光學(xué)層疊體的制造方法
【專利摘要】利用以往的制造方法、即在進(jìn)行了摩擦處理的薄膜基材的表面涂布包含溶致液晶化合物的溶液而獲得的偏光膜的外觀均勻性差。[解決手段]本發(fā)明的具有薄膜基材和偏光膜的光學(xué)層疊體的制造方法包含接下來的工序：在薄膜基材（11）的一側(cè)的主面層疊再剝離薄膜（13）而獲得層疊薄膜基材（14）的工序A；對層疊薄膜基材（14）的薄膜基材（11）的另一個主面進(jìn)行摩擦處理的工序B；在薄膜基材（11）的摩擦處理面上涂布包含溶致液晶化合物和溶劑的溶液的工序C；自層疊薄膜基材（14）剝離再剝離薄膜（13）的工序D。
【專利說明】光學(xué)層疊體的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種具有偏光膜的光學(xué)層疊體的制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]通用的偏光膜是將聚乙烯醇薄膜延伸后用碘染色來制造(也有染色后進(jìn)行延伸的制造方法)。與之相對，已知有在進(jìn)行了摩擦處理的薄膜基材的表面涂布包含溶致液晶化合物的溶液而制造的偏光膜(例如專利文獻(xiàn)I)。后者的偏光膜比前者的偏光薄膜的膜厚薄，因此發(fā)展前途備受期待。
[0003]但是，利用以往的制造方法、即在進(jìn)行了摩擦處理的薄膜基材的表面涂布包含溶致液晶化合物的溶液的制造方法而獲得的偏光膜具有外觀均勻性差這樣的問題。
[0004]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0005]專利文獻(xiàn)
[0006]專利文獻(xiàn)1:日本特開2002-311246號公報
【發(fā)明內(nèi)容】

_7] 發(fā)明要解決的問題
[0008]本發(fā)明的目的在于實現(xiàn)一種具有外觀均勻性優(yōu)異的偏光膜、且膜厚薄的光學(xué)層疊體的制造方法。
_9] 用于解決問題的方案
[0010](I)本發(fā)明的具有薄膜基材和偏光膜的光學(xué)層疊體的制造方法包含接下來的工序:
[0011]在薄膜基材的一側(cè)的主面層疊再剝離薄膜而獲得層疊薄膜基材的工序A ;
[0012]對層疊薄膜基材的薄膜基材的另一個主面進(jìn)行摩擦處理的工序B ；
[0013]在薄膜基材的摩擦處理面上涂布包含溶致液晶化合物和溶劑的溶液的工序C ；
[0014]自層疊薄膜基材剝離再剝離薄膜的工序D。
[0015](2)在本發(fā)明的光學(xué)層疊體的制造方法中，形成薄膜基材的材料為環(huán)烯烴系聚合物薄膜或纖維素系聚合物薄膜。
[0016](3)在本發(fā)明的光學(xué)層疊體的制造方法中，形成再剝離薄膜的材料為酯系聚合物薄膜或丙烯酸類聚合物薄膜。
[0017](4)在本發(fā)明的光學(xué)層疊體的制造方法中，薄膜基材的厚度為20 μ m?50 μ m,再剝離薄膜的厚度為30 μ m?150 μ m,層疊薄膜基材的厚度為100 μ m?200 μ m。
[0018](5)在本發(fā)明的光學(xué)層疊體的制造方法中，摩擦處理為紙幅張力調(diào)節(jié)(tensionweb)方式的摩擦處理。
[0019](6)在本發(fā)明的光學(xué)層疊體的制造方法中，溶致液晶化合物為偶氮系化合物、蒽醌系化合物、茈系化合物、喹酞酮系化合物、萘醌系化合物、部花青系化合物的任一種、或它們的混合物。[0020](7)在本發(fā)明的光學(xué)層疊體的制造方法中，溶劑為水、醇類、酮類、溶纖劑類的任一種、或它們的混合溶劑。
[0021](8)在本發(fā)明的光學(xué)層疊體的制造方法中,涂布溶液的手段為線棒(wire bar)、間隙式涂布機(jī)、逗號涂布機(jī)、凹版涂布機(jī)、槽模的任一種。
[0022]發(fā)明的效果
[0023]利用本發(fā)明能夠獲得具有外觀均勻性優(yōu)異的偏光膜的薄型的光學(xué)層疊體。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0024]圖1為表示本發(fā)明的光學(xué)層疊體的制造方法的工序圖。
[0025]圖2為本發(fā)明中使用的摩擦處理的示意圖。
【具體實施方式】
[0026]根據(jù)本發(fā)明人等的研究，在以往的制造方法中偏光膜的外觀均勻性惡化的原因如下。在薄膜基材薄的情況下，薄膜基材的剛性不足，產(chǎn)生褶皺、撓曲。由于薄膜基材的褶皺、撓曲，摩擦處理、涂布變得不穩(wěn)定。例如，當(dāng)薄膜基材有褶皺時，有時摩擦處理的壓力集中于褶皺的凸部，而涂布液集中于褶皺的凹部。另外，當(dāng)薄膜基材有撓曲時，有時涂布液集中于撓曲的凹部。因此，偏光膜的外觀均勻性惡化。薄膜基材薄是指厚度為例如50 μ m以下。
[0027]在本發(fā)明中，在薄膜基材的不進(jìn)行摩擦處理的一側(cè)的面(B卩，不涂布包含溶致液晶化合物的溶液的一側(cè)的面)上，預(yù)先層疊再剝離薄膜，使層疊后的層疊薄膜基材的厚度為例如80μπι以上。在薄膜基材和再剝離薄膜有自粘合性的情況下，不特別需要粘接層。在沒有自粘合性的情況下，理想的是在再剝離薄膜上添加粘接層。在該狀態(tài)下，進(jìn)行摩擦處理，涂布包含溶致液晶化合物的溶液。層疊薄膜基材比單層的薄膜基材厚且剛性高，因此不容易產(chǎn)生褶皺、撓曲，能夠穩(wěn)定地進(jìn)行摩擦處理、溶液涂布。其結(jié)果，能夠獲得外觀均勻性優(yōu)異的偏光膜。
[0028]其后，自層疊薄膜基材剝離再剝離薄膜。這樣，可以獲得薄膜基材與偏光膜的光學(xué)層疊體，所述偏光膜包含溶致液晶化合物。獲得的光學(xué)層疊體的厚度薄(為薄型)。
[0029][本發(fā)明的制造方法]
[0030]本發(fā)明為圖1所示光學(xué)層疊體10的制造方法。利用本發(fā)明的制造方法獲得的光學(xué)層疊體10具有薄膜基材11和偏光膜12。本發(fā)明的制造方法包含圖1所示的工序A?工序D。本發(fā)明的制造方法中，除了工序A?工序D以外，也可以在工序A?工序D的前后或中間包含其他的工序。
[0031]在工序A中，在薄膜基材11的一側(cè)的主面層疊再剝離薄膜13，獲得層疊薄膜基材
14。在工序B中，將旋轉(zhuǎn)的摩擦輥15按壓于薄膜基材11的另一個主面，進(jìn)行摩擦處理。在工序C中，在摩擦處理后的薄膜基材11的表面涂布包含溶致液晶化合物的溶液。包含溶致液晶化合物的溶液的膜在溶致液晶化合物的取向后成為偏光膜12。在工序D中，剝離再剝離薄膜13。
[0032][工序Α]
[0033]在工序A中，在薄膜基材11的一側(cè)的主面層疊再剝離薄膜13，獲得層疊薄膜基材14。為了獲得薄型的光學(xué)層疊體10，薄膜基材11的厚度優(yōu)選為50 μ m以下，更優(yōu)選為20 μ m~50 μ m。為了獲得外觀均勻性優(yōu)異的偏光膜12，層疊薄膜基材14需要具有充分的剛性，因此，層疊薄膜基材14的厚度優(yōu)選為80 μ m以上，更優(yōu)選為100 μ π!~200 μ m。考慮到上述薄膜基材11的厚度和層疊薄膜基材14的厚度，再剝離薄膜13的厚度優(yōu)選為30 μ m~150 μ m0
[0034]例如，薄膜基材11的厚度為50 μ m時，再剝離薄膜13的厚度優(yōu)選為30 μ m以上。薄膜基材11的厚度為20 μ m時，再剝離薄膜13的厚度優(yōu)選為60 μ m以上。
[0035]層疊薄膜基材14的剛性比單獨的薄膜基材11的剛性高，不容易產(chǎn)生褶皺、撓曲。因此，可以穩(wěn)定而均勻地對層疊薄膜基材14進(jìn)行摩擦處理、溶液的涂布。
[0036]對薄膜基材11的材料沒有特別的限制，優(yōu)選平滑性、透明性高的材料。作為形成薄膜基材11的材料，例如可以舉出:環(huán)烯烴系聚合物薄膜、纖維素系聚合物薄膜。
[0037]為了提高溶致液晶化合物的取向能力，也可以在薄膜基材11的要進(jìn)行摩擦處理的表面形成由乙烯醇系聚合物等構(gòu)成的取向膜(未圖示)。
[0038]作為再剝離薄膜13，例如可以使用在薄膜的一側(cè)的主面形成有再剝離性的粘合劑層(未圖示)的薄膜。再剝離薄膜13的材料優(yōu)選為平滑性、剛性高的材料。作為形成再剝離薄膜13的材料，例如可以舉出:酯系聚合物薄膜、丙烯酸類聚合物薄膜。
[0039][工序B]
[0040]在工序B中，將摩擦輥15按壓于在工序A獲得的層疊薄膜基材14的薄膜基材11的主面，進(jìn)行摩擦處理。摩擦處理是為了使在工序C涂布的溶致液晶化合物沿單向(one-way )取向而進(jìn)行的。
[0041]摩擦處理例如可以如下操 作來進(jìn)行:一邊使卷繞有具有起毛絨頭(pile)的摩擦布(rubbing cloths)的摩擦棍15沿一個方向旋轉(zhuǎn),一邊將其按壓于行進(jìn)中的層疊薄膜基材14的薄膜基材11的表面。
[0042]對摩擦布的材質(zhì)沒有特別的限制，例如可以使用棉、人造絲(Rayon)。摩擦輥15的旋轉(zhuǎn)軸與層疊薄膜基材14的行進(jìn)方向之間所成的角度可以根據(jù)目的而適當(dāng)?shù)卦O(shè)定。
[0043]在圖2中示出優(yōu)選的摩擦處理的實施方式。一邊利用第I導(dǎo)輥16和第2導(dǎo)輥17支撐長條的層疊薄膜基材14的再剝離薄膜13側(cè)的表面，一邊使層疊薄膜基材14行進(jìn)。第I導(dǎo)輥16位于層疊薄膜基材14的行進(jìn)上游側(cè)，第2導(dǎo)輥17位于層疊薄膜基材14的行進(jìn)下游側(cè)。
[0044]在第I導(dǎo)輥16與第2導(dǎo)輥17之間，將摩擦輥15按壓于層疊薄膜基材14的薄膜基材11側(cè)的表面，進(jìn)行摩擦處理。對于摩擦輥15的按入量H，以使溶致液晶化合物均勻地取向的方式而適當(dāng)?shù)卦O(shè)定。
[0045]像圖2那樣的摩擦處理方法稱為紙幅張力調(diào)節(jié)方式的摩擦處理，其特征是摩擦輥15沒有支撐輥(back roll)。通過使用紙幅張力調(diào)節(jié)方式的摩擦處理，可以在寬度方向上賦予均勻的張力，因此能均勻地實施摩擦處理。由此，能獲得具有外觀均勻性優(yōu)異的偏光膜的光學(xué)層疊體。
[0046]在層疊薄膜基材14行進(jìn)時，第I導(dǎo)輥16和第2導(dǎo)輥17邊旋轉(zhuǎn)邊支撐層疊薄膜基材14的再剝離薄膜13側(cè)的表面。對第I導(dǎo)輥16和第2導(dǎo)輥17的材質(zhì)、大小沒有限制，通常為橡膠制或金屬制，直徑為IOmm~500mm。第I導(dǎo)棍16的材質(zhì)、大小與第2導(dǎo)棍17的材質(zhì)、大小可以相同，也可以不相同。[0047][工序C]
[0048]在工序C中，在由工序B獲得的層疊薄膜基材14的摩擦處理面涂布包含溶致液晶化合物的溶液，獲得偏光膜12。
[0049]本發(fā)明中使用的包含溶致液晶化合物的溶液通常包含溶致液晶化合物和溶劑。溶致液晶化合物是指在溶解于溶劑的狀態(tài)下顯示液晶性的化合物。作為本發(fā)明中使用的溶致液晶化合物，優(yōu)選:偶氮系化合物、蒽醌系化合物、茈系化合物、喹酞酮系化合物、萘醌系化合物、部花青系化合物、以及它們的混合物。
[0050]本發(fā)明中使用的溶劑優(yōu)選為水、醇類、酮類、溶纖劑類以及它們的混合溶劑。溶液中的溶致液晶化合物的含量優(yōu)選為包含溶致液晶化合物的溶液的總重量的2重量％?30
重量％。
[0051]對于本發(fā)明中使用的涂布手段，只要是能夠?qū)苤乱壕Щ衔锏娜芤壕鶆虻赝坎加趯盈B薄膜基材14的表面的手段，則沒有特別的限制，例如為線棒、間隙式涂布機(jī)、逗號涂布機(jī)、凹版涂布機(jī)、槽模。對于被涂布的包含溶致液晶化合物的溶液，可以自然干燥，也可以加熱干燥。
[0052][工序D]
[0053]在工序D中，剝離再剝離薄膜13，獲得光學(xué)層疊體10(薄膜基材11和偏光膜12的層疊體)。對本發(fā)明中使用的再剝離薄膜13的剝離手段沒有特別的限制，可以采用公知的剝離裝置，也可以手動剝離。
[0054][光學(xué)層疊體]
[0055]利用本發(fā)明獲得的光學(xué)層疊體10具有薄膜基材11和在薄膜基材11上形成的偏光膜12。偏光膜12對可見光區(qū)域(波長380nm?780nm)的任意波長顯示吸收二色性，在主面內(nèi)的單方向上具有吸收軸。吸收二色性通過溶致液晶化合物在偏光膜12中取向而獲得。
[0056]偏光膜12中的溶致液晶化合物的含量優(yōu)選為偏光膜12的總重量的80重量％?
100重量％。
[0057]光學(xué)層疊體10的厚度優(yōu)選為20 μ m?60 μ m。偏光膜12的厚度優(yōu)選為0.1 μ m?10 μ m0
[0058]實施例
[0059][實施例]
[0060]準(zhǔn)備由環(huán)烯烴系聚合物薄膜(日本瑞翁株式會社制造的ZE0N0R)構(gòu)成的長條的薄膜基材11 (厚度為40μπι)。準(zhǔn)備形成有粘合劑層的、由聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜構(gòu)成的長條的再剝離薄膜13 (厚度為60 μ m)。在薄膜基材11的一側(cè)的主面層疊粘接再剝離薄膜13，制作層疊薄膜基材14 (工序A)。
[0061]接著如圖2所示，一邊使層疊薄膜基材14行進(jìn)，一邊對薄膜基材11的表面進(jìn)行摩擦處理(工序B)。
[0062]接著，在進(jìn)行了摩擦處理的薄膜基材11的表面涂布包含溶致液晶化合物的溶液(工序C)。包含溶致液晶化合物的溶液為將按照日本特開2009-173849的實施例1制作的偶氮系化合物溶解于水而成的溶液。將包含溶致液晶化合物的溶液自然干燥，形成厚度為
0.4μπι的偏光膜12。
[0063]最后，自層疊薄膜基材14剝離再剝離薄膜13，獲得由偏光膜12和薄膜基材11構(gòu)成的光學(xué)層疊體10 (厚度為40.4 μ m)(工序D)。
[0064][比較例]
[0065]以與實施例相同的方法對與實施例相同規(guī)格的薄膜基材進(jìn)行摩擦處理。在進(jìn)行了摩擦處理的薄膜基材的表面，以與實施例相同的方法涂布與實施例相同規(guī)格的包含溶致液晶化合物的溶液。以與實施例相同的方法將其自然干燥，形成厚度為0.4μπι的偏光膜。最后獲得厚度為40.4μπι的光學(xué)層疊體。與實施例不同，在比較例中沒有使用再剝離薄膜。
[0066][評價]
[0067]實施例的光學(xué)層疊體的偏光膜的外觀均勻。與之相對，比較例的光學(xué)層疊體的偏光膜由于摩擦處理的不穩(wěn)定以及涂布的不穩(wěn)定，外觀不均勻。
[0068][測定方法]
[0069][厚度]
[0070]薄膜的厚度等使用數(shù)字測量儀器(DIGITAL GAUGE)(尾崎制作所制造的PEACOCK)
來測量。
[0071][外觀均勻性]
[0072]將自實施例的光學(xué)層疊體10切出的樣品置于白色光源之上，一邊環(huán)繞與主面垂直的軸線慢慢地旋轉(zhuǎn)樣品，一邊肉眼觀察偏光膜的外觀均勻性。對于自比較例的光學(xué)層疊體切出的樣品，也與實施例同樣地，肉眼觀察偏光膜的外觀均勻性。
[0073]產(chǎn)業(yè)h的可利用件
[0074]利用本發(fā)明的制造方法獲得的光學(xué)層疊體例如能較佳地用于液晶電視、移動電話等的液晶顯示屏，或者有機(jī)EL顯示屏。
【權(quán)利要求】
1.一種光學(xué)層疊體的制造方法，其包含如下工序: 在薄膜基材的一側(cè)的主面層疊再剝離薄膜而獲得層疊薄膜基材的工序A ; 對所述層疊薄膜基材的所述薄膜基材的另一個主面進(jìn)行摩擦處理的工序B ； 在所述薄膜基材的摩擦處理面上涂布包含溶致液晶化合物和溶劑的溶液的工序C ；以及自所述層疊薄膜基材剝離所述再剝離薄膜的工序D。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)層疊體的制造方法，其中，形成所述薄膜基材的材料為環(huán)烯烴系聚合物薄膜或纖維素系聚合物薄膜。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)層疊體的制造方法，其中，形成所述再剝離薄膜的材料為酯系聚合物薄膜或丙烯酸類聚合物薄膜。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)層疊體的制造方法，其中，所述薄膜基材的厚度為20μπι?50μπι，所述再剝離薄膜的厚度為30μπι?150 μ m，所述層疊薄膜基材的厚度為100 μ m ?200 μ m。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)層疊體的制造方法，其中，所述摩擦處理為紙幅張力調(diào)節(jié)方式的摩擦處理。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)層疊體的制造方法，其中，所述溶致液晶化合物為偶氮系化合物、蒽醌系化合物、茈系化合物、喹酞酮系化合物、萘醌系化合物、部花青系化合物的任一種、或它們的混合物。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)層疊體的制造方法，其中，所述溶劑為水、醇類、酮類、溶纖劑類的任一種、或它們的混合溶劑。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)層疊體的制造方法，其中，涂布所述溶液的手段為線棒、間隙式涂布機(jī)、逗號涂布機(jī)、凹版涂布機(jī)、槽模的任一種。
【文檔編號】G02B5/30GK103502850SQ201280020165
【公開日】2014年1月8日 申請日期:2012年4月5日 優(yōu)先權(quán)日:2011年4月26日
【發(fā)明者】麻野井祥明, 梅本徹, 松田祥一, 龜山忠幸 申請人:日東電工株式會社