一種毫米波透射與光學(xué)反射雙模結(jié)構(gòu)的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明屬于微波與光學(xué)共孔徑天線技術(shù)，涉及一種毫米波透射與光學(xué)反射雙模結(jié)構(gòu)。它包括光學(xué)介質(zhì)基體(1)，其特征在于：所說的光學(xué)反射膜(2)對毫米波的透射率不低于98%；在光學(xué)介質(zhì)基體(1)光學(xué)反射面的背面為頻率選擇結(jié)構(gòu)(3)。本發(fā)明提出了一種毫米波透射與光學(xué)反射雙模結(jié)構(gòu)，滿足了毫米波透射與光學(xué)反射的需要。
【專利說明】一種毫米波透射與光學(xué)反射雙模結(jié)構(gòu)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于微波與光學(xué)共孔徑天線技術(shù)，涉及一種毫米波透射與光學(xué)反射雙模結(jié)構(gòu)。
【背景技術(shù)】
[0002]頻率選擇表面(Frequency Select Surface,縮寫FSS)在軍用、民用方面都有著廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域。目前，使用FSS構(gòu)成雙頻天線的結(jié)構(gòu)是:在一個金屬基體上設(shè)置FSS結(jié)構(gòu)，由金屬基體上的通孔作為FSS結(jié)構(gòu)的單元。金屬基體的反射面反射一個頻段電磁波，同時，金屬基體又透射另一個頻段電磁波。其缺點是:金屬留存面積不足，浪費口徑，導(dǎo)致光學(xué)反射率不高，不能組成毫米波透射與光學(xué)反射雙模結(jié)構(gòu)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的是:提出一種毫米波透射與光學(xué)反射雙模結(jié)構(gòu)，以滿足毫米波透射與光學(xué)反射的需要。
[0004]本發(fā)明的技術(shù)方案是:一種毫米波透射與光學(xué)反射雙模結(jié)構(gòu)，包括光學(xué)介質(zhì)基體1，在光學(xué)介質(zhì)基體I的光學(xué)反射面上鍍制有光學(xué)反射膜2，其特征在于:所說的光學(xué)反射膜2對毫米波的透射率不低于98% ;在光學(xué)介質(zhì)基體I光學(xué)反射面的背面為頻率選擇結(jié)構(gòu)3，該頻率選擇結(jié)構(gòu)3由分布在光學(xué)反射面背面的頻率選擇單元3a構(gòu)成，每個頻率選擇單元3a均為盲孔，頻率選擇單元3a的孔底到光學(xué)反射面的距離d=0.01 λ g~0.1 λ g，Ag是毫米波在光學(xué)介質(zhì)基體I中的導(dǎo)波波長。
[0005]本發(fā)明的優(yōu)點是:提出了一種毫米波透射與光學(xué)反射雙模結(jié)構(gòu)，滿足了毫米波透射與光學(xué)反射的需要。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0006]圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0007]下面對本發(fā)明做進(jìn)一步詳細(xì)說明。參見圖1，一種毫米波透射與光學(xué)反射雙模結(jié)構(gòu)，包括光學(xué)介質(zhì)基體1，在光學(xué)介質(zhì)基體I的光學(xué)反射面上鍍制有光學(xué)反射膜2，其特征在于:所說的光學(xué)反射膜2對毫米波的透射率不低于98% ;在光學(xué)介質(zhì)基體I光學(xué)反射面的背面為頻率選擇結(jié)構(gòu)3，該頻率選擇結(jié)構(gòu)3由分布在光學(xué)反射面背面的頻率選擇單元3a構(gòu)成，每個頻率選擇單元3a均為盲孔，頻率選擇單元3a的孔底到光學(xué)反射面的距離d=0.01Ag~0.1Ag, Ag是毫米波在光 學(xué)介質(zhì)基體I中的導(dǎo)波波長。
[0008]本發(fā)明的工作原理是:通常的光學(xué)反射元件由于性能、強(qiáng)度等要求使得其厚度不能過小，導(dǎo)致該元件雖能良好的保證光學(xué)性能，卻不能很好的透射毫米波；而毫米波段的頻率選擇結(jié)構(gòu)一般由腐蝕了頻率選擇單元圖案的金屬層構(gòu)成(具體設(shè)計方法詳見Ben A.Munk所著的〈Frequency Selective Surfaces Theory and Design〉)，能很好的透射毫米波，但經(jīng)腐蝕單元圖案后，金屬留存面積急劇減少，光學(xué)作用面積明顯不足，無法保證光學(xué)的反射率。本發(fā)明的具體解決辦法是:在光學(xué)介質(zhì)基體光學(xué)反射面的背面腐蝕或者刻蝕頻率選擇結(jié)構(gòu)，并且其頻率選擇單元為盲孔(不貫通)。這樣既保證了很高的光學(xué)反射率和強(qiáng)度，同時也保證了實際光學(xué)介質(zhì)基體厚度很薄，不會影響毫米波的透射，實現(xiàn)了良好的雙模特性。
[0009]實施例1:光學(xué)介質(zhì)膜:氟化鋇(BaF2),光學(xué)介質(zhì)基底:K9玻璃，基底光學(xué)作用面與頻率選擇結(jié)構(gòu)單元盲孔底距離d為0.1mm。
[0010]實施例2:光學(xué)介質(zhì)膜:氟化鋰(LiF)，光學(xué)介質(zhì)基底:硫化鋅(ZnS)，基底光學(xué)作用面與頻率選擇結(jié)構(gòu)單元盲孔底距離d為0.05mm。
[0011] 實施例3:光學(xué)介質(zhì)膜:氟化鈣(GaF2),光學(xué)介質(zhì)基底:硒化鋅(ZnSe)，基底光學(xué)作用面與頻率選擇結(jié)構(gòu)單元盲孔底距離d為0.05mm。
【權(quán)利要求】
1.一種毫米波透射與光學(xué)反射雙模結(jié)構(gòu)，包括光學(xué)介質(zhì)基體(1)，在光學(xué)介質(zhì)基體(1)的光學(xué)反射面上鍍制有光學(xué)反射膜(2)，其特征在于:所說的光學(xué)反射膜(2)對毫米波的透射率不低于98%;在光學(xué)介質(zhì)基體(1)光學(xué)反射面的 背面為頻率選擇結(jié)構(gòu)(3)，該頻率選擇結(jié)構(gòu)(3)由分布在光學(xué)反射面背面的頻率選擇單元(3a)構(gòu)成，每個頻率選擇單元(3a)均為盲孔，頻率選擇單元(3a)的孔底到光學(xué)反射面的距離d=0.01Ag~0.lAg，λ g是毫米波在光學(xué)介質(zhì)基體(1)中的導(dǎo)波波長。
【文檔編號】G02B1/10GK103904387SQ201210583803
【公開日】2014年7月2日 申請日期:2012年12月28日 優(yōu)先權(quán)日:2012年12月28日
【發(fā)明者】沈榮, 尤立志, 羅倫 申請人:中國航空工業(yè)第六○七研究所