專利名稱：一種用于制備dfb激光器相移光柵的反射鏡裝置及其制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于光電子技術(shù)領(lǐng)域。具體涉及一種用于制備DFB激光器相移光柵的反射鏡裝置及其制備方法，利用全息曝光方法，制作DFB激光器的光柵結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
DFB激光器(分布式反饋激光器)由于其穩(wěn)定的動(dòng)態(tài)單縱模和波長溫度特性好等優(yōu)點(diǎn)，被大量應(yīng)用于光纖通信系統(tǒng)。影響DFB激光器成品率的最大因素是光譜的雙模問題。光柵作為DFB激光器的選模機(jī)構(gòu)，其類型及質(zhì)量好壞直接影響成品率。光柵制作一般分為兩種全息曝光法和E-beam曝光法。光柵類型分為兩種均勻光柵和相移光柵。由于相移光柵的結(jié)構(gòu)中引入了 λ /4相移，能夠很好解決DFB激光器光譜中的雙模問題，可以大大提高DFB激光器芯片的成品率，被廣泛應(yīng)用于高端DFB激光器制作工藝中。傳統(tǒng)工藝中，全息曝光法只能制作均勻光柵，但制作成本低，制作速度快，一般用于中低端DFB激光器芯片的制作。E-beam曝光是通過電腦控制，可以刻寫任何類型的光柵，但是刻寫速度慢，設(shè)備成本高，通常用來制作高端DFB激光器芯片。

發(fā)明內(nèi)容
針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題，本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題為提供一種用于制備DFB激光器相移光柵的反射鏡裝置及其制備方法，既解決了 DFB激光器光譜雙模問題，又解決了采用E-beam制作相移光柵成本高，速度慢的問題。本發(fā)明提出一種用于制備DFB激光器相移光柵的反射鏡裝置，包括反射鏡，該反射鏡的反射膜表面具有增透膜，所述的增透膜由多個(gè)相間的條形結(jié)構(gòu)構(gòu)成。每個(gè)條形結(jié)構(gòu)的寬度L1與相鄰條形結(jié)構(gòu)的間距L2之間的比例滿足1:5 5:1。每個(gè)條形結(jié)構(gòu)的寬度L1與相鄰條形結(jié)構(gòu)的間距L2之間的比例滿足1:1。所述的增透膜的周期為DFB激光器的腔長，該增透膜的周期為條形結(jié)構(gòu)的寬度L1與相鄰條形結(jié)構(gòu)的間距L2之和。所述的增透膜的厚度為d與增透膜的折射率為η之間的關(guān)系滿足
權(quán)利要求
1.一種用于制備DFB激光器相移光柵的反射鏡裝置，其特征在于，包括反射鏡，該反射鏡的反射膜表面具有增透膜，所述的增透膜由多個(gè)相間的條形結(jié)構(gòu)構(gòu)成。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于制備DFB激光器相移光柵的反射鏡裝置，其特征在于，每個(gè)條形結(jié)構(gòu)的寬度L1與相鄰條形結(jié)構(gòu)的間距L2之間的比例滿足1:5 5:1。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于制備DFB激光器相移光柵的反射鏡裝置，其特征在于，每個(gè)條形結(jié)構(gòu)的寬度L1與相鄰條形結(jié)構(gòu)的間距1^2之間的比例滿足1:1。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于制備DFB激光器相移光柵的反射鏡裝置，其特征在于，所述的增透膜的周期為DFB激光器的腔長，該增透膜的周期為條形結(jié)構(gòu)的寬度L1與相鄰條形結(jié)構(gòu)的間距L2之和。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于制備DFB激光器相移光柵的反射鏡裝置，其特征在于，所述的增透膜的厚度為d與增透膜的折射率為η之間的關(guān)系滿足
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于制備DFB激光器相移光柵的反射鏡裝置，其特征在于，所述的增透膜的厚度為10(T200nm，增透膜的折射率為1. Γ . 5。
7.一種用于制備DFB激光器相移光柵的反射鏡裝置的制備方法，其特征在于，包括以下幾個(gè)步驟 步驟一在基板上鍍一層反射膜； 步驟二 將反射膜的表面涂敷光刻膠，進(jìn)行曝光前烘烤； 步驟三在涂有光刻膠的反射膜上進(jìn)行光刻曝光，光刻曝光板的形狀為條紋相間的透光部分和遮光部分，將透光部分的光刻膠完全曝光； 步驟四將曝光后反射鏡放入顯影液中顯影，顯影完成后烘烤； 步驟五在已烘烤后的光刻膠上蒸鍍增透膜； 步驟六蒸鍍完成后去除光刻膠，完成反射鏡裝置的制備。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的用于制備DFB激光器相移光柵的反射鏡裝置的制備方法，其特征在于，步驟一中所述的反射膜采用1102和SiO2的四層膜系，每層膜的厚度為75 100nm ；步驟二中所述的光刻膠厚度為I 1. 5 μ m，光刻膠為正性光刻膠。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的用于制備DFB激光器相移光柵的反射鏡裝置的制備方法，其特征在于，步驟三中所述的透光部分和遮光部分的條形寬度比例滿足1:5 5:1 ;所述的步驟四中的顯影液為正性光刻膠顯影液。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的用于制備DFB激光器相移光柵的反射鏡裝置的制備方法，其特征在于，所述的增透膜的厚度為d與增透膜的折射率為η之間的關(guān)系滿足
全文摘要
本發(fā)明提出一種用于制備DFB激光器相移光柵的反射鏡裝置及其制備方法，該反射鏡裝置中反射鏡的反射膜表面具有增透膜，該增透膜由多個(gè)相間的條形結(jié)構(gòu)構(gòu)成，每個(gè)條形結(jié)構(gòu)的寬度與相鄰條形結(jié)構(gòu)的間距之間的比例滿足1:5～5:1。本發(fā)明通過設(shè)置有增透膜，進(jìn)而可以采用全息曝光方法，通過在反射鏡上部分區(qū)域引入λ/2光程差改變干涉條紋的明暗線，進(jìn)而獲得相移光柵。本發(fā)明既解決了DFB激光器光譜雙模問題，又解決了采用E-beam制作相移光柵成本高，速度慢的問題。
文檔編號G02B5/18GK103033862SQ20121055050
公開日2013年4月10日 申請日期2012年12月17日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月17日
發(fā)明者劉應(yīng)軍, 王任凡, 陽紅濤, 胡忞遠(yuǎn) 申請人:武漢電信器件有限公司