具有基底板的真空腔室的制作方法
【專利摘要】一種目標(biāo)加工處理機(jī)械（100），譬如光刻機(jī)或檢測(cè)機(jī)械，其包括剛性基底板（150）、用于投射一或更多光學(xué)或粒子束于目標(biāo)（130）上的投射柱（101）、支撐該投射柱的支撐框架（102），該支撐框架由基底板支撐并且固定到該基底板、包括用于負(fù)載該目標(biāo)的可移動(dòng)部分（128）以及由基底板所支撐并且固定到該基底板的固定部分（132、133）的載臺(tái)、用于檢測(cè)由該柱所投射的一或更多射束的射束傳感器，該射束傳感器至少部分地由該基底板支撐并且固定到該基底板、以及密封該支撐框架與該柱的真空腔室（110），用于維持在該腔室的內(nèi)部空間中的真空環(huán)境，該真空腔室借助形成其部分的基底板形成，并且包含多個(gè)墻板（171、172），所述墻板（171、172）包括由基底板支撐并且固定至該基底板的多個(gè)側(cè)墻板（171）。
【專利說(shuō)明】具有基底板的真空腔室
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及用于具有集成基底板的光刻設(shè)備的真空腔室。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0002]目標(biāo)處理機(jī)械，如光刻機(jī)或檢測(cè)機(jī)械，其包括剛性基底板；用于投射一或更多光束或粒子束于目標(biāo)上的投射柱；支撐該投射柱的支撐框架，該支撐框架由基底板所支撐并且固定到該基底板；包含用于負(fù)載該目標(biāo)的可移動(dòng)部分以及由基底板所支撐并且固定到該基底板的固定部分的載臺(tái)；用于檢測(cè)由該柱所投射的一或更多射束的射束傳感器，該射束傳感器至少部分地由基底板所支撐并且固定到該基底板；以及密封該支撐框架與該柱的真空腔室，以用于維持在該腔室內(nèi)部空間中的真空環(huán)境，該真空腔室借助形成其部分的基底板形成，并且包括多個(gè)墻板，該墻板包括由所述基底板支撐并且固定至該基底板的多個(gè)側(cè)墻板。
[0003]射束傳感器優(yōu)選地至少部分地被容納于該載臺(tái)以下，且該基底板優(yōu)選地包括該射束傳感器延伸進(jìn)入的凹處或孔洞。該載臺(tái)優(yōu)選地包含用來(lái)移動(dòng)該載臺(tái)的可移動(dòng)部分的一或更多驅(qū)動(dòng)器，該驅(qū)動(dòng)器至少部分地放置在該真空腔室以外，且該基底板優(yōu)選地包括一或更多開(kāi)口，該一或更多驅(qū)動(dòng)器經(jīng)由該開(kāi)口與該載臺(tái)的可移動(dòng)部分通信。
[0004]該機(jī)械優(yōu)選地包括位于該側(cè)墻與該基底板之間的一或更多振動(dòng)隔離構(gòu)件，且該基底板優(yōu)選地包括在其底側(cè)上的三個(gè)支撐點(diǎn)，以用來(lái)支撐該機(jī)械于底座上。該支撐框架優(yōu)選地形成部分的振動(dòng)隔離模塊，該模塊包含通過(guò)至少一個(gè)彈簧組件而被連接到該支撐框架的中間體部，以及用于容納該投射柱的支撐體部，該支撐體部通過(guò)至少一個(gè)擺桿而被連接到該中間體部。
[0005]墻板優(yōu)選地被組裝，以使用多個(gè)連接構(gòu)件來(lái)形成該腔室，該連接構(gòu)件適于可移動(dòng)地連接該墻板與被設(shè)置在該墻板邊緣上的一或更多密封構(gòu)件。該連接構(gòu)件可適于確定(locate)該墻板的位置，同時(shí)提供用于小預(yù)定范圍的墻板移動(dòng)。該連接構(gòu)件可包括銷或螺栓，且一或更多密封構(gòu)件可包括設(shè)置在相鄰墻板之間的O形環(huán)或C形環(huán)。該腔室的墻板的至少一面可基本上以鎳鐵高導(dǎo)磁率合金(mu metal)覆蓋。
[0006]射束傳感器優(yōu)選地固定到基底板，以致于該射束傳感器與該載臺(tái)的固定部分具有固定的空間關(guān)系。該基底板可包括形成與該支撐框架的界面的中央部以及形成與該真空腔室側(cè)墻的界面的周圍部，該基底板的部分可被可松開(kāi)地連接。
[0007]該基底板可由單一厚金屬片構(gòu)造?；装暹€可以兩片制造，其包括形成與該支撐框架的界面的中央部以及形成與該真空腔室側(cè)墻的界面的周圍部。這兩部?jī)?yōu)選地可被可松開(kāi)地連接。優(yōu)選地，該基底板基本上由鋁構(gòu)造。
[0008]基底板的厚度可基本上大于該真空腔室的墻板。優(yōu)選地，該基底板具有充分的質(zhì)量來(lái)限制在該機(jī)械上的振動(dòng)影響，而不需要固定連接到支撐厚板。
【具體實(shí)施方式】[0009]以下僅僅藉由實(shí)例并且參考附圖所給出的本發(fā)明各種實(shí)施例的說(shuō)明。該附圖不按比例繪制，并且僅僅用于說(shuō)明性目的。本發(fā)明就帶電粒子光刻系統(tǒng)來(lái)說(shuō)明，雖然它亦可被應(yīng)用于光學(xué)光刻系統(tǒng)、檢測(cè)系統(tǒng)與類似系統(tǒng)。
[0010]圖1示意性顯示目標(biāo)處理機(jī)械100的實(shí)施例，譬如光刻機(jī)或檢測(cè)機(jī)械。該機(jī)械包含用于投射一或更多光束或粒子束于目標(biāo)上的投射柱101，例如在圖1示意性描述的多細(xì)射束帶電粒子光刻機(jī)或檢測(cè)系統(tǒng)的電子光學(xué)光柱。投射柱101由位于真空腔室110里面以及支撐在基底板150上的支撐框架102所支撐。
[0011]該機(jī)械在真空環(huán)境中操作。至少10_3毫巴的真空通常是帶電粒子光刻機(jī)所需的。該機(jī)械的全部主要組件優(yōu)選地放置于共享真空腔室中，包括用于帶電粒子光刻機(jī)的帶電粒子源、細(xì)射束孔徑與消隱系統(tǒng)、用于將細(xì)射束投射到晶片上的投射器系統(tǒng)、以及可移動(dòng)晶片載臺(tái)。在另一實(shí)施例中，該帶電粒子源可被置于一隔開(kāi)的真空腔室中。
[0012]該目標(biāo)處理機(jī)械對(duì)振動(dòng)敏感，且在所示的實(shí)施例中，支撐框架102為投射柱101提供振動(dòng)隔離。為了此目的，支撐框架102包含中間體部103與設(shè)置用于容納該投射柱101的支撐體部104。在本實(shí)施例中，支撐框架102可通過(guò)包含板片彈簧的彈簧組件105而被連接到中間體部103。彈簧組件還可包括阻尼組件，以便特別在Z-方向中能夠?qū)崿F(xiàn)振動(dòng)阻尼。
[0013]通過(guò)至少一個(gè)桿狀結(jié)構(gòu)，進(jìn)一步稱為擺桿108，支撐體部104同樣可連接到中間體部103。該至少一個(gè)擺桿108應(yīng)該足夠堅(jiān)固來(lái)負(fù)載體部104，其可具有數(shù)百公斤的質(zhì)量，并且能夠允許體部104擺動(dòng)。中間體部103與/或支撐體部104可設(shè)有阻尼組件，以阻止在水平面中的振動(dòng)，并且同樣優(yōu)選地阻止在繞著Z-方向軸(亦即，Rz )的轉(zhuǎn)動(dòng)方向中的振動(dòng)。擺桿108包含兩個(gè)彎曲點(diǎn)，其可通過(guò)局部減少在該彎曲點(diǎn)上桿108的截面面積而產(chǎn)生。兩個(gè)彎曲點(diǎn)的存在會(huì)造成該支撐體部104的擺動(dòng)動(dòng)作發(fā)生在水平面上，亦即，xy平面。在此所使用的用詞“彎曲點(diǎn)”意指一點(diǎn)，繞著該點(diǎn)，在該彎曲點(diǎn)一側(cè)上的一部分桿108能夠相對(duì)于在該彎曲點(diǎn)另一側(cè)上的一部分桿108轉(zhuǎn)動(dòng)和/或旋轉(zhuǎn)。
[0014]目標(biāo)130，譬如基板或晶片，被保持在基板支撐結(jié)構(gòu)127上，其被排列在可移動(dòng)載臺(tái)上。該載臺(tái)包括用于攜帶該目標(biāo)的可移動(dòng)部分——夾具128，以及由該基底板所支撐并且固定到該基底板的固定部分132、133。該載臺(tái)進(jìn)一步包含長(zhǎng)沖程部分，其包括設(shè)置用于在X方向中(在圖1中，在進(jìn)入與離開(kāi)紙的方向中)移動(dòng)的X-載臺(tái)120以及設(shè)置用于在y方向中(在圖1中，在水平方向中)移動(dòng)的Y-載臺(tái)122。該載臺(tái)短沖程部分包含定位器124，其用于在X、Y和/或Z-方向以及在一或更多轉(zhuǎn)動(dòng)方向Rz、Rx、Ry中移動(dòng)夾具128。該定位器通常采用電馬達(dá)形式，優(yōu)選線性馬達(dá)，優(yōu)選包含勞侖茲型致動(dòng)器。用于使支撐框架102中的振動(dòng)與該基板支撐結(jié)構(gòu)127和目標(biāo)130隔離的重力補(bǔ)償彈簧125被設(shè)置在其上面。
[0015]圖2顯示穿過(guò)基底板150的水平截面圖?；装?50優(yōu)選地由厚且剛性的金屬塊制成，譬如鋁。支撐架構(gòu)102由基底板的上側(cè)所支撐并且被固定到該基底板的上側(cè)，且該載臺(tái)的固定部分132、133同樣由該基底板所支撐并且固定到該基底板。該基底板包括用于支撐該機(jī)械于底座154上的支撐支腳152。該基底板優(yōu)選地具有三個(gè)支撐支腳，以提供該機(jī)械于該底座上的穩(wěn)定支撐。所述支腳優(yōu)選地以該基底板的整體部分來(lái)形成，該金屬基底板在一種方法中被加工處理，以在一種方法中，從金屬塊形成該支腳和與其它組件的界面，以致于能夠界定單一失誤與高準(zhǔn)確性。該支腳優(yōu)選地采用具有三側(cè)或更多側(cè)的倒金字塔且在金字塔頂端具有扁平部分的形式，在此每一支腳擱置在底座上。
[0016]基底板150包括下述的界面:射束傳感器160 ;載臺(tái)的固定部分132、133 ;支撐框架102 ;和真空腔室墻171。這些界面被形成在基底板頂側(cè)上。
[0017]基底板150可包括一或更多開(kāi)口，經(jīng)由該等開(kāi)口，一或更多驅(qū)動(dòng)器140會(huì)被設(shè)置。該等驅(qū)動(dòng)器優(yōu)選地至少部分地置于該真空腔室外面。雖然沒(méi)有在圖2中描述，該等驅(qū)動(dòng)器優(yōu)選與該載臺(tái)物理性連接，以用來(lái)移動(dòng)該載臺(tái)的可移動(dòng)部分。更詳細(xì)的實(shí)施例參考圖7來(lái)說(shuō)明。
[0018]射束傳感器160被放置在該載臺(tái)下面，以用來(lái)檢測(cè)該投射柱所投射的一或更多射束。該射束傳感器可被用來(lái)檢測(cè)射束位置、射束點(diǎn)大小、以及由該柱所投射射束的其它特征。該射束傳感器由基底板所支撐并且固定到該基底板。該射束傳感器延伸入在該基底板中的凹處內(nèi)，且在圖2的實(shí)施例中，該射束傳感器160被安裝入罩殼162內(nèi)，該罩殼延伸入在基底板中形成的孔洞內(nèi)。為了測(cè)量射束位置，呈與該載臺(tái)的固定部分的固定空間關(guān)系來(lái)放置射束傳感器是重要的，以致于能夠以高準(zhǔn)確度來(lái)進(jìn)行射束位置相對(duì)于該載臺(tái)的測(cè)量。
[0019]支撐框架102同樣可由基底板150支撐。在圖2所示的實(shí)施例中，該支撐框架的支腳的底部會(huì)被固定到基底板，例如，被拴接或焊接到基底板，以便為該框架提供剛性且穩(wěn)定的支撐。
[0020]真空腔室110密封該支撐框架與該投射柱，以用來(lái)維持在該腔室內(nèi)空間中的真空環(huán)境?；装?50連同該側(cè)墻板171與頂墻板172 —起形成一部分真空腔室。該側(cè)墻板171由該基底板支撐并且固定到該基底板。
[0021]圖3顯示具有側(cè)墻板171、頂板172和臨時(shí)地板174的真空腔室的實(shí)施例。該真空腔室被顯示于正如它在組裝期間內(nèi)被放置的該側(cè)上。該腔室可以所示的臨時(shí)地板來(lái)組裝，或者直接組裝到基底板150上。所述墻板可通過(guò)譬如插拴的連接構(gòu)件而被接合在它們的邊緣上，從而能夠?qū)崿F(xiàn)簡(jiǎn)單的組裝與拆卸。所述墻板的邊緣包括用于將諸如O-環(huán)形或C-環(huán)形等的密封構(gòu)件放置在相鄰面板之間的的凹處。門框架175被提供用于一個(gè)墻，門176基本上與墻板尺寸相同，并且在接頭中嵌入該門框架。這提供基本上為該真空腔室的整個(gè)墻尺寸的大開(kāi)口。頂板或天花板172具有孔洞178，以供數(shù)據(jù)通訊纜線、供電纜線、冷水管與類似物通入該腔室內(nèi)，以連接到該腔室內(nèi)的機(jī)械。
[0022]圖4顯示已組裝且直立放置的真空腔室，其位于用于促進(jìn)組裝的臨時(shí)支腳179上。
[0023]真空腔室以套組(kitset)來(lái)構(gòu)造，該套組以可拆卸扁平包裝的架構(gòu)來(lái)運(yùn)送并且在比較靠近其最后位置的地址或位置上被組裝。該真空腔室的組件可在不用焊接的情況下被組裝，且該腔室系被構(gòu)造成當(dāng)該腔室被抽氣時(shí)，通過(guò)施加用于關(guān)閉墻板之間任何間隙并將該等面板緊緊保持在一起的力，該腔室內(nèi)的真空力有助于形成真空密封結(jié)構(gòu)。
[0024]這種類型的結(jié)構(gòu)具有優(yōu)于傳統(tǒng)設(shè)計(jì)的很多優(yōu)點(diǎn)。真空腔室的部分可被設(shè)計(jì)為標(biāo)準(zhǔn)化組件并且以更大的制造流水線來(lái)制造，可以平行制造，以及/或者該制造可被外包給專業(yè)制造商，以減少訂貨至交貨的時(shí)間與成本。可在不需要定制化工具或重機(jī)械的情況下進(jìn)行該組件的最后組裝，這減少了所需的焊接量、簡(jiǎn)化該制造過(guò)程以及減少制造時(shí)間。該模塊化設(shè)計(jì)在運(yùn)送該腔室時(shí)提供更大的彈性，因?yàn)樵撉皇铱杀徊鹦兜剡\(yùn)送，以減少運(yùn)送體積并且允許不同組件的單獨(dú)運(yùn)送。甚至在從工廠運(yùn)送該腔室以后，該模塊化設(shè)計(jì)亦可在改變?cè)撜婵涨皇业囊?guī)格上提供更大的彈性，例如該腔室的尺寸與形狀。[0025]要注意的是，正如在此所使用的，“真空”不意指完全真空，但意指真空腔室內(nèi)部空間的內(nèi)壓力低于該腔室周圍環(huán)境中的壓力。例如，至少10_3毫巴的真空優(yōu)選用于帶電粒子光刻機(jī)，優(yōu)選為10_6毫巴。
[0026]圖5為顯示在一種實(shí)施例中真空腔室墻171與基底板150之間連接細(xì)節(jié)的截面圖。基底板具有凹進(jìn)部分，以用來(lái)接收墻板171的底邊緣。真空密封180被提供在墻板與基底板之間的界面上。這可采用O形環(huán)、C形環(huán)或被夾于墻板與基底板之間的其它密封構(gòu)件的形式。譬如Viton條的振動(dòng)隔離構(gòu)件182亦可被置于墻板與基底板之間以減少振動(dòng)在該兩組件之間傳送。該凹處可容納用來(lái)使螺栓、螺絲或其它固定構(gòu)件從該基底板下垂直通到該墻端面內(nèi)的開(kāi)口，該螺栓在該真空密封的位置與該墻板的外面之間通過(guò)。
[0027]圖6為顯示在一種實(shí)施例中射束傳感器160的安裝細(xì)節(jié)的截面圖。該射束傳感器被放置在罩殼162內(nèi)，該罩殼在頂部或透明上部具有開(kāi)口，以用來(lái)感應(yīng)從上面撞擊該傳感器的射束。該罩殼經(jīng)由凸緣支撐164被連接到基底板150，且傳感器通過(guò)滑動(dòng)支撐165被放置在罩殼中，該滑動(dòng)支撐允許使用傳感器高度調(diào)整166對(duì)射束傳感器進(jìn)行垂直調(diào)整。
[0028]圖7顯示載臺(tái)的實(shí)施例，其顯示用于X-載臺(tái)的驅(qū)動(dòng)馬達(dá)140，其具有支臂141與142以用來(lái)移動(dòng)橋狀物121，而Y-載臺(tái)122則在該橋狀物上移動(dòng)。該驅(qū)動(dòng)馬達(dá)140在該載臺(tái)下延伸并且延伸到基底板的凹處內(nèi)。該載臺(tái)的固定部分132通過(guò)基底板所支撐并且固定到該基底板150。
[0029]相較于使用固定到厚巖石或花崗巖厚板的相當(dāng)薄且輕質(zhì)金屬基底的先前設(shè)計(jì)，該基底板可由單一厚金屬片構(gòu)成，優(yōu)選為鋁。在這種先前設(shè)計(jì)中，希望的硬度與穩(wěn)定度通過(guò)非常重的花崗巖厚板來(lái)提供，且該金屬基底會(huì)被硬性地附著到該厚板，其使用相當(dāng)大量的支腳，該支腳使用螺栓被固定到該厚板且使用樹(shù)脂在適當(dāng)之處固定。在本設(shè)計(jì)中，金屬基底板150充分厚，例如優(yōu)選為25-30cm并且優(yōu)選比真空腔室的墻板更厚，以在不需要額外的厚質(zhì)板且不需要基底板與厚板之間精細(xì)固定與剛性連接的情況下，具有充分質(zhì)量來(lái)提供必要的剛性與穩(wěn)定性并且限制振動(dòng)影響。
[0030]本設(shè)計(jì)消除對(duì)額外厚板的需求，使得設(shè)計(jì)更簡(jiǎn)單且關(guān)鍵部分較少并且減少在該機(jī)械下部中的公差列(tolerance train)。假如它們的相對(duì)放置可被更準(zhǔn)確控制的話，射束傳感器與目標(biāo)放置系統(tǒng)可被更簡(jiǎn)單與經(jīng)濟(jì)地實(shí)施且它們的性能會(huì)被改善。限制該機(jī)械的基底的獨(dú)立組件的數(shù)目，可通過(guò)限制在該系統(tǒng)各部分制造與使用中所固有的容差數(shù)目來(lái)減少誤差值(否則，將該些容差彼此相加)。金屬基底板也具有下述優(yōu)勢(shì)，其可被更輕易且更準(zhǔn)確機(jī)械加工成精確形狀以與該機(jī)械的其它組件精確接合。
[0031]在替代性實(shí)施例中，該基底板可以兩片來(lái)制造，其包括形成與支撐框架和載臺(tái)的界面的中央部，以及與該真空腔室的側(cè)墻形成界面的周圍部。該基底板部可被拴在一起，以允許隨后的拆卸，如果必要的話。
[0032]本發(fā)明已經(jīng)通過(guò)參考以上所討論的特定實(shí)施例來(lái)說(shuō)明。應(yīng)理解，這些實(shí)施例易受本領(lǐng)域技術(shù)人員熟知的各種修改與替代形式而不背離本發(fā)明精神與范圍所影響。于是，雖然特定實(shí)施例已經(jīng)被說(shuō)明，但是這些僅僅為實(shí)例并且不限制通過(guò)所附權(quán)利要求所定義的本發(fā)明范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種目標(biāo)加工處理機(jī)械，如光刻機(jī)或檢測(cè)機(jī)械，包括: 剛性基底板(150)； 投射柱(101)，用于投射一或更多光束或粒子束于目標(biāo)上； 支撐框架(102)，支撐該投射柱，該支撐框架由基底板支撐并且固定到該基底板； 載臺(tái)，包含用于負(fù)載該目標(biāo)的可移動(dòng)部分以及由基底板所支撐并且固定到該基底板的固定部分(132、133)； 射束傳感器(160)，用于檢測(cè)由該柱(101)所投射的一或更多射束，該射束傳感器至少部分地由該基底板(150)所支撐并且固定到該基底板；以及 真空腔室(110)，密封該支撐框架與該柱，用于維持該腔室的內(nèi)部空間中的真空環(huán)境，該真空腔室借助形成其部分的基底板形成，并且包含多個(gè)墻板(171、172)，所述墻板(171、172 )包括由基底板支撐并且固定至該基底板的多個(gè)側(cè)墻板(171)。
2.如權(quán)利要求1所述的機(jī)械，其中該射束傳感器被至少部分容納在該載臺(tái)以下，且其中該基底板包括該射束傳感器延伸進(jìn)入的凹處或孔洞。
3.如前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的機(jī)械，其中該載臺(tái)包含用來(lái)移動(dòng)該載臺(tái)的可移動(dòng)部分的一或更多驅(qū)動(dòng)器(140)，該驅(qū)動(dòng)器至少部分地放置在該真空腔室以外，且其中該基底板包括一或更多開(kāi)口，該一或更多驅(qū)動(dòng)器經(jīng)由該等開(kāi)口與該載臺(tái)的可移動(dòng)部分通信。
4.如前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的機(jī)械，進(jìn)一步包括位于該側(cè)墻與該基底板之間的一或更多振動(dòng)隔離構(gòu)件(182)。
5.如前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的機(jī)械，其中該基底板包括在其底面上的三個(gè)支撐點(diǎn)，以用來(lái)支撐底座上的該機(jī)械。
6.如前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的機(jī)械，其中該支撐框架形成部分的振動(dòng)隔離模塊，該模塊包括通過(guò)至少一個(gè)彈簧組件(105)而被連接到該支撐框架的中間體部(103)，以及用于容納該投射柱的支撐體部(104)，該支撐體部通過(guò)至少一個(gè)擺桿(108)而被連接到該中間體部。
7.如前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的機(jī)械，其中該墻板被組裝，以使用多個(gè)連接構(gòu)件來(lái)形成該腔室，該連接構(gòu)件適于可移動(dòng)地連接該墻板與設(shè)置在該墻板邊緣上的一或更多密封構(gòu)件。
8.如前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的機(jī)械，其中該連接構(gòu)件適于確定該墻板的位置，同時(shí)提供用于小預(yù)定范圍的墻板移動(dòng)。
9.如前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的機(jī)械，其中該連接構(gòu)件包括銷或螺栓。
10.如前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的機(jī)械，其中一或更多密封構(gòu)件包括設(shè)置在相鄰墻板之間的O形環(huán)或C形環(huán)。
11.如前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的機(jī)械，其中該腔室的墻板的至少一面基本上以鎳鐵高導(dǎo)磁率合金覆蓋。
12.如前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的機(jī)械，其中該射束傳感器被固定到該基底板，以使該射束傳感器與該載臺(tái)的固定部分具有固定的空間關(guān)系。
13.如前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的機(jī)械，其中該基底板的厚度基本上大于該真空腔室的墻板。
14.如前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的機(jī)械，其中該基底板具有充分質(zhì)量，以限制該機(jī)械上的振動(dòng)影響，而不需要固定連接到支撐厚板。
15.如前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的機(jī)械，其中該基底板包括形成與該支撐框架的界面的中央部以及形成與該真空腔室側(cè)墻的界面的周圍部，這些基底板部被可松開(kāi)地連接。
16.如前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的機(jī)械，其中該基底板由單一厚金屬片構(gòu)造。
17.如 前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的機(jī)械，其中該基底板基本上由鋁構(gòu)造。
18.如前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的機(jī)械，其中該基底板具有基本上為25—30cm的厚度。
【文檔編號(hào)】G03F7/20GK103797420SQ201280044300
【公開(kāi)日】2014年5月14日 申請(qǐng)日期:2012年9月12日 優(yōu)先權(quán)日:2011年9月12日
【發(fā)明者】J.J.M.佩杰斯特 申請(qǐng)人:邁普爾平版印刷Ip有限公司