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彩色濾光片基板及其氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)、制作方法、液晶顯示器的制作方法

文檔序號(hào):2804021閱讀:154來(lái)源:國(guó)知局
專(zhuān)利名稱(chēng):彩色濾光片基板及其氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)、制作方法、液晶顯示器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及液晶顯示器,尤其涉及一種彩色濾光片基板及其氧化銦錫(IT0、Indium Tin Oxides)薄膜圖案(Pattern)結(jié)構(gòu)、制作方法、液晶顯示器。
背景技術(shù)
由于液晶顯示器(Liquid Crystal Display,LCD)具有輕薄及低功率損耗等優(yōu)點(diǎn),近年來(lái),已廣泛地被應(yīng)用于各類(lèi)電子產(chǎn)品中,例如:筆記型計(jì)算機(jī)、行動(dòng)電話(huà)、數(shù)字相機(jī)、投影機(jī)、掌上型裝置及隨身聽(tīng)裝置等多種產(chǎn)品?,F(xiàn)有TFT液晶顯示器(薄膜晶體管液晶顯示器、TFT-1XD)的制造工藝主要有以下幾部分:在薄膜晶體管基板上形成薄膜晶體管陣列;在彩色濾光片(CF、Color filter)基板上形成彩色濾光片圖案結(jié)構(gòu)及氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu);用兩塊基板形成液晶盒;安裝外圍電路、組裝背光源等模塊的 組裝。氧化銦錫薄一般簡(jiǎn)稱(chēng)為IT0,其是一種n型半導(dǎo)體材料,具有高的導(dǎo)電率、高的可見(jiàn)光透過(guò)率、高的機(jī)械硬度和良好的化學(xué)穩(wěn)定性。因此,它是液晶顯示器、等離子顯示器(PDP>Plasma Display Panel)、電致發(fā)光顯不器(Electroluminescent Display Panel)、觸摸屏(Touch Panel)、太陽(yáng)能電池以及其他電子儀表的透明電極最常用的薄膜材料。舉例來(lái)說(shuō),氧化銦錫薄已普遍被用來(lái)形成液晶顯示面板上連接各個(gè)像素的導(dǎo)線(xiàn)。目前,氧化銦錫薄膜圖案化主要有以下方法。1、濕法蝕刻方法,主要步驟包括:首先在真空鍍膜機(jī)中通過(guò)濺射方式在基板上形成一層氧化銦錫薄膜;之后在氧化銦錫薄膜上均勻涂布一層光刻膠;再使用光罩通過(guò)曝光、顯影等步驟形成圖案化光刻膠;之后以濕法蝕刻的方法蝕刻掉沒(méi)有被光刻膠所覆蓋的氧化銦錫薄膜,最后用脫模液除去圖案化的光刻膠,形成所需要的氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)。2、干法蝕刻方法,主要步驟包括:首先在真空鍍膜機(jī)中通過(guò)濺射方式在基板上形成一層氧化銦錫薄膜;之后在氧化銦錫薄膜上均勻涂布一層光刻膠;再使用光罩通過(guò)曝光、顯影等步驟形成圖案化光刻膠;之后以干法蝕刻的方法采用蝕刻氣體蝕刻掉沒(méi)有被光刻膠所覆蓋的氧化銦錫薄膜,形成所需要的氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)。3、拔起(Lift-off)方法,主要步驟包括:首先在基板上涂布一層光刻膠;接著通過(guò)曝光、顯影將基板上欲形成的氧化銦錫薄膜圖案的部分上的光刻膠去除;之后在圖案化光刻膠的基板上,通過(guò)真空鍍膜機(jī)鍍上氧化銦錫薄膜;最后對(duì)包含有圖案化光刻膠以及氧化銦錫薄膜的基板,進(jìn)行脫模處理,將剩余的光刻膠以及附在其上的氧化銦錫薄膜去除,得到所需的含有氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)的基板。在大尺寸液晶面板的生產(chǎn)中,柵極線(xiàn)(Gate line),數(shù)據(jù)線(xiàn)(Data line)及某些信號(hào)線(xiàn)(例如柵極高電平信號(hào)(Vgh),輸出允許信號(hào)(0E),時(shí)鐘信號(hào)(CKV)等)的電阻、電容(R、C)負(fù)載極大的影響著面板的顯示狀況,當(dāng)柵極線(xiàn)及信號(hào)線(xiàn)的電阻、電容負(fù)載過(guò)大時(shí),反應(yīng)在面板上,將可能導(dǎo)致面板顯示效果不佳,以及亮度不均勻區(qū)域(Mura)的出現(xiàn)。目前采用的HVA(廣域垂直配向)技術(shù),針對(duì)彩色濾光片基板的氧化銦錫薄膜圖案(遠(yuǎn)離薄膜晶體管基板,位于彩色濾光片基板一側(cè)),均為一整面鍍膜,然而,除有效顯示區(qū)域(AA區(qū))對(duì)應(yīng)的彩色濾光片基板的氧化銦錫薄膜之外,周邊扇出區(qū)域(Fanout),線(xiàn)陣列(Woa)區(qū)域?qū)?yīng)的彩色濾光片基板的氧化銦錫薄膜并非為必須。參見(jiàn)圖1,其為現(xiàn)有技術(shù)中彩色濾光片基板的彩色濾光片基板的氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)的俯視示意圖。從位置關(guān)系上來(lái)看,彩色濾光片基板2位于對(duì)應(yīng)的薄膜晶體管基板I上方,彩色濾光片基板2側(cè)面的氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)3為一整面鍍膜,如圖1中氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)3以圓點(diǎn)所分布的區(qū)域來(lái)表示,可見(jiàn)其覆蓋了整個(gè)彩色濾光片基板2,并且包含了整個(gè)對(duì)應(yīng)的有效顯示區(qū)域4。實(shí)際上,除有效顯示區(qū)域4所對(duì)應(yīng)的圓點(diǎn)區(qū)域所包含的氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)3,周邊的扇出區(qū)域、線(xiàn)陣列區(qū)域?qū)?yīng)的圓點(diǎn)區(qū)域所包含的氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)3外,其它的區(qū)域并不是必須的?,F(xiàn)有技術(shù)中,一條數(shù)據(jù)線(xiàn)的在扇出區(qū)域走線(xiàn)的電容(C)值約為1 6pF,柵極高電平信號(hào)線(xiàn)在扇出區(qū)域走線(xiàn)的電容值約為50pF,由于負(fù)載過(guò)大,將可能導(dǎo)致面板顯示效果不佳,以及產(chǎn)生亮度不均勻區(qū)域。

發(fā)明內(nèi)容
因此,本發(fā)明的目的在于提供一種彩色濾光片基板,降低扇出區(qū)域以及線(xiàn)陣列區(qū)域處的柵極線(xiàn)、數(shù)據(jù)線(xiàn)及某些信號(hào)線(xiàn)的電容值,以降低柵極線(xiàn)、數(shù)據(jù)線(xiàn)及某些信號(hào)線(xiàn)的負(fù)載,使液晶面板顯示效果更佳。本發(fā)明的又一目的在于提供一種彩色濾光片基板的氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu),降低扇出區(qū)域以及線(xiàn)陣列區(qū)域處的柵極線(xiàn)、數(shù)據(jù)線(xiàn)及某些信號(hào)線(xiàn)的電容值,以降低柵極線(xiàn)、數(shù)據(jù)線(xiàn)及某些信號(hào)線(xiàn)的負(fù)載,使液晶面板顯示效果更佳。本發(fā)明的又一目的在于提供一種液晶顯示器,降低扇出區(qū)域以及線(xiàn)陣列區(qū)域處的柵極線(xiàn)、數(shù)據(jù)線(xiàn)及某些信號(hào)線(xiàn)的電容值,以降低柵極線(xiàn)、數(shù)據(jù)線(xiàn)及某些信號(hào)線(xiàn)的負(fù)載,使液晶面板顯示效果更佳。本發(fā)明的再一目的在于提供一種彩色濾光片基板的制作方法,制作出降低扇出區(qū)域以及線(xiàn)陣列區(qū)域處的柵極線(xiàn)、數(shù)據(jù)線(xiàn)及某些信號(hào)線(xiàn)的電容值,以降低柵極線(xiàn)、數(shù)據(jù)線(xiàn)及某些信號(hào)線(xiàn)的負(fù)載,使液晶面板顯示效果更佳的彩色濾光片基板。為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供了一種彩色濾光片基板,包括:玻璃基板,形成于該玻璃基板上的黑色矩陣和彩色濾光單元,以及覆蓋在所述黑色矩陣和彩色濾光單元上的氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu);所述氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)由對(duì)應(yīng)有效顯示區(qū)域形狀的第一部分以及對(duì)應(yīng)電極接觸墊形狀的第二部分組成。所述氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)以濕法蝕刻方法形成。所述氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)以干法蝕刻方法形成。所述氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)以拔起方法形成。本發(fā)明提供一種彩色濾光片基板的氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu),所述氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)由對(duì)應(yīng)有效顯示區(qū)域形狀的第一部分以及對(duì)應(yīng)電極接觸墊形狀的第二部分組成。
本發(fā)明提供一種液晶顯示器,包括:薄膜晶體管基板,彩色濾光片基板,以及設(shè)于所述薄膜晶體管基板和彩色濾光片基板之間的液晶層;所述彩色濾光片基板包括:玻璃基板,形成于該玻璃基板上的黑色矩陣和彩色濾光單元,以及覆蓋在所述黑色矩陣和彩色濾光單元上的氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu);所述氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)由對(duì)應(yīng)有效顯示區(qū)域形狀的第一部分以及對(duì)應(yīng)電極接觸墊形狀的第二部分組成。本發(fā)明提供一種彩色濾光片基板的制作方法,包括: 步驟100、提供玻璃基板;步驟200、在該玻璃基板上形成黑色矩陣;步驟300、在該玻璃基板上形成彩色濾光單元;步驟400、在所述黑色矩陣和彩色濾光單元上形成氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu),得到彩色濾光片基板,該氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)由對(duì)應(yīng)有效顯示區(qū)域形狀的第一部分以及對(duì)應(yīng)電極接觸墊形狀的第二部分組成。所述步驟400包括:步驟401、在所述玻璃基板上濺鍍氧化銦錫薄膜;步驟402、在該氧化銦錫薄膜上均勻涂布光刻膠層;步驟403、圖案化該光刻膠層,圖案化后的光刻膠層由對(duì)應(yīng)有效顯示區(qū)域形狀的第一部分以及對(duì)應(yīng)電極接觸墊形狀的第二部分組成;步驟404、以濕法蝕刻的方法蝕刻掉沒(méi)有被光刻膠所覆蓋的氧化銦錫薄膜,最后用脫模液除去圖案化的光刻膠層,得到具有所需氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)的玻璃基板。所述步驟400包括:步驟411、在所述玻璃基板上濺鍍氧化銦錫薄膜;步驟412、在該氧化銦錫薄膜上均勻涂布光刻膠層;步驟413、圖案化該光刻膠層,圖案化后的光刻膠層由對(duì)應(yīng)有效顯示區(qū)域形狀的第一部分以及對(duì)應(yīng)電極接觸墊形狀的第二部分組成;步驟414、以干法蝕刻的方法蝕刻掉沒(méi)有被光刻膠所覆蓋的氧化銦錫薄膜,最后用脫模液除去圖案化的光刻膠層,得到具有所需氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)的玻璃基板。所述步驟400包括:步驟421、在玻璃基板上均勻涂布光刻膠;步驟422、將玻璃基板上對(duì)應(yīng)所需要氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)的光刻膠去除,形成圖案化光刻膠層;步驟423、在具有圖案化光刻膠層的玻璃基板上濺鍍氧化銦錫薄膜;步驟424、對(duì)包含圖案化光刻膠層以及氧化銦錫薄膜的玻璃基板進(jìn)行脫模處理,將圖案化光刻膠層以及附在其上的氧化銦錫薄膜去除,得到具有所需氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)的玻璃基板。本發(fā)明的彩色濾光片基板及其氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)、制作方法、液晶顯示器,可以降低扇出區(qū)域以及線(xiàn)陣列區(qū)域處的柵極線(xiàn)、數(shù)據(jù)線(xiàn)及某些信號(hào)線(xiàn)的電容值,以降低柵極線(xiàn)、數(shù)據(jù)線(xiàn)及某些信號(hào)線(xiàn)的負(fù)載,使液晶面板顯示效果更佳。


下面結(jié)合附圖,通過(guò)對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施方式
詳細(xì)描述,將使本發(fā)明的技術(shù)方案及其他有益效果顯而易見(jiàn)。附圖中,圖1為現(xiàn)有技術(shù)中彩色濾光片基板的氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)的俯視示意圖;圖2為本發(fā)明彩色濾光片基板的氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)的俯視示意圖;圖3為本發(fā)明彩色濾光片基板的制作方法的流程圖。
具體實(shí)施例方式參見(jiàn)圖2,為本發(fā)明彩色濾光片基板的氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)的俯視示意圖。從位置關(guān)系上來(lái)看,彩色濾光片基板20位于對(duì)應(yīng)的薄膜晶體管基板10上方,圖2中氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)30以圓點(diǎn)所分布的區(qū)域來(lái)表示,氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)30由對(duì)應(yīng)有效顯示區(qū)域40形狀的第一部分31以及對(duì)應(yīng)電極接觸墊(Transfer Pad,導(dǎo)通薄膜晶體管基板側(cè)及彩色濾光片基板側(cè)的公共(Com)電極)形狀的第二部分32組成。也就是說(shuō),與圖1中的現(xiàn)有技術(shù)中彩色濾光片基板的氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)相比,本發(fā)明的彩色濾光片基板20的氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)30僅保留有效顯示區(qū)域40 (液晶轉(zhuǎn)向所必需的圖案)及對(duì)應(yīng)電極接觸墊處的氧化銦錫薄膜,拿掉扇出區(qū)域及線(xiàn)陣列區(qū)域的氧化銦錫薄膜,以降低扇出區(qū)域以及線(xiàn)陣列處的柵極線(xiàn)、數(shù)據(jù)線(xiàn)及某些信號(hào)線(xiàn)的電容值。如此即可降低柵極線(xiàn)、數(shù)據(jù)線(xiàn)以及某些信號(hào)線(xiàn)的負(fù)載,有利于實(shí)現(xiàn)液晶面板的大尺寸,提升大尺寸液晶面板的顯示效果。本發(fā)明經(jīng)過(guò)調(diào)整彩色濾光片基板20 —側(cè)的氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)30,使得線(xiàn)陣列區(qū)域及扇出區(qū)域處的走線(xiàn)電容值由原來(lái)的幾十 幾百PF均降低為OpF。具體的,以原數(shù)據(jù)線(xiàn)在扇出區(qū)域及柵極高電平信號(hào)線(xiàn)在扇出區(qū)域走線(xiàn)的電容值為例,彩色濾光片基板20一側(cè)氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)30修改前后:修改前,一條數(shù)據(jù)線(xiàn)在扇出區(qū)域走線(xiàn)的電容值約為16pF,一條柵極高電平信號(hào)線(xiàn)在扇出區(qū)域走線(xiàn)的電容值約為50pF ;修改后,一條數(shù)據(jù)線(xiàn)在扇出區(qū)域走線(xiàn)的電容值約為OpF,柵極高電平信號(hào)線(xiàn)在扇出區(qū)域走線(xiàn)的電容值約為OpF。基于本發(fā)明的氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu),本發(fā)明提供了相應(yīng)的彩色濾光片基板20,包括:玻璃基板,形成于該玻璃基板上的黑色矩陣和彩色濾光單元(未圖示),以及覆蓋在所述黑色矩陣和彩色濾光單元上的氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)30 ;所述氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)30由對(duì)應(yīng)有效顯示區(qū)域40形狀的第一部分31以及對(duì)應(yīng)電極接觸墊形狀的第二部分32組成。通過(guò)拿掉扇出區(qū)域及線(xiàn)陣列區(qū)域的氧化銦錫薄膜,以降低扇出區(qū)域以及線(xiàn)陣列處的柵極線(xiàn)、數(shù)據(jù)線(xiàn)及某些信號(hào)線(xiàn)的電容值。如此即可降低柵極線(xiàn)、數(shù)據(jù)線(xiàn)以及某些信號(hào)線(xiàn)的負(fù)載,有利于實(shí)現(xiàn)液晶面板的大尺寸,提升大尺寸液晶面板的顯示效果。其中,所述氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)30可以用濕法蝕刻的方法形成,該方法現(xiàn)今發(fā)展已較為成熟;所述氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)30也可以用干法蝕刻的方法形成,操作較為簡(jiǎn)單,環(huán)保;所述氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)30還可以用拔起方法形成,操作較為簡(jiǎn)單、快捷。本發(fā)明經(jīng)過(guò)調(diào)整彩色濾光片基板20 —側(cè)的氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)30,使得線(xiàn)陣列區(qū)域及扇出區(qū)域處 的走線(xiàn)電容值由原來(lái)的幾十 幾百PF均降低為OpF。具體的,以原數(shù)據(jù)線(xiàn)在扇出區(qū)域及柵極高電平信號(hào)線(xiàn)在扇出區(qū)域走線(xiàn)的電容值為例,彩色濾光片基板20一側(cè)氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)30修改前后:修改前,一條數(shù)據(jù)線(xiàn)在扇出區(qū)域走線(xiàn)的電容值約為16pF,一條柵極高電平信號(hào)線(xiàn)在扇出區(qū)域走線(xiàn)的電容值約為50pF ;修改后,一條數(shù)據(jù)線(xiàn)在扇出區(qū)域走線(xiàn)的電容值約為OpF,柵極高電平信號(hào)線(xiàn)在扇出區(qū)域走線(xiàn)的電容值約為OpF?;诒景l(fā)明的彩色濾光片基板的氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)及彩色濾光片基板,本發(fā)明提供了相應(yīng)的液晶顯示器,包括:薄膜晶體管基板10,彩色濾光片基板20,以及設(shè)于所述薄膜晶體管基板和彩色濾光片基板之間的液晶層(未圖示);所述彩色濾光片基板20包括玻璃基板,形成于該玻璃基板上的黑色矩陣和彩色濾光單元,以及覆蓋在所述黑色矩陣和彩色濾光單元上的氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)30 ;所述氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)30由對(duì)應(yīng)有效顯示區(qū)域40形狀的第一部分31以及對(duì)應(yīng)電極接觸墊形狀的第二部分32組成。通過(guò)拿掉扇出區(qū)域及線(xiàn)陣列區(qū)域的氧化銦錫薄膜,以降低扇出區(qū)域以及線(xiàn)陣列處的柵極線(xiàn)、數(shù)據(jù)線(xiàn)及某些信號(hào)線(xiàn)的電容值。如此即可降低柵極線(xiàn)、數(shù)據(jù)線(xiàn)以及某些信號(hào)線(xiàn)的負(fù)載,有利于實(shí)現(xiàn)液晶面板的大尺寸,提升大尺寸液晶面板的顯示效果。其中,所述氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)30可以用濕法蝕刻的方法形成,該方法現(xiàn)今發(fā)展已較為成熟;所述氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)30也可以用干法蝕刻的方法形成,操作較為簡(jiǎn)單,環(huán)保;所述氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)30還可以用拔起方法形成,操作較為簡(jiǎn)單、快捷。本發(fā)明經(jīng)過(guò)調(diào)整彩色濾光片基板20 —側(cè)的氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)30,使得線(xiàn)陣列區(qū)域及扇出區(qū)域處的走線(xiàn)電容值由原來(lái)的幾十 幾百PF均降低為OpF。具體的,以原數(shù)據(jù)線(xiàn)在扇出區(qū)域及柵極高電平信號(hào)線(xiàn)在扇出區(qū)域走線(xiàn)的電容值為例,彩色濾光片基板20一側(cè)氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)30修改前后:修改前,一條數(shù)據(jù)線(xiàn)在扇出區(qū)域走線(xiàn)的電容值約為16pF,一條柵極高電平信號(hào)線(xiàn)在扇出區(qū)域走線(xiàn)的電容值約為50pF ;修改后,一條數(shù)據(jù)線(xiàn)在扇出區(qū)域走線(xiàn)的電容值約為OpF,柵極高電平信號(hào)線(xiàn)在扇出區(qū)域走線(xiàn)的電容值約為OpF。

參見(jiàn)圖3,其為本發(fā)明彩色濾光片基板20的制作方法的流程圖。本發(fā)明提供了相應(yīng)的彩色濾光片基板20的制作方法,包括:步驟100、提供玻璃基板;步驟200、參照現(xiàn)有技術(shù)在該玻璃基板上形成黑色矩陣;步驟300、參照現(xiàn)有技術(shù)在該玻璃基板上形成彩色濾光單元;步驟400、在所述黑色矩陣和彩色濾光單元上形成氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)30,得到彩色濾光片基板20,該氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)30由對(duì)應(yīng)有效顯示區(qū)域40形狀的第一部分31以及對(duì)應(yīng)電極接觸墊形狀的第二部分32組成。在本方法中,所述氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)30僅保留有效顯示區(qū)域40 (液晶轉(zhuǎn)向所必需的圖案)及對(duì)應(yīng)電極接觸墊處的氧化銦錫薄膜,拿掉扇出區(qū)域及線(xiàn)陣列區(qū)域的氧化銦錫薄膜,以降低扇出區(qū)域以及線(xiàn)陣列處的柵極線(xiàn)、數(shù)據(jù)線(xiàn)及某些信號(hào)線(xiàn)的電容值。如此即可降低柵極線(xiàn)、數(shù)據(jù)線(xiàn)以及某些信號(hào)線(xiàn)的負(fù)載,有利于實(shí)現(xiàn)液晶面板的大尺寸,提升大尺寸液晶面板的顯示效果。經(jīng)過(guò)調(diào)整彩色濾光片基板20 —側(cè)的氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)30,使得線(xiàn)陣列區(qū)域及扇出區(qū)域處的走線(xiàn)電容值由原來(lái)的幾十 幾百PF均降低為OpF。具體的,以原數(shù)據(jù)線(xiàn)在扇出區(qū)域及柵極高電平信號(hào)線(xiàn)在扇出區(qū)域走線(xiàn)的電容值為例,彩色濾光片基板20 —側(cè)氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)30修改前后:修改前,一條數(shù)據(jù)線(xiàn)在扇出區(qū)域走線(xiàn)的電容值約為16pF,一條柵極高電平信號(hào)線(xiàn)在扇出區(qū)域走線(xiàn)的電容值約為50pF;修改后,一條數(shù)據(jù)線(xiàn)在扇出區(qū)域走線(xiàn)的電容值約為OpF,柵極高電平信號(hào)線(xiàn)在扇出區(qū)域走線(xiàn)的電容值約為OpF。所述氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)30可以用濕法蝕刻的方法形成,該方法現(xiàn)今發(fā)展已較為成熟。所述步驟400可以采用濕法蝕刻方法可以包括以下分步驟:步驟401、在所述玻璃基板上濺鍍氧化銦錫薄膜;可以在真空鍍膜機(jī)中通過(guò)濺射方式實(shí)現(xiàn);步驟402、在該氧化銦錫薄膜上均勻涂布光刻膠層;步驟403、圖案化該光刻膠層,圖案化后的光刻膠層由對(duì)應(yīng)有效顯示區(qū)域40形狀的第一部分31以及對(duì)應(yīng)電極接觸墊形狀的第二部分32組成;可以使用光罩通過(guò)曝光、顯影等步驟實(shí)現(xiàn);步驟404、以濕法蝕刻的方法蝕刻掉沒(méi)有被光刻膠所覆蓋的氧化銦錫薄膜,最后用脫模液除去圖案化的光刻膠層,得到具有所需氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)30的玻璃基板。上述采用濕法蝕刻的方法來(lái)形成氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)30的步驟中,具體的工藝流程及相關(guān)參數(shù)設(shè)定均可參照現(xiàn)有技術(shù)。所述氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)30也可以用干法蝕刻的方法形成,操作較為簡(jiǎn)單,環(huán)保。所述步驟400可以采用干法蝕刻方法可以包括以下分步驟:步驟411、在所述玻璃基板上濺鍍氧化銦錫薄膜;步驟412、在該氧化銦錫薄膜上均勻涂布光刻膠層;步驟413、圖案化該光刻膠層,圖案化后的光刻膠層由對(duì)應(yīng)有效顯示區(qū)域40形狀的第一部分31以及對(duì)應(yīng)電極接 觸墊形狀的第二部分32組成;步驟414、以干法蝕刻的方法蝕刻掉沒(méi)有被光刻膠所覆蓋的氧化銦錫薄膜,最后用脫模液除去圖案化的光刻膠層,得到具有所需氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)30的玻璃基板。上述采用干法蝕刻的方法來(lái)形成氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)30的步驟中,具體的工藝流程及相關(guān)參數(shù)設(shè)定均可參照現(xiàn)有技術(shù)。所述氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)30還可以用拔起方法形成,操作較為簡(jiǎn)單、快捷。所述步驟400可以采用拔起方法可以包括以下步驟:步驟421、在玻璃基板上均勻涂布光刻膠;步驟422、將玻璃基板上對(duì)應(yīng)所需要氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)的光刻膠去除,形成圖案化光刻膠層;步驟423、在具有圖案化光刻膠層的玻璃基板上濺鍍氧化銦錫薄膜;步驟424、對(duì)包含圖案化光刻膠層以及氧化銦錫薄膜的玻璃基板進(jìn)行脫模處理,將圖案化光刻膠層以及附在其上的氧化銦錫薄膜去除,得到具有所需氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)30的玻璃基板。上述采用拔起方法來(lái)形成氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)30的步驟中,具體的工藝流程及相關(guān)參數(shù)設(shè)定均可參照現(xiàn)有技術(shù)。綜上所述,本發(fā)明的彩色濾光片基板及其氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)、制作方法、液晶顯示器,可以降低扇出區(qū)域以及線(xiàn)陣列區(qū)域處的柵極線(xiàn)、數(shù)據(jù)線(xiàn)及某些信號(hào)線(xiàn)的電容值,以降低柵極線(xiàn)、數(shù)據(jù)線(xiàn)及某些信號(hào)線(xiàn)的負(fù)載,使液晶面板顯示效果更佳。以上所述,對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō),可以根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案和技術(shù)構(gòu)思作出其他各種相應(yīng)的改變和變形,而所有這些改變和變形都應(yīng)屬于本發(fā)明后附的權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種彩色濾光片基板,其特征在于,包括:玻璃基板,形成于該玻璃基板上的黑色矩陣和彩色濾光單元,以及覆蓋在所述黑色矩陣和彩色濾光單元上的氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu);所述氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)由對(duì)應(yīng)有效顯示區(qū)域形狀的第一部分以及對(duì)應(yīng)電極接觸墊形狀的第二部分組成。
2.如權(quán)利要求1所述的彩色濾光片基板,其特征在于,所述氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)以濕法蝕刻方法形成。
3.如權(quán)利要求1所述的彩色濾光片基板,其特征在于,所述氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)以干法蝕刻方法形成。
4.如權(quán)利要求1所述的彩色濾光片基板,其特征在于,所述氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)以拔起方法形成。
5.一種彩色濾光片基板的氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu),其特征在于,所述氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)由對(duì)應(yīng)有效顯示區(qū)域形狀的第一部分以及對(duì)應(yīng)電極接觸墊形狀的第二部分組成。
6.一種液晶顯示器,其特征在于,包括:薄膜晶體管基板,彩色濾光片基板,以及設(shè)于所述薄膜晶體管基板和彩色濾光片基板之間的液晶層;所述彩色濾光片基板包括:玻璃基板,形成于該玻璃基板上的黑色矩陣和彩色濾光單元,以及覆蓋在所述黑色矩陣和彩色濾光單元上的氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu);所述氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)由對(duì)應(yīng)有效顯示區(qū)域形狀的第一部分以及對(duì)應(yīng)電極接觸墊形狀的第二部分組成。
7.一種彩色濾光片基板的制作方法,其特征在于,包括: 步驟100、提供玻璃基板; 步驟200、在該玻璃基板上形成黑色矩陣; 步驟300、在該玻璃基板上形成彩色 濾光單元; 步驟400、在所述黑色矩陣和彩色濾光單元上形成氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu),得到彩色濾光片基板,該氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)由對(duì)應(yīng)有效顯示區(qū)域形狀的第一部分以及對(duì)應(yīng)電極接觸墊形狀的第二部分組成。
8.如權(quán)利要求7所述的彩色濾光片基板的制作方法,其特征在于,所述步驟400包括: 步驟401、在所述玻璃基板上濺鍍氧化銦錫薄膜; 步驟402、在該氧化銦錫薄膜上均勻涂布光刻膠層; 步驟403、圖案化該光刻膠層,圖案化后的光刻膠層由對(duì)應(yīng)有效顯示區(qū)域形狀的第一部分以及對(duì)應(yīng)電極接觸墊形狀的第二部分組成; 步驟404、以濕法蝕刻的方法蝕刻掉沒(méi)有被光刻膠所覆蓋的氧化銦錫薄膜,最后用脫模液除去圖案化的光刻膠層,得到具有所需氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)的玻璃基板。
9.如權(quán)利要求7所述的彩色濾光片基板的制作方法,其特征在于,所述步驟400包括: 步驟411、在所述玻璃基板上濺鍍氧化銦錫薄膜; 步驟412、在該氧化銦錫薄膜上均勻涂布光刻膠層; 步驟413、圖案化該光刻膠層,圖案化后的光刻膠層由對(duì)應(yīng)有效顯示區(qū)域形狀的第一部分以及對(duì)應(yīng)電極接觸墊形狀的第二部分組成; 步驟414、以干法蝕刻的方法蝕刻掉沒(méi)有被光刻膠所覆蓋的氧化銦錫薄膜,最后用脫模液除去圖案化的光刻膠層,得到具有所需氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)的玻璃基板。
10.如權(quán)利要求7所述的彩色濾光片基板的制作方法,其特征在于,所述步驟400包括: 步驟421、在所述玻璃基板上均勻涂布光刻膠; 步驟422、將玻璃基板上對(duì)應(yīng)所需要氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)的光刻膠去除,形成圖案化光刻膠層; 步驟423、在具有圖案化光刻膠層的玻璃基板上濺鍍氧化銦錫薄膜; 步驟424、對(duì)包含圖案化光刻膠層以及氧化銦錫薄膜的玻璃基板進(jìn)行脫模處理,將圖案化光刻膠層以及附在其上的氧化銦錫薄膜去除,得到具有所需氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)的玻璃基 板。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種彩色濾光片基板及其氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)、制作方法、液晶顯示器。本發(fā)明提供一種彩色濾光片基板,包括玻璃基板,形成于該玻璃基板上的黑色矩陣和彩色濾光單元,以及覆蓋在所述黑色矩陣和彩色濾光單元上的氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu);所述氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)由對(duì)應(yīng)有效顯示區(qū)域形狀的第一部分以及對(duì)應(yīng)電極接觸墊形狀的第二部分組成。本發(fā)明還提供了彩色濾光片基板的氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)、制作方法、液晶顯示器。本發(fā)明的彩色濾光片基板及其氧化銦錫薄膜圖案結(jié)構(gòu)、制作方法、液晶顯示器,可以降低扇出區(qū)域以及線(xiàn)陣列區(qū)域處的柵極線(xiàn)、數(shù)據(jù)線(xiàn)及某些信號(hào)線(xiàn)的電容值,以降低柵極線(xiàn)、數(shù)據(jù)線(xiàn)及某些信號(hào)線(xiàn)的負(fù)載,使液晶面板顯示效果更佳。
文檔編號(hào)G02F1/1333GK103235454SQ20131016714
公開(kāi)日2013年8月7日 申請(qǐng)日期2013年5月8日 優(yōu)先權(quán)日2013年5月8日
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