專利名稱：顯示基板、顯示裝置及顯示基板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種顯示基板、顯示裝置以及顯示基板的制作方法。
背景技術(shù)：
隨著顯示面板制作成本的降低和制作工藝的改善，其應(yīng)用越來越廣泛。顯示面板一般由顯示基板組成，顯示基板一般至少包括基板襯底1、形成在基板襯底I上的黑矩陣2，以及形成在基板襯底I上由黑矩陣2限定的像素區(qū)域內(nèi)的彩膜3，彩膜3一般包括紅色樹脂層、綠色樹脂層和藍(lán)色樹脂層，彩膜3與黑矩陣2間隔排列，如圖1所示?，F(xiàn)在技術(shù)中顯示基板的制造方法是先在基板襯底I的表面上形成黑矩陣2的圖形，然后再依次沉積紅色樹脂層、綠色樹脂層和藍(lán)色樹脂層，并最終形成彩膜3。然而，由于在制造過程中，彩膜3的高度較難控制為與黑矩陣一致的高度，進(jìn)而使得彩膜3與黑矩陣2之間具有高度差，使彩膜3表面不平整，可再次參閱圖1。顯示基板上彩膜3的平整性對(duì)于畫面顯示質(zhì)量至關(guān)重要，在黑矩陣2和彩膜3上再沉積其他薄膜時(shí)，會(huì)使二者之間的高度差不斷擴(kuò)大，導(dǎo)致顯示基板表面不平整，使產(chǎn)品的良品率下降，并且在后續(xù)工藝中，當(dāng)對(duì)取向?qū)舆M(jìn)行摩擦?xí)r，有高度差的區(qū)域就會(huì)出現(xiàn)摩擦不均勻，導(dǎo)致顯示裝置的畫面顯示質(zhì)量較差。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種顯示基板、顯示裝置以及顯示基板的制作方法，以解決彩膜表面不平整，導(dǎo)致產(chǎn)品的良品率下降，畫面顯示質(zhì)量下降的問題。本發(fā)明的目的是通過 以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:本發(fā)明一方面提供了一種顯示基板，該顯示基板包括襯底基板、形成在所述襯底基板上的黑矩陣以及形成在所述襯底基板上與所述黑矩陣具有高度差的彩膜，所述彩膜與所述黑矩陣間隔設(shè)置，還包括:位于所述黑矩陣之上、或位于所述黑矩陣與所述彩膜之上的平坦層；其中，所述平坦層用于平坦化所述黑矩陣和所述彩膜之間的高度差。本發(fā)明另一方面還提供了一種顯示裝置，該顯示裝置包括上述顯示基板。本發(fā)明再一方面還提供了一種顯示基板的制作方法，該方法包括:在襯底基板上形成黑矩陣和彩膜；在形成有所述黑矩陣和所述彩膜的襯底基板之上，形成平坦層，所述平坦層用于平坦化所述黑矩陣和所述彩膜之間的高度差。本發(fā)明提供的顯示基板、顯示裝置以及顯示基板的制作方法，在黑矩陣與彩膜上形成有用于平坦化黑矩陣和彩膜之間高度差的平坦層，或在黑矩陣上形成有用于平坦化黑矩陣和彩膜之間高度差的平坦層，能夠消除黑矩陣和彩膜之間的高度差，進(jìn)而有效的提高彩膜表面平整性，提高產(chǎn)品良品率，并提高畫面顯示質(zhì)量。


圖1為現(xiàn)有技術(shù)中顯示基板結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示基板結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的又一顯示基板結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為本發(fā)明實(shí)施例提供的再一顯不基板結(jié)構(gòu)不意圖；圖5 圖8為本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示基板制作方法流程圖。
具體實(shí)施例方式本發(fā)明提供的顯示基板、顯示裝置以及顯示基板制作方法，在黑矩陣與彩膜上形成有用于平坦化黑矩陣和彩膜之間高度差的平坦層，或在黑矩陣上形成有用于平坦化黑矩陣和彩膜之間高度差的平坦層，能夠較大程度的消除黑矩陣和彩膜之間的高度差，進(jìn)而有效的提高彩膜表面平整性。以下將結(jié)合具體的實(shí)施例和附圖對(duì)本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示基板制作方法、顯示基板和顯示裝置進(jìn)行詳細(xì)的說明，當(dāng)然并不引以為限。實(shí)施例一本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示基板，如圖1所示，包括基板襯底1、形成在基板襯底I上的黑矩陣2以及形成在基板襯底I上與黑矩陣2具有高度差的彩膜3，還包括:位于黑矩陣2之上、或位于黑矩陣2與彩膜3之上的平坦層，該平坦層用于平坦化黑矩陣2和彩膜3之間的高度差。
進(jìn)一步的，本發(fā)明實(shí)施例中用于平坦化黑矩陣2和彩膜3之間高度差的平坦層可優(yōu)選光刻膠，通過簡(jiǎn)單的光刻技術(shù)即可制作完成，簡(jiǎn)化制作工藝。本發(fā)明實(shí)施例中選用光刻膠作為平坦層時(shí)，顯示基板結(jié)構(gòu)示意圖如圖2所示，本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示基板包括基板襯底1、形成在基板襯底I上的黑矩陣2以及形成在基板襯底I上與黑矩陣2具有高度差的彩膜3，光刻膠40位于黑矩陣2之上，并且光刻膠40的上表面與彩膜3的上表面位于同一水平面。進(jìn)一步的，光刻膠分為透明光刻膠和不透明光刻膠，本發(fā)明實(shí)施例中作為平坦層的光刻膠40可以是透明光刻膠，也可以是不透明光刻膠。本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示基板，在黑矩陣上形成上表面與彩膜上表面位于同一水平面、由光刻膠構(gòu)成的平坦層，在不影響顯示基板的透光率的情況下，能夠消除黑矩陣和彩膜之間的高度差，進(jìn)而有效的提高彩膜表面平整性。實(shí)施例二本發(fā)明實(shí)施例二提供的顯示基板，選用透明光刻膠作為平坦層，透明光刻膠可位于彩膜之上，如圖3所示為本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示基板結(jié)構(gòu)示意圖，包括基板襯底1、形成在基板襯底I上的黑矩陣2以及形成在基板襯底I上與黑矩陣2具有高度差的彩膜3，還包括:位于黑矩陣2與彩膜3之上的透明光刻膠41，其中，該透明光刻膠41的上表面為一水平面，即透明光刻膠41在黑矩陣2對(duì)應(yīng)區(qū)域位置處與在彩膜3對(duì)應(yīng)區(qū)域位置處具有不同的層級(jí)高度，消除了黑矩陣2與彩膜3之間的高度差。本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示基板，在黑矩陣和彩膜上形成由透明光刻膠構(gòu)成的平坦層，該透明光刻膠上表面為一水平面，能夠在不影響顯示基板的透光率的情況下，能夠消除黑矩陣和彩膜之間的高度差，進(jìn)而有效的提高彩膜表面平整性。實(shí)施例三本發(fā)明實(shí)施例三提供的顯示基板，平坦層包括透明樹脂42和光刻膠43，透明樹脂42覆蓋黑矩陣2與彩膜3，光刻膠43覆蓋與黑矩陣2區(qū)域相對(duì)應(yīng)的透明樹脂，且光刻膠43的上表面與在彩膜區(qū)域?qū)?yīng)的透明樹脂上表面，位于同一水平面，如圖4所示。需要說明的是，本發(fā)明實(shí)施例中透明樹脂42的材料可以是透明有機(jī)樹脂材料，也可以是透明的無機(jī)樹脂材料或者其他可以實(shí)現(xiàn)本發(fā)明目的的材料。本發(fā)明實(shí)施例提供的包括有透明樹脂和光刻膠的平坦層，由于設(shè)置雙層結(jié)構(gòu)，將黑矩陣與彩膜之間的高度差在透明樹脂上進(jìn)行擴(kuò)大，然后依據(jù)擴(kuò)大后的高度差，制作消除高度差的光刻膠平坦層，能夠較精確的控制光刻膠的層級(jí)厚度，有效的避免顯示基板上彩膜與黑矩陣之間高度差造成的產(chǎn)品良率下降，畫面顯示質(zhì)量低的問題。實(shí)施例四本發(fā)明實(shí)施例四還提供了一種顯示裝置，該顯示裝置包括實(shí)施例一、實(shí)施例二和實(shí)施例三涉及的顯示基板，其他結(jié)構(gòu)與現(xiàn)有技術(shù)相同，在此不再贅述。本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示裝置可以為液晶面板、液晶顯示器、液晶電視、OLED(Organic Light-Emitting Diode,有機(jī)發(fā)光二極管)顯示面板、OLED電視、手機(jī)、掌上電腦和數(shù)碼相框等。本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示裝置中包括的顯示基板，在黑矩陣與彩膜上形成有用于平坦化黑矩陣和彩膜之間高度差的平坦層，或在黑矩陣上形成有用于平坦化黑矩陣和彩膜之間高度差的平坦層，能夠較大程度的消除黑矩陣和彩膜之間的高度差，進(jìn)而有效的提高彩膜的表面平整性，提高產(chǎn)品良品率，并提高畫面顯示質(zhì)量。實(shí)施例五本發(fā)明實(shí)施例五提供了一種顯示基板的制作方法，如圖5所示，包括:SlOl、提供一襯底基板。S102、在提供的襯底基板上形成黑矩陣和彩膜。S103、在形成黑矩陣和彩膜的襯底基板上形成平坦層。—方面，本發(fā)明實(shí)施例中S103中形成平坦層，可在黑矩陣上形成用于平坦化黑矩陣和彩膜之間高度差的平坦層，該平坦層的上表面與彩膜的上表面位于同一水平面，以消除黑矩陣與彩膜之間的高度差。另一方面，本發(fā)明實(shí)施例中S103中還可在黑矩陣與彩膜上形成用于平坦化黑矩陣和彩膜之間高度差的平坦層，形成的平坦層上表面為水平面的平坦層，本發(fā)明實(shí)施例中位于黑矩陣與彩膜上方的平坦層上表面為一水平面，在黑矩陣區(qū)域?qū)?yīng)位置處與在彩膜區(qū)域?qū)?yīng)位置處具有不同的層級(jí)高度，能夠消除黑矩陣與彩膜之間的高度差。本發(fā)明實(shí)施例中在提供的襯底基板上形成黑矩陣和彩膜后，還包括形成位于黑矩陣與彩膜之上、或位于黑矩陣之上，用于平坦化黑矩陣和彩膜之間高度差的平坦層，能夠消除黑矩陣和彩膜之間的高度差，進(jìn)而有效的提高彩膜的表面平整性，提高產(chǎn)品良品率，并提高畫面顯示質(zhì)量。

實(shí)施例六
本發(fā)明實(shí)施例六為提高彩膜表面平整性以提高畫面顯示質(zhì)量，在制作顯示基板過程中，可應(yīng)用光刻技術(shù)，采用光刻膠形成位于黑矩陣之上或位于黑矩陣與彩膜尚的平坦層，如圖6所示為本發(fā)明實(shí)施例六提供的顯示基板制作流程圖，本發(fā)明實(shí)施例僅就與實(shí)施例五的不同之處做詳細(xì)說明，其他與實(shí)施例五中各步驟實(shí)現(xiàn)方式相同，在此不再贅述。本發(fā)明實(shí)施例中平坦層選用光刻膠進(jìn)行制作，選用的光刻膠可以是透明光刻膠或不透明光刻膠，則圖5中S103中形成平坦層的過程，具體包括:S103a、在制作好黑矩陣和彩膜的襯底基板上形成光刻膠。具體的，本發(fā)明實(shí)施例中在黑矩陣和彩膜上形成光刻膠可采用涂覆、沉積等方式。S103b、依據(jù)黑矩陣與彩膜之間的高度差值，采用灰色調(diào)掩膜板對(duì)S103a中形成的光刻膠進(jìn)行曝光。具體的，不同的曝光度會(huì)使光刻膠在顯影過程中產(chǎn)生不同的顯影效果，因此，本發(fā)明實(shí)施例中為消除圖1中黑矩陣與彩膜之間的高度差，可依據(jù)黑矩陣與彩膜之間存在的高度差值，采用灰色調(diào)掩膜板對(duì)位于黑矩陣上的光刻膠和位于彩膜上的光刻膠進(jìn)行不同程度的曝光，使位于黑矩陣上的光刻膠和位于彩膜上的光刻膠進(jìn)行不同程度的溶解，利用溶解后保留的光刻膠消除圖1中黑矩陣與彩膜之間的高度差。S103c、對(duì)S103b中曝光后的光刻膠進(jìn)行顯影處理，形成第一光刻膠區(qū)域和第二光刻膠區(qū)域。具體的，彩膜的高度高于黑矩陣的高度，本發(fā)明實(shí)施例中為不影響顯示基板的透光性，將顯示基板上彩膜區(qū)域?qū)?yīng)位置處的光刻膠全部去除，而黑矩陣區(qū)域?qū)?yīng)位置處的光刻膠全部保留或部分 保留。進(jìn)一步的，對(duì)S103b中曝光后的光刻膠進(jìn)行顯影處理，形成第一光刻膠區(qū)域和第二光刻膠區(qū)域，第一光刻膠區(qū)域的光刻膠完全去除，并對(duì)應(yīng)彩膜區(qū)域；第二光刻膠區(qū)域的光刻膠部分保留或完全保留，并對(duì)應(yīng)黑矩陣區(qū)域，且黑矩陣區(qū)域?qū)?yīng)的第二光刻膠區(qū)域上表面與彩膜上表面位于同一水平面，利用黑矩陣區(qū)域?qū)?yīng)的第二光刻膠區(qū)域上部分保留或全部保留的光刻膠，消除黑矩陣與彩膜之間的高度差，達(dá)到提高產(chǎn)品良品率，提高畫面顯示質(zhì)量的目的。本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示基板制作方法，依據(jù)黑矩陣和彩膜之間的高度差，通過光刻技術(shù)，采用灰色調(diào)掩膜板，將位于彩膜上的光刻膠全部去除，而使黑矩陣區(qū)域?qū)?yīng)位置處的光刻膠全部保留或部分保留，能夠通過對(duì)應(yīng)黑矩陣區(qū)域處的全部保留或部分保留的光刻膠消除黑矩陣與彩膜之間的高度差，以提高產(chǎn)品良品率，并提高畫面顯示質(zhì)量。實(shí)施例七本發(fā)明實(shí)施例中平坦層選用透明光刻膠制作，則圖5中S103中形成平坦層的過程，優(yōu)選如下方式，如圖7所示，具體包括:S103d、在形成黑矩陣和彩膜的襯底基板上形成透明光刻膠。具體的，本發(fā)明實(shí)施例中在黑矩陣和彩膜的襯底基板形成透明光刻膠可采用涂覆、沉積等方式。S103e、依據(jù)黑矩陣與彩膜之間的高度差值，采用灰色調(diào)掩膜板對(duì)S103d中形成的透明光刻膠進(jìn)行曝光。S103f、對(duì)S103e中曝光后的光刻膠進(jìn)行顯影處理，形成第三光刻膠區(qū)域和第四光刻膠區(qū)域。具體的，本發(fā)明實(shí)施例中第三光刻膠區(qū)域的光刻膠完全保留或部分保留，并對(duì)應(yīng)黑矩陣區(qū)域；第四光刻膠區(qū)域的光刻膠部分保留，并對(duì)應(yīng)彩膜區(qū)域，黑矩陣區(qū)域?qū)?yīng)的第三光刻膠區(qū)域上表面與彩膜區(qū)域?qū)?yīng)的第四光刻膠區(qū)域上表面位于同一水平面。本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示基板制作方法，依據(jù)黑矩陣和彩膜之間的高度差，通過光刻技術(shù)，采用灰色調(diào)掩膜板，將位于彩膜上的透明光刻膠部分保留，而使黑矩陣區(qū)域?qū)?yīng)位置處透明光刻膠完全保留或部分保留，使黑矩陣區(qū)域?qū)?yīng)的第三光刻膠區(qū)域上表面與彩膜區(qū)域?qū)?yīng)的第四光刻膠區(qū)域上表面位于同一水平面，消除黑矩陣與彩膜之間的高度差，以提聞廣品良品率，并提聞畫面顯不質(zhì)量。實(shí)施例八本發(fā)明實(shí)施例八還提供了一種顯示基板的制作方法，如圖8所示為本發(fā)明實(shí)施例八提供的顯示基板制作流程圖，本發(fā)明實(shí)施例僅就與實(shí)施例五不同之處做詳細(xì)說明，其他與實(shí)施例五中各步驟實(shí)現(xiàn)方式相同，在此不再贅述，圖5中S103步驟中形成平坦層的過程，具體包括:S103g:在形成有黑矩陣和彩膜的襯底基板上形成透明樹脂。具體的，本發(fā)明實(shí)施例中在黑矩陣和彩膜的襯底基板上形成透明樹脂可以采用沉積、涂覆等方式，透明樹脂可以選用有機(jī)樹脂，也可選用無機(jī)樹脂或者其他可以實(shí)現(xiàn)本發(fā)明目的的材料。進(jìn)一步的，由于黑矩陣和彩膜之間具有高度差，使得本發(fā)明實(shí)施例中在黑矩陣和彩膜上形成透明樹脂后，得到的透明樹脂的表面在對(duì)應(yīng)黑矩陣和彩膜具有高度差的區(qū)域部分也是不平整的，即透明樹脂 在黑矩陣區(qū)域?qū)?yīng)位置處與在彩膜區(qū)域?qū)?yīng)位置處也具有高度差，并且由于透明樹脂形成在黑矩陣和彩膜之上，因此透明樹脂在黑矩陣區(qū)域?qū)?yīng)位置處與在彩膜區(qū)域?qū)?yīng)位置處具有的高度差能夠進(jìn)一步擴(kuò)大。S103h:在透明樹脂上形成光刻膠。具體的，本發(fā)明實(shí)施例中在透明樹脂上形成的光刻膠可以為正性光刻膠，也可為負(fù)性光刻膠，可以是透明光刻膠，也可是不透明光刻膠。S1031:依據(jù)黑矩陣區(qū)域?qū)?yīng)的透明樹脂與彩膜區(qū)域?qū)?yīng)的透明樹脂之間的高度差值，采用灰色調(diào)掩膜板對(duì)S103h中涂覆的光刻膠進(jìn)行不同程度的曝光并顯影，形成第五光刻膠區(qū)域和第六光刻膠區(qū)域。具體的，本發(fā)明實(shí)施例中第五光刻膠區(qū)域的光刻膠完全去除，并對(duì)應(yīng)彩膜區(qū)域；第六光刻膠區(qū)域的光刻膠部分保留或完全保留，并對(duì)應(yīng)黑矩陣區(qū)域，且黑矩陣區(qū)域?qū)?yīng)的第六光刻膠區(qū)域上表面與彩膜區(qū)域?qū)?yīng)的透明樹脂的上表面位于同一水平面。進(jìn)一步需要說明的是，本發(fā)明實(shí)施例中采用的光刻膠若不影響顯示基板的透光率，則可不必將彩膜區(qū)域?qū)?yīng)位置處的光刻膠完全去除，可以保留部分，只要滿足最終在黑矩陣區(qū)域?qū)?yīng)位置處與彩膜區(qū)域?qū)?yīng)位置處形成的光刻膠上表面為水平面即可，即第五光刻膠區(qū)域的光刻膠部分保留，并對(duì)應(yīng)彩膜區(qū)域；第六光刻膠區(qū)域的光刻膠部分保留或完全保留，并對(duì)應(yīng)黑矩陣區(qū)域，黑矩陣區(qū)域?qū)?yīng)的第六光刻膠區(qū)域的上表面與彩膜區(qū)域?qū)?yīng)的光刻膠部分保留的第五光刻膠區(qū)域的上表面位于同一水平面。本發(fā)明實(shí)施例中，通過在黑矩陣和彩膜上預(yù)先形成一層透明樹脂，透明樹脂在黑矩陣區(qū)域?qū)?yīng)位置處與在彩膜區(qū)域?qū)?yīng)位置處，也具有相應(yīng)的高度差，并且該高度差相較于黑矩陣和彩膜之間的高度差會(huì)被擴(kuò)大，然后依據(jù)顯示基板上透明樹脂在黑矩陣區(qū)域?qū)?yīng)位置處與彩膜區(qū)域?qū)?yīng)位置處擴(kuò)大了的高度差，采用不同的曝光度對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光顯影，能夠較精確的控制光刻膠的層級(jí)厚度，提高產(chǎn)品良品率，并提高畫面顯示質(zhì)量。優(yōu)選的，本發(fā)明實(shí)施例六至實(shí)施例八中光刻膠可采用正性光刻膠也可采用負(fù)性光刻膠，針對(duì)采用的光刻膠不同，可采用不同的曝光方式進(jìn)行曝光，例如采用負(fù)性光刻膠時(shí)，如需要形成光刻膠完全保留區(qū)域，則對(duì)對(duì)應(yīng)區(qū)域的光刻膠進(jìn)行全曝光，如需要形成光刻膠部分保留區(qū)域，則對(duì)對(duì)應(yīng)區(qū)域的光刻膠進(jìn)行半曝光，如需要形成光刻膠完全去除區(qū)域，則對(duì)對(duì)應(yīng)區(qū)域的光刻膠不曝光，采用正性光刻膠則采用的曝光方式相反。顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖 包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種顯示基板，包括襯底基板、形成在所述襯底基板上的黑矩陣以及形成在所述襯底基板上與所述黑矩陣具有高度差的彩膜，所述彩膜與所述黑矩陣間隔設(shè)置，其特征在于，還包括: 位于所述黑矩陣之上、或位于所述黑矩陣與所述彩膜之上的平坦層； 其中，所述平坦層用于平坦化所述黑矩陣和所述彩膜之間的高度差。
2.如權(quán)利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述平坦層為光刻膠。
3.如權(quán)利要求2所述的顯示基板，其特征在于，所述光刻膠為不透明光刻膠； 所述不透明光刻膠位于所述黑矩陣之上，且上表面與所述彩膜的上表面位于同一水平面。
4.如權(quán)利要求2所述的顯示基板，其特征在于，所述光刻膠為透明光刻膠； 所述透明光刻膠位于所述黑矩陣之上，且上表面與所述彩膜的上表面位于同一水平面；或， 所述透明光刻膠位于所述黑矩陣與所述彩膜之上，且上表面為一水平面。
5.如權(quán)利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述平坦層包括透明樹脂和光刻膠； 所述透明樹脂覆蓋所述黑矩陣與所述彩膜； 所述光刻膠覆蓋與所述黑矩陣區(qū)域相對(duì)應(yīng)的透明樹脂，且所述光刻膠的上表面與所述彩膜區(qū)域?qū)?yīng)的透明樹脂的上表面位于同一水平面。
6.一種顯示裝置，其特征在于，包括權(quán)利要求1 5任一項(xiàng)所述的顯示基板。
7.—種顯示基板的制作方法，其特征在于，包括: 在襯底基板上形成黑矩陣和彩膜； 在形成有所述黑矩陣和所述彩膜的襯底基板之上形成平坦層，所述平坦層用于平坦化所述黑矩陣和所述彩膜之間的高度差。
8.如權(quán)利要求7所述的顯示基板方法，其特征在于，所述平坦層為光刻膠； 所述在形成有所述黑矩陣和所述彩膜的襯底基板之上，形成平坦層，包括: 在形成有所述黑矩陣和所述彩膜的襯底基板上形成光刻膠； 依據(jù)所述黑矩陣與所述彩膜之間的高度差，采用灰色調(diào)掩模板對(duì)所述光刻膠進(jìn)行曝光并顯影，形成第一光刻膠區(qū)域和第二光刻膠區(qū)域； 其中，所述第一光刻膠區(qū)域的光刻膠完全去除，并對(duì)應(yīng)所述彩膜區(qū)域，所述第二光刻膠區(qū)域的光刻膠部分保留或完全保留，并對(duì)應(yīng)所述黑矩陣區(qū)域，所述黑矩陣區(qū)域?qū)?yīng)的第二光刻膠區(qū)域的上表面與所述彩膜的上表面位于同一水平面。
9.如權(quán)利要求7所述的顯示基板制作方法，其特征在于，所述平坦層為透明光刻膠； 所述在形成有所述黑矩陣和所述彩膜的襯底基板之上，形成平坦層，包括: 在形成有所述黑矩陣和所述彩膜的襯底基板上形成透明光刻膠； 依據(jù)所述黑矩陣與所述彩膜之間的高度差值，采用灰色調(diào)掩模板對(duì)所述透明光刻膠進(jìn)行曝光并顯影，形成第三光刻膠區(qū)域和第四光刻膠區(qū)域； 其中，所述第三光刻膠區(qū)域的光刻膠完全保留或部分保留，并對(duì)應(yīng)所述黑矩陣區(qū)域，所述第四光刻膠區(qū)域的光刻膠部分保留，并對(duì)應(yīng)所述彩膜區(qū)域，所述黑矩陣區(qū)域?qū)?yīng)的第三光刻膠區(qū)域的上表面與所述彩膜區(qū)域?qū)?yīng)的第四光刻膠區(qū)域的上表面位于同一水平面。
10.如權(quán)利要求7所述的顯示基板制作方法，其特征在于，所述平坦層包括透明樹脂和光刻膠； 所述在形成有所述黑矩陣和所述彩膜的襯底基板之上，形成平坦層，包括: 在形成有所述黑矩陣和所述彩膜的襯底基板上形成透明樹脂； 在所述透明樹脂上形成光刻膠； 依據(jù)所述黑矩陣區(qū)域?qū)?yīng)的透明樹脂與所述彩膜區(qū)域?qū)?yīng)的透明樹脂之間的高度差值，采用灰色調(diào)掩膜板對(duì)所述光刻膠進(jìn)行曝光并顯影，形成第五光刻膠區(qū)域和第六光刻膠區(qū)域； 其中，所述第五光刻膠區(qū)域的光刻膠完全去除，并對(duì)應(yīng)所述彩膜區(qū)域，所述第六光刻膠區(qū)域的光刻膠部分保留或完全保留，并對(duì)應(yīng)所述黑矩陣區(qū)域，所述黑矩陣區(qū)域?qū)?yīng)的第六光刻膠區(qū)域的上 表面與所述彩膜區(qū)域?qū)?yīng)的透明樹脂的上表面，位于同一水平面。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種顯示基板、顯示裝置以及顯示基板的制作方法，以解決彩膜表面不平整，導(dǎo)致產(chǎn)品的良品率下降，畫面顯示質(zhì)量下降的問題。本發(fā)明中在黑矩陣與彩膜上形成有用于平坦化黑矩陣和彩膜之間高度差的平坦層，或在黑矩陣上形成有用于平坦化黑矩陣和彩膜之間高度差的平坦層，能夠較好的消除黑矩陣和彩膜之間的高度差，進(jìn)而有效的提高彩膜的表面平整性，提高產(chǎn)品良品率，并提高畫面顯示質(zhì)量。
文檔編號(hào)G02F1/1335GK103235443SQ20131014613
公開日2013年8月7日 申請(qǐng)日期2013年4月24日 優(yōu)先權(quán)日2013年4月24日
發(fā)明者張文林, 周偉峰 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司