專利名稱：掩膜版的自動(dòng)化管理系統(tǒng)及方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種自動(dòng)化管理系統(tǒng)，尤其涉及掩膜版的自動(dòng)化管理系統(tǒng)及方法。
背景技術(shù)：
半導(dǎo)體制造工藝中涉及數(shù)百道詳細(xì)而復(fù)雜的工藝，必須按照嚴(yán)格的工藝生產(chǎn)條件生產(chǎn)器件。半導(dǎo)體制造工藝包括光刻工藝、刻蝕工藝、沉積工藝、注入工藝和化學(xué)機(jī)械拋光工藝等，在整個(gè)制造工藝中，對(duì)器件良率影響最大且復(fù)雜的工藝是光刻工藝，而光刻工藝中必定使用掩膜版進(jìn)行光刻，掩膜版是用來(lái)通過(guò)光刻工藝將復(fù)雜的電路圖案投影到晶片表面上的輔助器件，不同的掩膜版必須被分配給不同的機(jī)器或設(shè)備，且對(duì)應(yīng)著不同的工藝，因此，某一掩膜版可以被某臺(tái)機(jī)器的某道工藝所使用，就成了半導(dǎo)體制造中十分關(guān)切的問(wèn)題。目前，半導(dǎo)體制造工廠中所采用的管理掩膜版的系統(tǒng)只是控制掩膜版的名稱是否與產(chǎn)品中定義的名稱相匹配，以及追蹤掩膜版在光刻機(jī)中使用的歷史記錄，只能起到一個(gè)信息記錄和追蹤的作用，且對(duì)于不同廠家的光刻機(jī)類型、不同光源的光刻機(jī)類型，只能進(jìn)行人工的判斷與控制，同時(shí)，對(duì)于掩膜版的使用時(shí)間和使用壽命也完全是靠人工手動(dòng)收集歷史記錄、手動(dòng)分析和控制檢測(cè)。眾所周知，在半導(dǎo)體制造中，人為的出錯(cuò)率是相當(dāng)高的，進(jìn)而造成良率的問(wèn)題。另外，由于半導(dǎo)體生產(chǎn)的時(shí)間效率等均會(huì)影響器件的成本，所以往往是等到產(chǎn)品出現(xiàn)問(wèn)題后才會(huì)進(jìn)行掩膜版檢測(cè)和分析，此時(shí)，就已經(jīng)有很多的產(chǎn)品經(jīng)過(guò)光刻工藝，大量產(chǎn)品的良率出現(xiàn)問(wèn)題，對(duì)生產(chǎn)造成很大的影響。由于對(duì)掩膜版的管理包括存儲(chǔ)方式和環(huán)境等都是人工控制，隨意性非常大，故每年掩膜版的返修率為總使用量的6.6%，尤其是65nm以下工藝的掩膜版返修率更是達(dá)到15%以上，且每次由于掩膜版造成產(chǎn)品報(bào)廢率較高的問(wèn)題，損失都是在百萬(wàn)美元以上。因此，掩膜版作為集成電路中曝光的母版，必須做到零缺陷，而現(xiàn)有管理系統(tǒng)中的隨意性控制對(duì)掩膜版的缺陷問(wèn)題起不到管理和控制作用。中國(guó)專利(申請(qǐng)?zhí)?200510092652.2)公開(kāi)了一種用于掩膜版的智能自動(dòng)化管理的方法和系統(tǒng)，包括:提供要在加工設(shè)備上處理多個(gè)文件，其中，所述多個(gè)工件位于在所述加工設(shè)備之前的處理站；在工件到達(dá)加工設(shè)備之前，根據(jù)所述多個(gè)工件相關(guān)的特性對(duì)所述加工設(shè)備確定輔助設(shè)備的分配需求；并在所述工件到達(dá)加工設(shè)備之前根據(jù)所述分配需求向所述加工設(shè)備發(fā)送輔助設(shè)備。上述發(fā)明公開(kāi)的是一種掩膜版優(yōu)先順序管理系統(tǒng)，從而可以在較短的時(shí)間內(nèi)指定某一掩膜版到機(jī)器上進(jìn)行光刻工藝，節(jié)約生產(chǎn)時(shí)間。然而該發(fā)明雖然能節(jié)約時(shí)間成本，但是仍然存在掩膜版用在錯(cuò)誤機(jī)器上進(jìn)行光刻的風(fēng)險(xiǎn)，從而造成良率低的問(wèn)題。中國(guó)專利(申請(qǐng)?zhí)?200710041623.3)公開(kāi)了一種掩膜版裝載工藝，用于將掩膜版精確裝載至光刻機(jī)的掩膜版承載臺(tái)上，所述的光刻機(jī)具有掩模傳輸系統(tǒng)和掩模臺(tái)系統(tǒng)，所述的掩模臺(tái)系統(tǒng)包括掩膜版承載臺(tái)和微動(dòng)臺(tái)，該掩膜版裝載工藝包括以下流程:(I)版庫(kù)取版；(2)粗預(yù)對(duì)準(zhǔn)；(3)掩膜版交接；(4)精細(xì)預(yù)對(duì)準(zhǔn)。采用上述發(fā)明可以使整個(gè)掩膜版裝載工藝的精度達(dá)到:x向±lum, y向± lum, rz向±0.05mrad。同時(shí)，精細(xì)預(yù)對(duì)準(zhǔn)的次數(shù)從傳統(tǒng)的3_5次降低到I次就能夠達(dá)到預(yù)對(duì)準(zhǔn)精度，大大提高了預(yù)對(duì)準(zhǔn)效率，提高生產(chǎn)率。然而該發(fā)明仍然未能克服由于掩膜版使用在錯(cuò)誤機(jī)器上造成良率低的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)上述存在的問(wèn)題，本發(fā)明提供掩膜版的自動(dòng)化管理系統(tǒng)及方法，以使掩膜版用在對(duì)應(yīng)的光刻機(jī)和對(duì)應(yīng)的工藝以及對(duì)應(yīng)的產(chǎn)品上，減少出錯(cuò)幾率，且省時(shí)、省力，使得工藝生產(chǎn)成本降低。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采取的技術(shù)方案為:一種掩膜版的自動(dòng)化管理系統(tǒng)，其特征在于，包括掩膜版管理模塊、生產(chǎn)管理模塊、工藝進(jìn)行模塊、掩膜版處理模塊和掩膜版貯存模塊；所述工藝進(jìn)行模塊、所述掩膜版處理模塊和所述掩膜版貯存模塊均通過(guò)所述生產(chǎn)管理模塊與所述掩膜版管理模塊進(jìn)行所述掩膜版數(shù)據(jù)信息的交互；所述生產(chǎn)管理模塊分別與所述工藝進(jìn)行模塊、所述掩膜版處理模塊和所述掩膜版貯存模塊通過(guò)設(shè)備自動(dòng)程序(Equipment Automatic Program,簡(jiǎn)稱:EAP)和服務(wù)器進(jìn)行數(shù)據(jù)信息的交互；所述掩膜版管理模塊包括數(shù)據(jù)存儲(chǔ)單元和讀/寫單元，所述數(shù)據(jù)存儲(chǔ)單元存儲(chǔ)有若干掩膜版當(dāng)前的數(shù)據(jù)信息；所述掩膜版管理模塊利用EAP和服務(wù)器通過(guò)讀/寫單元能夠?qū)?shù)據(jù)存儲(chǔ)單元和所述生產(chǎn)管理模塊進(jìn)行數(shù)據(jù)信息的交互；所述工藝進(jìn)行模塊包括多個(gè)光刻單元和多個(gè)檢測(cè)單元；所述掩膜版處理模塊包括多個(gè)清洗單元和多個(gè)報(bào)廢單元；所述掩膜版貯存模塊包括內(nèi)部貯存單元和外部貯存單元，且內(nèi)部和外部貯存單元均存儲(chǔ)有若干掩膜版。上述的掩膜版的自動(dòng)化管理系統(tǒng)，其特征在于，當(dāng)所述外部貯存單元存儲(chǔ)新的掩膜版時(shí)，所述外部貯存單元獲取該新的掩膜版的初始數(shù)據(jù)信息，并將該初始數(shù)據(jù)信息依次通過(guò)所述生產(chǎn)管理模塊和所述讀/寫單元存儲(chǔ)至所述數(shù)據(jù)存儲(chǔ)單元中。上述的掩膜版的自動(dòng)化管理系統(tǒng)，其特征在于，所述生產(chǎn)管理模塊為半導(dǎo)體生產(chǎn)中的自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)，該自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)根據(jù)所述光刻單元或所述檢測(cè)單元的生產(chǎn)需求，通過(guò)所述讀/寫單元調(diào)取所述數(shù)據(jù)存儲(chǔ)單元中的掩膜版的數(shù)據(jù)信息，所述內(nèi)部貯存單元或所述外部貯存單元根據(jù)調(diào)取出的掩膜版的數(shù)據(jù)信息將對(duì)應(yīng)的掩膜版從所述內(nèi)部忙存單元或所述外部忙存單元轉(zhuǎn)移至所述光刻單元或所述檢測(cè)單元或所述清洗單元或所述報(bào)廢單元中。上述的掩膜版的自動(dòng)化管理系統(tǒng)，其特征在于，當(dāng)所述掩膜版在所述光刻單元中進(jìn)行光刻工藝時(shí)，所述自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)實(shí)時(shí)記錄所述掩膜版在所述光刻單元中的數(shù)據(jù)信息，并通過(guò)所述讀/寫單元將記錄的的數(shù)據(jù)信息存儲(chǔ)至所述數(shù)據(jù)存儲(chǔ)單元中。上述的掩膜版的自動(dòng)化管理系統(tǒng)，其特征在于所述生產(chǎn)管理模塊設(shè)置所述掩膜版的數(shù)據(jù)信息，該數(shù)據(jù)信息包括參數(shù)屬性和狀態(tài)標(biāo)識(shí)；所述參數(shù)屬性包括設(shè)備屬性、存儲(chǔ)屬性和類型屬性；根據(jù)光刻設(shè)備和工藝配方(半導(dǎo)體領(lǐng)域中統(tǒng)稱為Recipe)來(lái)定義所述設(shè)備屬性，以使不同掩膜版應(yīng)用于對(duì)應(yīng)的光刻設(shè)備和對(duì)應(yīng)的工藝Recipe ；根據(jù)正常環(huán)境和純凈干燥環(huán)境來(lái)定義所述存儲(chǔ)屬性，以計(jì)算掩膜版在不同環(huán)境下的使用壽命；
根據(jù)光源來(lái)定義所述類型屬性，以計(jì)算掩膜版在生產(chǎn)過(guò)程中的曝光量；
所述狀態(tài)標(biāo)識(shí)包括存貯狀態(tài)、檢測(cè)狀態(tài)、使用狀態(tài)、停滯狀態(tài)、報(bào)廢狀態(tài)和清洗狀態(tài)；
其中，所述使用狀態(tài)包括閑置狀態(tài)、等待狀態(tài)、預(yù)約狀態(tài)和正在使用狀態(tài)。
上述的掩膜版的自動(dòng)化管理系統(tǒng)，其特征在于，當(dāng)掩膜版處于所述外部貯存單元中時(shí)，將所述掩膜版的狀態(tài)標(biāo)識(shí)為存貯狀態(tài)；
當(dāng)掩膜版處于所述內(nèi)部貯存單元中時(shí)，將所述掩膜版的狀態(tài)標(biāo)識(shí)為停滯狀態(tài)；
當(dāng)掩膜版處于所述檢測(cè)單元中時(shí)，將所述掩膜版的狀態(tài)標(biāo)識(shí)為檢測(cè)狀態(tài)；
當(dāng)掩膜版處于所述光刻單元中時(shí)，將所述掩膜版的狀態(tài)標(biāo)識(shí)為使用狀態(tài)；
當(dāng)掩膜版處于所述報(bào)廢單元中時(shí)，將所述掩膜版的狀態(tài)標(biāo)識(shí)為報(bào)廢狀態(tài)；
當(dāng)掩膜版處于所述清洗單元時(shí)，將所述掩膜版的狀態(tài)標(biāo)識(shí)為清洗狀態(tài)。
一種利用所述掩膜版的自動(dòng)化管理系統(tǒng)進(jìn)行工藝的方法，其特征在于，應(yīng)用于上述的掩膜版的自動(dòng)化管理系統(tǒng)中，所述方法包括:
所述光刻單元根據(jù)工藝需求將需要進(jìn)行光刻工藝的掩膜板的請(qǐng)求數(shù)據(jù)發(fā)送至自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)，所述自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)根據(jù)該請(qǐng)求數(shù)據(jù)通過(guò)所述讀/寫單元調(diào)取所述數(shù)據(jù)存儲(chǔ)單元中存儲(chǔ)的掩膜版的數(shù)據(jù)信息；
當(dāng)調(diào)取的掩膜版的數(shù)據(jù)信息中的狀態(tài)標(biāo)識(shí)為貯存狀態(tài)時(shí)，所述外部貯存單元將調(diào)取的掩膜板轉(zhuǎn)移至所述檢測(cè)單元中進(jìn)行缺陷檢測(cè)工藝；
將具有缺陷的掩膜板轉(zhuǎn)移至所述清洗單元或者所述報(bào)廢單元進(jìn)行清洗工藝或直接報(bào)廢，且對(duì)完成清洗工藝的掩膜板重復(fù)進(jìn)行缺陷檢測(cè)工藝；
將不具有缺陷且具有工藝需求的掩膜板轉(zhuǎn)移至所述光刻單元進(jìn)行光刻工藝，并繼續(xù)將完成光刻工藝的掩膜板轉(zhuǎn)移至所述內(nèi)部貯存單元或轉(zhuǎn)移至所述檢測(cè)單元進(jìn)行缺陷檢測(cè)工藝；
將不具有缺陷且不具有工藝需求的掩膜板轉(zhuǎn)移至內(nèi)部貯存單元中進(jìn)行貯存。
上述的方法，其特征在于，所述掩膜版存貯狀態(tài)的存貯時(shí)間T > A個(gè)月后，其中，A為12 18中的任意值，如A為12、13、14等，當(dāng)A為12時(shí)，即掩膜版存貯狀態(tài)的存貯時(shí)間T> 12個(gè)月，如存貯時(shí)間為13個(gè)月、14個(gè)月、15個(gè)月等，自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)將該掩膜版轉(zhuǎn)移至所述報(bào)廢單元進(jìn)行報(bào)廢，同時(shí)將掩膜版的狀態(tài)設(shè)置為報(bào)廢狀態(tài)。
上述的方法，其特征在于，其特征在于，所述缺陷檢測(cè)工藝包括不可修復(fù)的缺陷檢測(cè)工藝和顆粒檢測(cè)工藝；
對(duì)所述掩膜版進(jìn)行不可修復(fù)的缺陷檢測(cè)工藝，當(dāng)檢測(cè)到該掩膜版具有不可修復(fù)的缺陷時(shí)，所述自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)將該掩膜版轉(zhuǎn)移至報(bào)廢單元進(jìn)行報(bào)廢，同時(shí)將該掩膜版的狀態(tài)設(shè)置為報(bào)廢狀態(tài)；
當(dāng)檢測(cè)到該掩膜版不具有不可修復(fù)的缺陷時(shí)，繼續(xù)對(duì)所述掩膜版進(jìn)行顆粒檢測(cè)工藝；
當(dāng)檢測(cè)到該掩膜版具有顆粒時(shí)，自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)將該掩膜版轉(zhuǎn)移至清洗單元進(jìn)行清洗，同時(shí)將該掩膜版的狀態(tài)設(shè)置為清洗狀態(tài)。
上述的方法，其特征在于，所述自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)設(shè)定掩膜版處于所述內(nèi)部貯存單元中的狀態(tài)為停滯狀態(tài)；當(dāng)所述停滯狀態(tài)的停滯時(shí)間Tl > B個(gè)月時(shí)，其中，B為6 12中的任意值，如B為6、7、8等等，當(dāng)B為6時(shí)，即停滯狀態(tài)的停滯時(shí)間Tl > 6個(gè)月，如停滯時(shí)間為6個(gè)月、7個(gè)月、8個(gè)月等，所述自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)將掩膜版轉(zhuǎn)移至所述外部貯存單元，同時(shí)將掩膜版的狀態(tài)設(shè)置為存忙狀態(tài)；當(dāng)所述停滯狀態(tài)的停滯時(shí)間Tl < 6個(gè)月時(shí)，其中，B為6 12中的任意值，如B為
6、7、8等等，當(dāng)B為6時(shí)，即停滯狀態(tài)的停滯時(shí)間Tl < 6個(gè)月，如停滯時(shí)間為3個(gè)月、4個(gè)月、5個(gè)月等，所述自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)根據(jù)工藝需求將掩膜版轉(zhuǎn)移至所述光刻單元，同時(shí)將掩膜版的狀態(tài)設(shè)置為使用狀態(tài)上述的方法，其特征在于，所述自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)設(shè)定掩膜版處于所述光刻單元中的狀態(tài)為使用狀態(tài)；當(dāng)所述使用狀態(tài)的使用時(shí)間T2 < C個(gè)月時(shí)，其中，C為3 9中的任意值，如C為
3、4、5等等，當(dāng)C為3時(shí)，即使用狀態(tài)的使用時(shí)間T2 < 3個(gè)月，如使用時(shí)間為I個(gè)月、2個(gè)月、
2.5個(gè)月等，所述自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)將掩膜版轉(zhuǎn)移至所述內(nèi)部貯存單元，同時(shí)將掩膜版的狀態(tài)設(shè)置為停滯狀態(tài)；當(dāng)所述使用狀態(tài)的使用時(shí)間T2 > C個(gè)月時(shí)，其中，C為3 9中的任意值，如C為
3、4、5等等，當(dāng)C為3時(shí)，即使用狀態(tài)的使用時(shí)間T2> 3個(gè)月，如使用時(shí)間為3個(gè)月、4個(gè)月、5個(gè)月等，所述自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)將掩膜版轉(zhuǎn)移至所述檢測(cè)單元，同時(shí)將掩膜版的狀態(tài)設(shè)置為檢測(cè)狀態(tài)。上述技術(shù)方案具有如下優(yōu)點(diǎn)或者有益效果:在半導(dǎo)體生產(chǎn)過(guò)程中，使用本發(fā)明提供的掩膜版的自動(dòng)化管理系統(tǒng)及方法，使得掩膜版能夠精確的用于對(duì)應(yīng)的光刻機(jī)、對(duì)應(yīng)的光刻工藝以及對(duì)應(yīng)的光刻產(chǎn)品中，從而降低由于人為因素產(chǎn)生的出錯(cuò)率，減小發(fā)生問(wèn)題后的影響范圍，并且能夠有效監(jiān)控掩膜版的使用狀況，方便掩膜版的行跡追蹤，從而方便了后續(xù)的數(shù)據(jù)分析和加快了反饋的速度，進(jìn)而省時(shí)、省力，使得工藝生產(chǎn)成本降低且減少由于人為出錯(cuò)導(dǎo)致的良率問(wèn)題。


圖1是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例1的掩膜版的自動(dòng)化管理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例2的掩膜版的自動(dòng)化管理系統(tǒng)中掩膜版的流程結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖和具體的實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的說(shuō)明，但是不作為本發(fā)明的限定。實(shí)施例1:圖1是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例1的掩膜版的自動(dòng)化管理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；如圖所示，掩膜版的自動(dòng)化管理系統(tǒng)包括生產(chǎn)管理模塊、掩膜版管理模塊、工藝進(jìn)行模塊、掩膜版處理模塊和掩膜版貯存模塊，同時(shí)，生產(chǎn)管理模塊分別與掩膜版管理模塊、工藝進(jìn)行模塊、掩膜版處理模塊以及掩膜版貯存模塊通過(guò)EAP和服務(wù)器進(jìn)行掩膜版的數(shù)據(jù)信息的交互。
其中，生產(chǎn)管理模塊為自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)；掩膜版管理模塊包括數(shù)據(jù)存儲(chǔ)單元和讀/寫單元，并且數(shù)據(jù)存儲(chǔ)單元存儲(chǔ)有若干掩膜版當(dāng)前的數(shù)據(jù)信息；工藝進(jìn)行模塊包括多個(gè)光刻單元和多個(gè)檢測(cè)單元；掩膜版處理模塊包括多個(gè)清洗單元和多個(gè)報(bào)廢單元；掩膜版貯存模塊包括內(nèi)部貯存單元和外部貯存單元，且內(nèi)部和外部貯存單元均存儲(chǔ)有若干掩膜版。
其中，掩膜版的數(shù)據(jù)信息包括參數(shù)屬性和狀態(tài)標(biāo)識(shí)；參數(shù)屬性包括設(shè)備屬性、存儲(chǔ)屬性和類型屬性；設(shè)備屬性是根據(jù)光刻設(shè)備和工藝Recipe來(lái)定義，以使不同掩膜版應(yīng)用于對(duì)應(yīng)的光刻設(shè)備和對(duì)應(yīng)的工藝Recipe ;存儲(chǔ)屬性是根據(jù)正常環(huán)境和純凈干燥環(huán)境來(lái)定義，純凈干燥環(huán)境下如N2存儲(chǔ)，以計(jì)算對(duì)應(yīng)的掩膜版的使用壽命；類型屬性是根據(jù)光源來(lái)定義，以計(jì)算掩膜版在生產(chǎn)過(guò)程中的曝光量；狀態(tài)標(biāo)識(shí)包括存貯狀態(tài)、檢測(cè)狀態(tài)、使用狀態(tài)、停滯狀態(tài)、報(bào)廢狀態(tài)和清洗狀態(tài)；
其中，使用狀態(tài)還包括閑置狀態(tài)、等待狀態(tài)、預(yù)約狀態(tài)和正在使用狀態(tài)。
當(dāng)光刻單元需要掩膜版進(jìn)行光刻工藝時(shí)，自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)依照光刻單元的屬性，通過(guò)讀/寫單元從數(shù)據(jù)存儲(chǔ)單元中調(diào)取掩膜版的數(shù)據(jù)信息，調(diào)取出的掩膜版的數(shù)據(jù)信息的狀態(tài)標(biāo)識(shí)為貯存狀態(tài)時(shí)，而掩膜版存貯狀態(tài)的存貯時(shí)間> 12個(gè)月，如存貯時(shí)間為13個(gè)月、14個(gè)月、15個(gè)月等，根據(jù)工程師的判斷將掩膜版報(bào)廢，同時(shí)掩膜版當(dāng)前的狀態(tài)為報(bào)廢狀態(tài)，或者將掩膜版繼續(xù)貯存，同時(shí)掩膜版當(dāng)前的狀態(tài)為存貯狀態(tài)，并經(jīng)由自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)將該掩膜版報(bào)廢的信息或者繼續(xù)貯存的信息通過(guò)讀/寫單元存儲(chǔ)至掩膜版的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)單元中；或者當(dāng)貯存狀態(tài)的存貯時(shí)間TS 12個(gè)月時(shí)，如存貯時(shí)間為12個(gè)月、11個(gè)月、10個(gè)月等，則外部貯存單元依照自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)調(diào)取的掩膜版的數(shù)據(jù)信息，將對(duì)應(yīng)的掩膜版從外部貯存單元轉(zhuǎn)移至檢測(cè)單元中進(jìn)行檢測(cè)，掩膜版當(dāng)前的狀態(tài)則為檢測(cè)狀態(tài)；經(jīng)檢測(cè)確認(rèn)掩膜版有缺陷后，將檢測(cè)結(jié)果傳輸至自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)，而后將掩膜版轉(zhuǎn)移至報(bào)廢單元或者清洗單元中，同時(shí)掩膜版當(dāng)前的狀態(tài)為報(bào)廢狀態(tài)或者清洗狀態(tài)，同時(shí)將掩膜版處于報(bào)廢狀態(tài)或者清洗狀態(tài)的信息經(jīng)由自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)通過(guò)讀/寫單元存儲(chǔ)至掩膜版的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)單元中；自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)調(diào)取掩膜版的清洗信息，確認(rèn)清洗完成后，將掩膜版轉(zhuǎn)移至檢測(cè)單元進(jìn)行檢測(cè)，且掩膜版當(dāng)前的狀態(tài)為檢測(cè)狀態(tài)，并將掩膜版當(dāng)前的檢測(cè)狀態(tài)信息經(jīng)由自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)通過(guò)讀/寫單元存儲(chǔ)至掩膜版的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)單元中；自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)調(diào)取掩膜版的檢測(cè)信息，確認(rèn)掩膜版無(wú)缺陷后，將掩膜版轉(zhuǎn)移至光刻單元，同時(shí)掩膜版當(dāng)前的狀態(tài)為使用狀態(tài)，并將掩膜版當(dāng)前的使用狀態(tài)信息經(jīng)由自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)通過(guò)讀/寫單元存儲(chǔ)至掩膜版的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)單元中；自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)調(diào)取掩膜版的使用信息，當(dāng)掩膜版使用狀態(tài)的使用時(shí)間T2 < 3個(gè)月時(shí)，如使用時(shí)間為I個(gè)月、2個(gè)月、2.5個(gè)月等，將掩膜版轉(zhuǎn)移至內(nèi)部貯存單元，并處于停滯狀態(tài)；或者當(dāng)掩膜版使用狀態(tài)的使用時(shí)間T2 > 3個(gè)月時(shí)，如使用時(shí)間為3個(gè)月、4個(gè)月、5個(gè)月等，將掩膜版轉(zhuǎn)移至檢測(cè)單元，并檢測(cè)狀態(tài)，同時(shí)將掩膜版當(dāng)前的狀態(tài)標(biāo)識(shí)信息經(jīng)由自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)通過(guò)讀/寫單元存儲(chǔ)至掩膜版的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)單元中；自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)調(diào)取掩膜版的停滯狀態(tài)信息，當(dāng)掩膜版停滯狀態(tài)的停滯時(shí)間Tl > 6個(gè)月時(shí)，如停滯時(shí)間為6個(gè)月、7個(gè)月、8個(gè)月等，將掩膜版轉(zhuǎn)移至外部貯存單元進(jìn)行存貯，同時(shí)掩膜版的狀態(tài)為存貯狀態(tài)；或者當(dāng)掩膜版停滯狀態(tài)的停滯時(shí)間Tl < 6個(gè)月時(shí)，如停滯時(shí)間為3個(gè)月、4個(gè)月、5個(gè)月等，將掩膜版再次轉(zhuǎn)移至光刻單元而具有使用狀態(tài)，如上循環(huán)，同時(shí)經(jīng)由自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)通過(guò)讀/寫單元存儲(chǔ)至掩膜版的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)單元中，以有效監(jiān)控掩膜版的使用狀況，方便掩膜版的行跡追蹤，從而方便后續(xù)的數(shù)據(jù)分析和加快了反饋的速度。另外，當(dāng)用一個(gè)隨意的光刻掩膜版到光刻單元上進(jìn)行光刻工藝時(shí)，由于光刻單元是在工藝進(jìn)行模塊中，而工藝進(jìn)行模塊與生產(chǎn)管理模塊有著掩膜版數(shù)據(jù)信息的交互，當(dāng)掩膜版放置在光刻單元中時(shí)，掩膜版的數(shù)據(jù)信息會(huì)傳輸?shù)缴a(chǎn)管理模塊中，生產(chǎn)管理模塊接受該掩膜版的數(shù)據(jù)信息并通過(guò)讀/寫單元與掩膜版的數(shù)據(jù)儲(chǔ)存單元中的掩膜版的數(shù)據(jù)信息進(jìn)行匹配，若是不匹配，生產(chǎn)管理模塊會(huì)發(fā)送一個(gè)錯(cuò)誤信息給光刻單元，從而無(wú)法進(jìn)行光刻工藝，進(jìn)而防止了事故的發(fā)生，減小了由于人為因素導(dǎo)致良率低的問(wèn)題。實(shí)施例2:
圖2是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例2的掩膜版的自動(dòng)化管理系統(tǒng)中掩膜版的流程結(jié)構(gòu)示意圖；如圖2所示，當(dāng)光刻單元需要掩膜版進(jìn)行光刻工藝時(shí)，自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)依照光刻單元的屬性，通過(guò)讀/寫單元從數(shù)據(jù)存儲(chǔ)單元中調(diào)取掩膜版的數(shù)據(jù)信息，調(diào)取出的掩膜版的數(shù)據(jù)信息的狀態(tài)標(biāo)識(shí)為貯存狀態(tài)時(shí)，判斷存貯狀態(tài)下的存貯時(shí)間T，若存貯時(shí)間T > 12個(gè)月，如存貯時(shí)間為13個(gè)月、14個(gè)月、15個(gè)月等，根據(jù)工程師的判斷將掩膜版轉(zhuǎn)移至報(bào)廢單元進(jìn)行報(bào)廢，并標(biāo)識(shí)掩膜版當(dāng)前的狀態(tài)為報(bào)廢狀態(tài)；或者或者將掩膜版繼續(xù)貯存，同時(shí)掩膜版當(dāng)前的狀態(tài)為存貯狀態(tài)，若存貯時(shí)間T ≤ 12個(gè)月，如存貯時(shí)間為12個(gè)月、11個(gè)月、10個(gè)月等，則將掩膜版轉(zhuǎn)移至檢測(cè)單元進(jìn)行檢測(cè)，并標(biāo)識(shí)掩膜版當(dāng)前的狀態(tài)為檢測(cè)狀態(tài)；檢測(cè)完成后，若檢測(cè)結(jié)果存在不可恢復(fù)的缺陷，即會(huì)影響到產(chǎn)品良率的缺陷，則將掩膜版轉(zhuǎn)移至報(bào)廢單元進(jìn)行報(bào)廢，并標(biāo)識(shí)掩膜版當(dāng)前的狀態(tài)為報(bào)廢狀態(tài)，若檢測(cè)結(jié)果不存在不可恢復(fù)的缺陷，但具有顆粒，即具有可恢復(fù)的缺陷，則將掩膜版轉(zhuǎn)移至清洗單元進(jìn)行清洗，并標(biāo)識(shí)掩膜版當(dāng)前的狀態(tài)為清洗狀態(tài)，清洗完成后，將掩膜版轉(zhuǎn)移至檢測(cè)單元進(jìn)行重新檢測(cè)，當(dāng)檢測(cè)結(jié)果既不存在不可恢復(fù)的缺陷又不具有顆粒時(shí)，根據(jù)工藝需求將掩膜版轉(zhuǎn)移至光刻單元或者內(nèi)部貯存單元，若具有工藝需求則將該掩膜版轉(zhuǎn)移至光刻單元中進(jìn)行光刻工藝，并標(biāo)識(shí)掩膜版當(dāng)前的狀態(tài)為使用狀態(tài)，當(dāng)使用狀態(tài)下的掩膜版的使用時(shí)間T2 ^ 3個(gè)月時(shí)，如使用時(shí)間為3個(gè)月、4個(gè)月、5個(gè)月等，將掩膜版轉(zhuǎn)移至檢測(cè)單元進(jìn)行檢測(cè)，并標(biāo)識(shí)掩膜版當(dāng)前的狀態(tài)為檢測(cè)狀態(tài)，如上循環(huán)；若當(dāng)使用狀態(tài)下的掩膜版的使用時(shí)間T2 < 3個(gè)月時(shí)，如使用時(shí)間為I個(gè)月、2個(gè)月、2.5個(gè)月等，將掩膜版轉(zhuǎn)移至內(nèi)部貯存單元，并標(biāo)識(shí)掩膜版當(dāng)前的狀態(tài)為停滯狀態(tài)，當(dāng)停滯狀態(tài)下的停滯時(shí)間Tl < 6個(gè)月時(shí)，如停滯時(shí)間為3個(gè)月、4個(gè)月、5個(gè)月等，根據(jù)生產(chǎn)需要可將掩膜版轉(zhuǎn)移光刻單元進(jìn)行光刻工藝，而標(biāo)識(shí)掩膜版的狀態(tài)為使用狀態(tài)，當(dāng)停滯狀態(tài)下的停滯時(shí)間Tl ≥ 6個(gè)月時(shí)，將掩膜版轉(zhuǎn)移至外部貯存單元進(jìn)行存貯，并標(biāo)識(shí)掩膜版當(dāng)前的狀態(tài)為存貯狀態(tài)，如上循環(huán)。綜上所述，通過(guò)使用本發(fā)明提供的掩膜版的自動(dòng)化管理系統(tǒng)及方法，使得掩膜版能夠精確的用于對(duì)應(yīng)的光刻機(jī)、對(duì)應(yīng)的光刻工藝以及對(duì)應(yīng)的光刻產(chǎn)品中，從而降低由于人為因素產(chǎn)生的出錯(cuò)率，減小發(fā)生問(wèn)題后的影響范圍，并且能夠有效監(jiān)控掩膜版的使用狀況，方便掩膜版的行跡追蹤，從而方便了后續(xù)的數(shù)據(jù)分析和加快了反饋的速度，進(jìn)而省時(shí)、省力，使得工藝生產(chǎn)成本降低且減少由于人為出錯(cuò)導(dǎo)致的良率問(wèn)題。以上所述僅為本發(fā)明較佳的實(shí)施例，并非因此限制本發(fā)明的申請(qǐng)專利范圍，所以凡運(yùn)用本發(fā)明說(shuō)明書及圖示內(nèi)容所作出的等效變化，均包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種掩膜版的自動(dòng)化管理系統(tǒng)，其特征在于，包括掩膜版管理模塊、生產(chǎn)管理模塊、工藝進(jìn)行模塊、掩膜版處理模塊和掩膜版貯存模塊； 所述工藝進(jìn)行模塊、所述掩膜版處理模塊和所述掩膜版貯存模塊均通過(guò)所述生產(chǎn)管理模塊與所述掩膜版管理模塊進(jìn)行所述掩膜版數(shù)據(jù)信息的交互； 所述掩膜版管理模塊包括數(shù)據(jù)存儲(chǔ)單元和讀/寫單元，所述數(shù)據(jù)存儲(chǔ)單元存儲(chǔ)有若干掩膜版當(dāng)前的數(shù)據(jù)信息； 所述工藝進(jìn)行模塊包括多個(gè)光刻單元和多個(gè)檢測(cè)單元； 所述掩膜版處理模塊包括多個(gè)清洗單元和多個(gè)報(bào)廢單元； 所述掩膜版貯存模塊包括內(nèi)部貯存單元和外部貯存單元，且內(nèi)部和外部貯存單元均存儲(chǔ)有若干掩膜版。
2.如權(quán)利要求1所述的掩膜版的自動(dòng)化管理系統(tǒng)，其特征在于，當(dāng)所述外部貯存單元存儲(chǔ)新的掩膜版時(shí)，所述外部貯存單元獲取該新的掩膜版的初始數(shù)據(jù)信息，并將該初始數(shù)據(jù)信息依次通過(guò)所述生產(chǎn)管理模塊和所述讀/寫單元存儲(chǔ)至所述數(shù)據(jù)存儲(chǔ)單元中。
3.如權(quán)利要求1所述的掩膜版的自動(dòng)化管理系統(tǒng)，其特征在于，所述生產(chǎn)管理模塊為半導(dǎo)體生產(chǎn)中的自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)，該自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)根據(jù)所述光刻單元或所述檢測(cè)單元的生產(chǎn)需求，通過(guò)所述讀/寫單元調(diào)取所述數(shù)據(jù)存儲(chǔ)單元中的掩膜版的數(shù)據(jù)信息，所述內(nèi)部貯存單元或所述外部貯存單元根據(jù)調(diào)取出的掩膜版的數(shù)據(jù)信息將對(duì)應(yīng)的掩膜版從所述內(nèi)部貯存單元或所述外部貯存單元轉(zhuǎn)移至所述光刻單元或所述檢測(cè)單元或所述清洗單元或所述報(bào)廢單元中。
4.如權(quán)利要求3所述的掩膜版的自動(dòng)化管理系統(tǒng)，其特征在于，當(dāng)所述掩膜版在所述光刻單元中進(jìn)行光刻工藝時(shí)，所述自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)實(shí)時(shí)記錄所述掩膜版在所述光刻單元中的數(shù)據(jù)信息，并通過(guò)所述讀/寫單元將記錄的的數(shù)據(jù)信息存儲(chǔ)至所述數(shù)據(jù)存儲(chǔ)單元中。
5.如權(quán)利要求1所述的掩膜版的自動(dòng)化管理系統(tǒng)，其特征在于，所述生產(chǎn)管理模塊設(shè)置所述掩膜版的數(shù)據(jù)信息，該數(shù)據(jù)信息包括參數(shù)屬性和狀態(tài)標(biāo)識(shí)； 所述參數(shù)屬性包括設(shè)備屬性、存儲(chǔ)屬性和類型屬性； 根據(jù)光刻設(shè)備和工藝配方來(lái)定義所述設(shè)備屬性，以使不同掩膜版應(yīng)用于對(duì)應(yīng)的光刻設(shè)備和對(duì)應(yīng)的工藝配方； 根據(jù)正常環(huán)境和純凈干燥環(huán)境來(lái)定義所述存儲(chǔ)屬性，以計(jì)算掩膜版在不同環(huán)境下的使用壽命； 根據(jù)光源來(lái)定義所述類型屬性，以計(jì)算掩膜版在生產(chǎn)過(guò)程中的曝光量； 所述狀態(tài)標(biāo)識(shí)包括存貯狀態(tài)、檢測(cè)狀態(tài)、使用狀態(tài)、停滯狀態(tài)、報(bào)廢狀態(tài)和清洗狀態(tài)； 其中，所述使用狀態(tài)包括閑置狀態(tài)、等待狀態(tài)、預(yù)約狀態(tài)和正在使用狀態(tài)。
6.如權(quán)利要求5所述的掩膜版的自動(dòng)化管理系統(tǒng)，其特征在于，當(dāng)掩膜版處于所述外部貯存單元中時(shí)，將所述掩膜版的狀態(tài)標(biāo)識(shí)為存貯狀態(tài)； 當(dāng)掩膜版處于所述內(nèi)部貯存單元中 時(shí)，將所述掩膜版的狀態(tài)標(biāo)識(shí)為停滯狀態(tài)； 當(dāng)掩膜版處于所述檢測(cè)單元中時(shí)，將所述掩膜版的狀態(tài)標(biāo)識(shí)為檢測(cè)狀態(tài)； 當(dāng)掩膜版處于所述光刻單元中時(shí)，將所述掩膜版的狀態(tài)標(biāo)識(shí)為使用狀態(tài)； 當(dāng)掩膜版處于所述報(bào)廢單元中時(shí)，將所述掩膜版的狀態(tài)標(biāo)識(shí)為報(bào)廢狀態(tài)；當(dāng)掩膜版處于所述清洗單元時(shí)，將所述掩膜版的狀態(tài)標(biāo)識(shí)為清洗狀態(tài)。
7.一種利用所述掩膜版的自動(dòng)化管理系統(tǒng)進(jìn)行工藝的方法，其特征在于，應(yīng)用于如權(quán)利要求1-6中任意一項(xiàng)所述的掩膜版的自動(dòng)化管理系統(tǒng)中，所述方法包括: 所述光刻單元根據(jù)工藝需求將需要進(jìn)行光刻工藝的掩膜板的請(qǐng)求數(shù)據(jù)發(fā)送至自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)，所述自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)根據(jù)該請(qǐng)求數(shù)據(jù)通過(guò)所述讀/寫單元調(diào)取所述數(shù)據(jù)存儲(chǔ)單元中存儲(chǔ)的掩膜版的數(shù)據(jù)信息； 當(dāng)調(diào)取的掩膜版的數(shù)據(jù)信息中的狀態(tài)標(biāo)識(shí)為貯存狀態(tài)時(shí)，所述外部貯存單元將調(diào)取的掩膜板轉(zhuǎn)移至所述檢測(cè)單元中進(jìn)行缺陷檢測(cè)工藝； 將具有缺陷的掩膜板轉(zhuǎn)移至所述清洗單元或者所述報(bào)廢單元進(jìn)行清洗工藝或直接報(bào)廢，且對(duì)完成清洗工藝的掩膜板重復(fù)進(jìn)行缺陷檢測(cè)工藝； 將不具有缺陷且具有工藝需求的掩膜板轉(zhuǎn)移至所述光刻單元進(jìn)行光刻工藝，并繼續(xù)將完成光刻工藝的掩膜板轉(zhuǎn)移至所述內(nèi)部貯存單元或轉(zhuǎn)移至所述檢測(cè)單元進(jìn)行缺陷檢測(cè)工藝； 將不具有缺陷且不具有工藝需求的掩膜板轉(zhuǎn)移至內(nèi)部貯存單元中進(jìn)行貯存。
8.如權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述掩膜版存貯狀態(tài)的存貯時(shí)間T> A個(gè)月時(shí)，所述自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)將該掩膜版轉(zhuǎn)移至所述報(bào)廢單元進(jìn)行報(bào)廢，同時(shí)將掩膜版的狀態(tài)設(shè)置為報(bào)廢狀態(tài)； 其中，A為12 18中的任意值。
9.如權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述缺陷檢測(cè)工藝包括不可修復(fù)的缺陷檢測(cè)工藝和顆粒檢測(cè)工 藝； 對(duì)所述掩膜版進(jìn)行不可修復(fù)的缺陷檢測(cè)工藝，當(dāng)檢測(cè)到該掩膜版具有不可修復(fù)的缺陷時(shí)，所述自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)將該掩膜版轉(zhuǎn)移至報(bào)廢單元進(jìn)行報(bào)廢，同時(shí)將該掩膜版的狀態(tài)設(shè)置為報(bào)廢狀態(tài)； 當(dāng)檢測(cè)到該掩膜版不具有不可修復(fù)的缺陷時(shí)，繼續(xù)對(duì)所述掩膜版進(jìn)行顆粒檢測(cè)工藝；當(dāng)檢測(cè)到該掩膜版具有顆粒時(shí)，自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)將該掩膜版轉(zhuǎn)移至清洗單元進(jìn)行清洗，同時(shí)將該掩膜版的狀態(tài)設(shè)置為清洗狀態(tài)。
10.如權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)設(shè)定掩膜版處于所述內(nèi)部貯存單元中的狀態(tài)為停滯狀態(tài)； 當(dāng)所述停滯狀態(tài)的停滯時(shí)間Tl > B個(gè)月時(shí)，所述自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)將該掩膜版轉(zhuǎn)移至所述外部貯存單元，同時(shí)將該掩膜版的狀態(tài)設(shè)置為存貯狀態(tài)； 當(dāng)所述停滯狀態(tài)的停滯時(shí)間Tl < B個(gè)月時(shí)，所述自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)根據(jù)光刻工藝需求將掩膜版轉(zhuǎn)移至所述光刻單元其中，B為6 12中的任意值。
11.如權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)設(shè)定掩膜版處于所述光刻單元中的狀態(tài)為使用狀態(tài)； 當(dāng)所述使用狀態(tài)的使用時(shí)間T2 < C個(gè)月時(shí)，所述自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)將該掩膜版轉(zhuǎn)移至所述內(nèi)部貯存單元中，同時(shí)將該掩膜版的狀態(tài)設(shè)置為停滯狀態(tài)； 當(dāng)所述使用狀態(tài)的使用時(shí)間T2 > C個(gè)月時(shí)，所述自動(dòng)化生產(chǎn)管理系統(tǒng)將該掩膜版轉(zhuǎn)移至所述檢測(cè)單元中，同時(shí)將該掩膜版的狀態(tài)設(shè)置為檢測(cè)狀態(tài)其中，C為3 9中的任意值。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了掩膜版的自動(dòng)化管理系統(tǒng)及方法，包括生產(chǎn)管理模塊、掩膜版管理模塊、工藝進(jìn)行模塊、掩膜版處理模塊和掩膜版貯存模塊，生產(chǎn)管理模塊能夠通過(guò)EAP和服務(wù)器與掩膜版管理模塊、工藝進(jìn)行模塊、掩膜版處理模塊和掩膜版貯存模塊分別進(jìn)行數(shù)據(jù)的交互；通過(guò)使用本發(fā)明提供的掩膜版的自動(dòng)化管理系統(tǒng)及方法使得掩膜版能夠精確的用于對(duì)應(yīng)的光刻機(jī)、對(duì)應(yīng)的光刻工藝以及對(duì)應(yīng)的光刻產(chǎn)品中，從而降低由于人為因素產(chǎn)生的出錯(cuò)率，減小發(fā)生問(wèn)題后的影響范圍，并且能夠有效監(jiān)控掩膜版的使用狀況，方便掩膜版的行跡追蹤，從而方便了后續(xù)的數(shù)據(jù)分析和加快了反饋的速度，進(jìn)而省時(shí)、省力，使得工藝生產(chǎn)成本降低且減少由于人為出錯(cuò)導(dǎo)致的良率問(wèn)題。
文檔編號(hào)G03F7/20GK103176371SQ201310082060
公開(kāi)日2013年6月26日 申請(qǐng)日期2013年3月14日 優(yōu)先權(quán)日2013年3月14日
發(fā)明者馬蘭濤, 陳毅俊, 朱駿 申請(qǐng)人:上海華力微電子有限公司