太陽光反射板的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明的目的在于提供一種維持反射層的優(yōu)異反射率、耐砂性及耐氣候性優(yōu)異的太陽光反射板。本發(fā)明的太陽光反射板具有基板、設置在上述基板上的反射層、和設置在上述反射層上的保護層，其中，上述保護層含有硅及有機物，以換算為Si02計，含有10?60質量％的硅，與硅化學鍵合的氧的數量平均為1.5?3.2。
【專利說明】太陽光反射板

【技術領域】
[0001] 本發(fā)明涉及適合用于太陽能發(fā)電的太陽光反射板。

【背景技術】
[0002] -直以來，作為光學的反射鏡，使用在平滑性優(yōu)異的玻璃基板的表面或背面蒸鍍 鋁、銀等金屬薄膜而成的產物。
[0003] 在玻璃基板的表面蒸鍍金屬薄膜時，可得到較高的反射率，但用作太陽能發(fā)電的 反射板（太陽光反射板）時，由于必然在室外使用，因此存在耐砂性、耐氣候性、耐沖擊性、 輕質化等諸多課題。
[0004] 針對上述課題，例如，專利文獻1提出了下述方案：一種反射型集熱板，在金屬板 (鋁、不銹鋼等）的表面設置具有反射性的金屬（鋁、銀等）蒸鍍膜，將金屬蒸鍍膜的外表面 用透明的無機物質（Si0、Si0 2等）的保護膜被覆（權利要求1、第3頁左欄第4?23行）。
[0005] 另外，專利文獻2提出了下述方案：包含下述構成而形成的反射板：由鋁、鋼板、不 銹鋼等金屬、合金或塑料等適宜的材料形成的基材4,由粘附在該基材4上的鋁、銀等形成 的金屬反射膜5,由粘附在該金屬反射膜5的表面的例如Si0、Si02之類的玻璃質膜形成的 透明性無機質保護膜6 (參見2頁右上欄）。
[0006] 進而，專利文獻3提出了下述方案：在具有反射性表面的金屬基材上設置層合狀 保護被膜而成的反射體，所述層合狀保護被膜以由脫堿金屬硅酸鹽形成的被膜和直接重疊 并粘附在該被膜上的樹脂被膜作為形成要素（權利要求1)。
[0007]【專利文獻1】日本特公昭62 - 57904號公報 [0008]【專利文獻2】日本特開昭57 - 4003號公報 [0009]【專利文獻3】日本特開昭57 - 125901號公報


【發(fā)明內容】

[0010] 本發(fā)明人等研究了專利文獻1?3中記載的反射板，結果發(fā)現(xiàn)存在以下課題。
[0011] 即，可知專利文獻1及2中記載的反射板由于具有無機主體的被膜，因此耐氣候性 優(yōu)異，但若用作多置于沙漠地帶等沙塵飛來的地帶的太陽光反射板，則針對飛來的砂的耐 砂性不充分。
[0012] 另外，可知專利文獻3中記載的反射板由于最表層為樹脂被膜，因此耐砂性明顯 較差。
[0013] 因此，本發(fā)明的課題在于，提供一種維持反射層的優(yōu)異反射率、耐砂性及耐氣候性 優(yōu)異的太陽光反射板。
[0014] 本發(fā)明人等為了達成上述課題進行了潛心研究，結果發(fā)現(xiàn)通過設置含有硅及有機 物的特定保護層，可維持反射層的優(yōu)異反射率、且耐砂性及耐氣候性優(yōu)異，從而完成了本發(fā) 明。
[0015] 即，本發(fā)明提供以下的⑴?（5)。
[0016] (1) 一種太陽光反射板，具有基板、設置在上述基板上的反射層、和設置在上述反 射層上的保護層，其中，
[0017] 上述保護層含有硅及有機物，以換算為SiO2計，含有10?60質量％的硅，與硅化 學鍵合的氧的數量平均為1. 5?3. 2。
[0018] (2)如上述（1)所述的太陽光反射板，其中，上述保護層的彈性模量為0.1? 15GPa。
[0019] (3)如上述⑴或⑵所述的太陽光反射板，其中，上述反射層含有鋁及/或銀。
[0020] (4)如上述⑴?⑶中任一項所述的太陽光反射板，其中，在上述反射層和上述 保護層之間具有中間層，所述中間層含有選自硅烷偶聯(lián)劑、鈦偶聯(lián)劑、鋯偶聯(lián)劑及有機樹脂 中的至少一種。
[0021] (5)如上述⑴?⑷中任一項所述的太陽光反射板，其中，在上述基板和上述反 射層之間，具有至少一層由有機材料及/或無機材料構成的基底層。
[0022] 根據本發(fā)明，能夠提供維持反射層的優(yōu)異反射率、且耐砂性及耐氣候性優(yōu)異的太 陽光反射板。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0023]【圖1】為表示太陽光反射板的實施方式之一例的示意性剖面圖。

【具體實施方式】
[0024] 本發(fā)明的太陽光反射板具有基板、設置在上述基板上的反射層、和設置在上述反 射層上的保護層，其中，上述保護層含有硅及有機物，以換算為SiO 2計，含有10?60質量％ 的硅，與硅化學鍵合的氧的數量平均為1. 5?3. 2。
[0025] 接下來，使用【專利附圖】

【附圖說明】本發(fā)明的太陽光反射板的整體結構。
[0026] 如圖I (A)?（C)所示，本發(fā)明的太陽光反射板10具有基板1、設置在基板1上的 反射層2、和設置在反射層2上的保護層3。
[0027] 另外，如圖I(B)所示，本發(fā)明的太陽光反射板10在反射層2和保護層3之間可以 具有中間層4。
[0028] 進而，如圖I(C)所示，在基板1和反射層2之間可以具有基底層5。
[0029] 需要說明的是，圖1所示的太陽光反射板10為平面形狀，但本發(fā)明的太陽光反射 板不限于平面形狀，也可以為彎曲成溝狀（槽狀）、拋物線狀的形狀。
[0030] 接著，對于本發(fā)明的太陽光反射板的各結構，對材料、形成方法等進行說明。
[0031] 〈基板〉
[0032] 本發(fā)明的太陽光反射板具備的基板沒有特別限定，例如，可使用鋼板、塑料板、陶 瓷板、玻璃板等基板。
[0033] 上述物質中，作為可適合使用的鋼板，只要為通常的鋼板則沒有特別限定，考慮到 背面、切割面的耐蝕性優(yōu)異的理由優(yōu)選不銹鋼鋼板，考慮到經濟性的觀點、通過涂布等能夠 改善耐蝕性的理由，優(yōu)選冷軋鋼板、鍍鋅等的鋼板。
[0034] 本發(fā)明中，從降低后述反射層及保護層的表面粗糙度的觀點考慮，上述基板的表 面優(yōu)選為平滑的表面。
[0035] 對于上述基板表面的平滑化來說，可以利用壓延、表皮光軋、砂紙拋光、電解拋光、 電解復合拋光等拋光進行平滑化，利用在上述基板表面實施有機物及/或無機物的涂布的 方法、用粘合劑等層壓平滑膜的方法、用熱層壓貼合平滑膜的方法等進行平滑化。
[0036] 另外，本發(fā)明中，對于上述基板的板厚，從容易進行彎曲加工的觀點考慮，優(yōu)選為 IOmm以下，特別是從彎曲加工的施工性的觀點考慮，較優(yōu)選為6mm以下。
[0037] 〈反射層〉
[0038] 本發(fā)明的太陽光反射板具備的反射層只要為含有金屬的反射層則沒有特別限定。
[0039] 作為上述金屬，具體可舉出例如反射率高的鋁（Al)、銀（Ag)等，從經濟的觀點考 慮，優(yōu)選Al。
[0040] 對于上述反射層中金屬的含量，從反射率提高的觀點考慮，優(yōu)選為50質量％以 上，較優(yōu)選為80質量％以上,更優(yōu)選為90質量％以上。
[0041] 本發(fā)明中，將上述反射層粘附在上述基板（具有后述的基底層時為基底層）上的 方法沒有特別限定，例如，可應用蒸鍍法、濺射法、電鍍法、熱浸鍍法、非電解鍍法等方法。
[0042] 此處，應用了蒸鍍法或濺射法時，上述反射層的膜厚從反射率提高及均勻性的觀 點考慮，優(yōu)選為〇? 001?〇? 5iim，較優(yōu)選為0? 01?0? 2iim。
[0043] 另外，應用了電鍍法或熱浸鍍法時，上述反射層的膜厚成為5?200 y m左右，從反 射率提高的觀點考慮，優(yōu)選通過壓延、表皮光軋、拋光等降低鍍覆的表面粗糙度。
[0044] 另外，本發(fā)明中，作為上述反射層，可使用將Al、Ag等金屬蒸鍍或濺射而成的膜、 玻璃片材。需要說明的是，在所述方案中，上述反射層可以利用粘合劑、熱層壓貼合于上述 基板。
[0045] 作為上述膜，具體可舉出例如PET膜、聚酯膜、聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚烯烴膜、聚 氯乙烯膜、聚偏氯乙烯膜、丙烯酸樹脂膜、聚乙烯醇膜、聚碳酸酯膜、聚苯乙烯膜、聚丙烯腈 膜、乙烯乙酸乙烯酯共聚物膜、乙烯一乙烯醇共聚物膜、乙烯一甲基丙烯酸共聚物膜、尼龍 膜、離子交聯(lián)聚合物膜、有機硅膜等樹脂主體的膜等。
[0046] 此處，上述膜的表面粗糙度沒有特別限定，從反射率提高的觀點考慮期望較小，具 體而言，以算術平均粗糙度（Ra)計，優(yōu)選為0.2 iim以下，較優(yōu)選為0.02 iim以下。
[0047] 另外，上述膜的厚度沒有特別限定，從抑制上述基板的表面粗糙度的影響、提高反 射率的觀點考慮，優(yōu)選為I U m以上，較優(yōu)選為5 y m以上。同樣地，對于上述膜的厚度，從經 濟觀點考慮，優(yōu)選為5000 iim以下，較優(yōu)選為500 iim以下。
[0048] 另一方面，玻璃片材沒有特別限定，作為其表面粗糙度，以Ra計，優(yōu)選為0. 2 y m以 下，較優(yōu)選為0.02 ym以下。
[0049] 另外，玻璃片材的厚度也沒有特別限定，從容易進行彎曲加工的觀點考慮，優(yōu)選為 50 ?1000 ii m，較優(yōu)選為 100 ?500 ii m。
[0050] <保護層>
[0051] 本發(fā)明的太陽光反射板具備的保護層為含有硅（Si)及有機物的特定保護層。
[0052] 此處，考慮若作為保護層使用無機物主體的玻璃質被膜，則由于為硬的素材，因此 不易劃傷，但由于作為材料來說較脆，因此可知反而不耐受由飛沙引起的微小劃痕、透明性 易降低。
[0053] 另外，若作為保護層使用有機硅橡膠、有機硅樹脂，則由于為柔軟的素材，因此容 易引入劃痕，耐砂性差。
[0054] 因此，本發(fā)明人等經過潛心研究，結果發(fā)現(xiàn)含有Si和有機物、Si的含量（以下也 稱作"Si含量"。）成為特定值，并且與Si鍵合的氧（0)的數量（以下也稱作"Si鍵合氧 數"。）成為特定值的保護層能夠維持上述反射層的優(yōu)異反射率、且能夠大幅改善耐砂性及 耐氣候性。
[0055] (Si 含量）
[0056] 上述保護層中的Si的含量以換算為SiO2計為10?60質量％，優(yōu)選為15?50質 量％，較優(yōu)選為20?40質量％。
[0057] 若Si含量為上述范圍，則耐砂性及耐氣候性變得良好。認為其原因是，來自Si的 硬度與來自有機物的柔軟性的均衡性優(yōu)異。
[0058] 此處，保護層中的Si含量可利用X射線熒光分析法、ICP - AES法進行定量。需要 說明的是，對于ICP - AES法來說，可采用剝離或磨削保護層進行分析的方法，但也可以對 從表層直至厚度的50%左右以上為止的部位進行分析作為代表。另外，保護層為薄膜時，有 時反射層、基板混入分析試樣中，將它們（混入了的反射層、基板）進行分析定量，并扣除， 由此可將保護層的Si含量定量。
[0059] 本發(fā)明中，Si及有機物的分散（混合）狀態(tài)可能形成海島結構，Si及有機物中的 任一種可以形成相當于島的部分。
[0060] 另外，考慮到耐砂性變得更加良好的理由，Si及有機物的分散狀態(tài)，優(yōu)選相當于島 的部分較小，具體而言該部分的直徑優(yōu)選為IOOnm以下，較優(yōu)選為50nm以下。
[0061] 進而，考慮到透明性變高的理由，Si及有機物優(yōu)選為以分子水平進行化學鍵合而 成的復合體、混合體。
[0062] (Si鍵合氧數）
[0063] 上述保護層中的Si鍵合氧數平均為1. 5?3. 2,優(yōu)選為1. 7?2. 7。
[0064] 若Si鍵合氧數在上述范圍，則耐砂性及耐氣候性變得良好。認為其原因是，交聯(lián) 良好地進行，形成適度的分子結構。
[0065] 此處，與一個Si原子化學鍵合的氧的平均數是指利用固體NMR(偶極去耦 (Dipolar Decoupling)法）確認到的值，例如，可使用日本電子制JNM - ECA系列進行測 定。
[0066] 作為所述保護層，例如，可使用使含有烷氧基甲硅烷基、硅烷醇基等的硅烷化合物 交聯(lián)（固化），生成硅氧烷鍵而成的有機硅系化合物（有機硅系樹脂）。
[0067] 作為上述硅烷化合物，例如，可舉出1官能性的R3Si (OR) ^2官能性的R2Si (OR) 2、3 官能性的R1Si (OR) 3、4官能性的Si (OR) 4 (各式中，R表示氫原子或有機基團），通過適當組 合使用各官能團數的硅烷化合物，可調整上述Si鍵合氧數。
[0068] 作為用作上述保護層的有機硅系樹脂的原料（硅烷化合物），具體可舉出，例如，
[0069] 四甲氧基娃燒、四乙氧基娃燒等四燒氧基娃燒類；
[0070] 甲基二甲氧基娃燒、苯基二甲氧基娃燒、甲基二乙氧基娃燒、苯基二乙氧基娃燒、 正丙基二甲氧基娃燒、正丙基二乙氧基娃燒、己基二甲氧基娃燒、己基二乙氧基娃燒、癸基 二甲氧基娃燒、二氣丙基二甲氧基娃燒、乙稀基二甲氧基娃燒、乙稀基二乙氧基娃燒、2 - (3,4 一環(huán)氧基環(huán)己基）乙基三甲氧基硅烷、3 -環(huán)氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3 -環(huán)氧 丙氧基丙基二乙氧基娃燒、對苯乙稀基二甲氧基娃燒、3 -丙稀醜氧基丙基二甲氧基娃燒、 N- 2 -（氨基乙基）一 3 -氨基丙基二甲氧基娃燒、3 -氨基丙基二甲氧基娃燒、3-脈基 丙基三乙氧基硅烷、3-巰基丙基三甲氧基硅烷、雙（三乙氧基甲硅烷基丙基）四硫醚、3 - 異氰酸酯丙基三乙氧基硅烷等三烷氧基硅烷類；
[0071] 二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、3 -環(huán)氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅 烷、3 -環(huán)氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、3 -甲基丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、 N- 2 -（氨基乙基）一 3-氨基丙基甲基二甲氧基娃燒、3 -疏基丙基甲基二甲氧基娃燒 等-燒氧基娃燒類；
[0072] 甲基三氯硅烷、二甲基二氯硅烷、三甲基氯硅烷、苯基三氯硅烷、三甲基氯甲硅烷、 三乙基氯甲硅烷等氯硅烷類；
[0073] 六甲基二硅氮烷等硅氮烷類；等，上述物質可單獨使用一種，也可以合用兩種以 上。
[0074] 上述保護層中的有機物沒有特別限定，例如，可來自上述硅烷化合物所具有的官 能團（例如，燒基、苯基、環(huán)氧基、乙稀基、甲基丙稀醜基、丙稀醜基等），但從調整Si含量的 觀點考慮，也可以為與交聯(lián)前的硅烷化合物或交聯(lián)后的有機硅系樹脂一并混合或復合化的 環(huán)氧樹脂、丙烯酸樹脂、聚酯樹脂、烯烴系樹脂等。
[0075] 需要說明的是，作為有機物，使用上述樹脂時，根據需要可以通過加熱或紫外線使 其固化。
[0076] 作為上述保護層中的有機物的其他例子，從滑移性等操作性能提高、被膜硬度提 1?的觀點考慮，可舉出有機填料、樹脂穩(wěn)定劑等。
[0077] 作為上述有機填料，具體而言可舉出例如聚苯乙烯、聚丙烯酸酯等，上述物質可以 單獨使用一種，也可以合用兩種以上。
[0078] 作為上述樹脂穩(wěn)定劑，具體可舉出例如受阻胺系光穩(wěn)定劑；苯并三唑系紫外線吸 收劑；苯酚系、磷系、硫系抗氧化劑；等，上述物質可以單獨使用一種，也可以合用兩種以 上。
[0079] 上述保護層可以含有除Si及有機物以外的其他成分，例如，從滑移性等操作性能 提1?、被I吳硬度提1?的觀點考慮，也可以含有無機填料。
[0080] 作為上述無機填料，具體可舉出例如氧化鈦、碳酸鈣、氧化鋯、氧化鋁、氧化鎂、氧 化鋅、硫酸鋇、磷酸鈣等，上述物質可以單獨使用一種，也可以合用兩種以上。
[0081] 需要說明的是，含有除Si及有機物以外的其他成分時，其含量只要在不損害本發(fā) 明的效果的范圍內即可，沒有特別限定，優(yōu)選在保護層中為15質量％左右以下。
[0082] 本發(fā)明中，對于上述保護層的彈性模量，從使耐砂性更加良好的理由考慮，優(yōu)選為 0? 10 ?15GPa，較優(yōu)選為 0? 5 ?lOGPa。
[0083]此處，彈性模量例如可使用 Fischer Instruments K. K 制的 Picodenter HM500 測 定。
[0084] 另外，本發(fā)明中，上述保護層的表面形狀沒有特別限定，從集光率的觀點考慮，優(yōu) 選為平滑。
[0085] 關于上述保護層的表面粗糙度，從擴散的反射成分減少、能夠將正反射率維持在 更高水平的理由考慮，算術平均粗糙度（Ra)優(yōu)選為0. IOum以下。需要說明的是，Ra可基 于JIS B0601(2001)進行測定。
[0086] 此處，由于上述保護層的表面粗糙度可通過控制上述基板、上述反射層的表面形 狀從而一定程度地進行調整，因此為了降低上述保護層的表面粗糙度，預先降低上述基板、 上述反射層的表面粗糙度是有效的。
[0087] 另外，上述保護層的表面粗糙度也可以通過使形成上述保護層的涂布液為低粘 度、或延長直至固化為止的時間等方法來調整。
[0088] 進而，利用丙酮、甲苯、乙醚、甲基溶纖劑、溶纖劑、丁基溶纖劑（乙二醇單丁基 醚）、乙醇、異丙醇、丙二醇1 一單甲基醚2 -乙酸酯（propylene glycol Inonomethyl ether 2-acetate)、水這樣的溶劑進行稀釋涂布的方法也有效。需要說明的是，作為此時的 固態(tài)成分濃度，優(yōu)選為〇. 5?50質量％左右。
[0089] 進而，本發(fā)明中，上述保護層的厚度沒有特別限定，但從反射率與保護的均衡的觀 點考慮，優(yōu)選為〇? 01?20 i! m，較優(yōu)選為0? 01?10 i! m，特別優(yōu)選為0? 1?5 i! m。
[0090] <中間層>
[0091] 對于本發(fā)明的太陽光反射板，考慮到改善上述保護層的密合性、使耐氣候性更加 良好的理由，優(yōu)選在上述反射層與上述保護層之間設置中間層。
[0092] 上述中間層含有選自硅烷偶聯(lián)劑、鈦偶聯(lián)劑、鋯偶聯(lián)劑及有機樹脂中的至少一種。 [0093] 另外，對于上述中間層的膜厚，在使用了硅烷偶聯(lián)劑、鈦偶聯(lián)劑、鋯偶聯(lián)劑時，優(yōu)選 單分子層水平（數埃）?0. 5 y m左右，使用了有機樹脂時優(yōu)選0. 1?5 y m左右。
[0094] 作為上述硅烷偶聯(lián)劑，例如，可舉出具有乙烯基、環(huán)氧基、苯乙烯基、甲基丙烯酰 基、丙稀醜基、氣基、脈基、疏基、硫釀基、異氛酸醋基等官能團的燒氧基娃燒。
[0095] 作為上述鈦偶聯(lián)劑，例如，可舉出四異丙醇鈦、四正丁醇鈦、丁醇鈦二聚體、四 (2_ 乙基己醇）欽（titanium tetra-2-ethylhexoxide)等。
[0096] 作為上述鋯偶聯(lián)劑，例如，可舉出乙酸鋯、碳酸鋯銨、氟化鋯等。
[0097] 上述物質中，考慮到能夠使與上述保護層的相容性變得良好、改善耐氣候性、將上 述反射層的優(yōu)異反射率維持在更高水平的理由，優(yōu)選為硅烷偶聯(lián)劑。
[0098] 需要說明的是，作為上述中間層使用了硅烷偶聯(lián)劑時，上述中間層可看作是上述 保護層的一部分，可以將硅烷偶聯(lián)劑的換算為SiO2的量加入到上述保護層的Si含量中。
[0099] 另一方面，作為有機樹脂，例如，可適用透明性及耐光性優(yōu)異的氯乙烯樹脂、氯醋 樹脂、丙烯酸樹脂、改性烯烴樹脂、聚酯樹脂、聚碳酸酯樹脂等。
[0100] <基底層>
[0101] 對于本發(fā)明的太陽光反射板，從改善反射層的平滑性、提高反射率的理由考慮，優(yōu) 選在上述基板與上述反射層之間設置至少一層由有機材料及/或無機材料構成的基底層。
[0102] 作為上述由有機材料構成的基底層，具體可舉出例如PET膜、聚酯膜、聚乙烯膜、 聚丙烯膜、聚烯烴膜、聚氯乙烯膜、聚偏氯乙烯膜、丙烯酸樹脂膜、聚乙烯醇膜、聚碳酸酯膜、 聚苯乙烯膜、聚丙烯腈膜、乙烯乙酸乙烯酯共聚物膜、乙烯一乙烯醇共聚物膜、乙烯一甲基 丙烯酸共聚物膜、尼龍膜、離子交聯(lián)聚合物膜、有機硅膜等樹脂主體的膜等。
[0103] 作為上述由無機材料構成的基底層,具體可舉出例如玻璃片材、玻璃涂層；鎳、鋅 等金屬鍍層；等。
[0104]【實施例】
[0105] 以下舉出實施例具體說明本發(fā)明。但是，本發(fā)明不限于所述實施例。
[0106] 〔實施例1?71、比較例1?16〕
[0107] 針對下述表1?表3所示的基板，通過以下所示的方法形成下述表1?表3所示 的基底層、反射層、中間層及保護層，制作太陽光反射板。
[0108] 需要說明的是，下述表1?表3中用"一"表示的地方表示未設置該項目（未處 理）。另外，下述表1?表3中所示的基板具體可使用以下的基板，作為基板使用不銹鋼鋼 板、冷軋鋼板、熱浸鍍鋅的鋼板、電鍍鋅的鋼板中的任一種時，在形成反射層的基板表面實 施表皮光軋加工。
[0109] (基板）
[0110] ?不銹鋼鋼板：SUS430 (板厚0? Imm)
[0111] ?冷軋鋼板：SPCC (板厚 0. 35mm)
[0112] ?塑料基板：氯乙烯（板厚5mm)
[0113] ?陶瓷基板：纖維增強水泥板〔柔性板（板厚5mm、Mitsubishi Materials Corporation 制）〕
[0114] ?玻璃基板：浮法玻璃（float sheet glass)(板厚5mm、旭硝子公司制）
[0115] ?熱浸鍍鋅的鋼板（板厚〇? 30mm、兩面鍍覆、每一面鍍覆附著量：100g/m2)
[0116] ?電鍍鋅的鋼板（板厚〇? 45mm、兩面鍍覆、每一面鍍覆附著量：20g/m2)
[0117] (基底層）
[0118] 對于基底層，針對基板使用粘合劑進行貼合而形成。
[0119] 此處，作為基底層的PET膜，使用算術平均粗糙度（Ra)為0.1 且具有下述表 1?表3所示的厚度（下述表1?表3中未記載時厚度為50 ii m)的PET膜。
[0120] 另外，作為實施例50中使用的基底層的玻璃片材，使用旭硝子公司制的AN100 (板 厚 0? 5mm)。
[0121] 另外，作為實施例54中使用的基底層的玻璃涂層，使用將低溫密封用粉末玻璃 (BASl 15、旭硝子公司制）在500°C下燒成30分鐘，制成100 ii m厚度的玻璃涂層。
[0122] (反射層）
[0123] 反射層通過在基底層上蒸鍍下述表1?表3所示的Al或Ag而形成。需要說明的 是，對于實施例60,將熔融了的Al鍍覆在基底層上使形成100 ii m厚，之后，實施鏡面拋光， 形成80 iim厚，由此形成。
[0124] 此處，反射層的厚度在下述表1?表3中未記載時為0. I ii m。
[0125] (中間層）
[0126] 中間層如下形成，在反射層上按照10g/m2涂布溶解有下述表1?表3所示的硅烷 偶聯(lián)劑等的〇. 5質量％水溶液，在IKTC下干燥5分鐘而形成。需要說明的是，各中間層的 厚度如下述表1?表3所示。
[0127] 此處，作為硅烷偶聯(lián)劑，使用3 -環(huán)氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷，作為鈦偶聯(lián)劑使 用四異丙醇鈦，作為鋯偶聯(lián)劑使用碳酸鋯銨。
[0128] 需要說明的是，對于帶有#的硅烷偶聯(lián)劑，使用3 -氨基丙基三甲氧基硅烷。
[0129] (保護層）
[0130] 保護層如下形成，將下述表4所示的配合劑及下述表5所示的固化劑混合在溶劑 (乙二醇單丁基醚）中，使得成為下述表1?表3所示的質量比例，得到涂布液（固態(tài)成分 濃度10質量％ )，將該涂布液使用棒涂器涂布在反射層（設置了中間層時為中間層）上，在 下述表1?表3所示的固化條件下加熱干燥而形成。需要說明的是，對于比較例10?14， 不使用下述表4所示的配合劑及下述表5所示的固化劑，使用下述表1所示的有機硅橡膠 (RTV橡膠KE - 1842、固化條件：120°C Xlhr、厚度liim、信越化學工業(yè)公司制）、有機硅樹 月旨（KR - 300、固化條件：250°C X lhr、厚度I ii m、信越化學工業(yè)公司制）、SiO2蒸鍍膜、硼 硅酸鹽玻璃、金屬硅酸鹽（硅酸鋰LSS45、日產化學工業(yè)制），形成保護層。
[0131] 此處，關于形成的保護層，Si含量（換算為SiO2)通過剝離保護層或從表層削取保 護層，利用堿熔化/ICP - AES法進行定量。Si鍵合氧數由固體NMR(JNM - ECA系列、日本 電子制）的化學位移算出。將這些結果與彈性模量、厚度及算術平均粗糙度（Ra)的測定結 果一并不于下述表1?表3。
[0132] 對于制作的各太陽光反射板，通過以下所示的評價方法評價反射率、耐砂性及耐 氣候性。將它們的結果示于下述表1?表3。
[0133] <反射率>
[0134] 使用分光光度計（UV - 3100PC、島津制作所公司制），測定波長300?2500nm下 的正反射率，作為乘以基于JIS K5602(2008)的權重系數所得的日照反射率進行評價。將 70%以上視為合格。
[0135] <耐砂性>
[0136] 基于JIS H8503 (1989)，以向試驗面落下2kg碳化硅時的正反射率的減少率進行 評價。
[0137] (判定基準）
[0138] (0):5% 以下（合格）
[0139] 〇：大于5%?10%以下（合格）
[0140] A :大于10?30%以下（不合格）
[0141] X :大于30% (不合格）
[0142] <耐氣候性>
[0143] 基于 JIS D0205 (1987)，以進行了 1000 小時 sunshine weather test 時的正反射 率的減少率進行評價。
[0144] (判定基準）
[0145] €):5% 以下（合格）
[0146] 〇：大于5%?10%以下（合格）
[0147] A :大于10?30%以下（不合格）
[0148] X :大于30% (不合格）
[0149] 【表1】
[0150]

【權利要求】
1. 一種太陽光反射板，具有基板、設置在上述基板上的反射層、和設置在上述反射層上 的保護層，其中， 上述保護層含有硅及有機物，以換算為SiO2計，含有10?60質量％的硅，與硅化學鍵 合的氧的數量平均為1. 5?3. 2。
2. 如權利要求1所述的太陽光反射板，其中，上述保護層的彈性模量為0. 1?15GPa。
3. 如權利要求1或2所述的太陽光反射板，其中，上述反射層含有鋁及/或銀。
4. 如權利要求1?3中任一項所述的太陽光反射板，其中，在上述反射層和上述保護層 之間具有中間層，所述中間層含有選自硅烷偶聯(lián)劑、鈦偶聯(lián)劑、鋯偶聯(lián)劑及有機樹脂中的至 少一種。
5. 如權利要求1?4中任一項所述的太陽光反射板，其中，在上述基板和上述反射層之 間，具有至少一層由有機材料及/或無機材料構成的基底層。
【文檔編號】G02B5/08GK104220905SQ201380019148
【公開日】2014年12月17日 申請日期:2013年3月19日 優(yōu)先權日:2012年4月12日
【發(fā)明者】佐志一道, 大重貴彥, 石川伸, 坂本義仁, 洼田隆廣 申請人:杰富意鋼鐵株式會社