一種納米壓印方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種納米壓印方法，包括如下步驟：（1）將單體溶液滴在要壓印的襯底上；（2）將模板壓到襯底上，使單體溶液分散開并填充模板中的空腔；（3）將步驟（2）所得的模板和襯底放入納米壓印機(jī)中，當(dāng)襯底和模板光學(xué)對(duì)準(zhǔn)后，用紫外光透過模板照射壓印區(qū)域，固化成型后，移去模板；（4）刻蝕殘留層和進(jìn)行圖案轉(zhuǎn)移。本發(fā)明提供的納米壓印方法操作步驟簡(jiǎn)單，使用方便、靈活，具有環(huán)保高效等優(yōu)點(diǎn)，有利于推廣應(yīng)用。
【專利說明】一種納米壓印方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及微加工領(lǐng)域，具體涉及一種納米壓印方法。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，納米壓印主要分為熱壓印和紫外光固化壓印兩種類型。傳統(tǒng)的熱壓印需要在高溫高壓的條件下實(shí)現(xiàn)，而且即使在高溫、高壓的條件下，仍然可能導(dǎo)致聚合物不能完全填充印章腔體，這種方法不僅降低了工作效率而且得到的產(chǎn)品效果不穩(wěn)定；傳統(tǒng)的紫外光固化壓印工藝較為繁瑣且加工難度大，成本高，不利于推廣應(yīng)用。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]發(fā)明目的:為了克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的不足，本發(fā)明提供的納米壓印方法，簡(jiǎn)單易行、成本低，適于推廣應(yīng)用。
[0004]技術(shù)方案:為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明的采用的技術(shù)方案為:一種納米壓印方法，包括如下步驟:
[0005]( I)將單體溶液滴在要壓印的襯底上；
[0006](2)將模板壓到襯底上，使單體溶液分散開并填充模板中的空腔；
[0007](3)將步驟(2)所得的模板和襯底放入納米壓印機(jī)中，當(dāng)襯底和模板光學(xué)對(duì)準(zhǔn)后，用紫外光透過模板照射壓印區(qū)域，固化成型后，移去模板；
[0008](4)刻蝕殘留層和進(jìn)行圖案轉(zhuǎn)移。
[0009]作為優(yōu)選，所述步驟(2)中將模板壓到襯底上的壓力為I?80N。
[0010]作為優(yōu)選，所述單體溶液為甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯中的一種或幾種。
[0011]作為優(yōu)選，所述的模板可由硅、二氧化硅、碳化硅、氮化硅中的一種制成。
[0012]有益效果:本發(fā)明提供的納米壓印方法只需要一個(gè)模板，通過循環(huán)加工，即可在整個(gè)圓片上得到圖案，降低了制造成本；操作步驟簡(jiǎn)單，使用方便、靈活，具有環(huán)保高效等優(yōu)點(diǎn)，有利于推廣應(yīng)用。
【具體實(shí)施方式】
[0013]實(shí)施例一:
[0014]一種納米壓印方法，包括如下步驟:
[0015](I)將單體溶液滴在要壓印的襯底上；
[0016](2)將模板壓到襯底上，使單體溶液分散開并填充模板中的空腔；
[0017](3)將步驟(2)所得的模板和襯底放入納米壓印機(jī)中，當(dāng)襯底和模板光學(xué)對(duì)準(zhǔn)后，用紫外光透過模板照射壓印區(qū)域，固化成型后，移去模板；
[0018](4)刻蝕殘留層和進(jìn)行圖案轉(zhuǎn)移。
[0019]所述步驟(2)中將模板壓到襯底上的壓力為40N。[0020]所述單體溶液為甲基丙烯酸甲酯。
[0021]所述的模板由硅制成。
[0022]實(shí)施例二:
[0023]一種納米壓印方法，包括如下步驟:
[0024]( I)將單體溶液滴在要壓印的襯底上；
[0025](2)將模板壓到襯底上，使單體溶液分散開并填充模板中的空腔；
[0026](3)將步驟(2)所得的模板和襯底放入納米壓印機(jī)中，當(dāng)襯底和模板光學(xué)對(duì)準(zhǔn)后，用紫外光透過模板照射壓印區(qū)域，固化成型后，移去模板；
[0027](4)刻蝕殘留層和進(jìn)行圖案轉(zhuǎn)移。
[0028]所述步驟(2)中將模板壓到襯底上的壓力為60N。
[0029]所述單體溶液為丙烯酸甲酯。
[0030]所述的模板由碳化硅制成。
[0031]以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出:對(duì)于本【技術(shù)領(lǐng)域】的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和潤(rùn)飾，這些改進(jìn)和潤(rùn)飾也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種納米壓印方法，其特征在于，包括如下步驟: (1)將單體溶液滴在要壓印的襯底上； (2)將模板壓到襯底上，使單體溶液分散開并填充模板中的空腔； (3)將步驟(2)所得的模板和襯底放入納米壓印機(jī)中，當(dāng)襯底和模板光學(xué)對(duì)準(zhǔn)后，用紫外光透過模板照射壓印區(qū)域，固化成型后，移去模板； (4)刻蝕殘留層和進(jìn)行圖案轉(zhuǎn)移。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米壓印方法，其特征在于:所述步驟(2)中將模板壓到襯底上的壓力為I?80N。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米壓印方法，其特征在于:所述單體溶液為甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯中的一種或幾種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米壓印方法，其特征在于:所述的模板可由硅、二氧化硅、碳化娃、氮化娃中的一種制成。
【文檔編號(hào)】G03F7/00GK103513511SQ201310511050
【公開日】2014年1月15日 申請(qǐng)日期:2013年10月25日 優(yōu)先權(quán)日:2013年10月25日
【發(fā)明者】王晶 申請(qǐng)人:無錫英普林納米科技有限公司