專利名稱：彩色微透鏡陣列及其制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光學(xué)領(lǐng)域，特別涉及一種彩色微透鏡陣列及其制備方法。
背景技術(shù)：
微透鏡列陣是由通光孔徑及浮雕深度為微米級(jí)的透鏡組成的列陣，它不僅具有傳統(tǒng)透鏡的聚焦、成像等基本功能，而且具有單元尺寸小、集成度高、多通道等特點(diǎn)，使得它能夠完成傳統(tǒng)光學(xué)元件無法完成的功能，并能構(gòu)成許多新型的光學(xué)系統(tǒng)。
在一些實(shí)際應(yīng)用中，有時(shí)人們只關(guān)心某一單色光的成像。例如，人體血管成像中需要關(guān)心的是藍(lán)色光線所成的像，這就需要用到多譜成像系統(tǒng)。人們采用多通道集成彩色濾光片與微透鏡陣列相結(jié)合的方式，利用微透鏡陣列的多通道特點(diǎn)，可以實(shí)現(xiàn)多譜成像功能。目前已有很多微透鏡陣列制造技術(shù)，主要有以下幾種方法。
(I)光刻膠熱回流技術(shù)
光刻膠熱回流法(光刻膠熱熔法)是Zoran D.Popovic等人(期刊論文，題目:Technique for monolithic fabrication of microlens arrays期干丨J:Applied Optics,Vol.27，Issue7，pp.1281-1284，1988)提出的，整個(gè)工藝過程可以分為三步，一、對(duì)基版上的光刻膠在掩模的遮蔽下進(jìn)行曝光，曝光圖案呈圓形，矩形或正六邊形；二、對(duì)曝光后的光刻膠進(jìn)行顯影并清洗殘余物質(zhì)；三、放鉻于加熱平臺(tái)上，熱熔成型。由于這種方法具有工藝簡(jiǎn)單，對(duì)材料和設(shè)備的要求較低，工藝參數(shù)穩(wěn)定且易于控制，復(fù)制容易等優(yōu)點(diǎn)，被廣泛地用于微透鏡陣列的制備當(dāng)中。該方法是制備微透鏡整列最成熟的方法之一，成功率高。但是光刻膠熱熔法只適用于正光刻膠，而顏色光阻劑是負(fù)光刻膠，不能用該方法來制備微透鏡陣列。因此該方法制備的微透鏡達(dá)不到對(duì)某一單色光的單獨(dú)聚光、成像，在某些應(yīng)用中會(huì)受到限制。
(2)軟壓印技術(shù)
王偉等人(期刊論文，題目:一種新型聚合物微透鏡陣列的制造技術(shù)期刊:中國(guó)激光，第36卷11期，2009年11月)提出了一種利用軟模壓印制備微透鏡陣列的技術(shù)。采用傳統(tǒng)的光刻膠熱熔方法制備微透鏡陣列母版，利用復(fù)制模具的方法在聚二甲基硅氧烷(PDMS)上得到一個(gè)和母版表面圖形相反的模具，最后通過壓印的方法把聚二甲基硅氧烷(PDMS)模具上的圖形轉(zhuǎn)移到涂有紫外固化膠的玻璃基片上，待紫外膠完全固化后可得到和母版一致的微透鏡陣列。該方法工藝簡(jiǎn)單，成本低。但是使用普通的紫外膠同樣達(dá)不到對(duì)某一單色光的單獨(dú)聚光、成像。
在實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的過程中，發(fā)明人發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有技術(shù)至少存在以下問題:
目前，已有的方法制備的微透鏡陣中，都存在一定的不足。如光刻膠熱回流技術(shù)，它只適用于正光刻膠，而顏色光阻劑是負(fù)光刻膠，不能用該方法來制備微透鏡陣列。因此該方法不能制備出對(duì)某一單色光單獨(dú)聚光、成像的微透鏡。軟壓印技術(shù)由于使用的是普通的紫外膠，同樣達(dá)不到對(duì)某一單色光的單獨(dú)聚光、成像。如果想實(shí)現(xiàn)想對(duì)某一單色光成像，需要與專門的濾光片結(jié)合，這樣就存在濾光片與微透鏡陣列對(duì)準(zhǔn)的問題，從而增加了系統(tǒng)的 復(fù)雜度，在某些應(yīng)用中會(huì)受到限制。

發(fā)明內(nèi)容
為了解決現(xiàn)有技術(shù)的問題，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種彩色微透鏡陣列及其制備方法。所述技術(shù)方案如下:一方面，提供了一種彩色微透鏡陣列制備方法，所述方法至少包括:提供基底；通過熱熔工藝在基底上制備光刻膠微透鏡陣列母版；將聚二甲基硅氧烷黏稠液覆蓋在所述母版上，制得帶有凹形微透鏡陣列的聚二甲基硅氧烷軟印章；將聚二甲基硅氧烷軟印章上的微透鏡陣列結(jié)構(gòu)復(fù)制在另一基底的顏色光阻劑上，制得微透鏡陣列；重復(fù)上述步驟，利用不同的顏色光阻劑，可以制備不同顏色的微透鏡陣列。具體地，所述將聚二甲基硅氧烷黏稠液覆蓋在所述母版上，制得聚二甲基硅氧烷軟印章，包括:將預(yù)聚體和固化劑按照體積比為10:1進(jìn)行混合，制得聚二甲基硅氧烷黏稠液；將所述聚二甲基硅氧烷黏稠液完全覆蓋所述微透鏡陣列母版，在85°C時(shí)烘烤30分鐘后使其固化；將固化的聚二甲基硅氧烷層從所述微透鏡陣列母版上剝離，得到帶有凹形微透鏡陣列的聚二甲基硅氧烷軟印章。具體地，所述將聚二甲基硅氧烷軟印章上的微透鏡陣列結(jié)構(gòu)復(fù)制到另一基底的顏色光阻劑上，制得微透鏡陣列，包括:提供另一片基底；在所述基底上旋涂紅色光阻劑，制得紅色光阻劑基底；將所述聚二甲基硅氧烷軟印章壓在紅色光阻劑上，所述聚二甲基硅氧烷軟印章上的微透鏡陣列結(jié)構(gòu)復(fù)制在所述另一基底的紅色光阻劑上，制得只能透過紅色的微透鏡陣列。進(jìn)一步地，所述提供另一片基底，包括:將所述另一片基底用清水和丙酮清洗后鉻于烘箱中，在130°C時(shí)烘烤10分鐘。進(jìn)一步地，在所述基底上旋涂紅色光阻劑，制得紅色光阻劑基底，包括:將旋涂后的紅色光阻劑鉻于真空烤箱內(nèi)，在80°C時(shí)烘烤2分鐘。進(jìn)一步地，將所述聚二甲基硅氧烷軟印章壓在紅色光阻劑上，所述聚二甲基硅氧烷軟印章上的微透鏡陣列結(jié)構(gòu)復(fù)制在所述另一基底的紅色光阻劑上，制得只能透過紅色的微透鏡陣列，包括:將所述聚二甲基硅氧烷軟印章和所述另一基底的紅色光阻劑基底放在烘箱內(nèi)，在90°C時(shí)烘烤2分鐘；將所述聚二甲基硅氧烷軟印章壓在另一基底的紅色光阻劑上，在所述聚二甲基硅氧烷軟印章上放鉻0.5 kg的平整重物，保持90°C和重物壓力，10分鐘后自然冷卻；透過所述聚二甲基硅氧烷軟印章對(duì)另一基底的紅色光阻劑進(jìn)行紫外曝光，曝光劑量為150mJ ；
將曝光后的所述另一基底的紅色光阻劑鉻于烤箱內(nèi)在230°C時(shí)烘烤固化120分鐘；
將所述聚二甲基硅氧烷軟印章與所述另一基底的紅色光阻劑分離，制得所述只能透過紅色的微透鏡陣列。
具體地，所述提供基底，包括:
取一片透光率高，表面平整的玻璃片作為基底；
將基底用清水和丙酮清洗后鉻于烘箱中，在130°C時(shí)烘烤10分鐘。
具體地，所述通過熱熔工藝在基底上制備光刻膠微透鏡陣列母版，包括:
將正光刻膠旋涂于清洗好的基底上，經(jīng)過烘烤后，將帶有光刻膠的基底鉻于事先制備好的圓孔掩膜版下進(jìn)行紫外曝光；
將曝光過的基底鉻于質(zhì)量百分比5%的氫氧化鈉溶液中，顯影出圓柱形圖案；
將制備的帶有圓柱形圖案的光刻膠的基底鉻于真空烘箱內(nèi)，加熱至125°C，加熱時(shí)間為60秒；
光刻膠融化，自動(dòng)形成微透鏡的形狀，在烘箱內(nèi)自然冷卻，制得微透鏡陣列母版。
另一方面，提供了一種彩色微透鏡陣列，包括依次層疊連接的另一基底、顏色光阻劑和微透鏡。
具體地，所述基底為一片透光率高，表面平整的玻璃片。
具體地，所述顏色光阻劑旋涂于另一基底上。
具體地，所述微透鏡陣列是將聚二甲基硅氧烷軟印章上的微透鏡陣列結(jié)構(gòu)復(fù)制在另一基底的顏色光阻劑上制得的。
本發(fā)明實(shí)施例提供的技術(shù)方案帶來的有益效果是:
通過聚二甲基硅氧烷(PDMS)和顏色光阻劑，比傳統(tǒng)多譜成像系統(tǒng)減少一個(gè)濾光片結(jié)構(gòu)，減少光能損失，提高成像質(zhì)量，避免了濾光片與微透鏡陣列對(duì)準(zhǔn)集成的問題；通過將幾種不同顏色的微透鏡陣列集成，應(yīng)用于多譜成像系統(tǒng)中實(shí)現(xiàn)單色成像和彩色重構(gòu)，大大降低系統(tǒng)復(fù)雜度和成本。


為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
圖1是本發(fā)明實(shí)施例一提供的微透鏡陣列制備方法流程圖2是本發(fā)明實(shí)施例一提供的微透鏡陣列制備工藝示意圖3是本發(fā)明實(shí)施例二提供的微透鏡陣列示意圖。
具體實(shí)施方式
為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明實(shí)施方式作進(jìn)一步地詳細(xì)描述。
實(shí)施例一
本發(fā)明實(shí)施例一提供了一種彩色微透鏡陣列制備方法，參見圖1、圖2，該方法具體包括如下步驟:
步驟101:提供基底。
優(yōu)選地，取一片透光率高，表面平整的玻璃片作為基底I。
具體地，將基底用清水和丙酮清洗，然后鉻于烘箱中，在130°C下烘烤10分鐘，用于除去水汽和殘余丙酮；烘烤后進(jìn)行氧氣等離子體處理，用于增加玻璃的表面能。
優(yōu)選地，該氧氣等離子體處理的真空度為25Pa，功率為60W，轟擊時(shí)間為90秒。
步驟102:通過熱熔工藝在基底上制備光刻膠微透鏡陣列母版。
具體地，將正光刻膠2旋涂于清洗好的基底上，經(jīng)過烘烤后，將帶有光刻膠的基底鉻于事先制備好的圓孔掩膜板3下進(jìn)行紫外曝光4。
優(yōu)選地，該正光刻膠為正光刻膠AZ4620。
其中，曝光時(shí)間和劑量根據(jù)膠層厚度和光強(qiáng)決定。曝過光的正光刻膠5能在顯影液下去除掉為宜。
優(yōu)選地，將曝光過的基底鉻于質(zhì)量百分比5%的氫氧化鈉溶液中，顯影出圓柱形圖案6。其中，顯影時(shí)間要根據(jù)光刻膠厚度，由實(shí)驗(yàn)決定。
進(jìn)一步地，將制備的帶有圓柱形圖案的光刻膠的基底鉻于真空烘箱內(nèi)，加熱至125°C，加熱時(shí)間為60秒。此時(shí)光刻膠會(huì)融化，在表面張力的作用下，自動(dòng)形成微透鏡的形狀，在烘箱內(nèi)自然冷卻，制得微透鏡陣列母版7。
步驟103:將配鉻好的聚二甲基硅氧烷黏稠液傾倒在所述母版上，制得聚二甲基硅氧烷軟印章。
具體地，按照體積比為10:1將預(yù)聚體(Sylgardl84elastomer)和固化劑(Sylgardl84curing agent)進(jìn)行混合，混合后靜絡(luò)I小時(shí)除氣，制得聚二甲基娃氧燒(PDMS)粘稠液。
優(yōu)選地，預(yù)聚體(Sylgardl84elastomer)和固化劑(Sylgardl84curingagent)是由美國(guó)Dow-Corning公司出品。
進(jìn)一步地，將聚二甲基硅氧烷(PDMS)粘稠液傾覆攤平在微透鏡陣列母版上，使粘稠液完全覆蓋微透鏡陣列母版，以85°C烘烤30分鐘，使聚二甲基硅氧烷(PDMS)固化。固化后的聚二甲基硅氧烷(PDMS)表面能很低，可以很輕松的將固化的聚二甲基硅氧烷(PDMS)層從微透鏡陣列母版上剝離，得到帶有凹形微透鏡陣列的PDMS軟印章8。
步驟104:利用聚二甲基硅氧烷軟印章將微透鏡陣列圖形轉(zhuǎn)移到另一基底的顏色光阻劑上，制得微透鏡陣列。
具體地，取另一基底9，用清水和丙酮清洗后鉻于烘箱中，在130°C下烘烤10分鐘除去水汽和殘余丙酮。
優(yōu)選地，取一片透光率高，表面平整的玻璃片作為基底。
進(jìn)一步地，在另一基底9上旋涂一層一定厚度的紅色光阻劑10，在真空烘箱內(nèi)，經(jīng)80°C烘烤2分鐘形成紅色光阻劑基底；
將步驟103制得的聚二甲基硅氧烷(PDMS)軟印章和紅色光阻劑基底放在烘臺(tái)上以90°C預(yù)熱3分鐘，預(yù)熱的目的是減少后續(xù)壓印過程中由于材料熱膨脹系數(shù)不同造成的復(fù)制缺陷；將聚二甲基硅氧烷(PDMS)軟印章壓在紅色光阻劑上，對(duì)聚二甲基硅氧烷(PDMS)軟印章上放一重為0.5kg的平整重物11，使聚二甲基硅氧烷(PDMS)軟印章壓入軟化的紅色光阻劑中；保持90°C和重物壓力分鐘后自然冷卻；由于聚二甲基硅氧烷(PDMS)透光的，透過聚二甲基硅氧烷(PDMS)軟印章對(duì)紅色光阻劑進(jìn)行紫外曝光4，曝光劑量為150mJ ；對(duì)曝光后的紅色光阻劑以230°C烘烤固化120分鐘，使聚二甲基硅氧烷(PDMS)軟印章上的微透鏡陣列結(jié)構(gòu)復(fù)制在光阻劑上；由于聚二甲基硅氧烷(PDMS)具有很低的表面能，自然冷卻后可以很輕松的將聚二甲基硅氧烷(PDMS)軟印章于光阻劑分離，從而制得只能透過紅色的微透鏡12。其中，由于聚二甲基硅氧烷(PDMS)具有優(yōu)良的機(jī)械性能，聚二甲基硅氧烷(PDMS)只需經(jīng)過簡(jiǎn)單的去離子水清洗就可以重復(fù)使用。步驟105:重復(fù)上述步驟，利用不同的顏色光阻劑，制備不同顏色的微透鏡陣列。其中，根據(jù)市場(chǎng)上已有的顏色光阻劑種類，可以制備，紅色13、綠色14和藍(lán)色15三種顏色的微透鏡陣列。本發(fā)明實(shí)施例一提供的上述方法帶來的有益效果是:通過聚二甲基硅氧烷(PDMS)和顏色光阻劑，比傳統(tǒng)多譜成像系統(tǒng)減少一個(gè)濾光片結(jié)構(gòu)，減少光能損失，提高成像質(zhì)量，避免了濾光片與微透鏡陣列對(duì)準(zhǔn)集成的問題；同時(shí)，聚二甲基硅氧烷(PDMS)可以重復(fù)使用，極大的降低了微透鏡陣列的生產(chǎn)成本。實(shí)施例二本發(fā)明實(shí)施例二提供了一種彩色微透鏡陣列，參見圖2，該微透鏡陣列包括依次層疊連接的另一基底9、紅色光阻劑10和微透鏡12。具體地，取另一基底1，在另一基底I上旋涂一層一定厚度的紅色光阻劑10，在真空烘箱內(nèi)，經(jīng)80°C烘烤2分鐘形成紅色光阻劑基底；將步驟103制得的聚二甲基硅氧烷(PDMS)軟印章和紅色光阻劑基底放在烘臺(tái)上以90°C預(yù)熱3分鐘；將聚二甲基硅氧烷(PDMS)軟印章壓在紅色光阻劑上，對(duì)聚二甲基硅氧烷(PDMS)軟印章上放一重為0.5kg的平整重物，使聚二甲基硅氧烷(PDMS)軟印章壓入軟化的紅色光阻劑中；保持90°C和重物壓力分鐘后自然冷卻；對(duì)曝光后的紅色光阻劑以230°C烘烤固化120分鐘，使聚二甲基硅氧烷(PDMS)軟印章上的微透鏡陣列結(jié)構(gòu)復(fù)制在光阻劑上；自然冷卻后將聚二甲基硅氧烷(PDMS)軟印章于光阻劑分離，從而制得只能透過紅色的微透鏡12。其中，根據(jù)市場(chǎng)上已有的顏色光阻劑種類，可以制備，紅色、綠色和藍(lán)色三種顏色的微透鏡陣列。本發(fā)明實(shí)施例二提供的上述技術(shù)方案帶來的有益效果是:通過將幾種不同顏色的微透鏡陣列集成，應(yīng)用于多譜成像系統(tǒng)中實(shí)現(xiàn)單色成像和彩色重構(gòu)，大大降低系統(tǒng)復(fù)雜度和成本。以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種彩色微透鏡陣列制備方法，其特征在于，所述方法至少包括: 提供基底； 通過熱熔工藝在基底上制備微透鏡陣列母版； 將聚二甲基硅氧烷黏稠液覆蓋在所述母版上，制得帶有凹形微透鏡陣列的聚二甲基硅氧烷軟印章； 將聚二甲基硅氧烷軟印章上的微透鏡陣列結(jié)構(gòu)復(fù)制在另一基底的顏色光阻劑上，制得微透鏡陣列； 重復(fù)上述步驟，利用不同的顏色光阻劑，可以制備不同顏色的微透鏡陣列。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述將聚二甲基硅氧烷黏稠液覆蓋在所述母版上，制得聚二甲基硅氧烷軟印章，包括: 將預(yù)聚體和固化劑按照體積比為10:1進(jìn)行混合，制得聚二甲基硅氧烷黏稠液； 將所述聚二甲基硅氧烷黏稠液完 全覆蓋所述微透鏡陣列母版，在85°C時(shí)烘烤30分鐘后使其固化； 將固化的聚二甲基硅氧烷層從所述微透鏡陣列母版上剝離，得到帶有凹形微透鏡陣列的聚二甲基硅氧烷軟印章。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述將聚二甲基硅氧烷軟印章上的微透鏡陣列圖形轉(zhuǎn)移到另一基底的顏色光阻劑上，制得微透鏡陣列，包括: 提供另一片基底； 在所述基底上旋涂紅色光阻劑，制得紅色光阻劑基底； 將所述聚二甲基硅氧烷軟印章壓在紅色光阻劑上，所述聚二甲基硅氧烷軟印章上的微透鏡陣列結(jié)構(gòu)復(fù)制在所述另一基底的紅色光阻劑上，制得只能透過紅色的微透鏡陣列。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述提供另一片基底，包括: 將所述另一片基底用清水和丙酮清洗后鉻于烘箱中，在130°C時(shí)烘烤10分鐘。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，在所述基底上旋涂紅色光阻劑，制得紅色光阻劑基底，包括: 將旋涂后的紅色光阻劑鉻于真空烤箱內(nèi)，在80°C時(shí)烘烤2分鐘。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，將所述聚二甲基硅氧烷軟印章壓在紅色光阻劑上，所述聚二甲基硅氧烷軟印章上的微透鏡陣列結(jié)構(gòu)復(fù)制在所述另一基底的紅色光阻劑上，制得只能透過紅色的微透鏡陣列，包括: 將所述聚二甲基硅氧烷軟印章和所述另一基底的紅色光阻劑基底放在烘箱內(nèi)，在90°C時(shí)烘烤2分鐘； 將所述聚二甲基硅氧烷軟印章壓在另一基底的紅色光阻劑上，在所述聚二甲基硅氧烷軟印章上放鉻0.5 kg的平整重物，保持90°C和重物壓力，10分鐘后自然冷卻； 透過所述聚二甲基硅氧烷軟印章對(duì)另一基底的紅色光阻劑進(jìn)行紫外曝光，曝光劑量為150mJ ； 將曝光后的所述另一基底的紅色光阻劑鉻于烤箱內(nèi)在230°C時(shí)烘烤固化120分鐘； 將所述聚二甲基硅氧烷軟印章與所述另一基底的紅色光阻劑分離，制得所述只能透過紅色的微透鏡陣列。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述提供基底，包括:取一片透光率高，表面平整的玻璃片作為基底； 將基底用清水和丙酮清洗后鉻于烘箱中，在130°C時(shí)烘烤10分鐘。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述通過熱熔工藝在基底上制備光刻膠微透鏡陣列母版，包括: 將正光刻膠旋涂于清洗好的基底上，經(jīng)過烘烤后，將帶有光刻膠的基底鉻于事先制備好的圓孔掩膜版下進(jìn)行紫外曝光； 將曝光過的基底鉻于質(zhì)量百分比5%的氫氧化鈉溶液中，顯影出圓柱形圖案； 將制備的帶有圓柱形圖案的光刻膠的基底鉻于真空烘箱內(nèi)，加熱至125°C，加熱時(shí)間為60秒； 光刻膠融化，自動(dòng)形成微透鏡的形狀，在烘箱內(nèi)自然冷卻，制得微透鏡陣列母版。
9.一種彩色微透鏡陣列，其特征在于，所述微透鏡陣列包括依次層疊連接的另一基底、顏色光阻劑和微透鏡。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的微透鏡陣列，其特征在于，所述基底為一片透光率高，表面平整的玻璃片。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的微透鏡陣列，其特征在于，所述顏色光阻劑旋涂于另一基底上。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的微透鏡陣列，其特征在于，所述微透鏡陣列是將聚二甲基硅氧烷軟印章上的微透鏡陣列結(jié)構(gòu)復(fù)制在另一基底的顏色光阻劑上制得的。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種彩色微透鏡陣列及其制備方法，屬于光學(xué)領(lǐng)域。包括提供基底；通過熱熔工藝在基底上制備微透鏡陣列母版；將聚二甲基硅氧烷黏稠液覆蓋在所述母版上，制得帶有凹形微透鏡陣列的聚二甲基硅氧烷軟印章；將聚二甲基硅氧烷軟印章上的微透鏡陣列結(jié)構(gòu)復(fù)制在另一基底的顏色光阻劑上，制得微透鏡陣列；重復(fù)上述步驟，利用不同的顏色光阻劑，制備不同顏色的微透鏡陣列。本發(fā)明通過聚二甲基硅氧烷和顏色光阻劑，比傳統(tǒng)多譜成像系統(tǒng)減少一個(gè)濾光片結(jié)構(gòu)，減少光能損失，提高成像質(zhì)量，避免了濾光片與微透鏡陣列對(duì)準(zhǔn)集成的問題；通過將幾種不同顏色的微透鏡陣列集成，應(yīng)用于多譜成像系統(tǒng)中實(shí)現(xiàn)單色成像和彩色重構(gòu)，大大降低系統(tǒng)復(fù)雜度和成本。
文檔編號(hào)G03F7/00GK103163575SQ20131009208
公開日2013年6月19日 申請(qǐng)日期2013年3月21日 優(yōu)先權(quán)日2013年3月21日
發(fā)明者金建, 邸思, 姚豫培, 陳賢帥, 杜如虛 申請(qǐng)人:廣州中國(guó)科學(xué)院先進(jìn)技術(shù)研究所