技術(shù)特征：
1.一種多次掃描電子束刻蝕制作高頻光柵的方法，依次包括如下步驟：(1)打磨、拋光將基片表面打磨和/或拋光到其表面粗糙度Ra達(dá)到0.1微米；(2)清洗將基片依次用丙酮和乙醇超聲波清洗中，以充分去除基片表面的污染物；(3)涂膠在基片表面旋涂電子束感光膠，并將涂好膠的基片烘干；(4)曝光將基片放入掃描電鏡的載物臺(tái)上，選定電鏡工作參數(shù)，包括加速電壓、探針電流、工作距離、掃描次數(shù)、光闌號(hào)和放大倍數(shù)，對(duì)基片表面進(jìn)行電子束掃描；(5)顯影、定影和漂洗使用顯影、定影藥液對(duì)曝光后的基片完成顯影、定影，之后用去離子水對(duì)所制光柵進(jìn)行漂洗；(6)鍍金經(jīng)顯影和定影后,在基片上鍍一層金屬膜；其中，上述第4步中的電鏡工作參數(shù)為：加速電壓20-22KV，探針電流30-50nA，工作距離8-7mm，掃描次數(shù)24-64幀，光闌號(hào)3號(hào)，放大倍數(shù)1600-2700；所述多次掃描電子束刻蝕制作高頻光柵的方法采用日立S-4000N型掃描電鏡制作光柵；所述放大倍數(shù)的確定是用下式表達(dá)：Pe＝A1*exp(-K/t1)+A2*exp(-K/t2)+K0(1)式中：A1、A2、t1、t2、K0為常數(shù)，通過實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)擬合，最終確定在日立S-4000N型掃描電鏡中：A1＝1496.6383，A2＝380.1463，t1＝211.0349，t2＝3629.0103，K0＝102.5039；其中,K為掃描電鏡圖象放大倍數(shù)，其定義為入射電子束作光柵掃描時(shí)顯象管熒光屏邊長與電子束在試樣上相應(yīng)方向掃描寬度之比；而電子束在試樣表面的掃描寬度即為光柵間距Pe；掃描模式確定是通過如下步驟：S-4000N型掃描電鏡的掃描模式分為TV、快速掃描和慢速掃描；快速掃描模式光柵質(zhì)量明顯高于慢速掃描，這是因?yàn)楦叩膾呙杷俣群投嗟膾呙璐螖?shù)可以降低光柵誤差，因此選擇快速掃描模式；所述掃描次數(shù)是在S-4000N電鏡快速掃描模式中，可在平均16幀至平均1024幀之間選擇幀數(shù)，使用幀平均模式進(jìn)行圖像生成；幀數(shù)越多，生成圖像的時(shí)間越長，電子束在樣品的每個(gè)物點(diǎn)上持續(xù)時(shí)間長，容易導(dǎo)致試件表面的電子束感光膠曝光過度；反之，易出現(xiàn)曝光不足。