專利名稱：一種偏振光學(xué)調(diào)制器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及光學(xué)和激光領(lǐng)域，尤其涉及一種偏振光學(xué)調(diào)制器。
背景技術(shù)：
通常經(jīng)Walk-off晶體出射的O光與e光并沒(méi)有嚴(yán)格相互平行，有時(shí)o光與e光的夾角會(huì)達(dá)到0.016° -0.019°，這對(duì)一些對(duì)O光與e光平行度要求較高的場(chǎng)合無(wú)疑是不適用的。如圖I所示，經(jīng)過(guò)Walk-off晶體而出射的O光與e光的夾角A 0為0.016° -0.019°。在此說(shuō)明的是，o光與e光的夾角A 9為o光與e光出射方向的夾角。
發(fā)明內(nèi)容·[0004]為解決上述現(xiàn)有技術(shù)經(jīng)過(guò)Walk-off晶體而出射的O光與e光的存在一定夾角，而非平行導(dǎo)致光學(xué)設(shè)計(jì)質(zhì)量降低的技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案一種偏振光學(xué)調(diào)制器，其包括Walk-off晶體和楔角片，所述Walk-off晶體和楔角片相鄰設(shè)置，所述楔角片設(shè)置在Walk-off晶體的光線出射面。進(jìn)一步地，所述楔角片設(shè)置在e光的出射光路方向。進(jìn)一步地，所述楔角片設(shè)置在O光的出射光路方向。本實(shí)用新型的有益效果在于本實(shí)用新型通過(guò)在Walk-off晶體的光線出射面設(shè)置楔角片，對(duì)出射出的偏振光進(jìn)行補(bǔ)償，從而獲得平行度很高的O光和e光，提高了光學(xué)設(shè)計(jì)的質(zhì)量，精密性進(jìn)一步提升。

圖I為現(xiàn)有技術(shù)一種偏振光學(xué)調(diào)制器的光路示意圖；圖2為本實(shí)用新型一種偏振光調(diào)制器第一實(shí)施例示意圖；圖3為本實(shí)用新型一種偏振光調(diào)制器第二實(shí)施例示意圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖詳細(xì)說(shuō)明本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例。請(qǐng)參閱圖2，其是本實(shí)用新型一種偏振光調(diào)制器第一實(shí)施例示意圖本實(shí)用新型提供一種偏振光學(xué)調(diào)制器，其包括Walk-off晶體20和楔角片30。其中，Walk-off晶體20和楔角片30相鄰設(shè)置。楔角片30設(shè)置在Walk-off晶體20的光線出射面，且，楔角片30設(shè)置在e光的出射光路方向。通過(guò)在e光的出射光路設(shè)置一楔角片30對(duì)e光進(jìn)行補(bǔ)償，從而獲得平行度很高的O光和e光。請(qǐng)參閱圖3，其是本實(shí)用新型一種偏振光調(diào)制器第二實(shí)施例示意圖相較于第一實(shí)施例，其區(qū)別點(diǎn)在于在第二實(shí)施例中，楔角片30設(shè)置在O光的出射光路方向。[0017]通過(guò)在o光的出射光路設(shè)置一楔角片30對(duì)O光進(jìn)行補(bǔ)償，從而獲得平行度很高的O光和e光。相較于現(xiàn)有技術(shù)，本實(shí)用新型通過(guò)在Walk-off晶體20的光線出射面設(shè)置楔角片30，對(duì)出射出的O光或者e光進(jìn)行補(bǔ)償，從而獲得平行度很高的O光和e光，提高了光學(xué)設(shè)計(jì)的質(zhì)量，精密性進(jìn)一步提升。這里本實(shí)用新型的描述和應(yīng)用是說(shuō)明性的，并非想將本實(shí)用新型的范圍限制在上述實(shí)施例中。這里所披露的實(shí)施例的變形和改變是可能的，對(duì)于那些本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)實(shí)施例的替換和等效的各種部件是公知的。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該清楚的是，在不脫離本實(shí)用新型的精神或本質(zhì)特征的情況下，本實(shí)用新型可以以其它形式、結(jié)構(gòu)、布置、比例， 以及用其它組件、材料和部件來(lái)實(shí)現(xiàn)。在不脫離本實(shí)用新型范圍和精神的情況下，可以對(duì)這里所披露的實(shí)施例進(jìn)行其它變形和改變。
權(quán)利要求1.一種偏振光學(xué)調(diào)制器，其特征在于，包括Walk_off晶體和楔角片,所述Walk-off晶體和楔角片相鄰設(shè)置，所述楔角片設(shè)置在Walk-off晶體的光線出射面。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種偏振光學(xué)調(diào)制器，其特征在于，所述楔角片設(shè)置在e光的出射光路方向。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種偏振光學(xué)調(diào)制器，其特征在于，所述楔角片設(shè)置在0光的出射光路方向。
專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種偏振光學(xué)調(diào)制器，其包括Walk-off晶體和楔角片，所述Walk-off晶體和楔角片相鄰設(shè)置，所述楔角片設(shè)置在Walk-off晶體的光線出射面。本實(shí)用新型通過(guò)在Walk-off晶體的光線出射面設(shè)置楔角片，對(duì)出射出的偏振光進(jìn)行補(bǔ)償，從而獲得平行度很高的出射光學(xué)，提高了光學(xué)設(shè)計(jì)的質(zhì)量，進(jìn)一步提升了光學(xué)器件精密性。
文檔編號(hào)G02B5/30GK202512302SQ201220194908
公開(kāi)日2012年10月31日 申請(qǐng)日期2012年5月3日 優(yōu)先權(quán)日2012年5月3日
發(fā)明者盧秀愛(ài), 吳礪, 陳衛(wèi)民, 陳燕平 申請(qǐng)人:福州高意光學(xué)有限公司