光刻裝置、用于提供設置點數(shù)據(jù)的裝置、設備制造方法、用于提供設置點數(shù)據(jù)的方法和計 ...的制作方法
【專利摘要】一種裝置或者方法，用于計算多個輻射束在多個不同時間施加的目標劑量值以便在目標上形成希望的劑量圖案，每個目標劑量值定義目標劑量值被施加到的輻射束所形成的光斑曝光的劑量分布，其中在光斑曝光中的每個光斑曝光的劑量分布中的特性點的標稱位置落在光斑曝光柵格的點處，并且通過以下操作以光斑曝光柵格的分辨率提供目標劑量值：計算在更低分辨率柵格上的柵格點處的目標劑量值，更低分辨率柵格具有比光斑曝光柵格更低的分辨率，并且對于計算的目標劑量值中的每個目標劑量值，推導在光斑曝光柵格中的多點中的每點處的目標劑量值。
【專利說明】光刻裝置、用于提供設置點數(shù)據(jù)的裝置、設備制造方法、用于提供設置點數(shù)據(jù)的方法和計算機程序
[0001]相關串請的交叉引用
[0002]本申請要求對提交于2012年I月12日并且通過引用而全文結合于此的美國臨時申請61/586，053的權益。
【技術領域】
[0003]本發(fā)明涉及一種光刻或者曝光裝置、用于提供設置點數(shù)據(jù)的裝置、設備制造方法、用于提供設置點數(shù)據(jù)的方法和計算機程序。
【背景技術】
[0004]光刻或者曝光裝置是向襯底或者襯底的部分上涂敷希望的圖案的機器?？梢岳缭诩呻娐?IC)、平板顯示器和具有細微特征的其它設備或者結構的制造中使用該裝置。在常規(guī)光刻或者曝光裝置中，可以稱為掩?；蛘呖叹€的圖案化設備可以用來生成與1C、平板顯示器或者其它設備的個別層對應的電路圖案。這一圖案可以被轉移到襯底(例如硅晶片或者玻璃板)(的部分)上、例如經由成像被轉移到在襯底上提供的輻射敏感材料(抗蝕齊IJ)層上。相似而言，曝光裝置是在襯底(或者其部分)上或者中形成希望的圖案時使用輻射束的機器。
[0005]取代電路圖案，圖案化設備可以用來生成其它圖案、例如濾色器圖案或者點陣矩陣。取代常規(guī)掩模。圖案化設備可以包括圖案化陣列，該圖案化陣列包括生成電路或者其它可涂敷圖案的單獨可控元件的陣列。這樣的“無掩?！毕到y(tǒng)與常規(guī)的基于掩模的系統(tǒng)比較的優(yōu)點是可以更快和用更少成本提供和/或改變圖案。
[0006]因此，無掩模系統(tǒng)包括可編程圖案化設備(例如空間光調制器、對比度器件等)?？删幊虉D案化設備被(例如電子或者光)編程為使用單獨可控元件的陣列來形成希望的圖案化的光束。可編程圖案化設備的類型包括微鏡陣列、液晶顯示器(LCD)陣列、光柵光閥陣列、自發(fā)射對比度器件陣列、快門元件/矩陣等?？删幊虉D案化設備也可以由例如被配置為移動向襯底上投影的輻射光斑或者從襯底間歇地引開輻射束例如到輻射束吸收器的光電偏轉器形成。在任何這樣的布置中，輻射束可以連續(xù)。

【發(fā)明內容】

[0007]可以使用矢量設計包、比如⑶SII來定義將在目標、比如襯底上形成的希望的器件圖案。來自這樣的設計包的輸出文件可以稱為希望的器件圖案的基于矢量的表示。在無掩模系統(tǒng)中，將處理基于矢量的表示以提供用于驅動可編程圖案化設備的控制信號?？刂菩盘柨梢岳绨▽⑾蚨鄠€自發(fā)射對比度器件或者微鏡陣列應用的設置點(例如電壓或者電流)序列。
[0008]用于將基于矢量的表示轉換成控制信號的處理可以包括將基于矢量的表示轉換成劑量圖案的光柵化的表示一個或者多個步驟。處理可以包括襯底和/或在襯底上的先前形成的圖案相對于圖案化設備的對準變化的一個或者多個校正步驟。處理可以包括將光柵化的表示轉換成設置點值序列的一個或者多個步驟。處理可以涉及到復雜計算和/或大數(shù)據(jù)容量。例如可能有必要執(zhí)行在光柵化柵格與光斑曝光柵格(定義標稱位置，個別輻射束在這些標稱位置形成光斑曝光)之間的映射。光斑曝光柵格可以復雜和/或不規(guī)則。對于在處理中的實時(例如在襯底被曝光的相同時間)執(zhí)行的步驟，可能重要的是快速完成計笪
[0009]光斑曝光柵格的分辨率將依賴于應用。對于高分辨率應用，光斑曝光柵格的分辨率通常將由待產生的劑量圖案的分辨率確定。對于更低分辨率應用，光斑曝光柵格的分辨率將通常由用于在指定的時間段內照射整個襯底的總功率確定。
[0010]在低分辨率應用中，光斑曝光柵格的分辨率因此可以顯著高于劑量圖案的分辨率。提供適合用于與能夠產生高分辨率光斑曝光柵格的系統(tǒng)使用的控制信號一般將涉及到比提供適合用于與更低分辨率系統(tǒng)使用的控制信號更多的計算資源，這增加成本和/或限
制吞吐量。
[0011]有可能重新配置可編程圖案化設備，從而可以在低分辨率光斑曝光柵格的情境中提供高功率。然而改變可編程圖案化設備的性質減少在低與高分辨率系統(tǒng)之間公共的部件的數(shù)目，這是不希望的。
[0012]例如希望提供一種允許被標稱地配置用于高分辨率光刻的系統(tǒng)被用于更低分辨率應用而減少或者最小化與提供用于可編程圖案化設備的控制信號關聯(lián)的成本的方法和/或裝置。
[0013]根據(jù)一個實施例，提供一種曝光裝置，該曝光裝置包括:可編程圖案化設備，被配置為產生用于向目標施加單獨可控劑量的多個輻射束；投影系統(tǒng)，被配置為向在目標上的相應位置上投影輻射束中的每個輻射束；以及控制器，被配置為計算多個輻射束為了在目標上形成希望的劑量圖案而將在多個不同時間施加的目標劑量值，每個目標劑量值定義目標劑量值被施加到的輻射束所形成的光斑曝光的劑量分布，其中裝置能夠產生的光斑曝光中的每個光斑曝光的劑量分布中的特性點的標稱位置落在光斑曝光柵格的點；并且控制器被配置為通過以下操作以光斑曝光柵格的分辨率提供目標劑量值:計算在更低分辨率柵格上的柵格點的目標劑量值，更低分辨率柵格具有比光斑曝光柵格更低的分辨率；并且對于計算的目標劑量值中的每個目標劑量值，推導在光斑曝光柵格中的多點中的每點處的目標劑量值。
[0014]根據(jù)一個實施例，提供一種用于向曝光裝置提供設置點數(shù)據(jù)的裝置，該曝光裝置具有可編程圖案化設備，該可編程圖案化設備被配置為產生用于向目標施加單獨可控劑量的多個輻射束并且被配置為向在目標上的相應位置上投影輻射束中的每個輻射束，該裝置包括:數(shù)據(jù)處理單元，被配置為:計算多個輻射束為了在目標上形成希望的劑量圖案而將在多個不同時間施加的目標劑量值，每個目標劑量值定義目標劑量值被施加到的輻射束所形成的光斑曝光的劑量分布；并且計算用于控制可編程圖案化設備以提供施加目標劑量值的光束的設置點數(shù)據(jù)序列，其中:裝置能夠產生的光斑曝光中的每個光斑曝光的劑量分布中的特性點的標稱位置落在光斑曝光柵格的點；并且數(shù)據(jù)處理單元被配置為通過以下操作以光斑曝光柵格的分辨率提供目標劑量值:計算在更低分辨率柵格上的柵格點的目標劑量值，更低分辨率柵格具有比光斑曝光柵格更低的分辨率；并且對于計算的目標劑量值中的每個目標劑量值，推導在光斑曝光柵格中的多點中的每點的目標劑量值。
[0015]根據(jù)一個實施例，提供一種其中將用希望的劑量圖案輻射目標的設備制造方法，該方法包括:為將用來輻射目標的多個輻射束中的每個輻射束計算目標劑量值，每個目標劑量值定義目標劑量值被施加到的輻射束所形成的光斑曝光的劑量分布；并且投影具有計算的目標劑量值的福射束以形成光斑曝光，其中:能夠被產生的光斑曝光中的每個光斑曝光的劑量分布中的特性點的標稱位置落在光斑曝光柵格的點；并且通過以下操作提供以光斑曝光柵格的分辨率的目標劑量值:計算在更低分辨率柵格上的柵格點的目標劑量值，更低分辨率柵格具有比光斑曝光柵格更低的分辨率；并且對于計算的目標劑量值中的每個目標劑量值，推導在光斑曝光柵格中的多點中的每點的目標劑量值。
[0016]根據(jù)一個實施例，提供一種提供用于曝光裝置的設置點數(shù)據(jù)的裝置，該曝光裝置具有可編程圖案化設備，所述可編程圖案化設備被配置為產生用于向目標施加單獨可控劑量的多個輻射束的并且被配置為向在目標上的相應位置上投影輻射束中的每個輻射束，該方法包括:計算多個輻射束為了在目標上形成希望的劑量圖案而將在多個不同時間施加的目標劑量值，每個目標劑量值定義目標劑量值被施加到的輻射束所形成的光斑曝光的劑量分布；并且計算用于控制可編程圖案化設備以提供施加目標劑量值的光束的設置點數(shù)據(jù)序列，其中:裝置能夠產生的光斑曝光中的每個光斑曝光的劑量分布中的特性點的標稱位置落在光斑曝光柵格的點；并且通過以下操作提供以光斑曝光柵格的分辨率的目標劑量值:計算在更低分辨率柵格上的柵格點的目標劑量值，更低分辨率柵格具有比光斑曝光柵格更低的分辨率；并且對于計算的目標劑量值中的每個目標劑量值，推導在光斑曝光柵格中的多點中的每點處的目標劑量值。
[0017]根據(jù)一個實施例，提供一種用于計算用于曝光裝置的設置點數(shù)據(jù)的計算機程序，該曝光裝置具有可編程圖案化設備，所述可編程圖案化設備被配置為產生用于向目標施加單獨可控劑量的多個輻射束并且被配置為向在目標上的相應位置上投影輻射束中的每個輻射束，該計算機程序包括指令處理器執(zhí)行以下操作的代碼:計算多個輻射束為了在目標上形成希望的劑量圖案而將在多個不同時間施加的目標劑量值，每個目標劑量值定義目標劑量值被施加到的輻射束所形成的光斑曝光的劑量分布；并且計算用于控制可編程圖案化設備以提供施加目標劑量值的光束的設置點數(shù)據(jù)序列，其中:裝置能夠產生的光斑曝光中的每個光斑曝光的劑量分布中的特性點的標稱位置落在光斑曝光柵格的點；并且通過以下操作提供以光斑曝光柵格的分辨率的目標劑量值:計算在更低分辨率柵格上的柵格點的目標劑量值，更低分辨率柵格具有比光斑曝光柵格更低的分辨率；并且對于計算的目標劑量值中的每個目標劑量值，推導在光斑曝光柵格中的多點中的每點處的目標劑量值。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0018]現(xiàn)在將參照示意附圖僅通過示例描述本發(fā)明的實施例，在附圖中，對應標號指示對應部分，并且在附圖中:
[0019]圖1描繪根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的光刻或者曝光裝置的一部分；
[0020]圖2描繪本發(fā)明的一個實施例的圖1的裝置的一部分的俯視圖；
[0021]圖3描繪本發(fā)明的一個實施例的光刻或者曝光裝置的一部分的高度示意的透視圖；[0022]圖4描繪本發(fā)明的一個實施例的根據(jù)圖3的裝置向襯底上的投影的示意俯視圖；
[0023]圖5在橫截面中描繪本發(fā)明的一個實施例的一部分；
[0024]圖6描繪用于將希望的器件圖案的基于矢量的表示轉換成控制信號的數(shù)據(jù)路徑的一部分；
[0025]圖7描繪光斑曝光柵格的一部分；
[0026]圖8描繪光柵化柵格的一部分；
[0027]圖9描繪具有棋盤格狀鑲嵌(tessellating)超像素區(qū)域的更低分辨率柵格的一部分；
[0028]圖10描繪具有重疊(非棋盤格狀鑲嵌(non-tesselIating))超像素區(qū)域的圖10的更低分辨率柵格的一部分；
[0029]圖11圖示在經由在超像素區(qū)域中布置的光斑曝光形成希望的劑量圖案時的序列；并且
[0030]圖12描繪本地計算單元。
【具體實施方式】
[0031]本發(fā)明的一個實施例涉及一種可以包括可編程圖案化設備的裝置，該可編程圖案化設備可以例如由自發(fā)射對比度器件的一個或者多個陣列組成?？梢栽谕ㄟ^完全引用而結合于此的PCT專利申請公開文本第W02010/032224A2號、美國專利申請公開文本第US2011-0188016號、美國專利申請第61/473636號和美國專利申請第61/524190號中發(fā)現(xiàn)關于這樣的裝置的更多信息。然而本發(fā)明的一個實施例可以與例如包括以上討論的任何形式的可編程圖案化設備使用。
[0032]圖1示意地描繪光刻或者曝光裝置的部分的示意橫截面?zhèn)纫晥D。在這一實施例中，裝置如以下進一步討論的那樣具有在X-Y平面中基本上靜止的單獨可控元件，但是不必是這種情況。裝置I包括用于保持襯底的襯底臺2和用于以多達6個自由度移動襯底臺2的定位設備3。襯底可以是抗蝕劑涂覆的襯底。在一個實施例中，襯底是晶片。在一個實施例中，襯底是多邊形(例如矩形)襯底。在一個實施例中，襯底是玻璃板。在一個實施例中，襯底是塑料襯底。在一個實施例中，襯底是箔。在一個實施例中，裝置適合用于卷到卷(roll to roll)制造。
[0033]裝置I還包括被配置為發(fā)射多個光束的多個單獨可控自發(fā)射對比度器件4。在一個實施例中，自發(fā)射對比度器件4是發(fā)射輻射二極管、比如發(fā)光二極管(LED)、有機LED(OLED)、聚合物LED(PLED)或者激光二極管(例如固態(tài)激光二極管)。在一個實施例中，單獨可控元件4中的每個單獨可控元件是藍色-紫色激光二極管(例如Sanyo型號DL-3146-151)。這樣的二極管可以由比如Sanyo、Nichia、Osram和Nitride的公司供應。在一個實施例中，二極管發(fā)射例如具有約365nm或者約405nm的波長的UV輻射。在一個實施例中，二極管可以提供從范圍0.5-200mW選擇的輸出功率。在一個實施例中，從范圍100-800微米選擇激光二極管(裸管芯)大小。在一個實施例中，激光二極管具有從范圍0.5-5微米2的選擇的發(fā)射面積。在一個實施例中，激光二極管具有從范圍5-44度選擇的發(fā)散角度。在一個實施例中，二極管具有用于提供多于或者等于6.4X108W/(m2.sr)的總亮度的配置(例如發(fā)射面積、發(fā)散角度、輸出功率等)。[0034]自發(fā)射對比度器件4被布置于框架5上并且可以沿著Y方向和/或X方向延伸。盡管示出一個框架5，但是裝置可以具有多個如圖2中所示的框架5。在框架5上進一步布置透鏡12?？蚣?并且因此自發(fā)射對比度器件4和透鏡12在X-Y平面中基本上靜止?？蚣?、自發(fā)射對比度器件4和透鏡12可以在Z方向上被致動器7移動。備選地或者附加地，透鏡12可以在Z方向上被與這一特定透鏡有關的致動器移動?？蛇x地，每個透鏡12可以具有致動器。
[0035]自發(fā)射對比度器件4可以被配置為發(fā)射光束，并且投影系統(tǒng)12、14和18可以被配置為向襯底的目標部分上投影光束。自發(fā)射對比度器件4和投影系統(tǒng)形成光柱。裝置I可以包括用于相對于襯底移動光柱或者其部分的致動器(例如馬達)11。在其上布置場透鏡14和成像透鏡18的框架8可以隨著致動器可旋轉。場透鏡14和成像透鏡18的組合形成可移動光學器件9。在使用中，框架8例如在圖2中的箭頭所示方向上繞著它自己的軸10旋轉?？蚣?使用致動器(例如馬達)11來繞著軸10旋轉。另外，框架8可以在Z方向上被馬達7移動，從而可移動光學器件9可以相對于襯底臺2被位移。
[0036]其中具有孔的孔結構13可以在透鏡12與自發(fā)射對比度器件4之間位于透鏡12上方?？捉Y構13可以限制透鏡12、關聯(lián)自發(fā)射對比度器件4和/或相鄰透鏡12/自發(fā)射對比度器件4的衍射效應。
[0037]可以通過旋轉框架8并且在光柱下面在襯底臺2上同時移動襯底來使用描繪的裝置。自發(fā)射對比度器件4可以在透鏡相互基本上對準時發(fā)射光束經過透鏡12、14和18。通過移動透鏡14和18，在襯底的部分之上掃描光束在襯底上的圖像。通過在光柱下面在襯底臺2上同時移動襯底，襯底的受自發(fā)射對比度器件4的圖像影響的部分也移動。通過在控制器的控制之下高速切換自發(fā)射對比度器件4 “接通”和“關斷”(例如在它“關斷”時無輸出或者具有在閾值以下的輸出而在它“接通”時具有在閾值以上的輸出)、控制光柱或者其部分的旋轉、控制自發(fā)射對比度器件4的強度并且控制襯底的速度，希望的圖案可以在襯底上的抗蝕劑層中被成像。
[0038]圖2描繪具有自發(fā)射對比度器件4的圖1的裝置的示意俯視圖。如同圖1中所示裝置1，裝置I包括用于保持襯底17的襯底臺2、用于以多達6個自由度移動襯底臺2的定位設備3、用于確定在自發(fā)射對比度器件4與襯底17之間的對準并且確定襯底17是否處在關于自發(fā)射對比度器件4的投影的水平的對準/水平傳感器19。如描繪的那樣，襯底17具有矩形形狀，然而也可以或者備選地處理圓形襯底。
[0039]自發(fā)射對比度器件4被布置于框架15上。自發(fā)射對比度器件4可以是發(fā)射輻射二極管、例如激光二極管、比如藍色-紫色激光二極管。如圖2中所示，自發(fā)射對比度器件4可以被布置成在X-Y平面中延伸的陣列21。
[0040]陣列21可以是伸長線。在一個實施例中，陣列21可以是自發(fā)射對比度器件4的單維陣列。在一個實施例中，陣列21可以是自發(fā)射對比度器件4的二維陣列。
[0041]可以提供可在箭頭描繪的方向上旋轉的旋轉框架8。旋轉框架可以具有用于提供自發(fā)射對比度器件4中的每個自發(fā)射對比度器件的圖像的透鏡14、18(圖1中所示)。裝置可以具有用于相對于襯底旋轉包括框架8和透鏡14、18的光柱的致動器。
[0042]圖3描繪旋轉框架8的高度示意的透視圖，該旋轉框架在它的周界具有透鏡14、
18。多個光束、在這一示例中為10個光束向透鏡之一上入射并且被投影到襯底臺2所保持的襯底的17的目標部分上。在一個實施例中，多個光束被布置成直線?？尚D框架借助致動器(未示出)繞著軸10可旋轉。作為可旋轉框架8的旋轉的結果，光束如將參照圖4更具體說明的那樣將在相繼的透鏡14、18 (場透鏡14和成像透鏡18)上入射并且將在每個相繼的透鏡上入射時被該透鏡偏轉以便沿著襯底17的表面的部分行進。在一個實施例中，每個光束由相應源、即自發(fā)射對比度器件、例如激光二極管(在圖3中未示出)生成。在圖3中描繪的布置中，光束被分段鏡30偏轉并且?guī)У揭黄鹨员銣p少在光束之間的距離以由此使更大數(shù)目的光束被投影通過相同透鏡并且實現(xiàn)以下將討論的分辨率要求。
[0043]在可旋轉框架旋轉時，光束在相繼透鏡上入射，并且每當透鏡被光束輻射時，光束在透鏡的表面上入射的地點移動。由于光束根據(jù)光束在透鏡上的入射地點而在襯底上被不同地投影(例如具有不同偏轉)，所以光束(在到達襯底時)將隨著每次通過后繼透鏡而進行掃描移動。參照圖4進一步說明這一原理。圖4描繪可旋轉框架8的部分的高度示意的俯視圖。第一組光束由BI表示，第二組光束由B2表示，并且第三組光束由B3表示。每組光束被投影通過可旋轉框架8的相應透鏡組14、18。在可旋轉框架8旋轉時，光束BI在掃描移動中被投影到襯底17上、由此掃描區(qū)域A14。相似地，光束B2掃描區(qū)域A24，并且光束B3掃描區(qū)域A34。在對應致動器旋轉可旋轉框架8的同時，襯底17和襯底臺在可以如在圖2中描繪的那樣沿著X軸的方向D上被移動、由此與光束在區(qū)域A14、A24、A34中的掃描方向基本上垂直。作為第二致動器在方向D上移動(通過對應襯底臺致動器移動襯底臺)的結果，光束在被可旋轉框架8的相繼透鏡投影時的相繼掃描被投影以便基本上相互鄰接，從而產生用于光束BI的每個相繼掃描的基本上鄰接區(qū)域A11、A12、A13、A14(如圖4中所示，區(qū)域A11、A12、A13先前被掃描并且A14當前被掃描)、用于光束B2的區(qū)域A21、A22、A23和A24 (如圖4中所示，區(qū)域A21、A22、A23先前被掃描并且A24當前被掃描)以及用于光束B3的區(qū)域A31、A32、A33和A34(如圖4中所示，區(qū)域A31、A32、A33先前被掃描并且A34當前被掃描)。由此，襯底表面的區(qū)域A1、A2和A3可以在旋轉可旋轉框架8的同時在方向D上被襯底的移動覆蓋。經過相同透鏡投影多個光束允許(在可旋轉框架8的相同旋轉速度)以更短時間線處理整個襯底，因為對于每次通過透鏡，多個光束隨著每個透鏡掃描襯底、由此允許對于相繼掃描在方向D上增加的位移。換個角度看，對于給定的處理時間，在多個光束經由相同透鏡被投影到襯底上時可以減少可旋轉框架的旋轉速度、由此有可能減少由于高旋轉速度所致的影響、比如可旋轉框架變形、磨損、振動、湍流等。在一個實施例中，如圖4中所示與透鏡14、18的旋轉的切線成角度布置多個光束。在一個實施例中，光束布置成使得每個光束重疊或者鄰接相鄰光束的掃描路徑。
[0044]多個光束一次被相同透鏡投影方面的另一效果可以被發(fā)現(xiàn)在于放寬容差。由于透鏡的容差(定位、光投影等)，相繼區(qū)域A11、A12、A13、A14的(和/或區(qū)域A21、A22、A23和A14的和/或區(qū)域A31、A32、A33和A34的)位置可能表現(xiàn)相對于彼此的某種程度的定位不準確。因此，可能需要在相繼區(qū)域A11、A12、A13、A14之間的某種程度的重疊。在一個光束的例如10%為重疊的情況下，處理速度將由此在單個光束一次經過相同透鏡的情況下被減少相同倍率10%。在有5個或者更多光束一次經過相同透鏡投影的情形中，將為每5個或者更多投影的線提供10%的相同重疊(相似地參照以上一個光束的示例)、因此將總重疊減少大約5倍或者更多地至2%或者更少的倍率、由此對總處理速度具有顯著更低的影響。相似地，投影至少10個光束可以將總重疊減少大約10倍。因此，容差對襯底的處理時間的影響可以被多個光束一次被相同透鏡投影這樣的特征所減少。附加地或者備選地，如果多個光束一次被相同透鏡投影，由于其對處理的影響低，則可以允許更多重疊(因此更大容差帶)。
[0045]代替一次經由相同透鏡投影多個光束或者除此之外，還可以使用交錯(interlacing)技術，然而這可能需要在透鏡之間的相對更嚴格的匹配。因此，經由透鏡中的相同透鏡一次投影到襯底上的至少兩個光束具有相互間距，并且裝置可以被布置為操作第二致動器以便相對于光柱移動襯底以使得光束的后繼投影被投影在間距中。
[0046]為了減少在組中的相繼光束之間在方向D上的距離(由此例如實現(xiàn)在方向D上的更高分辨率)，可以相對于方向D相互對角地布置光束。可以通過在光路中提供分段鏡30進一步減少間距，每段用于反射光束中的相應光束，段被布置成使得相對于在鏡上入射的光束之間的間距減少被鏡所反射的光束之間的間距。這樣的效果也可以由多個光纖實現(xiàn)，光束中的每個光束入射在光纖中的相應光纖上，光纖被布置以便相對于在光纖上游的光束之間的間距沿著光路減少在光纖下游的光束之間的間距。
[0047]另外，可以使用具有多個輸入的集成光波導電路來實現(xiàn)這樣的效果，每個輸入用于接收光束中的相應光束。集成光波導電路被布置以便相對于在集成光波導電路上游的光束之間的間距沿著光路減少在集成光波導電路下游的光束之間的間距。
[0048]可以提供一種用于控制向襯底上投影的圖像的聚焦的系統(tǒng)?？梢蕴峁┯糜谠谌缫陨嫌懻摰牟贾弥姓{整光柱的部分或者全部所投影的圖像的聚焦的布置。
[0049]在一個實施例中，投影系統(tǒng)將至少一個輻射束投影到將在其上形成器件的襯底17上方的由材料層形成的襯底上，以便引起激光誘發(fā)的材料轉移所導致的材料(例如金屬)的小滴的局部沉積。
[0050]參照圖5，描繪激光誘發(fā)的材料轉移的物理機制。在一個實施例中，輻射束200被以在基本上透明材料202 (例如玻璃)的等離子體擊穿以下的強度聚焦通過材料202。表面熱吸收在由覆蓋在材料202上面的施主材料層204 (例如金屬膜)形成的襯底上出現(xiàn)。熱吸收引起施主材料204熔化。另外，加熱引起在向前方向上的誘發(fā)的壓力梯度從而產生施主材料小滴206從施主材料層204并且因此從施主結構(例如板)208的向前加速。因此，施主材料小滴206從施主材料層204被釋放并且朝著將在其上形成器件的襯底17移動(借助或者未借助重力)并且被移動到襯底17上。通過將光束200指向在施主板208上的適當位置，施主材料圖案可以在襯底17上被沉積。在一個實施例中，光束在施主材料層204上被聚焦。
[0051]在一個實施例中，一個或者多個短脈沖用來引起施主材料的轉移。在一個實施例中，脈沖可以是長到獲得熔化的材料的準一維向前熱量和質量轉移的數(shù)皮秒或者飛秒。這樣的短脈沖有助于在材料層204中的很少到無橫向熱流、因此有助于在施主結構208上的很少或者無熱負荷。短脈沖實現(xiàn)材料的迅速熔化和向前加速(例如蒸發(fā)的材料、比如金屬將失去它的向前方向性從而造成飛濺沉積)。短脈沖實現(xiàn)加熱材料至僅在加熱溫度以上、但是在蒸發(fā)溫度以下。例如對于鋁，約900至1000攝氏度的溫度是希望的。
[0052]在一個實施例中，通過使用激光脈沖，以IOO-1OOOnm小滴的形式從施主結構208向襯底17轉移某一數(shù)量的材料(例如金屬)。在一個實施例中，施主材料包括或者實質上由金屬構成。在一個實施例中，金屬是鋁。在一個實施例中，金屬層204是以膜的形式。在一個實施例中，膜被附著到另一本體或者層。如以上討論的那樣，本體或者層可以是玻璃。
[0053]可以提供構成數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)100 (也可以稱為“數(shù)據(jù)路徑”)的硬件和/或軟件以將在襯底上形成的希望的器件圖案的基于矢量的表示轉換為適合于以以下方式驅動可編程圖案化設備的控制信號，該方式使得適合于形成希望的器件圖案的輻射劑量圖案被涂敷到目標(例如襯底)。圖6是示出根據(jù)一個實施例的被包括在這樣的數(shù)據(jù)路徑中的示例處理級的示意圖示。在一個實施例中，級中的每級直接連接到它的鄰近級。然而無需是這種情況。在一個實施例中，在所示級中的任何級之間提供一個或者多個附加處理級。附加地或者備選地，級中的一級或者多級中的每級包括多級。在一個實施例中，使用單個物理處理單元(例如可以執(zhí)行計算操作的計算機或者硬件)或者不同處理單元來實施級。
[0054]在圖6中所示示例中，在存儲級102中提供希望的器件圖案的基于矢量的表示。在一個實施例中，使用矢量設計包、比如GDSII來構造基于矢量的表示。從存儲級102直接或者經由中間級向光柵化級104轉發(fā)基于矢量的表示。中間級的示例包括矢量預處理級和/或低通濾波器級。在一個實施例中，低通濾波器級例如執(zhí)行防混疊處理。
[0055]光柵化級104將希望的器件圖案的基于矢量的表示(或者基于矢量的表示的處理的版本)轉換成與希望的器件圖案對應的希望的劑量圖案的光柵化的表示(例如適合用于例如通過襯底的曝光后處理來形成希望的器件圖案)。在一個實施例中，光柵化的表示包括位圖數(shù)據(jù)。位圖數(shù)據(jù)可以稱為“像素映射”數(shù)據(jù)。在一個實施例中，像素映射數(shù)據(jù)包括一組值，這些值指示在點柵格上的每點的希望的劑量(例如每單位面積的劑量)。點柵格可以稱為光柵化柵格。
[0056]在一個實施例中，向控制信號生成級106供應(如直接或者在進一步處理之后從光柵化級104輸出的)光柵化的表示。實施控制信號生成級106為單級(如圖所示)或者多個分離級。
[0057]在一個實施例中，控制信號生成級106執(zhí)行在光柵化柵格與定義如下“位置”的柵格(可以稱為“光斑曝光柵格”)之間的映射操作，圖案化設備可以在這些“位置”可以以目標(例如襯底)級別形成光斑曝光。每個光斑曝光包括劑量分布。劑量分布指定光斑向目標施加的每單位面積的能量(例如每單位面積的劑量)如何根據(jù)在光斑內的位置變化。齊IJ量分布可以稱為“點擴散函數(shù)(point spread funtion) ”。在一個實施例中，通過參照在劑量分布中的特性點來定義光斑曝光的位置。在一個實施例中，特性點是每單位面積的最大劑量的位置。在一個實施例中，每單位面積的最大劑量的位置在光斑的中心區(qū)域中。在一個實施例中，每單位面積的最大劑量的位置未在光斑的中心區(qū)域中。在一個實施例中，劑量分布為圓形對稱。在這樣的實施例中，光斑可以稱為圓斑。在這樣的實施例中，每單位面積的最大劑量的位置可以位于圓心。在一個實施例中，劑量分布不是圓形。在一個實施例中，在劑量分布中的特性點是劑量分布的“質心”(通過直接類比具有可變密度的平坦物體的質心進行定義，其中例如光斑曝光的每單位面積的劑量是平坦物體的每單位面積的質量的等效值)。劑量分布的“質心”因此代表劑量的平均位置。在一個實施例中，在光斑曝光柵格中的每個柵格點代表圖案化設備(和/或投影系統(tǒng))可以向目標施加的光斑曝光中的不同光斑曝光的位置(例如特性點的位置)。
[0058]在一個實施例中，裝置被配置為產生由離散“光斑”(例如圓斑)構成的光斑曝光。在這樣的實施例的示例中，給定的輻射束在目標級別的強度在該輻射束對不同光斑的曝光之間的時間達到零。在一個實施例中，裝置被配置為在連續(xù)線中產生光斑曝光。連續(xù)線可以視為光斑曝光序列，在該光斑曝光序列中，給定的輻射束在襯底級別的強度在該輻射束對在序列中的不同光斑的曝光之間未達到零。以上參照圖4描述這一類型的一個示例實施例。
[0059]在一個實施例中，每個光斑曝光例如對應于在基本上恒定功率驅動的單個自發(fā)射對比度器件的單個時段期間從該對比度器件始發(fā)的在目標上的輻射劑量區(qū)域。在一個實施例中，每個光斑曝光對應于從單個鏡或者在微鏡陣列中的一組鏡始發(fā)的在襯底上的輻射劑量區(qū)域。在一個實施例中，映射操作包括在光柵化柵格與光斑曝光柵格之間的插值。在一個實施例中，映射操作被配置為從度量數(shù)據(jù)存儲級108接收度量數(shù)據(jù)。在一個實施例中，度量數(shù)據(jù)指定裝配的襯底的和/或在裝配的襯底上的先前形成的器件圖案的相對于圖案化設備的位置和/或定向。在一個實施例中，度量數(shù)據(jù)也指定裝配的襯底或者先前形成的器件圖案的測量的失真。在一個實施例中，失真包括以下各項中的一項或者多項:移位、旋轉、偏斜和/或放大。度量數(shù)據(jù)因此提供關于應當如何執(zhí)行在光柵化柵格與光斑曝光柵格之間的插值/映射的信息以便保證希望的劑量圖案在目標上的恰當定位。
[0060]在一個實施例中，控制信號生成級106計算一組目標劑量值，這些目標劑量值代表光斑曝光中的每個光斑曝光將施加的總劑量(或者能量)。在一個實施例中，目標劑量值被轉換成用于驅動可編程圖案化設備的設置點值。
[0061]在一個實施例中，可編程圖案化設備被配置為例如通過多個自發(fā)射對比度器件產生具有單獨可控強度的多個輻射束，每個自發(fā)射對比度器件具有依賴于輸入信號的大小的輸出強度。在這樣的實施例的示例中，控制信號生成級106計算一組目標強度值，這些目標強度值代表適合用于實現(xiàn)該組目標劑量值的強度。在光斑曝光的總劑量僅依賴于形成光斑曝光的輻射束的強度的情況下，可以可互換地使用術語“目標劑量值”和“目標強度值”。在一個實施例中，通過向輻射源、比如自發(fā)射對比度器件施加驅動信號(例如電壓或者電流)持續(xù)某個時間來產生每個光斑曝光。在一個實施例中，設置點值定義將施加的信號電平。在一個實施例中，信號電平確定輻射源、比如自發(fā)射對比度器件的功率輸出。在其中圖案化設備包括微鏡陣列的一個實施例中，設置點值定義微鏡陣列中的鏡的致動狀態(tài)。在其中微鏡陣列是灰度數(shù)字微鏡器件(DMD)的一個實施例中，設置點值定義鏡將施加的灰度級別。在一個實施例中，通過控制個別鏡在至少兩個不同傾斜位置之間的高速切換過程來定義灰度級別。在其中微鏡陣列包括各自選擇性地可致動成多個不同傾斜角度之一的鏡的一個實施例中，設置點值定義將向鏡施加的傾斜角度。
[0062]在一個實施例中，可編程圖案化設備被配置為產生具有單獨可控曝光時間的多個輻射束。每個曝光時間對應于與給定的光斑曝光對應的輻射被施加的時間段。在這樣的實施例的示例中，控制信號生成級106計算適合于實現(xiàn)目標劑量值的一組目標曝光時間。在光斑曝光的總劑量僅依賴于曝光時間的情況下，可以可互換地使用術語“目標劑量值”和“目標曝光時間值”。在一個實施例中，使用定位于一個或者多個輻射源(例如一個或者多個自發(fā)射對比度器件)與目標之間的快門元件或者快門元件矩陣來控制曝光時間。在這樣的實施例的示例中，輻射源可以被配置為在不同光斑的曝光之間保持“接通”。曝光時間由快門元件或者快門元件矩陣的相關部分“打開”的時間長度確定。備選地或者附加地，通過控制輻射源(例如自發(fā)射對比度元件)的驅動持續(xù)時間來控制曝光時間。[0063]在一個實施例中，可編程圖案化設備被配置為產生具有單獨可控強度和單獨可控曝光時間的多個輻射束。在這樣的實施例的示例中，控制信號生成級106計算適合于實現(xiàn)目標劑量值的目標強度值和目標曝光時間的組合。
[0064]在一個實施例中，該組目標劑量值(強度和/或曝光時間值)的計算考慮光投影系統(tǒng)的性質、因此可以稱為“逆光學”計算。在一個實施例中，該計算考慮個別光斑的大小和/或形狀。在一個實施例中，個別光斑的大小和/或形狀至少部分由光投影系統(tǒng)的性質規(guī)定。在一個實施例中，對于用于光斑的給定的一組可能施加的強度或者曝光時間中的每個強度或者曝光時間定義大小和/或形狀。光斑大小和/或形狀如以上描述的那樣由光斑的劑量分布或者點擴散函數(shù)定義。在一個實施例中，該計算也考慮光斑的位置從理想(即無工程誤差和/或無制造誤差)光斑曝光柵格幾何形狀定義的標稱位置的偏離。
[0065]在一個實施例中，光斑在目標級別相互重疊(即一個或者多個光斑的劑量分布延伸以便與一個或者多個其它光斑的劑量分布重疊)，從而在光斑曝光柵格中的參考位置實現(xiàn)的每單位面積的最終劑量依賴于與多個鄰近光斑關聯(lián)的施加的劑量。這一效果可以在數(shù)學上通過卷積(或者去卷積)來描述(操縱/建模)。在一個實施例中，控制信號生成級106執(zhí)行反向過程以確定將對于給定的希望的劑量圖案在每個位置施加的光斑曝光劑量(例如通過為形成多個光斑曝光的多個輻射束中的每個輻射束確定目標強度和/或曝光時間值)。因此，在這樣的實施例中，控制信號生成級106執(zhí)行去卷積(或者卷積)操作。以下將這一操作稱為(去)卷積操作以反映可以等效地描述它為卷積操作和為去卷積操作這樣的事實。在一個實施例中，(去)卷積操作由(去)卷積內核定義。在一個實施例中，(去)卷積內核由(去)卷積矩陣代表。在一個實施例中，解釋這樣的(去)卷積矩陣的系數(shù)為權值，這些權值定義將在計算用于在光斑曝光柵格中的對應點形成光斑曝光的光斑曝光劑量值(例如強度和/或曝光時間值)時對在希望的劑量圖案中的參考點的區(qū)域中的點的每單位面積的劑量進行考慮的程度。
[0066]圖7和8高度地示意地圖示在這樣的(去)卷積操作中的步驟。
[0067]圖7圖示高度示意的示例光斑曝光柵格120的部分。在柵格120中的每點124代表圖案化設備控制的多個光束之一將形成的光斑在襯底上的標稱位置(例如特性點在光斑的劑量分布中的位置)。(去)卷積操作以確定形成光斑曝光的輻射束在點125中的每點的光斑曝光劑量值(強度和/或曝光時間)為目標。光斑曝光柵格120將具有與圖案化設備能夠在目標上形成的光斑曝光圖案對應的幾何形狀。在一個實施例中，光斑曝光柵格的幾何形狀不規(guī)則。在不規(guī)則柵格中，在本申請的含義內，柵格點的密度根據(jù)位置變化，從而不可能通過棋盤格狀鑲嵌僅包含單個柵格點的單個單位單元來完整地構造柵格。圖7以高度地示意方式圖示不規(guī)則柵格的幾何形狀。描繪的柵格120的幾何形狀未必類似于可能明顯更復雜的與商用設備關聯(lián)的光斑曝光柵格。
[0068]圖8圖示光柵化柵格132的示例部分。實心柵格點127示意地代表柵格點，這些柵格點可能參與(去)卷積操作以確定用于在圖7的柵格中的位置123(隨機選擇)的光斑曝光的目標劑量值。應用(去)卷積操作以推導用于在實心柵格點123的光斑曝光的劑量值將涉及希望的劑量圖案在光柵化柵格的區(qū)域中的、與參考柵格點123的位置對應的光柵化柵格中的多個柵格點的采樣(“劑量值”)的加權的貢獻。在一個實施例中，表達為矩陣的(去)卷積內核將定義涉及到哪些柵格點126 (按照非零系數(shù)在矩陣中的位置)和柵格點被涉及到的程度(按照非零系數(shù)在矩陣中的值)。
[0069]在一個實施例中，(去)卷積操作的性質對于在光斑曝光柵格中的不同點(或者甚至在不同點之間)不同。在一個實施例中，這樣的變化例如考慮圖案化設備的光性能的變化。在一個實施例中，使用校準測量來獲得光性能變化。在一個實施例中，存儲和根據(jù)需要訪問可選地從校準測量中獲得的(去)卷積內核庫。
[0070]在一個實施例中，控制信號生成級106將用于輻射束的目標劑量值序列轉換成設置點值以便生成控制信號。在一個實施例中，設置點值考慮圖案化設備的性質。例如在圖案化設備包括多個自發(fā)射對比度器件時，設置點在這樣的實施例中考慮在自發(fā)射對比度器件的響應的非線性(例如輸出功率隨著施加的設置點/電壓/電流而變化的非線性)。在一個實施例中，設置點值例如通過校準測量來考慮標稱相同對比度器件的性質中的一個或者多個性質的變化。在其中圖案化設備包括微鏡陣列的一個實施例中，設置點值考慮鏡的響應(例如在用于給定的鏡或者一組鏡的施加的設置點與關聯(lián)輻射束的強度之間的關系)。
[0071]控制信號輸出級110從控制信號生成級接收控制信號并且向圖案化設備供應信號?？刂菩盘柹杉?06和控制信號輸出級110可以稱為“控制器”，該控制器用于控制裝置的可編程圖案化設備以發(fā)射光束，這些光束施加為了在目標上產生希望的劑量圖案而必需的目標劑量值。
[0072]如以上在介紹性的
【發(fā)明內容】
中提到的那樣，在低分辨率應用中，光斑曝光柵格的分辨率可以顯著高于為了在目標上定義希望的劑量圖案而需要的分辨率。在本文中，可以通過計算更少獨立目標劑量值來減少計算要求。
[0073]在一個實施例中，通過在兩級中在光斑曝光柵格的分辨率提供目標劑量值來減少計算要求。在第一級中，在具有比光斑曝光柵格更低的分辨率的柵格上的柵格點計算目標劑量值。在第二級中，相對于更低分辨率柵格定義的目標劑量值中的每個目標劑量值用來推導多個目標劑量值。以這一方式獲得充分目標劑量值以在光斑曝光柵格的分辨率提供目標劑量值(即針對在光斑曝光柵格中的每個位置的一個目標劑量值)。在一個實施例中，獲得的目標劑量值的數(shù)目大于在光斑曝光柵格中的柵格點的數(shù)目。在這樣的實施例中，組合(例如求和)獲得的目標劑量值的子集以在光斑曝光柵格上的每個位置產生單個“最終”目標劑量值。
[0074]在一個實施例中，在更低分辨率柵格中的柵格點中的每個柵格點落在多個超像素區(qū)域中的不同超像素區(qū)域內。在一個實施例中，每個超像素區(qū)域具有相同形狀。
[0075]圖9和10示意地描繪包括柵格點300和超像素區(qū)域302的示例更低分辨率柵格的部分。在所示示例中，更低分辨率柵格就矩形單位單元而言規(guī)則。在一個實施例中，更低分辨率柵格規(guī)則、但是并非矩形。在一個實施例中，更低分辨率柵格不規(guī)則。
[0076]在一個實施例中，超像素區(qū)域302為棋盤格狀鑲嵌(tesselate)。超像素區(qū)域302一起相配而無任何間隙并且無任何重疊。圖9示出這樣的實施例的示例。在圖9的實施例中，棋盤格狀鑲嵌的超像素區(qū)域302是正方形，但是可以使用其它棋盤格狀鑲嵌形狀。
[0077]在一個實施例中，配置超像素區(qū)域302，從而在鄰近超像素區(qū)域之間有重疊。圖10示出這樣的實施例的示例。標注的示例超像素區(qū)域302之一的四邊被標注為304。緊接鄰近超像素區(qū)域302的四邊被標注為305以圖示重疊。
[0078]在一個實施例中，每個超像素區(qū)域302包含光斑曝光柵格的多個柵格點。從為更低分辨率柵格的落在超像素區(qū)域302內的柵格點300計算的單個目標劑量值推導用于在該超像素區(qū)域302內的所有柵格點的目標劑量值。在一個實施例中，從單個計算的目標劑量值推導的目標劑量值對于在超像素區(qū)域302中的所有光斑曝光柵格點相同。在一個實施例中，從單個計算的目標劑量值推導的目標劑量值對于在超像素區(qū)域302中的光斑曝光柵格點中的至少兩個光斑曝光柵格點不同。在一個實施例中，推導的目標劑量值朝著超像素區(qū)域302的中心區(qū)域更高并且朝著超像素區(qū)域302的橫向外圍區(qū)域逐漸衰減。在一個實施例中，衰減可以近似于高斯函數(shù)。
[0079]在一個實施例中，可以使用內核來實施從在更低分辨率柵格上的計算的目標劑量值推導用于光斑曝光柵格點的目標劑量值。在一個實施例中，實施內核為矩陣。在一個實施例中，矩陣的元素定義落在內核被應用于的超像素區(qū)域302內的多個光斑曝光柵格點中的每個光斑曝光柵格點處將要施加的相對加權。
[0080]例如可以使用以下矩陣內核，其中超像素區(qū)域302各自包含光斑曝光柵格點的3x3陣列(如在以下討論的圖11的示例中那樣):
【權利要求】
1.一種曝光裝置，包括: 可編程圖案化設備，被配置為產生用于向目標施加單獨可控劑量的多個輻射束； 投影系統(tǒng)，被配置為向在所述目標上的相應位置上投影所述輻射束中的每個輻射束；以及 控制器，被配置為計算所述多個輻射束在多個不同時間要施加的目標劑量值以便在所述目標上形成希望的劑量圖案，每個目標劑量值定義所述目標劑量值被施加到的所述輻射束所形成的光斑曝光的劑量分布，其中: 所述裝置能夠產生的所述光斑曝光中的每個光斑曝光的劑量分布中的特性點的標稱位置落在光斑曝光柵格的點處；并且 所述控制器被配置為通過以下操作以所述光斑曝光柵格的分辨率提供目標劑量值: 計算在更低分辨率柵格上的柵格點處的目標劑量值，所述更低分辨率柵格具有比所述光斑曝光柵格更低的分辨率；并且 對于所述計算的目標劑量值中的每個目標劑量值，推導在所述光斑曝光柵格中的多點中的每點處的目標劑量值。
2.根據(jù)權利要求1所述的裝置，其中所述可編程圖案化設備被配置為產生具有單獨可控強度的多個輻射束，所述控制器被配置為計算目標強度值作為所述目標劑量值。
3.根據(jù)權利要求1所述的裝置，其中所述可編程圖案化設備被配置為產生具有單獨可控曝光時間的多個輻射束，所述控制器被配置為計算目標曝光時間值作為所述目標劑量值。
4.根據(jù)權利要求1所述的裝置，其中所述可編程圖案化設備被配置為產生具有單獨可控強度和單獨可控曝光時間的多個輻射束，所述控制器被配置為計算目標曝光時間和目標強度值的組合作為所述目標劑量值。
5.根據(jù)權利要求3或者權利要求4所述的裝置，其中所述可編程圖案化設備被配置為通過以下操作中的一個或者多個操作來個別控制曝光時間:控制定位于輻射源與所述目標之間的快門元件或者快門元件矩陣中的元件的部分的打開和關閉或者控制輻射源的驅動持續(xù)時間。
6.根據(jù)前述權利要求中的任一權利要求所述的裝置，其中在所述更低分辨率柵格中的所述點中的每點落在多個超像素區(qū)域中的不同超像素區(qū)域內。
7.根據(jù)權利要求6所述的裝置，其中所述多個超像素區(qū)域為棋盤格狀鑲嵌。
8.根據(jù)權利要求6或者權利要求7所述的裝置，其中所述多個超像素區(qū)域包括與至少一個其它超像素區(qū)域重疊的一個或者多個超像素區(qū)域。
9.根據(jù)權利要求6-8中的任一權利要求所述的裝置，其中所述控制器被配置為在所述光斑曝光柵格中的落在相同超像素區(qū)域內的每個柵格點處施加相同目標劑量值。
10.根據(jù)權利要求6-8中的任一權利要求所述的裝置，其中所述控制器被配置為在所述光斑曝光柵格中的落在相同超像素區(qū)域內的所述柵格點中的兩個或者更多柵格點處施加不同目標劑量值。
11.根據(jù)權利要求10所述的裝置，其中所述不同目標劑量值定義用于所述超像素區(qū)域中的朝著所述超像素區(qū)域的橫向外圍區(qū)域衰減的至少一個超像素區(qū)域的劑量分布。
12.根據(jù)權利要求11所述的裝置，其中所述衰減至少在一個方向上近似于高斯函數(shù)。
13.根據(jù)權利要求6-12中的任一權利要求所述的裝置，其中在兩個或者更多超像素區(qū)域重疊的所述光斑曝光柵格中的柵格點處施加的最終目標劑量值是從重疊的超像素區(qū)域在該柵格點處定義的所述目標劑量值之和推導的。
14.根據(jù)前述權利要求中的任一權利要求所述的裝置，其中所述控制器被配置為向在所述更低分辨率柵格上計算的所述目標劑量值中的每個目標劑量值應用內核，所述內核定義所述目標劑量值應當如何用來推導在所述光斑曝光柵格中的所述多點處的目標劑量值。
15.根據(jù)權利要求14所述的裝置，其中所述內核向在所述光斑曝光柵格中的所述多點施加加權。
16.根據(jù)權利要求15所述的裝置，其中所述加權定義近似于高斯函數(shù)的劑量分布。
17.根據(jù)前述權利要求中的任一權利要求所述的裝置，還包括本地計算單元，所述本地計算單元包括本地存儲器和用于控制對所述本地存儲器的訪問的本地控制器，其中所述本地存儲器和本地控制器被配置使得為一個光斑曝光柵格點推導的目標劑量值被暫時存儲于所述本地存儲器中并且被重用以推導用于至少一個其它光斑曝光柵格點的所述目標劑量值。
18.根據(jù)前述權利要求中的任一權利要求所述的裝置，其中所述光斑曝光的子集在序列中被形成，在所述序列中，形成每個序列的所述輻射束的強度在所述目標的級別在所述序列中在不同時間形成的光斑曝光之間未達到零。
19.根據(jù)前述權利要求中的任一權利要求所述的裝置，其中所述目標是在襯底上的目標部分。
20.根據(jù)前述權利要求中的任一權利要求所述的裝置，其中所述目標是從將在其上形成器件的襯底間隔開的施主材料層。
21.根據(jù)前述權利要求中的任一權利要求所述的裝置，其中所述可編程圖案化設備包括被配置為提供所述多個輻射束的輻射源。
22.根據(jù)權利要求21所述的裝置，其中所述可編程圖案化設備包括用于選擇性地提供所述輻射束的可控元件。
23.根據(jù)權利要求21或者權利要求22所述的裝置，其中所述可編程圖案化設備包括多個自發(fā)射對比度器件。
24.根據(jù)前述權利要求中的任一權利要求所述的裝置，其中所述投影系統(tǒng)包括靜止部分和活動部分。
25.根據(jù)權利要求24所述的裝置，其中所述活動部分被配置為相對于所述靜止部分旋轉。
26.根據(jù)前述權利要求中的任一權利要求所述的裝置，其中所述可編程圖案化設備包括微鏡陣列。
27.一種用于向曝光裝置提供設置點數(shù)據(jù)的裝置，所述曝光裝置具有可編程圖案化設備，所述可編程圖案化設備被配置為產生用于向目標施加單獨可控劑量的多個輻射束并且被配置為向在所述目標上的相應位置上投影所述輻射束中的每個輻射束，所述裝置包括: 數(shù)據(jù)處理單元，被配置為: 計算所述多個輻射束在多個不同時間要施加的目標劑量值以便在所述目標上形成希望的劑量圖案，每個目標劑量值定義所述目標劑量值被施加到的所述輻射束所形成的光斑曝光的劑量分布；并且 計算設置點數(shù)據(jù)序列以控制所述可編程圖案化設備來提供施加所述目標劑量值的光束，其中: 所述裝置能夠產生的所述光斑曝光中的每個光斑曝光的劑量分布中的特性點的標稱位置落在光斑曝光柵格的點處；并且 所述數(shù)據(jù)處理單元被配置為通過以下操作以所述光斑曝光柵格的分辨率提供目標劑量值: 計算在更低分辨率柵格上的柵格點處的目標劑量值，所述更低分辨率柵格具有比所述光斑曝光柵格更低的分辨率；并且 對于所述計算的目標劑量值中的每個目標劑量值，推導在所述光斑曝光柵格中的多點中的每點的目標劑量值。
28.一種其中將用希望的劑量圖案輻射目標的設備制造方法，所述方法包括: 為將用來輻射所述 目標的多個輻射束中的每個輻射束計算目標劑量值，每個目標劑量值定義所述目標劑量值被施加到的所述輻射束所形成的光斑曝光的劑量分布；并且投影具有所述計算的目標劑量值的所述輻射束以形成所述光斑曝光，其中: 在能夠被產生的所述光斑曝光中的每個光斑曝光的劑量分布中的特性點的標稱位置落在光斑曝光柵格的點處；并且 通過以下操作以所述光斑曝光柵格的分辨率提供目標劑量值: 計算在更低分辨率柵格上的柵格點處的目標劑量值，所述更低分辨率柵格具有比所述光斑曝光柵格更低的分辨率；并且 對于所述計算的目標劑量值中的每個目標劑量值，推導在所述光斑曝光柵格中的多點中的每點處的目標劑量值。
29.一種提供用于曝光裝置的設置點數(shù)據(jù)的方法，所述曝光裝置具有可編程圖案化設備，所述可編程圖案化設備被配置為產生用于向目標施加單獨可控劑量的多個輻射束并且被配置為向在所述目標上的相應位置上投影所述輻射束中的每個輻射束，所述方法包括: 計算所述多個輻射束在多個不同時間施加的目標劑量值以便在所述目標上形成希望的劑量圖案，每個目標劑量值定義所述目標劑量值被施加到的所述輻射束所形成的光斑曝光的劑量分布；并且 計算設置點數(shù)據(jù)序列用于控制所述可編程圖案化設備以提供施加所述目標劑量值的光束，其中: 所述裝置能夠產生的所述光斑曝光中的每個光斑曝光的劑量分布中的特性點的標稱位置落在光斑曝光柵格的點處；并且 通過以下操作以所述光斑曝光柵格的分辨率提供目標劑量值: 計算在更低分辨率柵格上的柵格點處的目標劑量值，所述更低分辨率柵格具有比所述光斑曝光柵格更低的分辨率；并且 對于所述計算的目標劑量值中的每個目標劑量值，推導在所述光斑曝光柵格中的多點中的每點處的目標劑量值。
30.一種用于計算用于曝光裝置的設置點數(shù)據(jù)的計算機程序，所述曝光裝置具有可編程圖案化設備，所述可編程圖案化設備被配置為產生用于向目標施加單獨可控劑量的多個輻射束并且被配置為向在所述目標上的相應位置上投影所述輻射束中的每個輻射束，所述計算機程序包括發(fā)指令給處理器以執(zhí)行以下操作的代碼: 計算所述多個輻射束在多個不同時間施加的目標劑量值以便在所述目標上形成希望的劑量圖案，每個目標劑量值定義所述目標劑量值被施加到的所述輻射束所形成的光斑曝光的劑量分布；并且 計算設置點數(shù)據(jù)序列用于控制所述可編程圖案化設備以提供施加所述目標劑量值的光束，其中: 所述裝置能夠產生的所述光斑曝光中的每個光斑曝光的劑量分布中的特性點的標稱位置落在光斑曝光柵格的點處；并且 通過以下操作以所述光斑曝光柵格的分辨率提供目標劑量值: 計算在更低分辨率柵格上的柵格點處的目標劑量值，所述更低分辨率柵格具有比所述光斑曝光柵格更低的分辨率；并且 對于所述計算的目標劑量值 中的每個目標劑量值，推導在所述光斑曝光柵格中的多點中的每點處的目標劑量值。
【文檔編號】G03F7/20GK104040434SQ201280066555
【公開日】2014年9月10日 申請日期:2012年12月13日 優(yōu)先權日:2012年1月12日
【發(fā)明者】E·魯波斯特拉, M·霍克斯 申請人:Asml荷蘭有限公司