特征是使用本發(fā)明前述的電子照相感光體作為在設置有電子照相感光體的處理盒中的電子照相感光體，所述電子照相感光體在圓柱形基材上至少具有光敏層；并使用彈性刮板，在電子照相感光體的表面上形成的調色劑圖像轉印到轉印介質之后，該彈性刮板從電子照相感光體的表面上去除殘留調色劑。
此外，根據本發(fā)明的電子照相感光體制備方法是一種包括以下步驟的電子照相感光體制備方法:形成光敏層步驟，通過將形成光敏層的涂料液體浸涂到圓柱形基材上來形成光敏層，其中使用具有在感光體軸向的間距(Ltl)為0.4至0.6mm且深度(Cltl)為3.2至
5.2μπι的表面槽紋的基材作為圓柱形基材，在浸涂形成光敏層的涂料液體的步驟期間，圓柱形基材的提升速度范圍為2至3mm/s?？梢酝ㄟ^本發(fā)明的制備方法得到具有在感光體軸向的間距(Ltl)為0.4至0.6mm且深度(Cltl)為3.0至5.0ym的表面槽紋的電子照相感光體。通過如上所述的配置，本發(fā)明提供了一種電子照相感光體、處理盒以及電子照相感光體制備方法，由此可以容易并廉價地防止發(fā)生彈性刮板卷曲，該卷曲是在成像過程中發(fā)生的嚴重問題，特別是可以容易并廉價地防止在開始使用時發(fā)生的彈性刮板卷曲。附圖簡要說明

圖1所示是本發(fā)明的電子照相感光體的一個例子的示意圖；圖2所示是本發(fā)明的電子照相感光體的一個例子的放大的部分軸向截面圖；圖3A所示是常規(guī)感光體和彈性刮板之間的滑動接觸的示意圖，而圖3B所示是本發(fā)明的感光體和彈性刮板之間的滑動接觸的示意圖。圖4所示是本發(fā)明的處理盒的一個例子的示意圖。優(yōu)選實施方式的說明以下參見附圖詳細解釋本發(fā)明的實施方式。圖1所示是本發(fā)明的電子照相感光體的一個例子的示意圖。圖2所示是本發(fā)明的電子照相感光體的一個例子的放大的部分軸向截面圖。如圖所示，本發(fā)明的電子照相感光體10在圓柱形基材I上至少包含光敏層2。本發(fā)明的感光體10的特征在于，具有在感光體軸向的間距(L)為0.4至0.6mm且深度(d)為3.0至5.0μ m的表面槽紋。也就是說，在本發(fā)明的感光體10的表面上形成了具有在感光體軸向的間距和所述深度的在圓周周圍延伸的多個壓痕或者凹槽。通過在感光體表面上提供特定槽紋，可以減少感光體表面與彈性刮板之間的接觸表面，從而減少了將本發(fā)明的感光體應用于在清潔過程中使用彈性刮板的成像設備時感光體表面與彈性刮板之間的摩擦力。因此，通過本發(fā)明的感光體，可以防止感光體與彈性刮板滑動接觸時彈性刮板卷曲。刮板卷曲指的是當破壞了感光體與彈性刮板之間的良好接觸時，刮板和感光體之間的摩擦力增加，并以感光體運動的方向拉動彈性刮板，使得刮板頂端邊緣向后卷曲。如附圖所示，本發(fā)明中的間距(L)是在感光體軸向的感光體槽紋的峰A與峰A之間的距離，而深度(d)是感光體徑向的槽紋的峰A與谷B之間的距離。如果間距(L)小于上述范圍，則增加了彈性刮板和感光體之間的接觸面積，引起噪聲和卷曲，而如果間距(L)大于上述范圍，則也增加了接觸面積，因為槽紋的峰具有彎曲部分而不是鋸齒，在兩種情況下都不能得到本發(fā)明所希望的效果。如果深度(d)比前述范圍淺，增加彈性刮板與感光體之間的接觸面積，而如果深度(d)比前述范圍深，則增加了調色劑滑動的風險，在兩種情況下都不能得到本發(fā)明所希望的效果。如圖3A所示，在表面上具有波紋形凸起和壓痕的常規(guī)感光體30中，由于清潔刮板11的頂端和凸起和壓痕的壓痕3的邊緣3A之間的接觸，存在卷曲的風險，但是因為本發(fā)明的感光體10僅在軸向具有槽紋而在圓周方向沒有凸起，所以在如圖3B所示的滑動接觸時，對于清潔刮板11幾乎沒有阻力，有效地防止了清潔刮板卷曲。此外，因為本發(fā)明的感光體的槽紋形表面在滑動接觸時對于清潔刮板幾乎不提供阻力，所以在使用時幾乎沒有失去初始形狀的風險，因此耐久性是優(yōu)異的。此外，如上所討論，本發(fā)明的感光體在生產成本方面也有優(yōu)勢，因為形成感光體之后無需在常規(guī)技術情況下采用的后處理步驟或者專門設備。在本發(fā)明中，感光體表面上的槽紋足以符合間距(L)為0.4至0.6mm以及深度(d)為3.0至5.0 μ m的條件。特別是，例如附圖所示，槽紋的截面可以具有直線構成的之字形，或者槽紋的截面可以具有曲線(未示出)組成的正弦或余弦波形。此外，如圖2所示，本發(fā)明中的圓柱形基材I優(yōu)選是具有在感光體軸向的間距(Ltl)為0.4至0.6_以及深度(Cltl)為3.2至5.2 μ m的表面槽紋。也就是說，使用具有表面槽紋的圓柱形基材I并將形成光敏層的涂料液體涂覆于該圓柱形基材I上，以使得其表面形狀符合要求，因為這使得具有特定表面槽紋的感光體容易形成。以與如上所述的間距(L)、深度(d)以及感光體表面上的槽紋相同的方式對在圓柱形基材I的表面上形成的槽紋的間距(Ltl)和深度(Cltl)以及槽紋自身進行定義。圓柱形基材I的表面上的槽紋深度與感光體表面上的槽紋深度之間0.2 μ m的差值可以用以下事實來解釋:將光敏層涂覆在圓柱形基材I上使得深度減少0.2 μ m。本發(fā)明的感光體沒有具體限制，只要在其表面上具有前述特定槽紋，并且可以根據普通方法進行適當構造。例如，圓柱形基材I可以同時起感光體電極和用于構成感光體的各層的支撐的作用，并且可以由鋁、不銹鋼、鎳或者其他金屬或者已進行過表面導電處理等的玻璃或樹脂制成。光敏層2主要包含粘合劑樹脂、電荷產生材料、和作為電荷輸送材料的空穴輸送材料和電子輸送材料，以及各種所需添加劑，單層光敏層包含分散在用于本發(fā)明的單層中的所有所述材料。粘合劑樹脂沒有具體的限制，可以適當地使用通常用于形成光敏層的樹脂，包括，例如:聚碳酸酯樹脂、聚烯丙基酯(polyalIylate)樹脂、聚亞苯基樹脂、聚酯樹脂、聚乙烯醇縮乙醛樹脂、聚乙烯醇縮丁醛樹脂、聚乙烯醇樹脂、氯乙烯樹脂、乙酸乙烯酯樹脂、聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂、丙烯酸類樹脂、聚氨酯樹脂、環(huán)氧樹脂、三聚氰胺樹脂、有機硅樹脂、聚酰胺樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚縮醛樹脂、聚砜樹脂、甲基丙烯酸酯聚合物和這些聚合物的共聚物等。在本發(fā)明中，優(yōu)選可以使用重均分子量為10，000至100，000或者具體為20，000至50，000的聚碳酸酯樹脂作為粘合劑樹脂。所述聚碳酸酯樹脂的具體例子包括:雙酚A、雙酚Z、雙酚A-聯苯共聚物、雙酚Z-聯苯共聚物、雙酚ZC、雙酚C以及其他聚碳酸酯樹脂。還可以使用不同種類的樹脂的組合，特別是兩種或更多種聚碳酸酯樹脂的混合物，也可以使用同種類不同分子量的樹脂的混合物。光敏層的固體中粘合劑樹脂的含量可以是40質量％至60質量％。電荷產生材料沒有特別的限制，可以使用例如如酞菁顏料、偶氮顏料、蒽嵌蒽二酮顏料、花顏料、紫環(huán)酮(perinone)顏料、多環(huán)醌顏料、方酸(squarilium)類顏料、噻喃鐵顏料或喹吖啶酮類顏料等。在這些顏料中，希望使用酞菁顏料。優(yōu)選不含金屬酞菁、銅酞菁以及鈦氧基酞菁作為所述酞菁顏料。光敏層的固體中電荷產生材料的含量可以是0.7質量％至2質量％。酞菁顏料可以各種晶體形式存在，例子包括:JP-A-H8-209023中所述的X-型不含金屬酞菁、τ-型不含金屬酞菁、ε-型銅酞菁、α-鈦氧基酞菁、β-鈦氧基酞菁、Y-型鈦氧基酞菁、無定形鈦氧基酞菁以及鈦氧基酞菁，其在CuKa:Χ-射線衍射光譜的2Θ布拉格角的最大峰值是9.6°。在這些酞菁顏料中，JP-A-2001-228637中所述的X-型不含金屬酞菁、JP-A-2001-330972中所述的α -型鈦氧基酞菁、Y-型鈦氧基酞菁以及鈦氧基酞是特別優(yōu)選的例子?？昭ㄝ斔筒牧蠜]有特別的限制，例如具體可以使用苯乙烯基化合物、腙化合物、批唑啉化合物、吡唑啉酮化合物、噁二唑化合物、噁唑化合物、芳基胺化合物、聯苯胺化合物、芪化合物、聚乙烯基咔唑或聚硅烷等，但是苯乙烯基化合物是優(yōu)選的。這些空穴輸送材料中的一種可以單獨使用，或者可以兩種或多種適當組合使用。光敏層的固體中空穴輸送材料的含量可以是20質量％至40質量％。電子輸送材料沒有特別的限制，例如具體可以使用琥珀酸酐、馬來酸酐、二溴琥珀酸酐、鄰苯二甲酸酐、3-硝基鄰苯二甲酸酐、4-硝基鄰苯二甲酸酐、均苯四酸酐、均苯四酸、偏苯三酸、偏苯三酸酐、鄰苯二甲酰亞胺、4-硝基鄰苯二甲酰亞胺、四氰乙烯、四氰基醌二甲燒、四氯對醌(chloranyl)、四溴苯醌(bromanyl)、鄰硝基苯甲酸、三硝基荷酮、醌、苯醌、二苯醌、萘醌、蒽醌、芪醌(stilbenequinone)以及其他電子受體和電子輸送體。這些電子受體或電子傳輸體中的一種可以單獨使用，或者可以兩種或多種組合使用。光敏層的固體中電子輸送材料的含量可以是10質量％至25質量％。可以在光敏層中包含抗氧化劑、光穩(wěn)定劑或者其他防劣化劑，目的在于改善對于有害光的耐環(huán)境性和穩(wěn)定性?？捎糜谶@種目的的化合物的例子包括生育酚和其它苯并二氫吡喃醇(chromanol)衍生物和酯化化合物，聚芳基烷化合物、氫醌衍生物、醚化化合物、二醚化化合物、二苯甲酮衍生物、苯并三唑衍生物、硫醚化合物、苯二胺衍生物、膦酸酯、亞磷酸酯、苯酚化合物、位阻酚化合物、直鏈胺化合物、環(huán)胺化合物和位阻胺化合物等。也可以在光敏層中包含流平劑，例如硅油或氟油以便提供潤滑性并改善形成的膜的流平性。為了賦予潤滑性、減小摩擦系數等，在光敏層中還可以包含諸如氧化硅(二氧化娃)、氧化鈦、氧化鋅、氧化韓、氧化招(三氧化二招)或者氧化錯的金屬氧化物，諸如硫化鋇或硫化鈣的硫酸鹽，諸如氮化硅或者氮化鋁的金屬氮化物的細顆粒，四氟乙烯樹脂或者其他含氟樹脂顆?；蛘哂袡C硅樹脂細顆粒或者含氟梳形接枝聚合物樹脂或者其他含氟聚合物或者含硅聚合物等。光敏層的膜厚度范圍優(yōu)選為3至100 μ m,或者更優(yōu)選為10至50 μ m,以保持實際使用的有效表面電勢。如上所討論，可以通過將形成光敏層的涂料液體涂覆在表面上具有特定槽紋的圓柱形基材I上來制備本發(fā)明的感光體。具體地，通過以2至3mm/s的提升速度提升圓柱形基材，將形成光敏層的涂料液體浸涂在所述圓柱形基材I上來形成光敏層。在浸涂過程中，當將圓柱形基材浸在形成光敏層的涂料液體中，然后舉起時，在圓柱形基材的表面上形成了形成光敏層的涂料液體的涂覆膜，當提升速度在前述范圍內時，可以形成符合圓柱形基材表面形狀的光敏層，并得到具有本發(fā)明前述槽紋表面的感光體。如果提升速度太慢則膜厚度太薄，而如果提升速度太快則膜厚度太厚，在兩種情況下都不能得到具有本發(fā)明的特定槽紋表面的感光體。在浸涂時，用于本發(fā)明的形成光敏層的涂料液體的粘度優(yōu)選為400至500cP。如果涂料液體的粘度太低，則可以通過增加提升速度來調節(jié)膜厚度，但是在此情況下，液體在涂覆之后可能立即滴落，使得難以在感光體表面上得到符合圓柱形基材上槽紋的槽紋。另一方面，如果涂料液體的粘度太高，則必須降低提升速度，明顯地降低了生產率。因此，涂料液體的粘度優(yōu)選使得提升速度可調節(jié)在2至3mm/s的范圍內。可以通過適當調節(jié)配混物的含量來控制形成光敏層的涂料液體的粘度。圖4所示是本發(fā)明的處理盒的一個例子的示意圖。此處所示的本發(fā)明的處理盒20設置有感光體10，所述感光體10在圓柱形基材上至少包含光敏層；并設置有彈性刮板11，在感光體的表面上形成的調色劑圖像已轉印到轉印介質之后，該彈性刮板從感光體的表面上去除殘留調色劑。處理盒被設計成通過使用者連接到設備主體上并從上面拆除。本發(fā)明的處理盒的特征在于本發(fā)明的感光體用作感光體10。如上所討論，通過以這種方式將本發(fā)明的感光體結合到處理盒中，可以有效地控制感光體10和彈性刮板11之間滑動接觸時，特別是開始使用時彈性刮板的卷曲。本發(fā)明的處理盒沒有特別地限制，只要其裝配有前述的本發(fā)明的感光體，并且可以根據一般方法進行適當構造。例如，在附圖所示的處理盒20中，除了感光體和作為清潔器具的彈性刮板11之外，還在感光體10的外周上提供作為充電器件12的柵控電暈器(scorotron),通過電暈放電產生的電荷從該電暈器盒的開口中釋放出來,從而對感光體進行充電。然后根據圖像數據通過曝光器件13對帶電感光體10進行曝光。曝光部分的電荷電勢減弱，形成二維靜電潛在圖像。接著，顯影器件14向感光體10表面上的靜電潛在圖像供給顯影劑，通過感光體10表面上的顯影劑形成圖像。通過轉印器件15將在感光體10表面上形成的顯影劑圖像轉印到轉印介質17上。通過顯影劑在轉印介質17上形成圖像，所述轉印介質17可以是例如打印紙或者標簽等。通過定影輥16將轉印到轉印介質17的顯影劑圖像熔化，然后將其按壓定影到轉印介質17上，從而形成圖像。同時，彈性刮板11設置作為清潔器具與感光體10的外周接觸，彈性刮板11的頂端與感光體10發(fā)生彈性接觸。在顯影劑圖像已轉印到轉印介質17之后，該彈性刮板11去除了留在感光體10上的顯影劑。將已通過彈性刮板11從感光體10的表面上去除的顯影劑裝在去除的顯影劑容器中(未示出)。在用于本發(fā)明的處理盒的彈性刮板11中，與感光體10發(fā)生接觸的表面可以由任意彈性材料形成，例如通常是熱固性聚氨酯橡膠或者其他橡膠材料等，沒有任意特別的限制。所述熱固性聚氨酯橡膠是例如使用，構成軟段的長鏈活性氫化合物(長鏈多元醇)，用于硬段的多異氰酸酯，以及用于與異氰酸酯反應以形成硬段和交聯點的短鏈活性氫化合物作為基本原料，通過加聚反應而合成的，同時加入各種輔助材料以提高可加工性和性能。在本發(fā)明的處理盒中，除了充電器件12、曝光器件13以及顯影器件14，還可以從普通器件中選擇用于成像過程的轉印器件15和定影輥16并恰當使用，而沒有任意特別的限制。下面通過具體實施例的方式對本發(fā)明進行詳細的說明?！锤泄怏w的制備〉用切削車床對長260mm、直徑30mm的用作圓柱形基材的招管的外表面進行加工，根據如下表所示的條件在表面上形成特定槽紋。通過少量調節(jié)刀具的角度以及嵌入的量對槽紋的深度進行調節(jié)。通過少量改變刀具在感光體軸向的移動速度對槽紋的間距進行調節(jié)。將得到的鋁管分別在含洗滌劑(Elise )的45°去油脂罐超聲清洗。接著，將洗滌劑(Castrol )噴在每一根鋁管的表面上，然后刷洗并用溫純凈水沖洗，在干燥烘箱中去除水分。接著，使用如下所示的配混材料，將聚碳酸酯樹脂作為粘合劑樹脂溶解于溶劑中，并進一步分散電荷產生材料、空穴輸送材料以及電子輸送材料以制備形成光敏層的涂料液體。所示配混材料的濃度是涂料液體的百分數。(溶劑):四氫呋喃75質量％(粘合劑樹脂):具有下式(I)所示的重復單元的雙酚Z聚碳酸酯樹脂(分子量50，000,三菱氣體化學有限公司(Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc), Iupizeta PCZ-500)11.5 質量 ％(電荷產生材料):X-型無金屬酞菁0.5質量％(空穴輸送材料):下式(2)表示的苯乙烯基化合物9質量％(電荷輸送材料):下式(3)表示的偶氮醌化合物4質量％式(I)(I)
權利要求
1.一種電子照相感光體，該電子照相感光體在圓柱形基材上至少包含光敏層， 其特征在于，所述電子照相感光體具有在感光體軸向的間距(L)為0.4至0.6mm且深度(d)為3.0至5.0 μ m的表面槽紋。
2.如權利要求1所述的電子照相感光體，其特征在于，所述圓柱形基材具有在感光體軸向的間距(Ltl)為0.4至0.6_且深度(dQ)為3.2至5.2μπι的表面槽紋。
3.如權利要求1或2所述的電子照相感光體，該電子照相感光體適用于在清潔過程中使用彈性刮板的成像設備，并且當感光體與彈性刮板的表面滑動接觸時不會引起彈性刮板的卷曲。
4.如權利要求1至3中任一項所述的電子照相感光體，其特征在于，通過將形成光敏層的涂料液體浸涂到具有表面槽紋的圓柱形基材上來形成光敏層，所述圓柱形基材的提升速度范圍是2至3mm/s。
5.一種處理盒,該處理盒包含: 電子照相感光體，該電子照相感光體在圓柱形基材上至少具有光敏層；以及 彈性刮板，在電子照相感光體的表面上形成的調色劑圖像已轉印到轉印介質之后，該彈性刮板從電子照相感光體的表面上去除殘留調色劑， 其中，如權利要求1至4中任一項所述的電子照相感光體用作所述電子照相感光體。
6.一種電子照相感光體制備方法，該方法包括通過將形成光敏層的涂料液體浸涂到圓柱形基材上來形成光敏層的光敏層成形步驟， 其中，具有在感光體軸向的間距(Ltl)為0.4至0.6mm以及深度((Ici)為3.2至5.2 μ m的表面槽紋的基材用作圓柱形基材，在浸涂形成光敏層的涂料液體的步驟時，所述圓柱形基材的提升速度范圍是2至3mm/s。
7.如權利要求6所述的電子照相感光體制備方法，其特征在于，該方法生產具有在感光體軸向的間距(L)為0.4至0.6mm且深度(d)為3.0至5.0 μ m的表面槽紋的電子照相感光體。
全文摘要
本發(fā)明提供了電子照相感光體、處理盒以及電子照相感光體制備方法，利用該方法通過改進表面形狀的方式可以容易并廉價地防止彈性刮板卷曲的發(fā)生，這在成像過程中是一個嚴重的問題。本發(fā)明的電子照相感光體在圓柱形基材上至少包含光敏層，并具有在感光體軸向的間距(L)為0.4至0.6mm且深度(d)為3.0至5.0μm的表面槽紋。
文檔編號G03G5/05GK103186061SQ20121054503
公開日2013年7月3日 申請日期2012年12月14日 優(yōu)先權日2011年12月28日
發(fā)明者高橋悠起, 田中靖 申請人:富士電機株式會社