頻閃裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明的頻閃裝置具備光源、光學(xué)構(gòu)件以及具有反射面（4)的反射體（5)。并且，反射面（4)具備與反射面（4)上的特定反射區(qū)域（6)相比靠反射體（5)側(cè)形成的第一反射面（7)以及靠光學(xué)構(gòu)件側(cè)形成的第二反射面（8)。此外，第一反射面(7)具有以在反射體（5)的內(nèi)側(cè)具有曲率中心的方式彎曲的形狀，第二反射面（8)具有以在反射體（5)的外側(cè)具有曲率中心且隨著靠近光學(xué)構(gòu)件而離開光軸中心的方式彎曲的形狀。由此，能夠抑制來自光源的光向所希望的區(qū)域外照射。
【專利說明】頻閃裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及向成為攝像對(duì)象的區(qū)域照射光的頻閃裝置。

【背景技術(shù)】
[0002] 目前，例如公開了直接或間接地設(shè)置于數(shù)碼相機(jī)等攝像設(shè)備的頻閃裝置（例如， 參照專利文獻(xiàn)1)。需要說明的是，頻閃裝置朝向成為利用攝像設(shè)備進(jìn)行拍攝的攝像對(duì)象的 區(qū)域照射光。
[0003] 以下，使用圖4A和圖4B對(duì)現(xiàn)有的頻閃裝置的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說明。圖4A是示出現(xiàn)有的 頻閃裝置中光源最靠近反射體的狀態(tài)的結(jié)構(gòu)的剖視圖。圖4B是示出現(xiàn)有的頻閃裝置中光 源最遠(yuǎn)離反射體的狀態(tài)的結(jié)構(gòu)的剖視圖。
[0004] 如圖4A和圖4B所示，現(xiàn)有的頻閃裝置9具備：光源10,其在一方向上形成得長(zhǎng)； 光學(xué)構(gòu)件11，其與光源10的長(zhǎng)度方向平行地配置；以及反射體13,其沿著光源10的長(zhǎng)度方 向形成得長(zhǎng)，并且具有將來自光源10的光朝向光學(xué)構(gòu)件11反射的反射面12。并且，光源 10、光學(xué)構(gòu)件11、反射體13沿著頻閃裝置9的光軸A在光軸A方向上配置。此時(shí)，反射體 13的反射面12構(gòu)成為在內(nèi)側(cè)具有曲率中心且相對(duì)于光軸A對(duì)稱的凹狀彎曲的形狀。需要 說明的是，在內(nèi)側(cè)具有曲率中心意味著曲率中心比圖4A和圖4B所示的反射體13的反射面 12更靠光軸A側(cè)。
[0005] 另外，在上述的攝像設(shè)備的頻閃裝置9中，有時(shí)使成為攝像對(duì)象的區(qū)域（視角）的 范圍變化來進(jìn)行攝像。因此，通常，這種頻閃裝置9具有光源10與反射體13的反射面12 能夠沿著光軸A延伸的光軸A方向相對(duì)地進(jìn)行位移的結(jié)構(gòu)。
[0006] 具體而言，如圖4A所示，就所述頻閃裝置9而言，隨著使光源10與反射體13的反 射面12接近，從光源10放射的光的照射區(qū)域變窄。另一方面，如圖4B所示，就所述頻閃裝 置9而言，隨著使光源10與反射體13的反射面12分離，從光源10放射的光的照射區(qū)域變 寬。
[0007] 換句話說，現(xiàn)有的頻閃裝置9能夠通過使光源10與反射體13的反射面12沿著光 軸A方向相對(duì)地進(jìn)行位移來改變光的照射區(qū)域的范圍。其結(jié)果是，能夠與成為攝像對(duì)象的 區(qū)域的范圍相應(yīng)地調(diào)節(jié)光的照射區(qū)域的范圍。
[0008] 此時(shí)，為了保護(hù)光學(xué)構(gòu)件11不受因光源10的發(fā)光而產(chǎn)生的熱的影響，現(xiàn)有的頻閃 裝置9以使光源10與光學(xué)構(gòu)件11隔開規(guī)定間隔的間隙20的方式配置。因此，存在頻閃裝 置9大型化、光的照射區(qū)域變窄的情況。為了避免該情況，現(xiàn)有的頻閃裝置9使用折射力強(qiáng) 的光學(xué)構(gòu)件11。由此，在確保了光的照射區(qū)域的范圍的同時(shí)防止了頻閃裝置9的大型化。
[0009] 然而，若使用折射力強(qiáng)的光學(xué)構(gòu)件11，如圖4B所示，存在光的照射區(qū)域過度擴(kuò)張 的情況。由此，光向要拍攝的對(duì)象的區(qū)域外照射。其結(jié)果是，現(xiàn)有的頻閃裝置9存在無法用 適當(dāng)光量的光來照射要拍攝的對(duì)象的區(qū)域整體這樣的課題。
[0010] 在先技術(shù)文獻(xiàn)
[0011] 專利文獻(xiàn)
[0012] 專利文獻(xiàn)1 :日本特開昭55-129326號(hào)公報(bào)


【發(fā)明內(nèi)容】

[0013] 為了解決上述課題，本發(fā)明的頻閃裝置具備：光源，其在一方向上形成得長(zhǎng)；光學(xué) 構(gòu)件，其與光源的長(zhǎng)度方向平行地配置；以及反射體，其沿著光源的長(zhǎng)度方向形成得長(zhǎng)，并 且具有將來自光源的光朝向光學(xué)構(gòu)件反射的反射面。并且，反射面具備與反射面上的特定 反射區(qū)域相比靠反射體側(cè)形成的第一反射面以及靠光學(xué)構(gòu)件側(cè)形成的第二反射面。而且， 第一反射面具有以在反射體的內(nèi)側(cè)具有曲率中心的方式彎曲的形狀，第二反射面具有以在 反射體的外側(cè)具有曲率中心且隨著靠近光學(xué)構(gòu)件而離開光軸的方式彎曲的形狀。
[0014] 根據(jù)該結(jié)構(gòu)，第二反射面具有以在外側(cè)具有曲率中心且隨著靠近光學(xué)構(gòu)件而離開 光軸中心的方式彎曲的形狀。因此，與現(xiàn)有的頻閃裝置相比，第二反射面增大從光源放射出 的光的入射角（與正交于第二反射面的軸相距的角度）。由此，能夠使由第二反射面反射后 的光的前進(jìn)方向靠近光軸A方向。換句話說，能夠減小光軸A與向光軸A方向前進(jìn)的光所 成的入射角。其結(jié)果是，能夠抑制由第二反射面反射后的光向所希望的區(qū)域外照射。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0015] 圖1A是示出本發(fā)明的實(shí)施方式的頻閃裝置中光源最靠近反射體的反射面的狀態(tài) 的結(jié)構(gòu)的剖視圖。
[0016] 圖1B是示出該實(shí)施方式的頻閃裝置中光源最遠(yuǎn)離反射體的反射面的狀態(tài)的結(jié)構(gòu) 的剖視圖。
[0017] 圖2是對(duì)該實(shí)施方式的頻閃裝置的反射體的反射面的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說明的圖。
[0018] 圖3A是在該實(shí)施方式的頻閃裝置與現(xiàn)有的頻閃裝置中，比較使光源在最靠近反 射體的反射面的狀態(tài)下發(fā)光的情況下的光量相對(duì)于配光角的相對(duì)分布的圖。
[0019] 圖3B是在該實(shí)施方式的頻閃裝置與現(xiàn)有的頻閃裝置中，比較在使光源最遠(yuǎn)離反 射體的反射面的狀態(tài)下使光源發(fā)光的情況下的光量相對(duì)于配光角的相對(duì)分布的圖。
[0020] 圖4A是示出現(xiàn)有的頻閃裝置中光源最靠近反射體的反射面的狀態(tài)的結(jié)構(gòu)的剖視 圖。
[0021] 圖4B是示出現(xiàn)有的頻閃裝置中光源最遠(yuǎn)離反射體的反射面的狀態(tài)的結(jié)構(gòu)的剖視 圖。

【具體實(shí)施方式】
[0022] 以下，參照附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說明。需要說明的是，本發(fā)明不限定于本 實(shí)施方式。
[0023](實(shí)施方式）
[0024] 使用圖1A和圖1B對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式的頻閃裝置進(jìn)行說明。
[0025] 如圖1A和圖1B所示，本實(shí)施方式的頻閃裝置1至少具備：光源2,其在一方向上 形成得長(zhǎng)；光學(xué)構(gòu)件3,其與光源2的長(zhǎng)度方向平行地配置；以及反射體5,其沿著光源2的 長(zhǎng)度方向形成得長(zhǎng)，并且具有將來自光源2的光朝向光學(xué)構(gòu)件3反射的反射面4。并且，光 源2、光學(xué)構(gòu)件3、反射體5沿著頻閃裝置1的光軸A在光軸A方向上配置。此時(shí)，作為光源 2,例如使用閃光燈等閃光放電管。
[0026] 需要說明的是，基本上，頻閃裝置1構(gòu)成為將上述構(gòu)成要素收容于框體等，但為了 便于理解配置關(guān)系而以省略框體的方式進(jìn)行圖示。
[0027] 此外，本實(shí)施方式的頻閃裝置1具有光源2與反射體5的反射面4能夠沿著光軸 A延伸的光軸A方向相對(duì)地進(jìn)行位移的結(jié)構(gòu)。
[0028] 以下，以光源2相對(duì)于反射體5的反射面4進(jìn)行位移的情況為例進(jìn)行說明。換句話 說，光學(xué)構(gòu)件3和反射體5的配置是固定的，光源2在光軸A方向上進(jìn)行位移。具體而言， 如圖1A所示，在使光源2最靠近反射體5的反射面4的狀態(tài)的情況下，成為光源2與光學(xué) 構(gòu)件3最遠(yuǎn)離的狀態(tài)。另一方面，如圖1B所示，在使光源2最遠(yuǎn)離反射體5的反射面4的 狀態(tài)的情況下，成為光源2與光學(xué)構(gòu)件3最靠近的狀態(tài)。
[0029] 另外，光學(xué)構(gòu)件3配置為與光源2的長(zhǎng)度方向平行且與光軸A正交，其中，該光源 2在與圖1A的紙面正交的方向（垂直方向）上形成得長(zhǎng)（形成長(zhǎng)邊）。需要說明的是，本 實(shí)施方式的光學(xué)構(gòu)件3例如由菲涅爾透鏡構(gòu)成。
[0030] 相同地，反射體5相對(duì)于光軸A對(duì)稱配置，剖面呈例如大致U字形狀，該反射體5 與光源2的長(zhǎng)度方向平行且以內(nèi)包光源2的方式與光學(xué)構(gòu)件3對(duì)置配置。
[0031] 接下來，使用圖2對(duì)本實(shí)施方式的頻閃裝置的反射體的結(jié)構(gòu)詳細(xì)進(jìn)行說明。
[0032] 圖2是對(duì)該實(shí)施方式的頻閃裝置的反射體的反射面的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說明的圖。需要說 明的是，圖2中利用與光源2的長(zhǎng)度方向正交的方向上的剖面來示出反射體5的反射面4。
[0033] 如圖2所示，反射體5的反射面4設(shè)置為相對(duì)于光軸A對(duì)稱的形狀，具備由反射面 4的特定反射區(qū)域6分開的第一反射面7和第二反射面8這兩個(gè)面。
[0034] 這里，反射面4的特定反射區(qū)域6是指，在圖1B所示的光源2最遠(yuǎn)離反射體5的 底部5a的反射面4的狀態(tài)下，從光源2放射出的光由反射面4反射而得到的反射光中、朝 向光學(xué)構(gòu)件3的中心反射的反射光2a與反射面4相交的區(qū)域。
[0035] 并且，反射面4的第一反射面7比反射面4上的特定反射區(qū)域6靠光學(xué)構(gòu)件3的 相反側(cè)（光源2側(cè)）設(shè)置。此時(shí)，反射面4的第一反射面7構(gòu)成為在內(nèi)側(cè)具有曲率中心且 相對(duì)于光軸A對(duì)稱的凹狀彎曲的形狀。需要說明的是，在內(nèi)側(cè)具有曲率中心意味著曲率中 心比圖1A和圖1B所示的反射體5的反射面4更靠光軸A側(cè)（朝向光軸A的方向側(cè)）。
[0036] 另一方面，反射面4的第二反射面8比特定反射區(qū)域6靠光學(xué)構(gòu)件3側(cè)設(shè)置。換 句話說，第二反射面8設(shè)置成從與特定反射區(qū)域6對(duì)應(yīng)的第一反射面7的周向上的兩個(gè)端 部朝向光學(xué)構(gòu)件3側(cè)延伸出。此時(shí)，第二反射面8構(gòu)成為在反射體5的外側(cè)具有曲率中心、 以隨著靠近光學(xué)構(gòu)件3而離開光軸A的方式彎曲的形狀。換句話說，第二反射面8設(shè)置成 以使光學(xué)構(gòu)件3側(cè)的兩個(gè)端部8a彼此分離的方式彎曲的形狀。
[0037] 另外，如圖1A和圖1B所示，本實(shí)施方式的反射體5以反射面4的第二反射面8的 光學(xué)構(gòu)件3側(cè)的兩個(gè)端部8a在光軸A方向上與光學(xué)構(gòu)件3分開規(guī)定間隔的間隙15的方式 配置。由此，能夠使因光源2的發(fā)光而產(chǎn)生的熱量從間隙15散出。此外，利用向外側(cè)彎曲 的第二反射面8,能夠防止反射體5內(nèi)的熱對(duì)流所引起的熱量的上升，使熱量高效地向反射 體5的外側(cè)散出。其結(jié)果是，能夠預(yù)先防止例如光學(xué)構(gòu)件3的熱變形等所引起的光學(xué)特性 的降低，能夠?qū)崿F(xiàn)可靠性高的頻閃裝置。
[0038] 如上那樣構(gòu)成本實(shí)施方式的頻閃裝置1。
[0039] 以下，參照?qǐng)D1A以及圖1B對(duì)本實(shí)施方式的頻閃裝置的照射要拍攝的對(duì)象區(qū)域的 動(dòng)作進(jìn)行說明。需要說明的是，以頻閃裝置1直接或間接地設(shè)置于攝像設(shè)備的情況為前提 來進(jìn)行說明。
[0040] 首先，使用圖1A對(duì)在成為攝像對(duì)象的區(qū)域設(shè)定為最窄的狀態(tài)下進(jìn)行拍攝的情況 進(jìn)行說明。
[0041] 如圖1A所示，使光源2移動(dòng)到最靠近反射體5的反射面4的底部5a的位置。
[0042] 此時(shí)，從光源2放射出的光中、由反射體5的第一反射面7反射而得到的反射光 2b、2c向靠近光軸A方向的方向前進(jìn)。
[0043] 另一方面，從光源2放射出的光中、由反射體5的第二反射面8反射而得到的反射 光2d因相對(duì)于光軸A方向所成的入射角Θ 2變小而也向靠近光軸A方向的方向、即光軸A 與向光軸A方向前進(jìn)的反射光所成的入射角變小的方向前進(jìn)。
[0044] 其結(jié)果是，與圖4A所示的現(xiàn)有的頻閃裝置的反射光10d相比，本實(shí)施方式的頻閃 裝置1能夠向成為攝像對(duì)象的區(qū)域的中央部集中更多的反射光或直射光。
[0045] 接下來，使用圖1B對(duì)在成為攝像對(duì)象的區(qū)域設(shè)定為最寬的狀態(tài)下進(jìn)行拍攝的情 況進(jìn)行說明。
[0046] 如圖1B所示，使光源2向最遠(yuǎn)離光學(xué)構(gòu)件3的位置移動(dòng)。
[0047] 此時(shí)，與現(xiàn)有技術(shù)相同，從光源2放射出的光中、由反射體5的第一反射面7反射 而得到的反射光2e相對(duì)于光軸A方向所成的入射角θ 1增大。
[0048] 另一方面，從光源2放射出的光中、由反射體5的第二反射面8反射而得到的反射 光2f因相對(duì)于光軸A方向所成的入射角Θ 2變小而向靠近光軸A方向的方向前進(jìn)。
[0049] 其結(jié)果是，與圖4B所示的現(xiàn)有的頻閃裝置的反射光10f相比，本實(shí)施方式的頻閃 裝置1能夠?qū)⒂傻诙瓷涿?反射的反射光2f集中到成為攝像對(duì)象的區(qū)域的中央部附近 的區(qū)域。
[0050] 如上，根據(jù)本實(shí)施方式的頻閃裝置1，能夠使從光源2放射出的光中、由反射體5的 第二反射面8反射而得到的反射光向靠近光軸A方向的方向前進(jìn)。因此，如圖1B所示，在 光源2以靠近光學(xué)構(gòu)件3的狀態(tài)發(fā)光的情況下，能夠抑制從光源2放射出的光向所希望的 區(qū)域外照射。
[0051] 以下，使用圖3A和圖3B對(duì)本實(shí)施方式的頻閃裝置中的反射體的第二反射面的具 體效果進(jìn)行說明。
[0052] 圖3A是在該實(shí)施方式的頻閃裝置與現(xiàn)有的頻閃裝置中，比較使光源在最靠近反 射體的反射面的狀態(tài)下發(fā)光的情況下的光量相對(duì)于配光角的相對(duì)分布的圖。圖3B是在該 實(shí)施方式的頻閃裝置與現(xiàn)有的頻閃裝置中，比較在使光源最遠(yuǎn)離反射體的反射面的狀態(tài)下 使光源發(fā)光的情況下的光量相對(duì)于配光角的相對(duì)分布的圖。
[0053] 如圖3A所示，在使光源2以最靠近反射體5的反射面4的狀態(tài)發(fā)光的情況下，與 現(xiàn)有的頻閃裝置相比，向離開照射區(qū)域的中央部的位置照射的光量減少。換句話說，向照射 區(qū)域的中央部（配光角為約_25[deg]?約25[deg]之間的區(qū)域）照射的光量增加。
[0054] S卩，本實(shí)施方式的頻閃裝置1在使光源2以最靠近反射面4的狀態(tài)發(fā)光的情況下， 能夠?qū)螂x開照射區(qū)域的中央部的位置照射的光集中到照射區(qū)域的中央部。
[0055] 因此，如圖3A所示，在縮窄成為攝像對(duì)象的區(qū)域來進(jìn)行攝像的情況下，通過使光 源2以最靠近反射面4的狀態(tài)發(fā)光，由此與現(xiàn)有的頻閃裝置相比，能夠增加對(duì)成為攝像對(duì)象 的區(qū)域整體進(jìn)行照射的光量。
[0056] 另一方面，如圖3B所示，在使最遠(yuǎn)離反射體5的反射面4的狀態(tài)的光源2發(fā)光的情 況下，與現(xiàn)有的頻閃裝置相比，向離開照射區(qū)域的中央部的位置（配光角為約40 [deg]以上 的區(qū)域以及配光角為約-40[deg]以下的區(qū)域）照射的光量減少。并且，向照射區(qū)域的中央 部附近的區(qū)域（配光角為約15[deg]?約40[deg]之間的區(qū)域以及配光角為約_15[deg]? 約-40[deg]之間的區(qū)域）照射的光量增加。
[0057] S卩，在本實(shí)施方式的頻閃裝置1中，在使光源2以最遠(yuǎn)離反射面4的狀態(tài)發(fā)光的情 況下，能夠?qū)⒃蜻h(yuǎn)離照射區(qū)域的中央部的位置（配光角為約40[deg]以上的區(qū)域以及配 光角為約-40[deg]以下的區(qū)域）照射的光集中到照射區(qū)域的中央部附近的區(qū)域。
[0058] 因此，如圖3B所示，在擴(kuò)寬成為攝像對(duì)象的區(qū)域R來進(jìn)行攝像的情況下，通過使最 遠(yuǎn)離反射面4的狀態(tài)的光源2發(fā)光，由此與現(xiàn)有的頻閃裝置相比，能夠以大致均勻（包括均 勻）的光量照射成為攝像對(duì)象的區(qū)域R整體。
[0059] 此外，本實(shí)施方式不限定于上述實(shí)施方式，當(dāng)然可以在不脫離本發(fā)明的主旨的范 圍內(nèi)進(jìn)行各種變更。
[0060] 例如，在上述實(shí)施方式中，以在一方向上形成得長(zhǎng)的光源2為例進(jìn)行了說明，但不 限于此。例如，也可以將多個(gè)LED沿一方向排列來作為光源2。由此，能夠?qū)崿F(xiàn)長(zhǎng)壽命且低 耗電的頻閃裝置。
[0061] 另外，在上述實(shí)施方式中，雖沒有特別言及第二反射面8的曲率中心以何種方式 構(gòu)成，但是，例如可以采用以一點(diǎn)的曲率中心彎曲的形狀，或者也可以采用以隨著靠近光學(xué) 構(gòu)件3而曲率中心變化的方式彎曲的形狀。由此，能夠?qū)⒂傻诙瓷涿?反射的反射光集 中到所希望的范圍內(nèi)。其結(jié)果是，能夠?qū)崿F(xiàn)可應(yīng)對(duì)廣泛用途的頻閃裝置。
[0062] 另外，在上述實(shí)施方式中，以光源2相對(duì)于反射體5的反射面4進(jìn)行位移的結(jié)構(gòu)為 例進(jìn)行了說明，但不限于此。例如，也可以采用將光源和2光學(xué)構(gòu)件3的位置固定并使反射 體5的反射面4相對(duì)于光源2進(jìn)行位移的結(jié)構(gòu)。另外，也可以采用使光源2和反射體5的 反射面4這兩方相對(duì)于光學(xué)構(gòu)件3進(jìn)行位移的結(jié)構(gòu)。此外，也可以采用使光學(xué)構(gòu)件3相對(duì) 于光源2以及反射體5的反射面4進(jìn)行位移的結(jié)構(gòu)。由此，能夠?qū)崿F(xiàn)可根據(jù)用途來設(shè)定各 種要照射的光量的范圍的通用性優(yōu)越的頻閃裝置。
[0063] 另外，在上述實(shí)施方式中，以光源2相對(duì)于反射體5的反射面4進(jìn)行位移的結(jié)構(gòu)為 例進(jìn)行了說明，但不限于此。例如，也可以采用將光源2、光學(xué)構(gòu)件3以及反射體5固定的結(jié) 構(gòu)。由此，能夠省去使光源2等進(jìn)行位移的機(jī)構(gòu)。其結(jié)果是，能夠?qū)崿F(xiàn)得以簡(jiǎn)化的結(jié)構(gòu)的頻 閃裝置。
[0064] 另外，在上述實(shí)施方式中，說明了反射面4的特定反射區(qū)域6是在光源2最遠(yuǎn)離反 射面4的狀態(tài)下，從光源2放射出的光由反射面4反射而得到的反射光中、朝向光學(xué)構(gòu)件3 的中心反射的反射光2a與反射面4相交的區(qū)域的例子，但不限于此。只要是在能夠抑制從 光源2放射出的光向所希望的區(qū)域外照射的范圍內(nèi)、能夠?qū)⒎瓷涿?分離為第一反射面7 和第二反射面的8的區(qū)域即可，可以在任意的位置設(shè)置特定反射區(qū)域6。由此，能夠?qū)崿F(xiàn)可 根據(jù)所希望的用途向任意的范圍照射規(guī)定的光量的頻閃裝置。
[0065] 另外，在上述實(shí)施方式中，說明了反射面4的特定反射區(qū)域6是在光源2最遠(yuǎn)離反 射面4的狀態(tài)下，從光源2放射出的光由反射面4反射而得到的反射光中、朝向光學(xué)構(gòu)件3 的中心反射的反射光2a與反射面4相交的區(qū)域的例子，但不限于此。例如，也可以在光源 2最靠近反射面4的底部5a的狀態(tài)下確定特定反射區(qū)域。此外，在光源2等不進(jìn)行位移的 結(jié)構(gòu)的頻閃裝置中，可以在固定的狀態(tài)下確定特定反射區(qū)域。由此，能夠?qū)崿F(xiàn)可根據(jù)所希望 的用途向任意的范圍照射規(guī)定的光量的通用性優(yōu)越的頻閃裝置。
[0066] 如以上所說明的那樣，本發(fā)明的頻閃裝置具備光源、光學(xué)構(gòu)件以及具有反射面的 反射體，反射面具備與反射面上的特定反射區(qū)域相比靠反射體側(cè)形成的第一反射面以及靠 光學(xué)構(gòu)件側(cè)形成的第二反射面。并且，第一反射面具有以在反射體的內(nèi)側(cè)具有曲率中心的 方式彎曲的形狀，第二反射面具有以在反射體的外側(cè)具有曲率中心且隨著靠近光學(xué)構(gòu)件而 離開光軸的方式彎曲的形狀。
[0067] 根據(jù)該結(jié)構(gòu)，第二反射面具有以在外側(cè)具有曲率中心且隨著靠近光學(xué)構(gòu)件而離開 光軸的方式彎曲的形狀。因此，與現(xiàn)有的頻閃裝置相比，第二反射面增大了從光源放射出的 光的入射角（與正交于第二反射面的軸相距的角度）。由此，能夠使由第二反射面反射后的 光的前進(jìn)方向靠近光軸A方向。換句話說，能夠減小光軸A與向光軸A方向前進(jìn)的光所成 的入射角。其結(jié)果是，能夠抑制由第二反射面反射后的光向所希望的區(qū)域外照射的情況。 [0068] 另外，就本發(fā)明的頻閃裝置而言，反射面的特定反射區(qū)域可以是在光源最遠(yuǎn)離反 射體的底部的反射面的狀態(tài)下，從光源放射且由反射面反射后的反射光中、朝向光學(xué)構(gòu)件 的中心反射的反射光與反射面相交的區(qū)域。由此，能夠抑制朝向所希望的區(qū)域外的照射。 [0069] 另外，本發(fā)明的頻閃裝置可以構(gòu)成為，光源以及反射體中的至少任一方與光學(xué)構(gòu) 件沿著光軸方向相對(duì)地進(jìn)行位移。由此，能夠任意設(shè)定要照射的區(qū)域，并且能夠有效地抑制 朝向所希望的區(qū)域外的照射。
[0070] 工業(yè)上的可利用性
[0071] 本發(fā)明在搭載于要求將來自光源的光向所希望的區(qū)域內(nèi)照射的攝像設(shè)備等的頻 閃裝置等照明裝置的【技術(shù)領(lǐng)域】中是有用的。
[0072] 符號(hào)說明
[0073] 1、9:頻閃裝置
[0074] 2、10:光源
[0075] 2a、2b、2c、2d、2e、2f、10d、10f :反射光
[0076] 3、11:光學(xué)構(gòu)件
[0077] 4、12:反射面
[0078] 5、13:反射體
[0079] 5a :底部
[0080] 6 :特定反射區(qū)域
[0081] 7:第一反射面
[0082] 8 :第二反射面
[0083] 8a :端部
[0084] 15、20:間隙
【權(quán)利要求】
1. 一種頻閃裝置，其中， 所述頻閃裝置具備： 光源，其在一方向上形成得長(zhǎng)； 光學(xué)構(gòu)件，其與所述光源平行地配置；以及 反射體，其沿著所述光源的長(zhǎng)度方向形成得長(zhǎng)，并且具有將來自所述光源的光朝向所 述光學(xué)構(gòu)件反射的反射面， 所述反射面具備與所述反射面上的特定反射區(qū)域相比靠所述反射體側(cè)形成的第一反 射面以及靠所述光學(xué)構(gòu)件側(cè)形成的第二反射面， 所述第一反射面具有以在所述反射體的內(nèi)側(cè)具有曲率中心的方式彎曲的形狀， 所述第二反射面具有以在所述反射體的外側(cè)具有曲率中心且隨著靠近所述光學(xué)構(gòu)件 而離開光軸的方式彎曲的形狀。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的頻閃裝置，其中， 所述反射面的所述特定反射區(qū)域是所述光源在最遠(yuǎn)離所述反射體的底部的反射面的 狀態(tài)下放射出的反射光中、朝向所述光學(xué)構(gòu)件的中心反射的所述反射光與所述反射面相交 的區(qū)域。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的頻閃裝置，其中， 所述光源以及所述反射體中的至少任一方與所述光學(xué)構(gòu)件沿著光軸方向相對(duì)地進(jìn)行 位移。
【文檔編號(hào)】G03B15/02GK104220929SQ201380016167
【公開日】2014年12月17日 申請(qǐng)日期:2013年4月5日 優(yōu)先權(quán)日:2012年4月19日
【發(fā)明者】吉岡弘幸, 川端克典 申請(qǐng)人:松下知識(shí)產(chǎn)權(quán)經(jīng)營(yíng)株式會(huì)社