透過(guò)波長(zhǎng)3700nm以上的航空尾氣氣體檢測(cè)濾光片的制作方法
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型所設(shè)計(jì)的一種測(cè)試精度高、能極大提高信噪比的透過(guò)波長(zhǎng)3700nm以上的航空尾氣氣體檢測(cè)濾光片，包括以Ge為原材料的基板，以Si、SiO為第一鍍膜層和以Ge、SiO為第二鍍膜層，且所述基板位于第一鍍膜層和第二鍍膜層之間，該透過(guò)波長(zhǎng)3700nm以上的航空尾氣氣體檢測(cè)濾光片，其在航空尾氣氣體檢測(cè)過(guò)程中，可大大的提高信噪比，提高測(cè)試精準(zhǔn)度。該濾光片50%Cut?on＝3700±50nm，3960～4800nm、Tavg≥90%，1600～3420nm、T≤1.5%、Tavg≤1%，1600～2450nm、Ravg≥85%；4200～4800nm、Ravg≤10%。
【專(zhuān)利說(shuō)明】透過(guò)波長(zhǎng)3700nm以上的航空尾氣氣體檢測(cè)濾光片
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及紅外濾光片領(lǐng)域，尤其是一種透過(guò)波長(zhǎng)3700nm以上的航空尾氣氣體檢測(cè)濾光片。
【背景技術(shù)】
[0002]紅外濾光片過(guò)濾、截止可見(jiàn)光同時(shí)允許通過(guò)紅外線(xiàn)。紅外線(xiàn)的波長(zhǎng)很容易地穿透任何的物體，也就是紅外線(xiàn)在經(jīng)過(guò)物體時(shí)不會(huì)發(fā)生折射。利用紅外線(xiàn)的這個(gè)特性，只讓長(zhǎng)波長(zhǎng)的紅外線(xiàn)通過(guò)，濾除短波長(zhǎng)的紫外線(xiàn)和可見(jiàn)光。應(yīng)用于很多領(lǐng)域，目前對(duì)于航空尾氣氣體檢測(cè)過(guò)程中所使用的濾光片存在的問(wèn)題是透過(guò)率和截止區(qū)的信噪比不高，不能滿(mǎn)足高精度的測(cè)量要求。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]本實(shí)用新型的目的是為了解決上述技術(shù)的不足而提供一種測(cè)試精度高、能極大提高信噪比的透過(guò)波長(zhǎng)3700nm以上的航空尾氣氣體檢測(cè)濾光片。[0004]為了達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型所設(shè)計(jì)的透過(guò)波長(zhǎng)3700nm以上的航空尾氣氣體檢測(cè)濾光片，包括以Ge為原材料的基板，以S1、SiO為第一鍍膜層和以Ge、SiO為第二鍍膜層，且所述基板位于第一鍍膜層和第二鍍膜層之間，所述第一鍍膜層由內(nèi)向外依次排列包含有:165nm厚度的SiO層、224nm厚度的Si層、430nm厚度的SiO層、186nm厚度的Si層、427nm厚度的SiO層、204nm厚度的Si層、432nm厚度的SiO層、209nm厚度的Si層、420nm厚度的SiO層、203nm厚度的Si層、413nm厚度的SiO層、196nm厚度的Si層、246nm厚度的SiO層、113nm厚度的Si層、269nm厚度的SiO層、142nm厚度的Si層、426nm厚度的SiO層、158nm厚度的Si層、241nm厚度的SiO層、124nm厚度的Si層、268nm厚度的SiO層、144nm厚度的Si層、248nm厚度的SiO層、125nm厚度的Si層、244nm厚度的SiO層、141nm厚度的Si層、281nm厚度的SiO層、122nm厚度的Si層、198nm厚度的SiO層、168nm厚度的Si層、152nm厚度的SiO層、44nm厚度的Si層和579nm厚度的SiO層；所述第二鍍膜層由內(nèi)向外依次排列包含有:133nm厚度的Ge層、47nm厚度的SiO層、106nm厚度的Ge層、Illnm厚度的SiO層、47nm厚度的Ge層、27Inm厚度的SiO層、12nm厚度的Ge層和496nm厚度的SiO層。
[0005]上述各材料對(duì)應(yīng)的厚度，其允許在公差范圍內(nèi)變化，其變化的范圍屬于本專(zhuān)利保護(hù)的范圍，為等同關(guān)系。通常厚度的公差在IOnm左右。
[0006]本實(shí)用新型所得到的透過(guò)波長(zhǎng)3700nm以上的航空尾氣氣體檢測(cè)濾光片，其在航空尾氣氣體檢測(cè)過(guò)程中，可大大的提高信噪比，提高測(cè)試精準(zhǔn)度。該濾光片50%Cut on =3700 ±50nm，3960 ~4800nm、Tavg ^ 90%，1600 ~3420nm、T^l.5%、Tavg ^ 1%，1600 ~2450nm、Ravg ^ 85% ；4200 ~4800nm、Ravg ^ 10%。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】[0007]圖1是實(shí)施例整體結(jié)構(gòu)示意圖；
[0008]圖2是實(shí)施例提供的紅外光譜透過(guò)率實(shí)測(cè)曲線(xiàn)圖。
【具體實(shí)施方式】
[0009]下面通過(guò)實(shí)施例結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的描述。
[0010]實(shí)施例1:
[0011]如圖1、圖2所示，本實(shí)施例描述的透過(guò)波長(zhǎng)3700nm以上的航空尾氣氣體檢測(cè)濾光片，包括以Ge為原材料的基板2，以S1、SiO為第一鍍膜層I和以Ge、SiO為第二鍍膜層3，且所述基板2位于第一鍍膜層I和第二鍍膜層3之間，所述第一鍍膜層I由內(nèi)向外依次排列包含有:165nm厚度的SiO層、224nm厚度的Si層、430nm厚度的SiO層、186nm厚度的Si層、427nm厚度的SiO層、204nm厚度的Si層、432nm厚度的SiO層、209nm厚度的Si層、420nm厚度的SiO層、203nm厚度的Si層、413nm厚度的SiO層、196nm厚度的Si層、246nm厚度的SiO層、113nm厚度的Si層、269nm厚度的SiO層、142nm厚度的Si層、426nm厚度的SiO層、158nm厚度的Si層、241nm厚度的SiO層、124nm厚度的Si層、268nm厚度的SiO層、144nm厚度的Si層、248nm厚度的SiO層、125nm厚度的Si層、244nm厚度的SiO層、141nm厚度的Si層、281nm厚度的SiO層、122nm厚度的Si層、198nm厚度的SiO層、168nm厚度的Si層、152nm厚度的SiO層、44nm厚度的Si層和579nm厚度的SiO層；所述第二鍍膜層3由內(nèi)向外依次排列包含有:133nm厚度的Ge層、47nm厚度的SiO層、106nm厚度的Ge層、11 Inm厚度的SiO層、47nm厚度的Ge層、271nm厚度的SiO層、12nm厚度的Ge層和496nm厚度的SiO 層。
【權(quán)利要求】
1.一種透過(guò)波長(zhǎng)3700nm以上的航空尾氣氣體檢測(cè)濾光片，包括以Ge為原材料的基板，以S1、SiO為第一鍍膜層和以Ge、SiO為第二鍍膜層，且所述基板位于第一鍍膜層和第二鍍膜層之間，其特征是:所述第一鍍膜層由內(nèi)向外依次排列包含有:165nm厚度的SiO層、224nm厚度的Si層、430nm厚度的SiO層、186nm厚度的Si層、427nm厚度的SiO層、204nm厚度的Si層、432nm厚度的SiO層、209nm厚度的Si層、420nm厚度的SiO層、203nm厚度的Si層、413nm厚度的SiO層、196nm厚度的Si層、246nm厚度的SiO層、113nm厚度的Si層、269nm厚度的SiO層、142nm厚度的Si層、426nm厚度的SiO層、158nm厚度的Si層、241nm厚度的SiO層、124nm厚度的Si層、268nm厚度的SiO層、144nm厚度的Si層、248nm厚度的SiO層、125nm厚度的Si層、244nm厚度的SiO層、141nm厚度的Si層、281nm厚度的SiO層、122nm厚度的Si層、198nm厚度的SiO層、168nm厚度的Si層、152nm厚度的SiO層、44nm厚度的Si層和579nm厚度的SiO層；所述第二鍍膜層由內(nèi)向外依次排列包含有:133nm厚度的Ge層、47nm厚度的SiO層、106nm厚度的Ge層、Illnm厚度的SiO層、47nm厚度的Ge層、27Inm厚度的SiO層、12nm厚度的Ge層和496nm厚度的SiO層。
【文檔編號(hào)】G02B5/20GK203551818SQ201320777703
【公開(kāi)日】2014年4月16日 申請(qǐng)日期:2013年11月29日 優(yōu)先權(quán)日:2013年11月29日
【發(fā)明者】王繼平, 呂晶, 胡偉琴 申請(qǐng)人:杭州麥樂(lè)克電子科技有限公司