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一種高挺度反射膜及其制備方法

文檔序號(hào):2702350閱讀:205來(lái)源:國(guó)知局
一種高挺度反射膜及其制備方法
【專利摘要】一種高挺度反射膜,包括反射膜基層,反射膜基層內(nèi)具有微泡,反射膜基層的材料為PET;反射膜基層上設(shè)有一層擴(kuò)散膜,擴(kuò)散膜由下列組分組成:聚甲基丙烯酸甲酯:20質(zhì)量份,多異氰酸酯:15質(zhì)量份,擴(kuò)散粒子:1~3質(zhì)量份。其制備方法為首先準(zhǔn)備反射膜基層,再制備涂布液,制備涂布液時(shí)按照下列比例將物料混合均勻:聚甲基丙烯酸甲酯20質(zhì)量份、多異氰酸酯15質(zhì)量份、擴(kuò)散粒子1~3質(zhì)量份;涂布液制備完成后將其涂布在反射膜基層上,置于烘箱中在130℃的溫度下加熱干燥1分鐘即可。本發(fā)明的反射膜反射出的光線更均勻、柔和。由于把反射性能和擴(kuò)散性能整合在一張膜上,可降低生產(chǎn)成本。
【專利說(shuō)明】一種高挺度反射膜及其制備方法
(-)【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種反射膜,以及反射膜的制備方法。
(二)【背景技術(shù)】
[0002]隨著數(shù)字時(shí)代的來(lái)臨,液晶顯示器(IXD)已經(jīng)成為了當(dāng)今最普遍的顯示技術(shù)。因?yàn)長(zhǎng)CD具有綠色環(huán)保,耗能低,低輻射,畫面柔和等優(yōu)點(diǎn),所以LCD將會(huì)是未來(lái)幾十年內(nèi)主流的顯示技術(shù)。LCD為非發(fā)光性的顯示裝置,須要借助背光源才能達(dá)到顯示的功能。背光源性能的好壞除了會(huì)直接影響LCD顯像質(zhì)量外,背光源的成本占LCD模塊的3-5%,所消耗的電力更占模塊的75%,是LCD模塊中相當(dāng)重要的零組件。高精細(xì)、大尺寸的LCD,必須有高性能的背光技術(shù)與之配合,因此當(dāng)LCD產(chǎn)業(yè)努力開(kāi)拓新應(yīng)用領(lǐng)域的同時(shí),背光技術(shù)的高性能化亦扮演著幕后功臣的角色。
[0003]背光源體系的主要構(gòu)件包括:光源、導(dǎo)光板、各類光學(xué)膜片。目前光源主要有EL、CCFL以及LED三種類型,依照光源分布位置不同可分為側(cè)光式和直下式兩種。隨著LCD模組不斷向更亮、更輕、更薄方向發(fā)展,側(cè)光式CCFL式背光源成為目前背光源發(fā)展的主流。
[0004]背光源體系中光學(xué)膜片主要包括反射膜、擴(kuò)散膜和增亮膜三種。反射膜的主要作用是提高光學(xué)表面的反射率,將漏出導(dǎo)光板底部的光線高效率且無(wú)耗損地反射,從而降低光耗損,減少用電量,提高液晶顯示面的光飽和度。目前,為提高反射膜的反射率,廣泛采用以下方法,在聚酯中添加大量的無(wú)機(jī)粒子或不相容樹(shù)脂,在雙向拉伸過(guò)程中,形成大量的微泡(如申請(qǐng)?zhí)枮?01010591111.6,201010589181.8,201010589164.4的中國(guó)發(fā)明專利等所提供的反射膜都具有微泡),每一個(gè)微泡可作為一個(gè)全反射單元,高密度排布的全反射單元對(duì)光線形成全反射。通過(guò)這種方法得到的反射膜,具有反射率高的特點(diǎn)。然而具有微泡的反射膜內(nèi)充滿了空隙,因而導(dǎo)致反射膜的密度下降,膜的挺度降低,具體在使用時(shí),就會(huì)發(fā)生膜片彎曲的現(xiàn)象,尤其是在電視機(jī)、液晶顯示器、廣告燈箱等需要膜片豎直放置的領(lǐng)域更為嚴(yán)重。
(三)
【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]為了克服現(xiàn)有反射膜的上述不足,本發(fā)明提供一種高挺度反射膜,并提供制備方法。
[0006]本發(fā)明解決其技術(shù)問(wèn)題的技術(shù)方案是:一種高挺度反射膜,包括反射膜基層,所述的反射膜基層內(nèi)具有微泡,所述反射膜基層的材料為PET ;
[0007]所述的反射膜基層上設(shè)有一層擴(kuò)散膜,所述的擴(kuò)散膜由下列組分組成:
[0008]聚甲基丙烯酸甲酯:20質(zhì)量份
[0009]多異氰酸酯:15質(zhì)量份
[0010]擴(kuò)散粒子:1?3質(zhì)量份。
[0011]優(yōu)選的,所述的擴(kuò)散粒子為二氧化鈦粒子。
[0012]更優(yōu)選的,所述的二氧化鈦粒子為金紅石型二氧化鈦。[0013]更優(yōu)選的,所述金紅石型二氧化鈦粒子的粒徑為0.1?15 μ m。
[0014]一種高挺度反射膜的制備方法,首先準(zhǔn)備反射膜基層,再制備涂布液,制備涂布液時(shí)按照下列比例將物料混合均勻:聚甲基丙烯酸甲酯20質(zhì)量份、多異氰酸酯15質(zhì)量份、擴(kuò)散粒子I?3質(zhì)量份;
[0015]涂布液制備完成后將其涂布在反射膜基層上,置于烘箱中在130°C的溫度下加熱干燥I分鐘即可。
[0016]所述的擴(kuò)散粒子優(yōu)先選用二氧化鈦粒子。更優(yōu)先選用金紅石型二氧化鈦。所述金紅石型二氧化鈦粒子的最優(yōu)粒徑為0.1?15 μ m。
[0017]本發(fā)明的有益效果在于:1.在反射膜基層上涂布一層擴(kuò)散膜,該層擴(kuò)散膜硬化后具有較高的硬度,從而提高了反射膜整體的挺度,同時(shí)在涂層內(nèi)添加了一定量的擴(kuò)散粒子,使該涂層可以在不破壞反射效果的基礎(chǔ)上增加對(duì)入射光的擴(kuò)散,從而出反射出的光線更均勻、柔和。2.由于把反射性能和擴(kuò)散性能整合在一張膜上,可以減少或去掉擴(kuò)散膜,使光線的損耗減少,并使得下游加工流程大為簡(jiǎn)化,提聞生廣效率,提聞了成品率,有利于生廣成本的降低,并起到節(jié)能降耗的作用。
(四)【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0018]圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
(五)【具體實(shí)施方式】
[0019]下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。
[0020]參照?qǐng)D1,一種高挺度反射膜,包括反射膜基層1,所述的反射膜基層I內(nèi)具有微泡2,所述反射膜基層I的材料為PET ;
[0021]所述的反射膜基層I上設(shè)有一層擴(kuò)散膜3,所述的擴(kuò)散膜3由下列組分組成:
[0022]聚甲基丙烯酸甲酯:20質(zhì)量份
[0023]多異氰酸酯:15質(zhì)量份
[0024]擴(kuò)散粒子:1?3質(zhì)量份。擴(kuò)散粒子優(yōu)選為二氧化鈦粒子。二氧化鈦有金紅石型和銳鈦型兩種,由于金紅石型二氧化鈦結(jié)晶構(gòu)造致密,折射率高,與聚酯樹(shù)脂折射率差大,可以得到高反射的界面,因此更優(yōu)選金紅石型二氧化鈦,本實(shí)施例中,擴(kuò)散粒子就選用金紅石型二氧化鈦粒子,金紅石型二氧化鈦粒子的粒徑為0.1?15 μ m,優(yōu)選為0.5-10um,如果小于0.lum,則不會(huì)有明顯的擴(kuò)散作用,如果大于15um,則涂布比較困難,且粒子脫落不可避免。
[0025]上述高挺度反射膜的制備方法,首先準(zhǔn)備反射膜基層,再制備涂布液,制備涂布液時(shí)按照下列比例將物料混合均勻:聚甲基丙烯酸甲酯20質(zhì)量份、多異氰酸酯15質(zhì)量份、擴(kuò)散粒子I?3質(zhì)量份;
[0026]涂布液制備完成后將其涂布在反射膜基層上,置于烘箱中在130°C的溫度下加熱干燥I分鐘即可。
【權(quán)利要求】
1.一種高挺度反射膜,包括反射膜基層,所述的反射膜基層內(nèi)具有微泡,其特征在于:所述反射膜基層的材料為PET ; 所述的反射膜基層上設(shè)有一層擴(kuò)散膜,所述的擴(kuò)散膜由下列組分組成: 聚甲基丙烯酸甲酯:20質(zhì)量份。 多異氰酸酯:15質(zhì)量份。 擴(kuò)散粒子:1?3質(zhì)量份。
2.如權(quán)利要求1所述的高挺度反射膜,其特征在于:所述的擴(kuò)散粒子為二氧化鈦粒子。
3.如權(quán)利要去2所述的高挺度反射膜,其特征在于:所述的二氧化鈦粒子為金紅石型二氧化鈦。
4.如權(quán)利要求3所述的高挺度反射膜,其特征在于:所述金紅石型二氧化鈦粒子的粒徑為0.1?15 μ m。
5.一種高挺度反射膜的制備方法,首先準(zhǔn)備反射膜基層,其特征在于: 再制備涂布液,制備涂布液時(shí)按照下列比例將物料混合均勻:聚甲基丙烯酸甲酯20質(zhì)量份、多異氰酸酯15質(zhì)量份、擴(kuò)散粒子I?3質(zhì)量份; 涂布液制備完成后將其涂布在反射膜基層上,置于烘箱中在130°C的溫度下加熱干燥I分鐘即可。
6.如權(quán)利要求5所述的高挺度反射膜的制備方法,其特征在于:所述的擴(kuò)散粒子選用二氧化鈦粒子。
7.如權(quán)利要去6所述的高挺度反射膜,其特征在于:所述的二氧化鈦粒子選用金紅石型二氧化鈦。
8.如權(quán)利要求7所述的高挺度反射膜,其特征在于:所述金紅石型二氧化鈦粒子的粒徑為0.1?15 μ m。
【文檔編號(hào)】G02B1/10GK103472511SQ201310438348
【公開(kāi)日】2013年12月25日 申請(qǐng)日期:2013年9月16日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月16日
【發(fā)明者】羅培棟, 樊華偉 申請(qǐng)人:寧波東旭成新材料科技有限公司
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